JP2011018415A - 磁気センサ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】磁気センサ200は、グラフェン層7と、グラフェン層7上に配置された磁化固定層12Bと、グラフェン層7上に配置された磁化自由層12Cと、グラフェン層7に電気的に接続された第一電極20A及び第二電極20Dと、グラフェン層7、磁化固定層12B、及び、磁化自由層12Cを積層方向の両側から挟む下部磁気シールド層22及び上部磁気シールド層11,12と、を備える。
【選択図】図1
Description
これによれば、グラフェン層を流れるスピン流の流出を特に抑制しやすいという効果がある。
以下、第1実施形態に係る磁気センサの一例として、薄膜磁気記録再生ヘッド200を説明する。
剥離法では、例えば、図4(a)に示すように、高配向熱分解グラファイト(HOPG)400を用意する。この高配向熱分解グラファイト(HOPG)400は、単層グラフェンシート401が多数積層されたものである。また、有機溶媒に可溶なフィルム基材501上に、レジスト層503を塗布した剥離板500を用意する。
V=βiβi’rNexp(-L/λN)I0
ここで、Vが出力電圧、βiがスピンを注入するときのスピン分極率(最大1)、β’iがスピンを検出するときのスピン分極率(最大1),rNがスピン抵抗,Lが電極間距離, λNがスピン拡散長, I0が注入電流である。また、スピン抵抗rNはチャンネルの抵抗率に比例した関係式(rN=ρλN/S)で表され、ρはスピン伝導層の抵抗率、Sはスピン伝導層の断面積である。但し、この式が成りたつのは注入電流が少ないときであり、注入電流を増大させても電流が大きい領域では出力の増大は頭打ちになる。またスピン抵抗はスピン伝導層の抵抗率に比例して上昇する値であり、スピン伝導層の抵抗率が上昇するほど出力は上昇する。
したがって、グラフェンをチャンネル層として用いると、極めて高い出力が得られる。
以下、第2実施形態に係る磁気センサについて説明する。図6は、第二実施形態の磁気センサに係る断面図である。
以下、第3実施形態に係る磁気センサについて説明する。図7は、第三実施形態の磁気センサに係る断面図である。
これによれば、第1実施形態と同様の効果に加え、絶縁層の平坦性を確保しやすいと言う効果がある。
アルティック基板を洗浄し、アライメントマークを作成した。アルティック基板上に、下部シールド層を形成し、フォトリソグラフィー法及びイオンミリング用により、矩形形状にした。続いて、下部磁気シールド層上に絶縁層としてSiO2層を形成した。SiO2層の一部をイオンミリングにより削り、その孔をAuCuで埋めることにより、第一電極を形成した。そして、CMPにより、SiO2層と、AuCu層とを平坦化した。
続いて、上述した剥離法により、SiO2層及びAuCu層に接して単層のグラフェンシートを配置した。
その後、バイアス磁界印加用の永久磁石層を作成し、固定層と自由層との上にそれぞれ第1上部磁気シールド及び第二上部磁気シールド層を形成し、磁束読み取り用のセンサを完成させた。出力を十分に高めることができかつ微小領域からの磁束を感度よく検出可能な磁気センサが提供された。
Claims (12)
- グラフェン層と、
前記グラフェン層上に配置された磁化固定層と、
前記グラフェン層上に配置された磁化自由層と、
前記グラフェン層に電気的に接続された第一電極及び第二電極と、
前記グラフェン層、前記磁化固定層、及び、前記磁化自由層を積層方向の両側から挟む下部磁気シールド層及び上部磁気シールド層と、
を備えた磁気センサ。 - 前記グラフェン層は単層グラフェンシートである請求項1記載の磁気センサ。
- 前記上部磁気シールド層は、
前記磁化自由層の上に配置され前記磁化自由層と電気的に接続された上部第1磁気シールド層と、
前記磁化固定層の上に配置され前記磁化固定層と電気的に接続された上部第2磁気シールド層と、を有し、
前記上部第1磁気シールド層と、前記上部第2磁気シールド層とは互いに電気的に絶縁された請求項1又は2記載の磁気センサ。 - 前記上部第1磁気シールド層と前記下部磁気シールド層との間隔が、前記上部第2磁気シールド層と前記下部磁気シールド層との間隔よりも小さい請求項3記載の磁気センサ。
- 前記グラフェン層と前記下部磁気シールド層との間に絶縁層が配置され、前記絶縁層の材料がSiO2又はSiCである請求項1〜4の何れか記載の磁気センサ。
- 前記第二電極を一対有し、前記一対の第二電極は、前記グラフェン層上に前記磁化自由層を間に挟む位置に、かつ、前記磁化固定層と前記磁化自由層とを結ぶ方向と直交する方向に離間して配置された請求項1〜5の何れか記載の磁気センサ。
- 前記磁化自由層にバイアス磁界を印加する永久磁石をさらに備える請求項1〜6の何れか記載の磁気センサ。
- 前記磁化自由層及び前記磁化固定層の少なくとも一方の材料が、Cr、Mn、Co、Fe、及びNiからなる群から選択される金属、前記群の元素を1以上含む合金、又は、前記群から選択される1以上の元素及びB、C、及びNからなる群から選択される1以上の元素を含む合金である、請求項1〜7のいずれか一項に記載の磁気センサ。
- 前記磁化固定層は、形状異方性によって、又は、前記磁化固定層上に形成された反強磁性層によって、磁化の向きが固定されている、請求項1〜8のいずれか一項に記載磁気センサ。
- 前記磁化自由層は検出すべき磁界を外部から受け入れる磁界入力面をさらに備え、前記磁界入力面の外側から見て前記磁化固定層は、前記磁化自由層よりも奥に配置された請求項1〜9の何れか一項に記載の磁気センサ。
- 前記磁化自由層は前記グラフェン層の端面をさらに被覆している請求項1〜10の何れか一項に記載の磁気センサ。
- 前記グラフェン層と対向する面における前記磁化固定層の面積が、前記グラフェン層と対向する面における前記磁化自由層の面積よりも大きい請求項1〜11のいずれか一項に記載の磁気センサ。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112985472A (zh) * | 2021-05-21 | 2021-06-18 | 深圳清华大学研究院 | 接触式超滑编码器 |
CN113667417A (zh) * | 2021-09-01 | 2021-11-19 | 深圳市高仁电子新材料有限公司 | 一种防电磁波辐射的光学胶及其制备方法 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000323767A (ja) * | 1999-05-10 | 2000-11-24 | Hitachi Ltd | 磁気電子デバイス及び磁気ヘッド |
JP2004342241A (ja) * | 2003-05-16 | 2004-12-02 | Hitachi Ltd | 磁気ヘッドおよびそれを用いた磁気記録再生装置 |
JP2005135462A (ja) * | 2003-10-28 | 2005-05-26 | Hitachi Ltd | 磁気ヘッド及び磁気記録再生装置 |
US20060262458A1 (en) * | 2005-05-17 | 2006-11-23 | Carey Matthew J | Magnetoresistive sensor based on spin accumulation effect with terminal connection at back end of sensor |
JP2007294710A (ja) * | 2006-04-26 | 2007-11-08 | Hitachi Ltd | スピン流狭窄層を備えたスピン蓄積素子及び磁気センサ |
JP2008181592A (ja) * | 2007-01-24 | 2008-08-07 | Hitachi Ltd | 磁気ヘッド及び磁気記録再生装置 |
JP2009043939A (ja) * | 2007-08-09 | 2009-02-26 | Fujitsu Ltd | グラフェンを用いた電子デバイスの製造方法 |
WO2009049375A1 (en) * | 2007-10-19 | 2009-04-23 | University Of Wollongong | Process for the preparation of graphene |
JP2009107921A (ja) * | 2007-10-29 | 2009-05-21 | Samsung Electronics Co Ltd | グラフェンシート及びその製造方法 |
-
2009
- 2009-07-10 JP JP2009163652A patent/JP2011018415A/ja active Pending
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000323767A (ja) * | 1999-05-10 | 2000-11-24 | Hitachi Ltd | 磁気電子デバイス及び磁気ヘッド |
JP2004342241A (ja) * | 2003-05-16 | 2004-12-02 | Hitachi Ltd | 磁気ヘッドおよびそれを用いた磁気記録再生装置 |
JP2005135462A (ja) * | 2003-10-28 | 2005-05-26 | Hitachi Ltd | 磁気ヘッド及び磁気記録再生装置 |
US20060262458A1 (en) * | 2005-05-17 | 2006-11-23 | Carey Matthew J | Magnetoresistive sensor based on spin accumulation effect with terminal connection at back end of sensor |
JP2007294710A (ja) * | 2006-04-26 | 2007-11-08 | Hitachi Ltd | スピン流狭窄層を備えたスピン蓄積素子及び磁気センサ |
JP2008181592A (ja) * | 2007-01-24 | 2008-08-07 | Hitachi Ltd | 磁気ヘッド及び磁気記録再生装置 |
JP2009043939A (ja) * | 2007-08-09 | 2009-02-26 | Fujitsu Ltd | グラフェンを用いた電子デバイスの製造方法 |
WO2009049375A1 (en) * | 2007-10-19 | 2009-04-23 | University Of Wollongong | Process for the preparation of graphene |
JP2011500488A (ja) * | 2007-10-19 | 2011-01-06 | ユニバーシティー オブ ウロンゴング | グラフェンの製造方法 |
JP2009107921A (ja) * | 2007-10-29 | 2009-05-21 | Samsung Electronics Co Ltd | グラフェンシート及びその製造方法 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112985472A (zh) * | 2021-05-21 | 2021-06-18 | 深圳清华大学研究院 | 接触式超滑编码器 |
CN113667417A (zh) * | 2021-09-01 | 2021-11-19 | 深圳市高仁电子新材料有限公司 | 一种防电磁波辐射的光学胶及其制备方法 |
CN113667417B (zh) * | 2021-09-01 | 2022-06-03 | 深圳市高仁电子新材料有限公司 | 一种防电磁波辐射的光学胶及其制备方法 |
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