JP2011008233A - 化学増幅型レジスト材料及びパターン形成方法 - Google Patents
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Abstract
【効果】クロム化合物による膜表面のようなパターン形成が難しい基板上でも、パターン剥がれやパターンの崩壊を発生しにくいレジスト材料を提供できる。
【選択図】なし
Description
請求項1:
化学増幅型レジスト材料を調製する際、分子中に極性を持つことによってポリマーに密着性を与える単位と、酸不安定基により保護され、酸の作用によりアルカリ可溶性となる単位を含有する化学増幅型レジスト用ポリマーの選択において、下記一般式(1)
(式中、R1はそれぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基を表す。Rfは同一でも異なってもよく、水素原子、フッ素原子、トリフルオロメチル基、又はペンタフルオロエチル基を表すが、全てが水素原子となることはない。Aは一部又は全部の水素原子がフッ素原子、又は一部のメチレンが酸素原子に置換されていてもよい炭素数1〜10の二価の炭化水素基を表す。R2、R3及びR4はそれぞれ独立に置換もしくは非置換の炭素数1〜10の直鎖状又は分岐状のアルキル基、アルケニル基又はオキソアルキル基、又は置換もしくは非置換の炭素数6〜18のアリール基、アラルキル基又はアリールオキソアルキル基を表すか、あるいはR2、R3及びR4のうちのいずれか2つ以上が相互に結合して式中の硫黄原子と共に環を形成してもよい。)
で示される繰り返し単位を含有し、全ての繰り返し単位に対し、繰り返し単位中に芳香環骨格を含有する単位が60モル%以上であり、かつ上記一般式(1)で示される繰り返し単位の含有量は5モル%未満であるポリマーを選択して用いることを特徴とする化学増幅型レジスト材料。
請求項2:
一般式(1)において、下記式
で示される構造が、下記構造式から選ばれるいずれかの構造である請求項1記載の化学増幅型レジスト材料。
(式中、R1、Rfは上記の通り。)
請求項3:
一般式(1)の繰り返し単位が、下記一般式(1a)で示されるものである請求項1記載の化学増幅型レジスト材料。
(式中、R1〜R4は上記の通り。)
請求項4:
上記分子中に極性を持つことによってポリマーに密着性を与える単位として、下記一般式(2)
(式中、sはそれぞれ独立に0又は1を表す。tはそれぞれ独立に0〜2の整数を表す。R5はそれぞれ独立に、水素原子、又は炭素数1〜6のアルキル基を示す。B1は単結合、又は鎖の中間にエーテル結合を含んでもよい炭素数1〜10のアルキレン基を示す。aは0〜3の整数、bは1〜3の整数である。)
で示される単位を含有する請求項1乃至3のいずれか1項記載の化学増幅型レジスト材料。
請求項5:
一般式(2)で示される単位が、下記式から選ばれるいずれかの単位である請求項4記載の化学増幅型レジスト材料。
請求項6:
上記酸不安定基により保護され、酸の作用によりアルカリ可溶性となる単位として、下記一般式(3)
(式中、uは0又は1を表す。vは0〜2の整数を表す。R5はそれぞれ独立に、水素原子、又は炭素数1〜6のアルキル基を示す。B2は単結合、又は鎖の中間にエーテル結合を含んでもよい炭素数1〜10のアルキレン基を示す。aは0〜3の整数、bは0又は1であり、cは1〜3の整数である。Xはcが1の場合には酸不安定基を、cが2以上の場合には水素又は酸不安定基を表すが、少なくとも1つは酸不安定基である。)
で示される単位を含有する請求項1乃至5のいずれか1項記載の化学増幅型レジスト材料。
請求項7:
酸不安定基が、炭素数4〜18の3級アルキル基又は下記一般式(9)
(式中、R9は水素原子、又は炭素数1〜10の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を表し、Yは炭素数1〜30の直鎖状、分岐状又は環状もしくは多環式のアルキル基を示す。)
で示されるアセタール基である請求項6記載の化学増幅型レジスト材料。
請求項8:
更に、下記一般式(4)及び/又は(5)
