JP2011023771A - 配線板の製造方法及び配線板 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】絶縁樹脂からなる絶縁層を形成する工程、絶縁層表面をpH11以上の水溶液で処理する工程、絶縁層表面をカルボン酸を構造中に1つ以上含む化合物を溶解した水溶液で処理する工程、デスミア処理工程、及び絶縁層表面に配線層をめっきにより形成する配線形成工程、を含む配線板の製造方法。
【選択図】なし
Description
1.絶縁樹脂からなる絶縁層を形成する工程、絶縁層表面をpH11以上の水溶液で処理する工程、絶縁層表面をカルボン酸を構造中に1つ以上含む化合物を溶解した水溶液で処理する工程、デスミア処理工程、及び絶縁層表面に配線層をめっきにより形成する配線形成工程、を含む配線板の製造方法。
2.基材を準備する工程、基材の片面または両面に絶縁樹脂からなる絶縁層を形成する工程、をさらに含む項1に記載の配線板の製造方法。
3.pH11以上の水溶液が、水酸化化合物を含む水溶液であり、かつカルボン酸を構造中に1つ以上含む化合物が、アミノ酸である項1または2に記載の配線板の製造方法。
4.水酸化化合物が、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化セシウム、水酸化マグネシウム、水酸化マンガンからなる群から選択され、かつアミノ酸が、アラニン、グルタミン、システイン、アルギニン、アスパラギン、セリン、グルタミン酸、トレオニン、フェニルアラニン、バリン、グリシン、トリプトファン、ヒスチジン、チロシン、イソロイシン、リジン、ロイシン、メチオニン、アスパラギン、プロリンからなる群から選択される項3に記載の配線板の製造方法。
5.pH11以上の水溶液の水酸化化合物の濃度が5〜40重量%であり、かつカルボン酸を構造中に1つ以上含む化合物を溶解した水溶液のアミノ酸の濃度が0.1〜20重量%である項3または4に記載の配線板の製造方法。
6.絶縁層表面をpH11以上の水溶液で処理する工程が、デスミア処理工程の前で行われ、かつ絶縁層表面をカルボン酸を構造中に1つ以上含む化合物を溶解した水溶液で処理する工程が、デスミア処理工程後であって、かつ絶縁層表面に配線層をめっきにより形成する配線形成工程の前で行われる項1〜5いずれかに記載の配線板の製造方法。
7.絶縁層をpH11以上の水溶液で処理する工程が、絶縁層表面をpH11以上の50〜85℃の水溶液で10〜60分間処理する工程であり、かつ絶縁層表面をカルボン酸を構造中に1つ以上含む化合物を溶解した水溶液で処理する工程が、絶縁層表面をカルボン酸を構造中に1つ以上含む化合物を溶解した10〜40℃の水溶液で1〜20分間処理する工程である項1〜6いずれかに記載の配線板の製造方法。
8.絶縁樹脂が、pH11以上の水溶液で処理することにより分子構造が変化する絶縁樹脂である項1〜7いずれかに記載の配線板の製造方法。
9.絶縁樹脂が、pH11以上の水溶液で処理することによりエーテル結合やエステル結合が増加する絶縁樹脂である項1〜7いずれかに記載の配線板の製造方法。
10.配線層が、銅層である項1〜9いずれかに記載の配線板の製造方法。
11.絶縁樹脂からなる絶縁層を形成する工程、絶縁層表面をpH11以上の水溶液で処理する工程、絶縁層表面をカルボン酸を構造中に1つ以上含む化合物を溶解した水溶液で処理する工程、及び絶縁層表面に配線層をめっきにより形成する配線形成工程を複数回繰り返すことを特徴とする項1〜10いずれかに記載の配線板の製造方法。
12.項1〜11いずれかに記載の配線板の製造方法で製造された配線板。
本発明の配線板の製造方法は、絶縁樹脂からなる絶縁層を形成する工程、絶縁層表面をpH11以上の水溶液で処理する工程、絶縁層表面をカルボン酸を構造中に1つ以上含む化合物を溶解した水溶液で処理する工程、デスミア処理工程、及び絶縁層表面に配線層をめっきにより形成する配線形成工程を含んでいる。また基材を準備する工程、基材の片面または両面に絶縁樹脂からなる絶縁層を形成する工程をさらに含むことが好ましい。
ガラス布基材エポキシ樹脂両面銅張積層板(銅箔の厚さ18μm、基板厚み0.8mmt、両面粗化箔を両面に有する日立化成工業株式会社製商品名MCL−E−679)に、エッチングを施して片面に回路層(以下、第1回路層とする)を有する回路板を作製し、基材とした。絶縁樹脂として、イミド化を終了した溶剤可溶型ポリイミドワニスを用いた。
絶縁樹脂を下記の様な絶縁樹脂に変更した以外は、実施例1と同様にして多層配線板を作製した。
絶縁樹脂を下記の様な絶縁樹脂に変更した以外は、実施例1と同様にして多層配線板を作製した。
絶縁樹脂を下記の様な絶縁樹脂に変更した以外は、実施例1と同様にして多層配線板を作製した。
水酸化カリウムに換えて水酸化ナトリウムに変更し、その濃度を30重量%とした以外は、実施例1と同様にして多層配線板を作製した。
システインに換えて、濃度は同一のままメチオニンに変更した以外は、実施例1と同様にして多層配線板を作製した。
システインに換えて、濃度は同一のままリジンに変更した以外は、実施例1と同様にして多層配線板を作製した。
システインに換えて、濃度は同一のままグルタミン酸に変更した以外は、実施例1と同様にして多層配線板を作製した。
