CN117380663A - 载片舟清洗装置 - Google Patents
载片舟清洗装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN117380663A CN117380663A CN202311480129.2A CN202311480129A CN117380663A CN 117380663 A CN117380663 A CN 117380663A CN 202311480129 A CN202311480129 A CN 202311480129A CN 117380663 A CN117380663 A CN 117380663A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- opening
- slide boat
- seal
- cavity
- slide
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 110
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims abstract description 79
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 67
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 24
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 7
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 7
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 claims description 6
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 3
- 238000004891 communication Methods 0.000 claims description 2
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 abstract description 7
- 239000010703 silicon Substances 0.000 abstract description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 6
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 238000011086 high cleaning Methods 0.000 abstract description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 35
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- -1 silicon ions Chemical class 0.000 description 4
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 3
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 3
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 2
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 2
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XPDWGBQVDMORPB-UHFFFAOYSA-N Fluoroform Chemical compound FC(F)F XPDWGBQVDMORPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 description 1
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 230000002427 irreversible effect Effects 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 230000008707 rearrangement Effects 0.000 description 1
- 230000000284 resting effect Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 150000003376 silicon Chemical class 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B7/00—Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
- Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product
Abstract
本发明公开了一种载片舟清洗装置,属于硅片生产技术领域。载片舟清洗装置包括内壳、外壳和密封组件,所述内壳置于所述外壳内,所述外壳具有第一开口,所述内壳具有反应腔以及与所述反应腔连通的第二开口,待清洗的载片舟在所述反应腔内被清洁气体清洗;所述密封组件包括第一密封件和第二密封件,所述第一密封件用于密封所述第一开口,所述第二密封件用于密封所述第二开口。本发明实施例的载片舟清洗装置具有清洗效率高,采用双腔设计,利用外壳保护内壳,保证内壳的反应腔正常工作;通过密封组件来封堵第一开口和第二开口,达到双重密封的效果,提高了载片舟清洗装置的密封性,避免清洗气体逸出等优点。
Description
技术领域
本发明涉及硅片生产技术领域,尤其涉及一种载片舟清洗装置。
背景技术
载片舟(石英舟、石墨舟)作为一种载具,用于承载硅片进入反应腔内进行气相沉积反应,然而,反应气体在硅片的表面发生气相沉积的同时,也会在载片舟的表面发生沉积。当载片舟工作一定次数,其表面的薄膜达到一定厚度后,需要将载片舟拆散成多个舟叶运送至含酸或碱清洗剂的清洗池内,对载片舟的舟表面的薄膜清洗,清洗完成后的载片舟再进行烘干、组装。
相关技术中,在对载片舟进行清洗时,需要将载片舟拆散、清洗、烘干后再进行组装,导致载片舟的清洗效率较低。
为此,亟需提供一种载片舟清洗装置以解决上述问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种载片舟清洗装置,不仅无需将载片舟拆散、清洗烘干后再进行组装,清洗效率高,而且采用双腔结构,密封性更高。
为实现上述目的,提供以下技术方案:
载片舟清洗装置,包括:
外壳,所述外壳具有第一开口;
内壳,所述内壳置于所述外壳内,所述内壳具有反应腔以及与所述反应腔连通的第二开口,待清洗的载片舟在所述反应腔内被清洁气体清洗;
密封组件,包括第一密封件和第二密封件,所述第一密封件用于密封所述第一开口,所述第二密封件用于密封所述第二开口。
作为载片舟清洗装置的可选方案,所述内壳与所述外壳之间限定出真空腔,所述外壳具有与所述真空腔连通的真空口,所述真空口用于对所述真空腔抽真空;
所述反应腔连通有至少一个通气管道,所述通气管道用于将所述清洁气体输送至所述反应腔内并将反应后的清洁气体排出所述反应腔。
作为载片舟清洗装置的可选方案,所述外壳外设置有等离子发生器,所述等离子发生器设于所述外壳外并与所述通气管道连通。
作为载片舟清洗装置的可选方案,所述通气管道包括:
进气管道,进口端位于所述外壳顶部并用于与清洗气体连通,出口端伸入至所述反应腔内;
和排气管道,进口端与所述反应腔的底部连通,出口端延伸至所述外壳外。
作为载片舟清洗装置的可选方案,所述载片舟清洗装置还包括:
第一波纹管,所述第一波纹管的一端与所述内壳的外壁面连接,所述第一波纹管的另一端与所述外壳的内壁面连接,且所述进气管道穿设于所述第一波纹管内;和/或
第二波纹管,所述第二波纹管的一端与所述内壳的外壁面连接,所述第二波纹管的另一端穿过所述外壳并与所述外壳的外壁面连接,且所述排气管道穿设于所述第二波纹管内。
作为载片舟清洗装置的可选方案,所述载片舟清洗装置还包括:
均流板,所述均流板上设有均流孔,所述均流板设于所述反应腔内并将所述反应腔分隔为第一腔室和第二腔室,所述第一腔室与所述进气管道的出口端连通,所述第二腔室与所述排气管道的进口端连通,所述第二腔室用于容纳载片舟;和/或
匀流板,所述匀流板上设有匀流孔,所述匀流板和所述均流板设置于所述反应腔内并将所述反应腔分隔为第一腔室、第二腔室和第三腔室,所述第一腔室与所述进气管道的出口端连通,所述第三腔室与所述排气管道的进口端连通,所述第二腔室用于容纳载片舟。
作为载片舟清洗装置的可选方案,所述内壳为不与所述清洁气体反应的材料制成,所述外壳的材料的强度大于所述内壳的材料。
作为载片舟清洗装置的可选方案,所述载片舟清洗装置包括加热装置,所述加热装置设置于所述内壳和所述外壳之间,用于加热所述反应腔。
作为载片舟清洗装置的可选方案,所述第一密封件与所述第二密封件之间设置有第一弹性件,所述第一密封件封堵所述第一开口且所述第二密封件封堵所述第二开口时,所述第一弹性件被弹性压缩。
作为载片舟清洗装置的可选方案,所述外壳具有第一翻边,所述第一翻边环绕所述第一开口设置,所述第一密封件止抵在所述第一翻边上;和/或
所述内壳具有第二翻边,所述第二翻边环绕所述第二开口设置,所述第二密封件止抵在所述第二翻边上。
作为载片舟清洗装置的可选方案,所述载片舟清洗装置还包括锁止机构,所述锁止机构包括第一限位件和第二限位件,所述第一限位件固定设置于所述第一翻边,所述第二限位件滑动设置于所述第一密封件,所述第二限位件的限位面能选择性地与所述第一限位件的限位面贴合锁紧或分离解锁。