(式中、dは0〜4の整数であり、R6はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン置換されていてもよい炭素数1〜6のアルキル基又は1級もしくは2級アルコキシ基、又は炭素数1〜7のハロゲン置換されていてもよいアルキルカルボニルオキシ基、R7はそれぞれ独立に、水素原子、水酸基、炭素数1〜7のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数1〜6のアルキル基もしくはアルコキシ基、又はハロゲン置換されたアルキル基もしくはアルコキシ基を表す。)
で示される単位を含有する請求項1乃至7のいずれか1項記載の化学増幅型レジスト材料。
請求項9:
被加工基板上に請求項1乃至8のいずれか1項記載の化学増幅型レジスト材料を用いてレジスト膜を形成する工程、高エネルギー線をパターン照射する工程、アルカリ性現像液を用いて現像してレジストパターンを得る工程を含むレジストパターン形成方法。
請求項10:
上記高エネルギー線は、EUV又は電子線である請求項9記載のレジストパターン形成方法。
請求項11:
上記被加工基板の最表面は、クロムを含む材料からなるものである請求項9又は10記載のパターン形成方法。
請求項12:
上記被加工基板はフォトマスクブランクである請求項9乃至11のいずれか1項記載のパターン形成方法。
(式中、R1はそれぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基を表す。Rfは同一でも異なってもよく、水素原子、フッ素原子、トリフルオロメチル基、又はペンタフルオロエチル基を表すが、全てが水素原子となることはない。Aは一部又は全部の水素原子がフッ素原子、又は一部のメチレンが酸素原子に置換されていてもよい炭素数1〜10の二価の炭化水素基を表す。R2、R3及びR4はそれぞれ独立に置換もしくは非置換の炭素数1〜10の直鎖状又は分岐状のアルキル基、アルケニル基又はオキソアルキル基、又は置換もしくは非置換の炭素数6〜18のアリール基、アラルキル基又はアリールオキソアルキル基を表すか、あるいはR2、R3及びR4のうちのいずれか2つ以上が相互に結合して式中の硫黄原子と共に環を形成してもよい。)
で示される繰り返し単位を含有すると共に、全ての繰り返し単位に対し、繰り返し単位中に芳香環骨格を含有する単位が60モル%以上であり、かつ上記一般式(1)で示される繰り返し単位の含有量は5モル%未満であるポリマーより選択される。
(式中、sはそれぞれ独立に0又は1を表す。tはそれぞれ独立に0〜2の整数を表す。R5はそれぞれ独立に、水素原子、又は炭素数1〜6のアルキル基を示す。B1は単結合、又は鎖の中間にエーテル結合を含んでもよい炭素数1〜10のアルキレン基を示す。aは0〜3の整数、bは1〜3の整数である。)
で示される単位を挙げることができる。
リンカー(B1)を持つ場合の好ましいリンカーの具体例を以下に示す。
(式中、R8は水素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基を表し、Yは酸素原子又はメチレン基を表し、Zは水素原子又は水酸基を表し、R’は炭素数1〜4のアルキル基を表し、pは0〜3の整数を表す。)
で示される単位を挙げることができる。しかし、これらの単位は、主たる密着性を与える単位として使用するとエッチング耐性を落とすため、ポリマーの持つ全繰り返し単位中の10モル%以下の範囲で使用することが好ましい。
(式中、uは0又は1を表す。vは0〜2の整数を表す。R5はそれぞれ独立に、水素原子、又は炭素数1〜6のアルキル基を示す。B2は単結合、又は鎖の中間にエーテル結合を含んでもよい炭素数1〜10のアルキレン基を示す。aは0〜3の整数、bは0又は1であり、cは1〜3の整数である。Xはcが1の場合には酸不安定基を、cが2以上の場合には水素又は酸不安定基を表すが、少なくとも1つは酸不安定基である。)
で示される単位を挙げることができる。
(式中、R9は水素原子、又は炭素数1〜10の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を表し、Yは炭素数1〜30の直鎖状、分岐状又は環状(多環式のものを含む)のアルキル基を示す。)
