JP2010540832A - クラムシェル形の多段真空ポンプ - Google Patents

Abstract

本発明は、クラムシェル形の多段真空ポンプに関する。真空ポンプは、互いにシール連結される２つのハウジング構成要素（１２）を有し、ハウジング構成要素により、ポンプの入口領域から出口領域まで長手方向に延びる列をなすチャンバが形成される。２つのハウジング構成要素の間の連結部において、真空ポンプ内への流体の移動及び真空ポンプからの流体の移動を防止するために、シール手段（３０）が、２つのハウジング構成要素間に配置される。別々の細長いチャネルの列が、シール手段（３０）とチャンバ（１４、１６、１８、２０、２２）の列の間に設けられ、細長いチャネルは、真空ポンプの作動中、チャンバの中を通る流体からシール手段（３０）を保護するように機能する。

Description

本発明は、クラムシェル形の多段真空ポンプに関し、より詳しくは、かかる真空ポンプに使用されるシール組立体に関する。

真空チャンバ内がオイルフリーであり、従って半導体産業で見られるようなクリーン環境に有効な真空ポンプが知られている。かかる製造環境では、真空チャンバ内に潤滑剤が存在すると、潤滑剤物質が逆流して、プロセスチャンバ内に侵入する可能性があり、そのような場合、製造される製品の汚染を引き起こすことがある。かかる乾式真空ポンプは、一般に、多段の一方向強制押出しポンプであり、このポンプは、互いに噛合うロータを各真空チャンバ内に採用している。ロータは、各チャンバ内に同じ種類の輪郭のものを有していてもよいし、チャンバ毎に異なる種類の輪郭のものを有していてもよい。

かかる多段真空ポンプのハウジングを、ハーフシェル形の２つのステータ構成要素から形成することが知られており、ハーフシェル形の２つのステータ構成要素は、複数のポンプチャンバと、ポンプチャンバ間のガスの搬送のための移送チャネルを有している。ポンプからのプロセスガスの漏れを防止し且つ周囲の空気がポンプ内に入ることを防止するために、２つのステータ構成要素間にシール手段を設けることが必要である。このシール機能を行うために、典型的には、線状のシーラントが設けられる。

ロードロック適用例等のクリーンな環境では、シール手段の一体性が危険にさらされることはなく、かくして、シール手段のシール特性が維持される。しかしながら、プロセスポンプ内に見られるような苛酷な環境では、シール手段を、侵食性プロセスガスへの露出により劣化されることがある。シール手段の劣化により、シーラントが交換され、従って、プロセス全体にわたるコスト高な稼動停止を引き起こす。更に、ステータの接触面が侵食されることがあり、このことにより、接触に異常を生じさせ、その結果、ポンプケースの歪みが生じることがある。この歪みにより、回転構成要素と静止構成要素との間のクリアランスを減少させ、引き続いて、ポンプの機械的信頼性に影響を与えることがある。

シール手段に到達する侵食性ガス物質の量を減少させることによって、静止シール機構を保護する機械的バリヤを導入した在来のシステムが知られている。しかしながら、機械的バリヤを形成するために選択される材料とプロセスガスとの間に、共存性が得られなくてはならない。更に、かかる機械的バリヤの存在によって、追加の複雑さがシステムに導入され、また、かかる機械的バリヤは、全体としてステータの接触面を保護しない。

本発明は、上記問題を、シール手段及びステータ接触面を保護するための別の簡単な手段を提供することによって解決することを目的とする。

第１の側面によれば、本発明は、クラムシェル形の多段真空ポンプであって、ポンプの入口領域からポンプの出口領域まで長手方向に延びる列をなす複数のチャンバを形成するように互いにシール連結される２つのハウジング構成要素と、２つのハウジング構成要素間の連結部における真空ポンプ内への流体の移動及び真空ポンプからの流体の移動を防止するために、２つのハウジング構成要素の間に配置されたシール手段と、チャンバの中を通る流体からシール手段を保護するために、シール手段とチャンバの列の間に配置された別々の細長いチャネルの列と、を有し、各細長いチャネルは、それに隣接した細長いチャネルが受入れるバリヤ流体の圧力と異なる圧力を有するバリヤ流体を受入れるように構成される多段真空ポンプを提供する。