作为载片舟清洗装置的可选方案,所述外壳还具有第三开口,所述内壳还具有第四开口,所述载片舟清洗装置还包括第三密封件和第四密封件,所述第三密封件可拆卸地与所述内壳相连以打开或关闭所述第三开口,所述第四密封件可拆卸地与所述外壳相连以打开或关闭所述第四开口。
作为载片舟清洗装置的可选方案,所述第三密封件与所述第四密封件之间设置有第二弹性件,所述第三密封件封堵所述第三开口且所述第四密封件封堵第二开口时,所述第二弹性件被弹性压缩。
与现有技术相比,本发明的有益效果:
本发明所提供的载片舟清洗装置,本发明实施例的载片舟清洗装置在对载片舟进行清洗时,直接将载片舟整体放置在反应腔内,利用清洗气体与载片舟上的沉积的薄膜发生化学反应来实现对载片舟的清洗,与相关技术相比,无需将载片舟拆散、清洗烘干后再进行组装,可以大大提高载片舟的清洗效率。本发明采用双腔设计,内壳设置于外壳内,可以利用外壳保护内壳,保证内壳的反应腔正常工作;通过密封组件来封堵第一开口和第二开口,达到双重密封的效果,提高了载片舟清洗装置的密封性,避免清洗气体逸出。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案,下面将对本发明实施例描述中所需要使用的附图作简单的介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据本发明实施例的内容和这些附图获得其他的附图。
图1是本发明实施例的载片舟清洗装置结构示意图。
图2是本发明实施例的载片舟清洗装置的分解示意图。
图3是本发明实施例的载片舟清洗装置的剖视图。
图4是图3中A部分的放大图。
图5是本发明实施例的载片舟清洗装置的剖视图。
图6是本发明实施例载片舟清洗装置的装配图。
图7是图6中B处的局部放大图。
图8是本发明实施例的载片舟清洗装置的俯视图。
图9是图8中A-A向的剖视图。
图10是图9中C处的局部放大图。
图11是图9中D处的局部放大图。
附图标记:
100、载片舟清洗装置;200、载片舟;
1、内壳;2、外壳;3、真空腔;4、第一密封件;5、第二密封件;6、进气管道;7、排气管道;8、等离子发生器;9、加热装置;10、第一弹性件;11、均流板;1101、均流孔;12、第三密封件;13、第四密封件;14、第二弹性件;15、支撑件;16、锁止机构;161、第一限位件;162、第二限位件;163、气缸;164、直线导轨;165、滑块;17、第一波纹管;18、第二波纹管;19、匀流板;
101、反应腔;1011、第一腔室;1012、第二腔室;1013、第三腔室;102、第二开口;103、第四开口;104、第二翻边;
201、第一开口;202、真空口;203、吹气口;204、第三开口;205、第一翻边。
具体实施方式
为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本发明实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。
在本发明的描述中,需要说明的是,术语“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,或者是该发明产品使用时惯常摆放的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。此外,术语“第一”、“第二”、“第三”等仅用于区分描述,而不能理解为指示或暗示相对重要性。在本发明的描述中,除非另有说明,“多个”的含义是两个或两个以上。
在本发明的描述中,还需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“设置”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
下面详细描述本发明的实施例,所述实施例的示例在附图中示出,其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的,仅用于解释本发明,而不能理解为对本发明的限制。
为了避免由于载片舟拆散、清洗、烘干后再进行组装,导致载片舟的清洗效率较低和操作繁琐,本实施例提供一种载片舟清洗装置,以下结合图1至图11对本实施例的具体内容进行详细描述。
如图1至图5所示,本发明实施例的载片舟清洗装置100包括内壳1、外壳2、密封组件和通气管道。内壳1置于外壳2内并与外壳2之间限定出真空腔3,外壳2具有与真空腔3连通的第一开口201和真空口202,真空口202用于对真空腔3抽真空,内壳1具有反应腔101以及与反应腔101连通的第二开口102。
密封组件可拆卸地与内壳1和外壳2中的至少一者相连,密封组件包括第一密封件4和第二密封件5,第一密封件4用于密封第一开口201,第二密封件5用于密封第二开口102。通气管道与反应腔101连通,通气管道用于将清洁气体输送至反应腔101内并将反应后的清洁气体排出反应腔101。