で示されるアセタール基はよく利用され、比較的パターンと基板の界面が矩形であるパターンを安定して与える酸不安定基として有用な選択肢である。特に、より高い解像性を得るためには炭素数7〜30の多環式アルキル基が含まれることが好ましい。またYが多環式アルキル基を含む場合、該多環式環構造を構成する2級炭素とアセタール酸素との間で結合を形成していることが好ましい。なぜなら、環構造の3級炭素上で結合している場合、ポリマーが不安定な化合物となり、レジスト材料として保存安定性に欠け、解像力も劣化することがあるためである。逆にYが炭素数1以上の直鎖状のアルキル基を介在した1級炭素上で結合した場合、ベーク時におけるポリマーのガラス転移温度(Tg)の低下による影響で現像後に得られるレジストパターンが形状不良を起こすことがある。
なお、式(9)の具体例としては、下記のものを例示することができる。
上述の酸不安定基により保護され、酸の作用によりアルカリ可溶性となる単位は、1種のみでも、複数種を組み合わせて使用してもよく、ポリマーの全繰り返し単位に対し、5〜45モル%の範囲で導入される。
(式中、dは0〜4の整数であり、R6はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン置換されていてもよい炭素数1〜6のアルキル基又は1級もしくは2級アルコキシ基、又は炭素数1〜7のハロゲン置換されていてもよいアルキルカルボニルオキシ基、R7はそれぞれ独立に、水素原子、水酸基、炭素数1〜7のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数1〜6のアルキル基もしくはアルコキシ基、又はハロゲン置換されたアルキル基もしくはアルコキシ基を表す。)
で示される単位を挙げることができる。
これらを構成成分として使用した場合には、芳香環が持つエッチング耐性に加えて主鎖に環構造が加わることによるエッチングやパターン検査の際の電子線照射耐性を高めるという効果を得ることができる。
特に好ましく配合される塩基性化合物としては、トリス(2−(メトキシメトキシ)エチル)アミン N−オキサイド、モルホリン誘導体、イミダゾール誘導体などが挙げられる。
即ち、o−ジメチルアミノ安息香酸、p−ジメチルアミノ安息香酸、m−ジメチルアミノ安息香酸、p−ジエチルアミノ安息香酸、p−ジプロピルアミノ安息香酸、p−ジブチルアミノ安息香酸、p−ジペンチルアミノ安息香酸、p−ジヘキシルアミノ安息香酸、p−ジエタノールアミノ安息香酸、p−ジイソプロパノールアミノ安息香酸、p−ジメタノールアミノ安息香酸、2−メチル−4−ジエチルアミノ安息香酸、2−メトキシ−4−ジエチルアミノ安息香酸、3−ジメチルアミノ−2−ナフタレン酸、3−ジエチルアミノ−2−ナフタレン酸、2−ジメチルアミノ−5−ブロモ安息香酸、2−ジメチルアミノ−5−クロロ安息香酸、2−ジメチルアミノ−5−ヨード安息香酸、2−ジメチルアミノ−5−ヒドロキシ安息香酸、4−ジメチルアミノフェニル酢酸、4−ジメチルアミノフェニルプロピオン酸、4−ジメチルアミノフェニル酪酸、4−ジメチルアミノフェニルリンゴ酸、4−ジメチルアミノフェニルピルビン酸、4−ジメチルアミノフェニル乳酸、2−(4−ジメチルアミノフェニル)安息香酸、2−(4−(ジブチルアミノ)−2−ヒドロキシベンゾイル)安息香酸等が挙げられる。
即ち、1−ピペリジンプロピオン酸、1−ピペリジン酪酸、1−ピペリジンリンゴ酸、1−ピペリジンピルビン酸、1−ピペリジン乳酸等が挙げられる。
なお、界面活性剤の添加量としては、レジスト材料中のベース樹脂100質量部に対して2質量部以下、好ましくは1質量部以下であり、もし配合する場合は0.01質量部以上とすることが好ましい。
本発明の重合性アニオンを有するスルホニウム塩を以下に示す処方で合成した。
[合成例1]
トリフェニルスルホニウムクロリドの合成
ジフェニルスルホキシド40g(0.2モル)をジクロロメタン400gに溶解させ、氷冷下撹拌した。トリメチルシリルクロリド65g(0.6モル)を20℃を超えない温度で滴下し、更にこの温度で30分間熟成を行った。次いで、金属マグネシウム14.6g(0.6モル)とクロロベンゼン67.5g(0.6モル)、テトラヒドロフラン(THF)168gから別途調製したGrignard試薬を20℃を超えない温度で滴下した。反応の熟成を1時間行った後、20℃を超えない温度で水50gを加えて反応を停止し、更に水150gと12規定塩酸10gとジエチルエーテル200gを加えた。