異なる圧力のバリヤ流体が供給される別々の細長いチャネルを設けることにより、シール手段が、真空ポンプの中を通して搬送されるプロセス流体に露出されることから保護されると同時に、真空ポンプの入口段へのバリヤ流体の導入を最小にする。従って、クラムシェル形の真空ポンプの性能を維持しながら、真空ポンプの稼動時間を増大させることができる。

細長いチャネルの列は、実質的に同一直線上にあるのがよい。

チャンバが、ポンプチャンバであり、各ハウジング構成要素が、ハーフシェル形の複数のステータ構成要素であってもよいし、チャンバが、移送チャンバであり、第１のハウジング構成要素が、ハーフシェル形のステータ構成要素であり、第２のハウジング構成要素が、カバープレートであってもよいし、その両方であってもよい。

細長いチャネルの列は、真空ポンプの出口領域から真空ポンプの入口領域に向かって延びていてもよいし、真空ポンプの入口部分まで延びていてもよい。

別々の細長いチャネルの１つは、パージガスを、真空ポンプのポンプチャンバ内に直接供給するように構成されてもよい。

真空ポンプは、好ましくは、更に、ハウジング構成要素の１つに連結されたヘッドプレートと、真空ポンプ内への流体の移動及び真空ポンプからの流体の移動を防止するために、ヘッドプレートとハウジング構成要素との間に配置されたシール手段を有する。ヘッドプレートは、好ましくは、シール手段と真空ポンプのチャンバとの間に配置されたヘッドプレートチャネルを有し、ヘッドプレートチャネルは、チャンバを通る流体からシール手段を保護するバリヤ流体を受入れる。

ヘッドプレートチャネルは、バリヤ流体に流体的に連通し、バリヤ流体を、ヘッドプレートチャネルに隣接するようにハウジング構成要素に設けられた少なくとも１つの細長いチャネルから受入れることが有利である。

ヘッドプレートチャネルは、それに隣接するようにハウジング構成要素のチャンバの両側に設けられた細長いチャネルに流体的に連通し、バリヤ流体をチャンバの一方の側の細長いチャネルから受入れ、チャンバの反対側の細長いチャネルに搬送するように構成されることが特に有利である。

また、ヘッドプレートチャネルは、更に有利には、バリヤ流体を、ヘッドプレートチャネルに隣接するようにハウジング構成要素に設けられた細長いチャネルに供給してもよい。

シール手段は、Оリングで構成されてもよいし、線状のシーラントで構成されてもよい。

バリヤ流体が細長いチャネルの列の中に受入れられる圧力は、列の方向において、１つのチャネルからそれと隣接したチャネルまで増大する。

本発明を例示としてのみ説明するのに、以下の添付図面を参照する。

真空ポンプの部分的な斜視図である。 変形例の真空ポンプの概略的な平面図である。 変形例のバリヤ流体チャネルを示す図である。 真空ポンプの端部の概略的な断面図である。 他の真空ポンプの端部の概略的な断面図である。 真空ポンプのステータの部分的な斜視図である。 ステータ内に形成された移送チャンバを閉じるカバープレートを示す、図６の真空ポンプの部分的な分解図である。