システインに換えて、濃度は同一のままアルギニンに変更した以外は、実施例1と同様にして多層配線板を作製した。
Cust−201に換えて、ニッケルを含有するCust−4600(日立化成工業株式会社製、商品名)に置き換えた以外は、実施例1と同様にして多層配線板を作製した。
カルボン酸を構造中に1つ以上含む化合物であるシステイン(アミノ酸)を溶解した水溶液による処理を行なわなかった以外は、実施例1と同様にして多層配線板を作製した。
最外層の配線層(第3の回路導体)の一部に幅10mm、長さ100mmの部分を形成し、この一端を剥がしてつかみ具でつかみ、垂直方向に約50mm室温(25℃)中で引き剥がした時の荷重を測定した。
最外層の配線層(第3の回路導体)をエッチングにより銅を除去した試験片を作製する。この試験片を2mm角程度に切断し、株式会社キーエンス社製超深度形状測定顕微鏡VK−8500型を用いて、試験片中の異なる箇所3点について、測定長さ149μm、倍率2000倍、分解能0.05μmの条件で測定し、測定長さ149μm中の粗さの最大部から最小部を引いた値を絶縁層の表面粗さとし、3箇所の平均値を算出した。
作製した多層配線板を25mm角に切断し、288℃±2℃に調整したはんだ浴に浮かべ、ふくれが発生するまでの時間を測定した。
Claims (12)
- 絶縁樹脂からなる絶縁層を形成する工程、絶縁層表面をpH11以上の水溶液で処理する工程、絶縁層表面をカルボン酸を構造中に1つ以上含む化合物を溶解した水溶液で処理する工程、デスミア処理工程、及び絶縁層表面に配線層をめっきにより形成する配線形成工程、を含む配線板の製造方法。
- 基材を準備する工程、基材の片面または両面に絶縁樹脂からなる絶縁層を形成する工程、をさらに含む請求項1に記載の配線板の製造方法。
- pH11以上の水溶液が、水酸化化合物を含む水溶液であり、かつカルボン酸を構造中に1つ以上含む化合物が、アミノ酸である請求項1または2に記載の配線板の製造方法。
- 水酸化化合物が、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化セシウム、水酸化マグネシウム、水酸化マンガンからなる群から選択され、かつアミノ酸が、アラニン、グルタミン、システイン、アルギニン、アスパラギン、セリン、グルタミン酸、トレオニン、フェニルアラニン、バリン、グリシン、トリプトファン、ヒスチジン、チロシン、イソロイシン、リジン、ロイシン、メチオニン、アスパラギン、プロリンからなる群から選択される請求項3に記載の配線板の製造方法。
- pH11以上の水溶液の水酸化化合物の濃度が5〜40重量%であり、かつカルボン酸を構造中に1つ以上含む化合物を溶解した水溶液のアミノ酸の濃度が0.1〜20重量%である請求項3または4に記載の配線板の製造方法。
- 絶縁層表面をpH11以上の水溶液で処理する工程が、デスミア処理工程の前で行われ、かつ絶縁層表面をカルボン酸を構造中に1つ以上含む化合物を溶解した水溶液で処理する工程が、デスミア処理工程後であって、かつ絶縁層表面に配線層をめっきにより形成する配線形成工程の前で行われる請求項1〜5いずれかに記載の配線板の製造方法。
- 絶縁層をpH11以上の水溶液で処理する工程が、絶縁層表面をpH11以上の50〜85℃の水溶液で10〜60分間処理する工程であり、かつ絶縁層表面をカルボン酸を構造中に1つ以上含む化合物を溶解した水溶液で処理する工程が、絶縁層表面をカルボン酸を構造中に1つ以上含む化合物を溶解した10〜40℃の水溶液で1〜20分間処理する工程である請求項1〜6いずれかに記載の配線板の製造方法。
- 絶縁樹脂が、pH11以上の水溶液で処理することにより分子構造が変化する絶縁樹脂である請求項1〜7いずれかに記載の配線板の製造方法。
- 絶縁樹脂が、pH11以上の水溶液で処理することによりエーテル結合又はエステル結合が増加する絶縁樹脂である請求項1〜7いずれかに記載の配線板の製造方法。
- 配線層が、銅層である請求項1〜9いずれかに記載の配線板の製造方法。
- 絶縁樹脂からなる絶縁層を形成する工程、絶縁層表面をpH11以上の水溶液で処理する工程、絶縁層表面をカルボン酸を構造中に1つ以上含む化合物を溶解した水溶液で処理する工程、及び絶縁層表面に配線層をめっきにより形成する配線形成工程を複数回繰り返すことを特徴とする請求項1〜10いずれかに記載の配線板の製造方法。
- 請求項1〜11いずれかに記載の配線板の製造方法で製造された配線板。
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JPH04124281A (ja) * | 1990-09-13 | 1992-04-24 | Hitachi Chem Co Ltd | 無電解銅めっき方法 |
JP2000133936A (ja) * | 1998-10-23 | 2000-05-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | 多層配線基板の製造方法 |
JP2002256443A (ja) * | 2001-02-27 | 2002-09-11 | Japan Science & Technology Corp | メッキ方法 |
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