例如,第一密封件4可以通过螺栓连接或者插接连接等连接方式可拆卸地与外壳2相连,第二密封件5可以通过螺栓连接或者插接连接等连接方式可拆卸地与内壳1相连。
本发明采用双腔设计,内壳1设置于外壳2内,可以利用外壳2保护内壳1,保证内壳1的反应腔101正常工作。通过真空口202对真空腔3抽真空,用于维持洁净的工作环境。通过密封组件来封堵第一开口201和第二开口202,达到双重密封的效果,提高了载片舟清洗装置的密封性,避免清洗气体逸出。
进一步地,内壳1为不与清洁气体反应的材料制成,外壳2的材料的强度大于内壳1的材料。
示例性地,内壳1采用氧化铝材质制成,能够避免被清洗气体腐蚀;外壳2采用不锈钢材质制成,能够承受内外压强差,对内腔进行有效保护。
简而言之,本发明实施例的载片舟清洗装置100在使用过程中,首先将第一密封件4和第二密封件5打开,将需要清洗的载片舟200通过第一开口201输送至外壳2内,再通过第二开口102输送至内壳1的反应腔101内;然后通过第二密封件5密封第二开口102,通过第一密封件4密封第一开口201;随后利用真空泵通过真空口202对真空腔3进行抽真空;最后通过通气管道将清洗气体通入至反应腔101内与载片舟200表面的薄膜进行化学反应,以清除载片舟200表面沉积的薄膜。清洗气体载片舟200产生的反应气以及未反应的清洗气体通过通气管道排出反应腔101,载片舟200清洗完成后,打开第一密封件4和第二密封件5取出载片舟200,从而完成对载片舟200清洗。
由此,本发明实施例的载片舟清洗装置100在对载片舟200进行清洗时,直接将载片舟200整体放置在反应腔101内,利用清洗气体与载片舟200上的沉积的薄膜发生化学反应来实现对载片舟200的清洗,与相关技术相比,无需将载片舟200拆散、清洗烘干后再进行组装,可以大大提高载片舟200的清洗效率。
因此,本发明实施例的载片舟清洗装置100具有清洗效率高等优点。
在一些实施例中,本发明实施例的载片舟清洗装置100包括等离子发生器8,等离子发生器8设于外壳2外并与通气管道的进口端连通,等离子发生器8用于将含氟气体离化为氟离子气体,并将氟离子气体作为清洗气体通入反应腔101内。具体地,等离子发生器8的数量并不限定两个,位置也不限定与对角线上。
例如,含氟气体可以为CF4、CHF3、SF6、NF3、C2、F6中的一种或几种,利用等离子发生器8将含氟气体离化为氟离子气体,并将氟离子气体作为清洗气体与载片舟200上的沉积薄膜反应。可以理解的是,由于载片舟200上的薄膜为硅离子,氟离子与硅离子易发生反应生成氟化硅气体,可以避免采用相关技术中的酸或碱清洗剂对载片舟200清洗而对载片舟200产生不可逆的腐蚀反应,有利于提高载片舟200的使用寿命。
在一些实施例中,如图2至图9所示,本发明实施例的载片舟清洗装置100包括加热装置9,加热装置9设置于内壳1和外壳2之间,用于加热反应腔101。在一些应用场景中,如图4所示,将加热装置9与内壳1相连并用于加热反应腔101,以稳定反应腔101内的反应温度,使得清洗气体与载片舟200上的硅离子能够稳定的发生化学反应,以快速清除载片舟200上的沉积薄膜。由于加热装置9设置在内壳1的外壁面,缩短了加热装置9与反应腔的距离,提高了加热效率。在另一些应用场景中,如图9所示,加热装置9也可以设置于外壳2的内壁上。
可选地,如图4和图5所示,加热装置9为加热板,加热板设在内壳1的外壁面上。
例如,加热板可以为加热丝盘设在板上,加热板可以通过粘接、捆绑等连接方式固定在内的外壁面上,从而使得加热装置9安装方便。另外,通过将加热装置9设置为加热板,可以增大加热板与内壳1的接触面积,使得反应腔101内的温度分布较均匀,有利于提高清洗气体的清洗均匀性。
可选地,外壳2上还具有与真空腔3连通的吹气口203,吹气口203用于向真空腔3内通入吹扫气,以增加真空腔3内的压力,使真空腔3内的压力与外界压力相持平,以便于打开第一密封件4和第二密封件5。
在一些实施例中,第一开口201和第二开口102重叠设置,第一密封件4与第二密封件5之间通过第一弹性件10相连,第一密封件4封堵第一开口201且第二密封件5封堵第二开口102时,第一弹性件10被弹性压缩。
例如,如图1、图2和图3所示,第一弹性件10可以为橡胶件或弹簧件。在对第一密封件4和第二密封件5进行安装时,首先将第二密封件5与内壳1接触并封堵第二开口102,待第二密封件5封堵第二开口102后,再继续顶推第一密封件4,以压缩第一弹性件10,并将第一密封件4顶推至与外壳2接触并封堵第一开口201。当第一密封件4和第二密封件5均安装完成后,由于第一弹性件10具有一个朝向第二密封件5的弹性力,有利于提高第二密封件5的封堵密封性,防止反应腔101内的清洗气体通过第二开口102跑出污染环境,使得本发明实施例的载片舟清洗装置100的环保性较好。
在一些实施例中,如图3所示,外壳2上具有第一翻边205,第一翻边205环绕第一开口201设置,第一密封件4止抵在第一翻边205上。
例如,如图3所示,第一密封件4为盖状,通过设置第一翻边205,能够增大第一密封件4与外壳2之间的抵接接触面积,有利于提高第一密封件4的密封效果。