図１は、クラムシェル形真空ポンプ１０の一部を示す。ハーフシェル形の下方のステータ構成要素１２が示され、下方のステータ構成要素１２は、その表面２４に形成された多数のキャビティ１４、１６、１８、２０、２２を有している。協働する１対のロータ組立体２６、２８が、真空ポンプ１０内に取付けられ、協働するロータの各対が、それぞれのキャビティ１４、１６、１８、２０、２２内に配置されている。真空ポンプ１０が組立てられるとき、ハーフシェル形の第２の（上方の）ステータ構成要素（図示せず）が、ロータ組立体２６、２８を覆うように配置され、ロータは、ハーフシェル形の第２のステータ構成要素内に形成されたそれぞれのキャビティ内に突出する。キャビティの各対は、それぞれのポンプチャンバ（図示せず）を形成する。ポンプチャンバを、集合的に、真空ポンプ１０の掃気容量部と呼ぶ。移送チャネル４０、４２、４４、４６、４８が、ステータ構成要素１２に設けられている。移送チャネルは、この例では、ポンプチャンバの周りを包囲して、プロセス流体を１つのポンプチャンバから次のポンプチャンバに搬送するのに使用される。例えば、移送チャネル４０は、流体をポンプチャンバ１４′からポンプチャンバ１６′に搬送するのに使用される。

図１に示すように、シール手段が、ステータ構成要素の表面２４の各周縁部に塗布され、シール手段は、この例では、線状のシーラント３０である。シーラント３０は、例えば、嫌気性シーラント３０であり、シルクスクリーン技術を用いて塗布される。２つのハーフシェル形のステータ構成要素がボルト（図示せず）を用いて互いに接合されるとき、シーラント３０は硬化する。シーラント３０は、２つのステータ構成要素の間の流体密封シールを形成し、真空ポンプ１０の掃気容量部内への周囲空気の流入を防止するのに使用されると共に、真空ポンプの掃気容量部から大気中へのプロセス流体の流出を防止するのに使用される。

真空ポンプの中を流れる任意のプロセス流体の凝縮を防止するために、真空ポンプを高温で運転することがしばしば必要である。かかるプロセス流体が凝縮すると、堆積物が形成され、引き続いて、ロータ組立体２６、２８等の回転機構の作動及び性能が妨害されるからである。しかしながら、高温であれば、ポンプの中を通る激しい又は反応性の流体が、ステータ構成要素の表面２４及びシーラント３０等のポンプの材料と反応する傾向が増大する。

細長いチャネル３２、３４、３６、３８が、シーラント３０と真空ポンプ１０の掃気容量部との間のステータ構成要素の表面２４に設けられている。バリヤ流体が細長いチャネル３２、３４、３６、３８に送出され、その結果、バリヤ流体のカーテンが、シーラント３０と、掃気容量部の中を通って搬送されるプロセス流体との間に形成される。細長いチャネル３２、３４、３６、３８は、図示のように、同一直線上に配置されるのがよい。

典型的には、一定の条件下で反応しないように選択されたパージガスがポンプに供給され、このパージガスは、例えば、窒素である。このパージガスは、ポンプ内のプロセスガスを希釈するのに使用され、プロセスガスの分圧を、凝縮物が形成し始める飽和値より小さく維持するように作用する。パージガスは、一般的には、パージ流体入口から掃気容量部内に直接導入され、プロセスガスと混合される。典型的には、パージガスは、プロセスガスよりも高圧で供給され、従って、過度の抵抗を受けることなしに、掃気容量部内に入る。

バリヤ流体は、パージガス、即ち、窒素の供給源と同じ供給源から供給される。しかしながら、バリヤ流体は、真空ポンプの材料、特にシール手段の材料と反応しない任意の流体であるのがよい。

過剰のバリヤ流体は、チャネル３２、３４、３６、３８の外に漏れ、低圧の掃気容量部に向かう。その結果、ステータ構成要素の表面２４は、常に、バリヤ流体で洗い流され、それにより、プロセス流体がステータ構成要素の表面２４の上に引かれない。ステータ構成要素の表面２４が一時的にプロセス流体に晒されても、プロセス流体がバリヤ流体によって迅速に希釈され、分散させられる。