水層を分取し、ジエチルエーテル100gで洗浄し、トリフェニルスルホニウムクロリド水溶液を得た。これは、これ以上の単離操作をせず、水溶液のまま次の反応に用いた。
4−tert−ブチルフェニルジフェニルスルホニウム臭化物の合成
合成例1のクロロベンゼンの代わりに4−tert−ブチルブロモベンゼンを用い、抽出の際の水の量を増やす以外は合成例1と同様にして目的物を得た。
4−tert−ブトキシフェニルジフェニルスルホニウム塩化物の合成
合成例1のクロロベンゼンの代わりに4−tert−ブトキシクロロベンゼンを、溶剤にトリエチルアミンを5質量%含むジクロロメタン溶剤を用い、抽出の際の水の量を増やす以外は合成例1と同様にして目的物を得た。
トリス(4−メチルフェニル)スルホニウム塩化物の合成
合成例1のジフェニルスルホキシドの代わりにビス(4−メチルフェニル)スルホキシドを用い、クロロベンゼンの代わりに4−クロロトルエンを用い、抽出の際の水の量を増やす以外は合成例1と同様にして目的物を得た。
トリス(4−tert−ブチルフェニル)スルホニウム臭化物の合成
合成例1のジフェニルスルホキシドの代わりにビス(4−tert−ブチルフェニル)スルホキシドを、クロロベンゼンの代わりに4−tert−ブチルブロモベンゼンを用い、抽出の際の水の量を増やす以外は合成例1と同様にして目的物を得た。
ビス(4−tert−ブチルフェニル)ヨードニウムハイドロジェンスルフェートの合成
tert−ブチルベンゼン84g(0.5モル)、ヨウ素酸カリウム53g(0.25モル)、無水酢酸50gの混合物を氷冷下撹拌し、無水酢酸35gと濃硫酸95gの混合物を30℃を超えない温度で滴下した。次いで室温で3時間熟成を行い、再度氷冷して水250gを滴下し、反応を停止した。この反応液をジクロロメタン400gを用いて抽出し、有機層に亜硫酸水素ナトリウム6gを加えて脱色した。更にこの有機層を水250gで洗浄することを3回繰り返した。洗浄した有機層を減圧濃縮することで、目的の粗生成物を得た。これ以上の精製はせずこのまま次の反応に用いた。
フェナシルテトラヒドロチオフェニウムブロミドの合成
フェナシルブロミド88.2g(0.44モル)、テトラヒドロチオフェン39.1g(0.44モル)をニトロメタン220gに溶解し、室温で4時間撹拌を行った。反応液に水800gとジエチルエーテル400gを加え、分離した水層を分取し、目的のフェナシルテトラヒドロチオフェニウムブロミド水溶液を得た。
ジメチルフェニルスルホニウム硫酸塩の合成
チオアニソール6.2g(0.05モル)とジメチル硫酸6.9g(0.055モル)を室温で12時間撹拌した。反応液に水100gとジエチルエーテル50mlを加えて水層を分取し、目的のジメチルフェニルスルホニウム硫酸塩水溶液を得た。
フェノキサチイン−S−オキシドの合成
フェノキサチイン100g(0.5モル)を酢酸1,600gに溶解し、室温で35%過酸化水素水48.5g(0.5モル)を滴下した。このまま室温で7日間撹拌し、反応液に水3,000gを加えて、析出した白色結晶を炉別し、減圧乾燥することで目的の化合物を合成した[白色結晶90g(収率83%)]。
10−フェニルフェノキサチイニウムヨージドの合成
フェノキサチイン−S−オキシド40g(0.18モル)をジクロロメタン400gに溶解させ、氷冷下撹拌した。トリメチルシリルクロリド65g(0.6モル)を20℃を超えない温度で滴下し、更にこの温度で30分間熟成を行った。次いで、金属マグネシウム14.6g(0.6モル)とクロロベンゼン67.5g(0.6モル)、THF(THF)168gから別途調製したGrignard試薬を20℃を超えない温度で滴下した。反応の熟成を1時間行った後、20℃を超えない温度で水50gを加えて反応を停止し、更に水150gと12規定塩酸10gとジエチルエーテル200gを加えた。
水層を分取し、ジエチルエーテル100gで洗浄し、トリフェニルスルホニウムクロリド水溶液を得た。この溶液に沃化ナトリウムを加えてスルホニウム塩を結晶化させた。結晶を濾過乾燥して目的物を得た。