优选地,如图6和图7所示,载片舟清洗装置100还包括锁止机构16,锁止机构16包括第一限位件161和第二限位件162,第一限位件161固定设置于第一翻边205,第二限位件162滑动设置于第一密封件4,第二限位件162的限位面能选择性地与第一限位件161的限位面贴合锁紧或分离解锁。在本实施例中,第一限位件161的表面设置有第一斜面,第二限位件162的表面设置有第二斜面,当两者靠近时,第一斜面和第二斜面相贴合(类似于楔子的斜面贴合)。
更进一步地,如图7所示,在第一密封件4上设置有气缸163和直线导轨164,第二限位件162上固定设置有滑块165,滑块165与直线导轨164滑动连接,气缸163的伸缩端与第二限位件162连接,通过气缸163的工作能够使第二限位件162沿直线滑动。
在一些实施例中,内壳上具有第二翻边104,第二翻边104环绕第二开口102设置,第二密封件5止抵在第二翻边104上。
例如,如图3所示,第二密封件5为盖状,通过设置第二翻边104,能够增大第二密封件5与内壳之间的抵接接触面积,有利于提高第二密封件5的密封效果。
在另一些实施例中,第一密封件4和第二密封件5还可以为塞状,第一密封件4插装在第一开口201上以密封第一开口201,第二密封件5插装在第二开口102上以密封第二开口102。
可选地,本发明实施例的载片舟清洗装置100还包括支撑件15,支撑件15设于外壳2的底端以支撑内壳1,从而使得内壳1安装方便。
在一些实施例中,通气管道包括进气管道6和排气管道7,进气管道6的进口端置于外壳2外并用于与清洗气体连通,进气管道6的出口端伸入至反应腔101内,排气管道7的进口端与反应腔101连通,排气管道7的出口端伸入至外壳2外。
优选地,如图9至图11所示,在本实施例中,载片舟清洗装置100包括第一波纹管17和第二波纹管18。其中,第一波纹管17的一端与内壳1的外壁面连接,第一波纹管17的另一端与外壳2的内壁面连接,且进气管道6穿设波纹管17内。第二波纹管18的一端与内壳1的外壁面连接,第二波纹管18的另一端穿过外壳2并与外壳2的外壁面连接,且排气管道7穿设于第二波纹管18内。通过增设第一波纹管17和第二波纹管18,不仅避免清洗气体进入真空腔3,而且补偿安装工程中的误差和加热后内壳1与外壳2的热膨胀位移。
在一些实施例中,本发明实施例的载片舟清洗装置100包括均流板11,均流板11上设有多个间隔设置的均流孔1101,均流板11设于反应腔101内并将反应腔101分隔为第一腔室1011和第二腔室1012。第一腔室1011与进气管道6的出口端连通,第二腔室1012与排气管道7的进口端连通,第二腔室1012用于容纳载片舟200。
如图3和图4所示,进气管道6出口端流出的清洗气体首先进入第一腔室1011内,经均流板11上的均流孔1101进入第二腔室1012内对第二腔室1012内放置的载片舟200进行清洗。通过设置均流板11进行均流能够提高清洗气体在第二腔室1012内分布的均匀性,从而提高清洗气体对载片舟200的清洗效果。
优选地,如图8至图11所示,载片舟清洗装置还包括匀流板19,匀流板19上设有多个间隔设置的匀流孔,匀流板19和均流板11设置于反应腔101内并将反应腔101分隔为第一腔室1011、第二腔室1012和第三腔室1013,第一腔室1011与进气管道6的出口端连通,第三腔室1013与排气管道7的进口端连通,第二腔室1012用于容纳载片舟。具体地,均流板11位于反应腔101的上半部分,匀流板19位于反应腔101的下半部分,通过增设匀流板19和均流板11,使进气和出气均被均匀化处理,使清洗气体均匀的流过需要清洗的载片舟200。
在一些实施例中,外壳2还具有第三开口204,内壳1还具有第四开口103,载片舟清洗装置100还包括第三密封件12和第四密封件13,第三密封件12可拆卸地与内壳1相连以打开或关闭第三开口204,第三密封件12和均流板11之间形成第一腔室1011,第四密封件13可拆卸地与外壳2相连以打开或关闭第四开口103。
在对均流板11进行安装时,只需将第三密封件12和第四密封件13拆下,将均流板11通过第三开口204和第四开口103置于反应腔101内进行安装即可,从而有利于提高均流板11的安装效率。
在一些实施例中,第三开口204与第四开口103重叠设置,第三密封件12与第四密封件13之间通过第二弹性件14相连,第三密封件12封堵第三开口204且第四密封件13封堵第二开口102时,第二弹性件14被弹性压缩。
例如,如图1、图2和图3所示,第二弹性件14可以为橡胶件或弹簧件。在对第三密封件12和第四密封件13进行安装时,首先将第四密封件13与内壳1接触并封堵第四开口103,待第四密封件13封堵第四开口103后,再继续顶推第三密封件12,以压缩第二弹性件14,并将第三密封件12顶推至与外壳2接触并封堵第三开口204。当第三密封件12和第四密封件13均安装完成后,由于第二弹性件14具有一个朝向第四密封件13的弹性力,能够提高第四密封件13的封堵密封性,防止反应腔101内的清洗气体通过第四开口103跑出污染环境,使得本发明实施例的载片舟清洗装置100环保性较好。