パージガスは、バリヤ流体チャネルを介して掃気容量部に供給されてもよい。例示として、チャネル３８とポンプチャンバ２２の間を延びる導管３９を、図１に示す。

パージガスはまた、任意のチャネル３２、３４、３６、３８から導管（図示せず）を介して移送ポート４０、４２、４４、４６、４８に供給されてもよい。

異なる圧力を有するバリヤ流体が各チャネルに供給されるとき、複数の別々のチャネル３２、３４、３６、３８を設けることが必要である。特定のチャネル内のバリヤ流体の圧力は、それに隣接したポンプチャンバの中を通して搬送されるプロセス流体の圧力と同じではないが、それを反映している。例えば、真空ポンプの出口領域の高圧ポンプチャンバ２０′、２２′に隣接したチャネル３８に、約１２００ミリバール（１．２×１０⁵Ｐａ）のバリヤ流体が供給される。これとは対照的に、真空ポンプの入口領域の低圧ポンプチャンバに隣接したチャネル３２に、約２０〜５０ミリバール（２×１０³〜５×１０³Ｐａ）のの圧力を有するバリヤ流体が供給される。

ハーフシェル形のステータ構成要素１２の表面２４に設けられたチャネル３２、３４、３６、３８の数は、ポンプチャンバの数と一致している必要はない。実際、この例では、４つのチャネル３２、３４、３６、３８が設けられ、５つのポンプチャンバがハーフシェル形のステータ構成要素１２内に形成されている。チャネル３２、３４、３６、３８は、図示のようにステータ構成要素１２の全長にわたって延びていてもよいし、プロセス流体が高温及び高圧である真空ポンプ１０の出口領域のすぐ近くに配置されてもよい。

別々のチャネル３２、３４、３６、３８が設けられ、それらに異なる圧力を有するバリヤ流体が供給されることを可能にするのがよい。これらの別々のチャネル３２、３４、３６、３８を設ける場合、ポンプの入口領域から出口領域まで変化する圧力勾配を有するバリヤ流体のカーテンが設けられる。そのように構成すると、単一のチャネルを有し且つそれにバリヤ流体が単一の圧力で供給される場合よりも、各ポンプチャンバとそれに隣接したチャネルとの間の小さい圧力差が達成される。その結果、チャネルとポンプチャンバとの間に生じる漏れが少なくなる。この少ない漏れレベルは、真空ポンプによって消費されるバリヤ流体の量を最小にする。真空ポンプに導入され、最終的には掃気容量部、特に、真空ポンプの入口領域に導入されるバリヤ流体を最少にすることによって、真空ポンプの性能を最大にすることができる。

侵食性プロセス流体へのステータ構成要素の表面２４及びシーラント３０の露出を最小にすることによって、ステータ構成要素の表面２４及びシール手段の劣化を最小にすることができ、従って、ポンプのメンテナンス間隔を増大させる。かくして、真空ポンプをより長い期間にわたって作動させたままにすることができ、真空ポンプを使用する全体プロセスのコスト高な停止期間を最小にすることができる。

図１はまた、ハーフシェル形のステータ構成要素１２に連結されたヘッドプレート５０を示す。Оリング５２等の他のシール手段が、ヘッドプレート５０とハーフシェル形のステータ構成要素１２との間に設けられている。上述した仕方と同様の仕方で、ヘッドプレートチャネル５６をОリング５２の箇所と掃気容量部との間に形成することによって、他のシール手段５２及びハーフシェル形のステータ構成要素１２に隣接したヘッドプレート５４の表面が保護される。バリヤ流体がヘッドプレートチャネル５６に供給され、ヘッドプレートチャネル５６からヘッドプレートの表面５４に沿って掃気容量部に漏れ、ポンプの出口のポンプチャンバに向かう。ヘッドプレートチャネル５６は、それがステータ構成要素の表面２４に設けられたチャネル３８と整列し且つ流体的に連通するように構成されるのがよい。このように、両方のチャネル３８、５６へのバリヤ流体の単一の供給が行われるのがよい。