2−ベンゾイルオキシ−1,1,3,3,3−ペンタフルオロプロパン−1−スルホン酸ナトリウムの合成
常法により合成した1,1,3,3,3−ペンタフルオロ−2−プロパン−2−イル ベンゾエート10.0gを水72gに分散させ、亜硫酸水素ナトリウム12.0gと過酸化ベンゾイル1.24gを加えて85℃で65時間反応を行った。反応液を放冷後、トルエンを加えて分液操作を行い、分取した水層に飽和塩化ナトリウム水溶液を加えて析出した白色結晶を濾別した。この結晶を少量の飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、減圧乾燥を行うことで、目的の2−ベンゾイルオキシ−1,1,3,3,3−ペンタフルオロプロパン−1−スルホン酸ナトリウムを得た[白色結晶5.85g(収率43%)]。
トリフェニルスルホニウム 2−ベンゾイルオキシ−1,1,3,3,3−ペンタフルオロプロパン−1−スルホネートの合成
合成例1のトリフェニルスルホニウムクロリド水溶液0.011モル相当の水溶液と合成例11で合成した2−ベンゾイルオキシ−1,1,3,3,3−ペンタフルオロプロパン−1−スルホン酸ナトリウム3.6g(0.01モル)をジクロロメタン50g中で撹拌した。有機層を分取し、水50gで3回有機層を洗浄した。有機層を濃縮し、残渣にジエチルエーテル25gを加えて結晶化させた。結晶を濾過、乾燥することで目的物を得た[白色結晶4.5g(収率75%)]。
10−フェニルフェノキサチイニウム 2−ベンゾイルオキシ−1,1,3,3,3−ペンタフルオロプロパン−1−スルホネートの合成
合成例10の10−フェニルフェノキサチイニウムヨージド39.8g(0.098モル)をメタノール300gに溶解し、炭酸鉛13.1g(0.049mol)、合成例11で合成した2−ベンゾイルオキシ−1,1,3,3,3−ペンタフルオロプロパン−1−スルホン酸ナトリウム39.6g(0.11mol)を加えて70℃に加温した。放冷後、沈澱を濾過し溶媒層を減圧溜去した。得られた残渣にジクロロメタン500gを加えて水100gで水洗した後、再び溶媒層を減圧留去し、残渣にジイソプロピルエーテルを加えて結晶化を行った。結晶を濾過、乾燥してNMR分析を行い、目的の化合物を得た[収量43g(収率76%)]。
トリフェニルスルホニウム 1,1,3,3,3−ペンタフルオロ−2−ヒドロキシプロパン−1−スルホネートの合成(PAG−1)
合成例12のトリフェニルスルホニウム 2−ベンゾイルオキシ−1,1,3,3,3−ペンタフルオロプロパン−1−スルホネート34.4gをメタノール72gに溶解させ、氷冷下撹拌した。そこへ5%水酸化ナトリウム水溶液54.0gを10℃を超えない温度で滴下した。この温度で4時間熟成した後、10℃を超えない温度で12規定塩酸6.8gを加えて反応を停止し、メタノールを減圧除去した。ジクロロメタン270gを加え、水40gで3回有機層を洗浄した後、有機層を濃縮し、残渣にジエチルエーテル60gを加えて結晶化させた。その結晶を濾過、乾燥することで目的物を得た[白色結晶24.3g(収率85%)]。
合成例2〜8で調製したオニウム塩を用いる以外は合成例14と同様にして目的物を合成した。これらのオニウム塩(PAG−2〜8)を下記に示す。また、合成例13で調製したオニウム塩を用いる以外は合成例14と同様にして目的物を合成した。このオニウム塩(PAG−9)を下記に示す。
2−(ピバロイルオキシ)−1,1−ジフルオロエタンスルホン酸ナトリウムの合成[アニオン中間体]
ピバル酸クロリドと2−ブロモ−2,2−ジフルオロエタノールをTHF中で混合、氷冷した。トリエチルアミンを加え、通常の分液操作と溶剤留去を行い、ピバル酸=2−ブロモ−2,2−ジフルオロエチルを得た。次いで亜二チアン酸ナトリウムによりスルフィン酸ナトリウム化、過酸化水素による酸化を行い、目的の2−(ピバロイルオキシ)−1,1−ジフルオロエタンスルホン酸ナトリウムを得た。
カルボン酸エステルの合成は公知であり、またアルキルハライドからのスルフィン酸、スルホン酸の合成は公知である。後者は例えば特開2004−2252号公報等に記載されている。
トリフェニルスルホニウム 2−(ピバロイルオキシ)−1,1−ジフルオロエタンスルホネートの合成[PAG中間体1]
2−(ピバロイルオキシ)−1,1−ジフルオロエタンスルホン酸ナトリウム(純度63%)159g(0.37モル)とトリフェニルスルホニウム=ヨージド132g(0.34モル)をジクロロメタン700gと水400gに溶解させた。分離した有機層を水200gで3回洗浄し、有機層を濃縮した。残渣にジエチルエーテルを加えて再結晶を行い、目的物を得た[白色結晶164g(収率95%)]。
トリフェニルスルホニウム 1,1−ジフルオロ−2−ヒドロキシエタンスルホネートの合成[PAG−10]
トリフェニルスルホニウム=2−(ピバロイルオキシ)−1,1−ジフルオロエタンスルホネート243.5g(0.48モル)をメタノール760gに溶解し、氷冷した。水酸化ナトリウム水溶液〔水酸化ナトリウム40gを水120gに溶解したもの〕を5℃を超えない温度で滴下した。室温で8時間熟成を行い、10℃を超えない温度で希塩酸(12規定塩酸99.8gと水200g)を加えて反応を停止し、メタノールを減圧除去した。ジクロロメタン1,000gを加え、飽和食塩水30gで3回有機層を洗浄した後、有機層を濃縮し、残渣にジイソプロピルエーテル1Lを加えて結晶化させた。その結晶を濾過、乾燥することで目的物を得た[187g(純度78%)]。
合成例2、10で調製したオニウム塩を用いる以外は合成例24及び25と同様にして目的物を合成した。これらのオニウム塩(PAG−11、12)を下記に示す。
トリフェニルスルホニウム 1,1,3,3,3−ペンタフルオロ−2−メタクリロイルオキシプロパン−1−スルホネートの合成[monomer−1]
合成例14のトリフェニルスルホニウム 1,1,3,3,3−ペンタフルオロ−2−ヒドロキシプロパン−1−スルホネート49.0g(0.1モル)をジクロロメタン200gに溶解し、トリエチルアミン10.1g(0.10モル)とN,N−ジメチルアミノピリジン2.4g(0.2モル)を加えて、氷冷下撹拌した。メタクリル酸無水物10.0g(0.10モル)を10℃を超えない温度で滴下した。更に15分熟成を行い、希塩酸を加えて分液を行い、更に水200gで3回有機層を洗浄した後、有機層を濃縮し、残渣にジエチルエーテルを加えて結晶化させた。その結晶を濾過し、シリカゲルカラムクロマト(溶出液:ジクロロメタン−メタノール混合溶剤)にて精製した後に再度ジエチルエーテルにて再結晶後、濾過、乾燥することで目的物を得た[白色結晶29g(収率51%)]。
合成例28で用いたトリフェニルスルホニウム 1,1,3,3,3−ペンタフルオロ−2−ヒドロキシプロパン−1−スルホネートに代えて合成例15〜22(PAG−2〜9)のオニウム塩を用いる以外は同様にして下記の重合性アニオンを有するオニウム塩を合成した。monomer−1〜9の構造式を下記に示す。
トリフェニルスルホニウム 1,1−ジフルオロ−2−メタクリロイルオキシエタンスルホネートの合成(monomer−10)
トリフェニルスルホニウム 1,1−ジフルオロ−2−ヒドロキシエタンスルホネート(純度63%)を5重量倍のアセトニトリルに溶解し、1当量のトリエチルアミンと0.05当量の4−N,N−ジメチルアミノピリジンを添加し、氷浴にて冷却した。メタクリル酸無水物1.1当量を5℃を超えない温度で滴下し、次いで室温で2時間撹拌した。希塩酸を加えて反応液を酸性としてから溶剤を減圧留去した。残渣にジクロロメタンと水を加えて有機層を分取し、有機層を水で洗浄後に溶剤を減圧留去した。残渣にジエチルエーテルを加えて再沈殿により精製を行い、目的物を油状物として得た。
合成例37で用いたトリフェニルスルホニウム 1,1−ジフルオロ−2−ヒドロキシエタンスルホネートに代えて合成例26、27(PAG−11、12)のオニウム塩を用いる以外は同様にして下記の重合性アニオンを有するオニウム塩を合成した。monomer−10〜12の構造式を下記に示す。
本発明のポリマーを以下に示す処方で合成した。
[ポリマー合成例2−1]ポリマー1の合成