注意,上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解,本发明不限于这里所说的特定实施例,对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此,虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明,但是本发明不仅仅限于以上实施例,在不脱离本发明构思的情况下,还可以包括更多其他等效实施例,而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。
Claims (13)
1.载片舟清洗装置,其特征在于,包括:
外壳(2),所述外壳(2)具有第一开口(201);
内壳(1),所述内壳(1)置于所述外壳(2)内,所述内壳(1)具有反应腔(101)以及与所述反应腔(101)连通的第二开口(102),待清洗的载片舟在所述反应腔(101)内被清洁气体清洗;
密封组件,包括第一密封件(4)和第二密封件(5),所述第一密封件(4)用于密封所述第一开口(201),所述第二密封件(5)用于密封所述第二开口(102)。
2.根据权利要求1所述的载片舟清洗装置,其特征在于,所述内壳(1)与所述外壳(2)之间限定出真空腔(3),所述外壳(2)具有与所述真空腔(3)连通的真空口(202),所述真空口(202)用于对所述真空腔(3)抽真空;
所述反应腔(101)连通有至少一个通气管道,所述通气管道用于将所述清洁气体输送至所述反应腔(101)内并将反应后的清洁气体排出所述反应腔(101)。
3.根据权利要求2所述的载片舟清洗装置,其特征在于,所述外壳(2)外设置有等离子发生器(8),所述等离子发生器(8)与所述通气管道连通。
4.根据权利要求2所述的载片舟清洗装置,其特征在于,所述通气管道包括:
进气管道(6),进口端位于所述外壳(2)顶部并用于与清洗气体连通,出口端伸入至所述反应腔(101)内;
和排气管道(7),进口端与所述反应腔(101)的底部连通,出口端延伸至所述外壳(2)外。
5.根据权利要求4所述的载片舟清洗装置,其特征在于,所述载片舟清洗装置还包括:
第一波纹管(17),所述第一波纹管(17)的一端与所述内壳(1)的外壁面连接,所述第一波纹管(17)的另一端与所述外壳(2)的内壁面连接,且所述进气管道(6)穿设于所述第一波纹管(17)内;和/或
第二波纹管(18),所述第二波纹管(18)的一端与所述内壳(1)的外壁面连接,所述第二波纹管(18)的另一端穿过所述外壳(2)并与所述外壳(2)的外壁面连接,且所述排气管道(7)穿设于所述第二波纹管(18)内。
6.根据权利要求4所述的载片舟清洗装置,其特征在于,所述载片舟清洗装置还包括:
均流板(11),所述均流板(11)上设有均流孔,所述均流板(11)设于所述反应腔(101)内并将所述反应腔(101)分隔为第一腔室(1011)和第二腔室(1012),所述第一腔室(1011)与所述进气管道(6)的出口端连通,所述第二腔室(1012)与所述排气管道(7)的进口端连通,所述第二腔室(1012)用于容纳载片舟(200);和/或
匀流板(19),所述匀流板(19)上设有匀流孔,所述匀流板(19)和所述均流板(11)设置于所述反应腔(101)内并将所述反应腔(101)分隔为第一腔室(1011)、第二腔室(1012)和第三腔室(1013),所述第一腔室(1011)与所述进气管道(6)的出口端连通,所述第三腔室(1013)与所述排气管道(7)的进口端连通,所述第二腔室(1012)用于容纳载片舟(200)。
7.根据权利要求1所述的载片舟清洗装置,其特征在于,所述内壳(1)为不与所述清洁气体反应的材料制成,所述外壳(2)的材料的强度大于所述内壳(1)的材料。
8.根据权利要求1所述的载片舟清洗装置,其特征在于,所述载片舟清洗装置包括加热装置(9),所述加热装置(9)设置于所述内壳(1)和所述外壳(2)之间,用于加热所述反应腔(101)。
9.根据权利要求1所述的载片舟清洗装置,其特征在于,所述第一密封件(4)与所述第二密封件(5)之间设置有第一弹性件(10),所述第一密封件(4)封堵所述第一开口(201)且所述第二密封件(5)封堵所述第二开口(102)时,所述第一弹性件(10)被弹性压缩。
10.根据权利要求1所述的载片舟清洗装置,其特征在于,所述外壳(2)具有第一翻边(205),所述第一翻边(205)环绕所述第一开口(201)设置,所述第一密封件(4)止抵在所述第一翻边(205)上;和/或
所述内壳(1)具有第二翻边(104),所述第二翻边(104)环绕所述第二开口(102)设置,所述第二密封件(5)止抵在所述第二翻边(104)上。
11.根据权利要求10所述的载片舟清洗装置,其特征在于,所述载片舟清洗装置还包括锁止机构(16),所述锁止机构(16)包括第一限位件(161)和第二限位件(162),所述第一限位件(161)固定设置于所述第一翻边(205),所述第二限位件(162)滑动设置于所述第一密封件(4),所述第二限位件(162)的限位面能选择性地与所述第一限位件(161)的限位面贴合锁紧或分离解锁。