図２は、ハーフシェル形のステータ構成要素１１２を有する変形例の真空ポンプ１１０を示し、３つのポンプチャンバ１１４、１１６、１１８が、ハーフシェル形のステータ構成要素１１２に設けられている。ヘッドプレート１２０、１２２が、ハーフシェル形のステータ構成要素１１２の各端部に設けられている。線状の嫌気性シーラント等のシール手段１３０、１３０′が、第１の例に関連して上述した仕方と同様の仕方で、ハーフシェル形のステータ構成要素１１２の表面１２４の各横周囲領域に設けられている。この例では、移送チャネル１３７、１３８が、前の例のようにポンプチャンバの周りではなく、ポンプチャンバの間に設けられている。かかる形態は、真空ポンプ１０の構成よりも、真空ポンプ１１０の長さを延長させるが、横方向の寸法を減少させる。

バリヤ流体を受入れる細長い別々のチャネル１３２、１３４、１３６が、シール手段１３０を保護するために、ハーフシェル形のステータ構成要素１１２の表面１２４に設けられている。真空ポンプの反対側のチャネル１３２′、１３４′、１３６′において、シール手段１３０′を保護するために、上記チャネルの配列が繰返されている。

シーラント又はこの例のようなОリング１４２、１４４等のシール手段が、各ヘッドプレート１２０、１２２とハーフシェルステータ構成要素１１２との間に設けられている。ポンプチャンバ１１４、１１６、１１８の中を通る侵食性プロセス流体への任意の露出による有害作用からОリング１４２を保護するために、チャネル１４６、１４８が、掃気容量部とОリング１４２、１４４の間に設けられている。図示のように、チャネル１４６は、チャネル１３２、１３２′と流体的に連通し、チャネル１４８は、チャネル１３６、１３６′と流体的に連通している。結果として、チャネル１３２、１３２′、１４６を組合せて、それらへのバリヤ流体の単一の供給を行うことができ、このバリヤ流体と異なる高圧の別のバリヤ流体の単一の供給を、チャネル１３６、１３６′、１４８に行うことができる。

図１及び図２の各々は、互いに分離されたバリヤ流体チャネルの列を示し、非チャネル領域が、バリヤ流体チャネルの間に形成されている。この非チャネル領域に隣接した各チャネルからの流体は、それぞれの流体チャネルの外に漏れ、非チャネル領域内で一緒になり、その結果、バリヤ流体のカーテンは連続しているが、中間圧力を非チャネル領域内で有している。変形例として、より広範囲のカバーを必要とするならば、図３に示すように、チャネル１３２、１３３、１３４、１３５、１３６をジグザグ形態又は千鳥形態に配置するのがよい。

図４は、図２に示した種類の真空ポンプの概略的な断面を示す。図示のように、シーラント１３０、１３０′がステータ構成要素の表面１２４の上に塗布され、ハーフシェルステータ構成要素１１２、１１２′を互いに一緒にしたとき、シーラント１３０、１３０′により、ステータ構成要素の表面１２４、１２４′の例えば０．０１〜０．０５ｍｍの分離を生じさせることが明らかである。分離「ｄ」により、チャネル１３４、１３４′からポンプチャンバ１１６内への障害物のない流路が形成される。

図５に示す変形例では、バリヤ流体チャネル２３４は、真空ポンプ２１０の第１のハーフシェル形のステータ構成要素２１２内に部分的に形成され、第２のステータ構成要素２１２′内に部分的に形成されている。更に、図４に示すように、シーラント１３０、１３０′は、ハーフシェルステータ１１２、１１２′の間にクリアランス「ｄ」が形成されるように、各ハーフシェルステータ１１２、１１２′に塗布される。しかしながら、図５に示すように、シーラント２３０は、ハーフシェル形の各ステータ構成要素の表面２２４、２２４′が互いに直接接触するように、ハーフシェル形のステータ構成要素２１２の表面２２４又はハーフシェル形のステータ構成要素２１２′の表面２２４′の凹部内に配置されてもよい。図５に示す例では、ハーフシェル形の両方のステータ構成要素２１２、２１２′間におけるバリヤ流体及びプロセス流体の両方の流量が大幅に減少する。かかる例では、シーラント２３０を保護するために、バリヤ流体が主として供給され、別の出口２３６が、バリヤ流体チャネル２３４とそれに隣接したポンプチャンバ２１６の間に設けられ、それにより、バリヤ流体が真空ポンプ２１０の掃気容量部に直接流入することを可能にする。