窒素雰囲気とした滴下用シリンダーに12.76gのハイドロキノンモノメタクリレート、3.64gのアセナフチレン、11.37gのアミロキシスチレン、2.23gのトリフェニルスルホニウム−1,1,3,3,3−ペンタフルオロ−2−メタクリロイルオキシプロパン−1−スルホネート(monomer−1)、2.93gのジメチル2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオネート)(和光純薬工業社製、商品名V−601)、87gのプロピレングリコールモノメチルエーテルをとり、単量体溶液を調製した。窒素雰囲気とした別の重合用フラスコに、33gのプロピレングリコールモノメチルエーテルをとり、撹拌しながら80℃まで加熱した後、上記単量体溶液を4時間かけて滴下した。滴下終了後、重合液の温度を80℃に保ったまま4時間撹拌を続け、次いで室温まで冷却した。得られた重合液を、1,100gのヘキサン/ジイソプロピルエーテル溶液に滴下し、析出した共重合体を濾別した。共重合体をヘキサン200gで2回洗浄した後、50℃で20時間真空乾燥して、下記式ポリマー1で示される白色粉末固体状のポリマーが得られた。収量は22.4g、収率は75%であった。
各単量体の種類、配合比を変えた以外は、ポリマー合成例2−1と同様の手順により、表1に示した樹脂を製造した。表1中、各単位の構造を表2〜8に示す。なお、下記表1において、導入比はモル比を示す。
ヒドロキシスチレン単位を導入する上で、まず上述した処方により各単量体の種類、配合比を変えた以外は、ポリマー合成例2−1と同様の手順で表2の「C−2」単位をポリマー中に配置し、得られた各ポリマーをメタノール、THF混合溶剤に溶解し、蓚酸を加えて40℃で脱保護反応を行った。ピリジンにて中和処理した後に通常の再沈精製を行うことによりヒドロキシスチレン単位を有するポリマーを得た(ポリマー15〜19)。またポリマー20、21に関しては、得られたヒドロキシスチレン単位を更に蓚酸酸性条件下で2−メチル−1−メトキシプロパン−1−エン又は8−(2’−メチル−1’−プロペニルオキシ)−トリシクロ[5,2,1,02,6]デカンを反応させることで得ることができる。
上記で得られたポリマー22に2−メチル−1−メトキシプロパン−1−エン又は8−(2’−メチル−1’−プロペニルオキシ)−トリシクロ[5,2,1,02,6]デカンを蓚酸酸性条件下で反応させて目的のポリマー23、24を得た。
窒素雰囲気下、滴下シリンダーに4−(1−エトキシエトキシ)スチレン170.39g、アセナフチレン15.42g、トリフェニルスルホニウム−1,1,3,3,3−ペンタフルオロ−2−メタクリロイルオキシプロパン−1−スルホネート(monomer−1)14.19g、ジメチル−2,2’−アゾビス−(2−メチルプロピオネート)(和光純薬工業社製、商品名V−601)18.66gのメチルエチルケトンを180g加えた単量体溶液を調製した。窒素雰囲気とした別の2,000ml重合用フラスコに、メチルエチルケトンを120gとり、撹拌しながら80℃まで加温した後、上記単量体溶液を4時間かけて滴下した。滴下終了後、重合液の温度を80℃に保ったまま20時間撹拌を続け、次いで室温まで冷却した。更に、得られた重合液にメタノール200g、蓚酸二水和物を4.00g加え、50℃で5時間撹拌した。室温まで冷却後ピリジンを4g加えて中和を行った。得られた反応溶液を濃縮後、濃縮物を酢酸エチル500g、水200gに溶解し、よく混合した後分液して酢酸エチル相を取り、更に酢酸エチル相を水で6回洗浄した。次に酢酸エチル溶液より酢酸エチルを留去した後、残渣をアセトン350gに溶解させ、得られたアセトン溶液を8Lの水に滴下し、析出した共重合体を濾別した。濾別したポリマーを2Lの水で2回洗浄を行い、得られた共重合体を50℃で24時間乾燥を行って、下記ベースポリマーBP−1(Mw=4,848、Mw/Mn=1.46)を140g得た。
ポジ型レジスト材料の調製
上記で合成したポリマー(ポリマー1〜21、23〜39、比較例ポリマー1〜13)、下記式で示される酸発生剤(PAG−A)、塩基性化合物(Base−1)を表9に示す組成で有機溶剤中に溶解してレジスト材料を調合し、更に各組成物を0.2μmサイズのフィルターもしくは0.02μmサイズのナイロン又はUPEフィルターで濾過することにより、ポジ型レジスト材料の溶液をそれぞれ調製した。
表9中の有機溶剤は、PGMEA(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート)、EL(乳酸エチル)、PGME(プロピレングリコールモノメチルエーテル)である。
また、各組成物には、界面活性剤としてPF−636(OMNOVA SOLUTIONS製)を0.075質量部添加した。
上記調製したポジ型レジスト材料(実施例1〜39、比較例1〜13)をACT−M(東京エレクトロン(株)製)を用いて152mm角の最表面が酸化窒化クロム膜であるマスクブランク上にスピンコーティングし、ホットプレート上で100℃で600秒間プリベークして60nmのレジスト膜を作製した。得られたレジスト膜の膜厚測定は、光学式測定器ナノスペック(ナノメトリックス社製)を用いて行った。測定はブランク外周から10mm内側までの外縁部分を除くブランク基板の面内81箇所で行い、膜厚平均値と膜厚範囲を算出した。
更に、電子線露光装置((株)ニューフレアテクノロジー製、EBM−5000plus、加速電圧50keV)を用いて露光し、100℃で600秒間ベーク(PEB:post exposure bake)を施し、2.38質量%のテトラメチルアンモニウムヒドロキシドの水溶液で現像を行うと、ポジ型のパターンを得ることができた。更に得られたレジストパターンを次のように評価した。
作製したパターン付きウエハーを上空SEM(走査型電子顕微鏡)で観察し、200nmの1:1のラインアンドスペースを1:1で解像する露光量を最適露光量(μC/cm2)とし、200nmのラインアンドスペースを1:1で解像する露光量における最小寸法を解像度とし、100nmLSのエッジラフネスをSEMで測定した。パターン形状については、矩形か否かを目視にて判定した。密着性に関しては、上空SEMにて上空観察を行ったときに、目視にて剥がれをEB描画における本発明のレジスト材料及び比較用のレジスト材料の評価結果を表10に示す。
Claims (12)
- 化学増幅型レジスト材料を調製する際、分子中に極性を持つことによってポリマーに密着性を与える単位と、酸不安定基により保護され、酸の作用によりアルカリ可溶性となる単位を含有する化学増幅型レジスト用ポリマーの選択において、下記一般式(1)
(式中、R1はそれぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基を表す。Rfは同一でも異なってもよく、水素原子、フッ素原子、トリフルオロメチル基、又はペンタフルオロエチル基を表すが、全てが水素原子となることはない。Aは一部又は全部の水素原子がフッ素原子、又は一部のメチレンが酸素原子に置換されていてもよい炭素数1〜10の二価の炭化水素基を表す。R2、R3及びR4はそれぞれ独立に置換もしくは非置換の炭素数1〜10の直鎖状又は分岐状のアルキル基、アルケニル基又はオキソアルキル基、又は置換もしくは非置換の炭素数6〜18のアリール基、アラルキル基又はアリールオキソアルキル基を表すか、あるいはR2、R3及びR4のうちのいずれか2つ以上が相互に結合して式中の硫黄原子と共に環を形成してもよい。)
で示される繰り返し単位を含有し、全ての繰り返し単位に対し、繰り返し単位中に芳香環骨格を含有する単位が60モル%以上であり、かつ上記一般式(1)で示される繰り返し単位の含有量は5モル%未満であるポリマーを選択して用いることを特徴とする化学増幅型レジスト材料。 - 被加工基板上に請求項1乃至8のいずれか1項記載の化学増幅型レジスト材料を用いてレジスト膜を形成する工程、高エネルギー線をパターン照射する工程、アルカリ性現像液を用いて現像してレジストパターンを得る工程を含むレジストパターン形成方法。
- 上記高エネルギー線は、EUV又は電子線である請求項9記載のレジストパターン形成方法。
- 上記被加工基板の最表面は、クロムを含む材料からなるものである請求項9又は10記載のパターン形成方法。
- 上記被加工基板はフォトマスクブランクである請求項9乃至11のいずれか1項記載のパターン形成方法。
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