JP2011009069A - 透明電極付き基板および透明電極付き基板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基材上に少なくとも1層からなる酸化亜鉛を主成分とする透明導電性酸化物層を有する透明電極付き基板であって、上記透明導電性酸化物層が基材に対してc軸配向した結晶構造を有しており、更に上記透明導電性酸化物層中に水素がドーピングされている基板、並びに基材上に少なくとも1層からなる酸化亜鉛を主成分とする透明導電性酸化物層を有する透明電極付き基板の製造方法であって、上記透明導電性酸化物層がプラズマ放電を利用したスパッタリングにより製膜され、且つスパッタリング時のキャリアガスとして、アルゴン及び水素を必須とし、さらに酸素、二酸化炭素から選択される1種以上を添加したものを使用し、且つ全キャリアガス中に水素が2〜30体積%、酸素及び/又は二酸化炭素が1〜30体積%含有されている基板の製造方法。
【選択図】 なし
Description
無アルカリガラス(商品名OA−10、膜厚0.7mm、日本電気硝子社製)に透明導電性酸化物層をマグネトロンスパッタリング製膜した。ターゲット材料、キャリアガス種および流量を表1に示す条件にし、基板温度を室温、製膜圧力を0.2Paの条件で100nmの膜厚になるように製膜した。
2.透明導電性酸化物層
Claims (3)
- 基材上に少なくとも1層からなる酸化亜鉛を主成分とする透明導電性酸化物層を有する透明電極付き基板であって、上記透明導電性酸化物層が基材に対してc軸配向した結晶構造を有しており、さらに上記透明導電性酸化物層中に水素がドーピングされていることを特徴とする、透明電極付き基板。
- 前記透明導電性酸化物層中に、アルミニウム、ガリウム、ケイ素、ホウ素、ニオブの中から選択される1種以上の金属がドーピングされていることを特徴とする、請求項1に記載の透明電極付き基板。
- 基材上に少なくとも1層からなる酸化亜鉛を主成分とする透明導電性酸化物層を有する透明電極付き基板の製造方法であって、上記透明導電性酸化物層がプラズマ放電を利用したスパッタリングにより製膜され、且つスパッタリング時のキャリアガスとして、アルゴンおよび水素を必須とし、さらに酸素、二酸化炭素から選択される1種以上を添加したものを使用し、且つ全キャリアガス中に水素が2〜30体積%、酸素および/または二酸化炭素が1〜30体積%含有されていることを特徴とする、透明電極付き基板の製造方法。
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