前の例のシール手段は、複数のチャンバがステータ構成要素、即ち、ハウジング構成要素に形成され且つ異なる圧力の流体が各チャンバの中を通過する任意の環境で使用される。かかる構成要素の変形例を図６に示す。図示の構成要素は、真空ポンプ３１０のステータ構成要素３１２、３１２′であり、実際、真空ポンプ３１０は、図１に示した真空ポンプと同じ真空ポンプであるのがよい。しかしながら、図６では、ステータ構成要素３１２の外面３２４に、複数の移送チャンバ３３２、３３４、３３６、３３８、３４０が形成されている。使用時、流体は、各ポンプチャンバからそれぞれの移送チャンバに入り、ステータ３１２の材料の中を通ってポンプチャンバの周りに搬送され、次に続くポンプチャンバに送られる。移送チャンバ３３２、３３４、３３６、３３８、３４０は各々、図７に示すように、カバープレート３１４がステータ構成要素３１２の外面３２４を覆うことによって閉じられる。プロセス流体が真空ポンプ３１０から流出することを防止するために、及び、周囲空気が真空ポンプ３１０の中に流入することを防止するために、シール手段３３０が、ステータ構成要素３１２の外面３２４とカバープレート３１４との間に設けられている。

保護流体カーテンを移送チャンバとシール手段３３０の間に設けることが望ましい。前の例と同じように、ハーフシェル形のステータ構成要素３１２の外面３２４に形成された移送チャンバ３３２、３３４、３３６、３３８、３４０は各々、真空ポンプ３１０の作動中、他の移送チャンバに対して異なる圧力を有する流体を受入れる。その結果、流体カーテンが、異なる圧力のバリヤ流体を受入れるための別々の細長いチャネル３１６、３１８、３２０を形成することによって形成される。再び、低圧のバリヤガスが、真空ポンプ３１０の入口領域に近いチャネル３１６に供給され、高圧のバリヤガスが、真空ポンプ３１０の出口領域に近いチャネル３２０に供給される。

過剰のバリヤ流体が、上記チャネルと移送チャンバとの間の圧力差により、チャネル３１６、３１８、３２０の外に漏れる。過剰のバリヤ流体は、ステータ構成要素３１２の外面３２４を洗い流し、ステータ構成要素３１２の外面３２４に接触する任意のプロセス流体を希釈し且つ分散させる。

図７は、図６に示した真空ポンプ３１０の一部の分解斜視図であり、移送チャンバを閉じるのに使用されるカバープレート３１４を示す。

図６及び図７に示すように、移送チャンバがポンプチャンバを包囲している形態を有する真空ポンプでは、第２のハーフシェル形のステータ構成要素３１２′も、その外面に形成された移送チャンバを有している。この外面も、カバープレートによって閉じられ、シール手段が、ステータ構成要素３１２′の外面とカバープレートの間に設けられている。別々の細長いチャネルが、第２のハーフシェルステータ構成要素３１２′の移送チャンバとシール手段の間に、前述した仕方と同様の仕方で設けられるのがよい。

要約すれば、異なる圧力のバリヤガスを受入れる複数の別々のチャネルを設けることによって、真空ポンプの長手方向に沿って変化する圧力を反映するように徐々に変化する圧力特性を有する流体カーテンが形成されるのがよく、この仕方は、単一の連続チャネルが設けられるときには不可能である仕方である。

Claims (14)

1. クラムシェル形の多段真空ポンプであって、
   ポンプの入口領域からポンプの出口領域まで長手方向に延びる列をなす複数のチャンバを形成するように互いにシール連結される２つのハウジング構成要素と、
   前記２つのハウジング構成要素間の連結部における真空ポンプ内への流体の移動及び真空ポンプからの流体の移動を防止するために、前記２つのハウジング構成要素の間に配置されたシール手段と、
   前記チャンバの中を通る流体から前記シール手段を保護するために、前記シール手段と前記チャンバの列の間に配置された別々の細長いチャネルの列と、を有し、
   各前記細長いチャネルは、それに隣接した細長いチャネルが受入れるバリヤ流体の圧力と異なる圧力を有するバリヤ流体を受入れるように構成される、真空ポンプ。
2. 前記細長いチャネルの列は、実質的に同一直線上にある、請求項１に記載の真空ポンプ。
3. 前記チャンバは、ポンプチャンバであり、前記ハウジング構成要素は各々、ハーフシェル形のステータ構成要素である、請求項１又は２に記載の真空ポンプ。
4. 前記チャンバは、移送チャンバであり、第１の前記ハウジング構成要素は、ハーフシェル形のステータ構成要素であり、第２の前記ハウジング構成要素は、カバープレートである、請求項１又は２に記載の真空ポンプ。
5. 前記細長いチャネルの列は、真空ポンプの出口領域から真空ポンプの入口領域に向かって延びる、請求項１〜４の何れか１項に記載の真空ポンプ。
6. 前記細長いチャネルの列は、真空ポンプの出口領域から真空ポンプの入口部分まで延びる、請求項１〜５の何れか１項に記載の真空ポンプ。
7. 前記別々の細長いチャネルの少なくとも１つは、パージガスを、真空ポンプのポンプチャンバ又は移送チャネル内に直接送出するように構成される、請求項１〜６の何れか１項に記載の真空ポンプ。
8. 更に、前記ハウジング構成要素の少なくとも１つに連結された少なくとも１つのヘッドプレートと、
   真空ポンプ内への流体の移動及び真空ポンプからの流体の移動を防止するために、前記ヘッドプレートと前記ハウジング構成要素との間に配置されたシール手段と、
   このシール手段と前記チャンバとの間に配置されたヘッドプレートチャネルと、を有し、
   前記ヘッドプレートチャネルは、前記チャンバの中を通る流体から前記シール手段を保護するために、バリヤ流体を受入れるように構成される、請求項１〜７の何れか１項に記載の真空ポンプ。
9. 前記ヘッドプレートチャネルは、バリヤ流体と流体的に連通し、バリヤ流体を、前記ヘッドプレートチャネルと隣接するように前記ハウジング構成要素に設けられた少なくとも１つの前記細長いチャネルから受入れる、請求項８に記載の真空ポンプ。
10. 前記ヘッドプレートチャネルは、それと隣接するように前記ハウジング構成要素のチャンバの両側に設けられた前記細長いチャネルと流体的に連通し、バリヤ流体を前記チャンバの一方側の細長いチャネルから受入れ、前記チャンバの反対側の細長いチャネルに搬送するように構成される、請求項９に記載の真空ポンプ。
11. 前記ヘッドプレートチャネルは、バリヤ流体と流体的に連通し、バリヤ流体を、前記ヘッドプレートチャネルに隣接するように前記ハウジング構成要素に設けられた少なくとも１つの前記細長いチャネルに搬送する、請求項８に記載の真空ポンプ。
12. 前記シール手段は、Оリングである、請求項１〜１１の何れか１項に記載の真空ポンプ。
13. 前記シール手段は、線状のシーラントである、請求項１〜１１の何れか１項に記載の真空ポンプ。
14. バリヤ流体が前記列をなす細長いチャネルの中に受入れられる圧力は、前記細長いチャネルの列の方向において、１つの細長いチャネルからそれと隣接し細長いたチャネルまで増大する、請求項１〜１３の何れか１項に記載の真空ポンプ。

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