12.根据权利要求1所述的载片舟清洗装置,其特征在于,所述外壳(2)还具有第三开口(204),所述内壳(1)还具有第四开口(103),所述载片舟清洗装置还包括第三密封件(12)和第四密封件(13),所述第三密封件(12)可拆卸地与所述内壳(1)相连以打开或关闭所述第三开口(204),所述第四密封件(13)可拆卸地与所述外壳(2)相连以打开或关闭所述第四开口(103)。
13.根据权利要求12所述的载片舟清洗装置,其特征在于,所述第三密封件(12)与所述第四密封件(13)之间设置有第二弹性件(14),所述第三密封件(12)封堵所述第三开口(204)且所述第四密封件(13)封堵第二开口(102)时,所述第二弹性件(14)被弹性压缩。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202321772613 | 2023-07-06 | ||
CN2023217726138 | 2023-07-06 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN117380663A true CN117380663A (zh) | 2024-01-12 |
Family
ID=89440744
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202311480129.2A Pending CN117380663A (zh) | 2023-07-06 | 2023-11-07 | 载片舟清洗装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN117380663A (zh) |
-
2023
- 2023-11-07 CN CN202311480129.2A patent/CN117380663A/zh active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN109338333B (zh) | 一种管式lpcvd真空反应室 | |
EP2193276B1 (en) | A multi stage, clam shell vacuum pump | |
CN102216656B (zh) | 用于处理室的密封装置 | |
CN101515538B (zh) | 一种用于半导体加工反应腔室的密封结构 | |
KR20170056433A (ko) | 처리 장치 | |
CN212610887U (zh) | 双层石英工艺室结构 | |
CN111029282A (zh) | 热处理装置 | |
JPH0339198B2 (zh) | ||
CN117380663A (zh) | 载片舟清洗装置 | |
KR20010056330A (ko) | 반도체소자 제조장치 | |
KR101687247B1 (ko) | 이중 진공 배관 | |
CN111394712A (zh) | 双层石英工艺室结构 | |
KR100669856B1 (ko) | 배관 연결 부재 및 이를 포함하는 반도체 기판 가공 장치 | |
KR101040632B1 (ko) | 반도체 제조공정의 배기덕트용 부산물 역류방지장치 | |
US20130076032A1 (en) | Vacuum pump exhaust pipe of chemical vapor deposition apparatus and relevant vacuum pump | |
KR100950215B1 (ko) | 반도체제조공정의 공정챔버의 배기가스 배출관 밀폐용 마감캡 | |
KR100614641B1 (ko) | 반도체 소자 제조 설비 | |
TWI804057B (zh) | 用於處理基底的系統 | |
CN220166272U (zh) | 一种cvd/cvi设备的进气结构 | |
CN216624212U (zh) | 半导体工艺设备 | |
CN219568053U (zh) | 一种用于半导体设备的进气装置及半导体设备 | |
CN216972674U (zh) | 一种用于lpcvd设备的反应腔室 | |
KR101416531B1 (ko) | 절곡형 유니온 조인트 및 이를 챔버에 설치하는 방법 | |
US20230417326A1 (en) | Multi-layer and multi-ringed seals for preventing permeation and leak-by of fluid | |
KR200269804Y1 (ko) | 반도체 제조용 수직형 퍼니스의 진공배관 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination |