JP2010538272A5 - - Google Patents
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Claims (35)
- 試料を検査するためのシステムであって、該システムは、
2重チャンネル顕微鏡と、
二つの照明装置であって、各々が前記2重チャンネル顕微鏡の異なるチャンネルを照明するために連結されている二つの照明装置と、
二つの検出器であって、各々が試料のイメージを取得するために、前記2重チャンネル顕微鏡の異なるチャンネルに連結されている二つの検出器と、
前記二つの検出器が実質的に同時に前記試料のイメージを得ることができるように、前記2重チャンネル顕微鏡のチャンネルを分離するための手段と、
を備えるシステム。 - 請求項1に記載のシステムであって、
前記照明装置の少なくとも一つは広帯域の照明光源を含む、システム。 - 請求項1に記載のシステムであって、
前記照明装置の少なくとも一つは発光ダイオード(LED)光源を含む、システム。 - 請求項3に記載のシステムであって、
前記LED光源は、各発光ダイオードに白色光を出力させることができるコーティングを有する発光ダイオードアレイを含む、システム。 - 請求項3に記載のシステムであって、
前記LED光源は、各々実質的に異なるスペクトルの範囲の光を出力するよう構成された2つ以上の異なる色の発光ダイードを含む、システム。 - 請求項1に記載のシステムであって、
前記手段は、二つの実質的に重なり合わないスペクトルの範囲に光が生成されるか又はフィルターされるように前記二つの照明装置を構成することにより、前記2重チャンネル顕微鏡のチャンネルをスペクトル的に分離することを含む、システム。 - 請求項6に記載のシステムであって、
前記二つの照明装置は各々、前記2重チャンネル顕微鏡に明視野照明を供給するために連結される、システム。 - 請求項6に記載のシステムであって、
前記二つの照明装置は各々、前記2重チャンネル顕微鏡に暗視野照明を提供するために連結される、システム。 - 請求項6に記載のシステムであって、
前記二つの照明装置は、前記2重チャンネル顕微鏡に明視野照明と暗視野照明を提供するために別々に連結される、システム。 - 請求項1に記載のシステムであって、さらに、
前記二つの照明装置によって試料に提供される照明に応じて試料から発生する光を受光するために連結した対物レンズを含む、システム。 - 請求項10に記載のシステムであって、
前記二つの検出器は各々、それぞれの検出器が前記試料から発生する光の一部分を受光することができる視野を有し、
前記手段が、前記照明装置と前記検出器を、前記二つの照明装置によって提供される照明が対物レンズの視野内で重なり合わず、かつ、前記二つの検出器の視野が対物レンズの視野内で重なり合わないように配置することにより、前記2重チャンネル顕微鏡のチャンネルを空間的に分離することを含む、システム。 - 請求項11に記載のシステムであって、
前記二つのチャンネル間のクロス・トークは、前記二つの照明装置のうちの一つからの照明路が別の照明装置の照明路と交叉するように、前記二つの照明装置を配置することにより減少される、システム。 - 請求項11に記載のシステムであって、
前記二つの照明装置のうちの一つは、前記対物レンズを通して前記試料に明視野照明を提供するために連結され、別の照明装置が、前記対物レンズの外側から前記試料に暗視野照明を提供するために連結される、システム。 - 請求項11に記載のシステムであって、
前記二つの照明装置は各々、前記対物レンズの外側から試料に暗視野照明を提供するために連結される、システム。 - 請求項11に記載のシステムであって、
前記二つの照明装置のうちの一つはレーザ光源を含み、別の照明装置がLED光源を含む、システム。 - 請求項11に記載のシステムであって、
前記二つの照明装置は各々LED光源を含む、システム。 - 試料を検査するためのシステムであって、該システムは、
一対の照明サブシステムであって、光の第1ビームおよび光の第2ビームを実質的に同時に試料に向けるために連結され、前記一対の照明サブシステムの少なくとも一つは発光ダイオード(LED)光源を含むサブシステムと、
対物レンズであって、前記光の第1ビームと第2ビームに応じて前記試料から発生する光を受光するために連結されたレンズと、
一対の検出サブシステムであって、各々は、前記試料から発生する光のそれぞれの部分に応じて、出力信号を発生するために連結され、当該出力信号を実質的に同時に発生するサブシステムと、
を備えるシステム。 - 請求項17に記載のシステムであって、
前記LED光源は、各発光ダイオードに白色光を出力させることができるコーティングを有する発光ダイオードアレイを含む、システム。 - 請求項17に記載のシステムであって、
前記LED光源は、少なくとも二つの異なる色のLEDを含む発光ダイオードアレイを含む、システム。 - 請求項19に記載のシステムであって、
前記LED光源は、前記アレイ中の各LEDにほぼ同じ量の電流を供給することにより、白色光を出力するように構成することができる、システム。 - 請求項19に記載のシステムであって、
前記LED光源は、前記アレイ中の一つ以上のLEDに供給する電流の量を変えることにより、実質的に異なるスペクトルの範囲の光を出力するためにカスタマイズすることができる、システム。 - 請求項17に記載のシステムであって、
前記一対の照明サブシステムは、各々明視野照明装置を含む、システム。 - 請求項17に記載のシステムであって、
前記一対の照明サブシステムは、各々暗視野照明装置を含む、システム。 - 請求項17に記載のシステムであって、
前記一対の照明サブシステムは、一つの明視野照明装置および一つの暗視野照明装置を含む、システム。 - 請求項17に記載のシステムであって、
各検出サブシステムは、前記対物レンズの視野内に配置される視野を有する、システム。 - 請求項25に記載のシステムであって、さらに、
前記光の第1のビームに応じて前記試料から発生する光が、前記光の第2のビームに応じて前記試料から発生する光を妨害するのを防ぐように構成した分離手段を備える、システム。 - 請求項26に記載のシステムであって、
前記分離手段は、前記一対の照明サブシステムを、各々が実質的に異なり、重なり合わないスペクトルの範囲で光を発生するように構成することにより提供される、システム。 - 請求項26に記載のシステムであって、
前記分離手段は、前記一対の照明サブシステムおよび一対の検出サブシステムを載置することで提供され、
前記光の第1ビームと第2ビームを、前記対物レンズの視野内でお互いから空間的に分離し、且つ
前記検出サブシステムの視野を、前記対物レンズの視野内でお互いから空間的に分離するようにする、システム。 - 同時に明視野照明と暗視野照明を行って試料を検査する方法であって、該方法は、
一つの光源で明視野照明を形成し、別の光源で暗視野照明を形成する工程と、
実質的に同時に、試料に明視野照明および暗視野照明を与える工程と、
実質的に同時に、明視野照明に応じて試料から反射する光、及び、暗視野照明に応じて試料から散乱する光を検出する工程と、
を備える方法。 - 請求項29に記載の方法であって、
前記形成工程は、発光ダイオード(LED)光源を使用して、明視野照明、暗視野照明、或いは両方を形成することを含む、方法。 - 試料を検査するためのシステムであって、該システムは、
前記試料に光を向けるために結合された少なくとも一つの照明サブシステムであって、発光ダイオード(LED)光源を含む照明サブシステムと、
前記試料から発生する光に応じて出力信号を生成するために連結された少なくとも一つの検出サブシステムであって、当該出力信号を使用して試料上の欠陥を検出する検出サブシステムと、
を備えるシステム。 - 請求項31に記載のシステムであって、
前記LED光源は、各発光ダイオードに白色光を出力させることができるコーティングを有する発光ダイオードアレイを含む、システム。 - 請求項31に記載のシステムであって、
前記LED光源は、少なくとも二つの異なる色のLEDを含む発光ダイオードアレイを含む、システム。 - 請求項33に記載のシステムであって、
前記LED光源は、前記アレイ中の各LEDにほぼ同じ量の電流を供給することにより、白色光を出力するように構成することができる、システム。 - 請求項33に記載のシステムであって、
前記LED光源は、前記アレイ中の一つ以上のLEDに供給する電流の量を変えることにより、実質的に異なるスペクトルの範囲の光を出力するためにカスタマイズすることができる、システム。
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Families Citing this family (36)
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---|---|---|---|---|
JP5039495B2 (ja) * | 2007-10-04 | 2012-10-03 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | マスクブランク検査方法、反射型露光マスクの製造方法、反射型露光方法および半導体集積回路の製造方法 |
DE112009000832T5 (de) | 2008-04-04 | 2011-07-28 | Nanda Technologies GmbH, 85716 | System und Verfahren zur optischen Inspektion |
SG164292A1 (en) * | 2009-01-13 | 2010-09-29 | Semiconductor Technologies & Instruments Pte | System and method for inspecting a wafer |
SG163442A1 (en) * | 2009-01-13 | 2010-08-30 | Semiconductor Technologies & Instruments | System and method for inspecting a wafer |
DE102009026555B4 (de) * | 2009-05-28 | 2016-03-24 | Leica Instruments (Singapore) Pte. Ltd. | Auflicht-Beleuchtungseinrichtung für ein Mikroskop |
WO2011072228A1 (en) * | 2009-12-11 | 2011-06-16 | Massachusetts Institute Of Technology | Spectral imaging of photoluminescent materials |
JP5703609B2 (ja) * | 2010-07-02 | 2015-04-22 | ソニー株式会社 | 顕微鏡及び領域判定方法 |
WO2012114147A1 (en) * | 2011-02-23 | 2012-08-30 | Nano-Uv | Method for detecting defects in a microscopic scale on a surface of a sample, and device implementing this method |
US9219885B2 (en) * | 2011-08-24 | 2015-12-22 | Delta Design, Inc. | Imaging system with defocused and aperture-cropped light sources for detecting surface characteristics |
US9939386B2 (en) * | 2012-04-12 | 2018-04-10 | KLA—Tencor Corporation | Systems and methods for sample inspection and review |
DE102013110497B4 (de) | 2013-04-03 | 2023-04-27 | Jörg Piper | Verfahren und Vorrichtung zur Erzeugung einer variablen und simultanen Phasenkontrastabbildung in Kombination mit einer der Abbildungen Dunkelfeldabbildung oder Hellfeldabbildung oder Polarisationsabbildung |
US9941103B2 (en) * | 2013-10-19 | 2018-04-10 | Kla-Tencor Corporation | Bias-variant photomultiplier tube |
US9772297B2 (en) * | 2014-02-12 | 2017-09-26 | Kla-Tencor Corporation | Apparatus and methods for combined brightfield, darkfield, and photothermal inspection |
US9885671B2 (en) | 2014-06-09 | 2018-02-06 | Kla-Tencor Corporation | Miniaturized imaging apparatus for wafer edge |
US9645097B2 (en) | 2014-06-20 | 2017-05-09 | Kla-Tencor Corporation | In-line wafer edge inspection, wafer pre-alignment, and wafer cleaning |
US9726615B2 (en) * | 2014-07-22 | 2017-08-08 | Kla-Tencor Corporation | System and method for simultaneous dark field and phase contrast inspection |
DK3255415T3 (da) * | 2015-02-04 | 2022-08-01 | Syntegon Tech K K | Inspektionsindretning og inspektionssystem |
CN105259734B (zh) * | 2015-09-17 | 2019-11-22 | 上海华力微电子有限公司 | 一种光阻残留物检测结构单元、检测系统及方法 |
US10563973B2 (en) | 2016-03-28 | 2020-02-18 | Kla-Tencor Corporation | All surface film metrology system |
WO2018085237A1 (en) | 2016-11-02 | 2018-05-11 | Corning Incorporated | Method and apparatus for inspecting defects on transparent substrate and method of emitting incident light |
KR102537558B1 (ko) * | 2016-11-02 | 2023-05-26 | 코닝 인코포레이티드 | 투명 기판 상의 결함 검사 방법 및 장치 |
DE102016122529A1 (de) | 2016-11-22 | 2018-05-24 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Mikroskop zur Abbildung eines Objekts |
DE102016122528A1 (de) | 2016-11-22 | 2018-05-24 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Verfahren zum Steuern oder Regeln einer Mikroskopbeleuchtung |
US10983325B2 (en) * | 2016-12-12 | 2021-04-20 | Molecular Devices, Llc | Trans-illumination imaging with an array of light sources |
US10422984B2 (en) * | 2017-05-12 | 2019-09-24 | Applied Materials, Inc. | Flexible mode scanning optical microscopy and inspection system |
JP6959831B2 (ja) * | 2017-08-31 | 2021-11-05 | 株式会社日立製作所 | 計算機、処理の制御パラメータの決定方法、代用試料、計測システム、及び計測方法 |
US10599951B2 (en) | 2018-03-28 | 2020-03-24 | Kla-Tencor Corp. | Training a neural network for defect detection in low resolution images |
US10295476B1 (en) * | 2018-08-14 | 2019-05-21 | Applied Materials Israel Ltd. | System and method for multiple mode inspection of a sample |
KR102124034B1 (ko) * | 2018-10-02 | 2020-06-17 | 공주대학교 산학협력단 | 광학적 검사장치를 이용한 미세결함의 크기 및 속성 검사방법 |
KR102194289B1 (ko) * | 2019-03-18 | 2020-12-22 | 주식회사 유니온커뮤니티 | 청색 또는 보라색 광을 차단하는 차단 성능을 검사하는 검사장치 및 그 검사방법 |
US11087449B2 (en) | 2019-10-24 | 2021-08-10 | KLA Corp. | Deep learning networks for nuisance filtering |
RU2727527C1 (ru) * | 2020-03-10 | 2020-07-22 | Вячеслав Михайлович Смелков | Телевизионная система для наблюдения за перемещением горячего проката |
US11631169B2 (en) | 2020-08-02 | 2023-04-18 | KLA Corp. | Inspection of noisy patterned features |
US11644756B2 (en) | 2020-08-07 | 2023-05-09 | KLA Corp. | 3D structure inspection or metrology using deep learning |
US11526086B2 (en) * | 2021-03-08 | 2022-12-13 | Kla Corporation | Multi-field scanning overlay metrology |
KR20230157405A (ko) * | 2021-03-15 | 2023-11-16 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 광학 디바이스들에 대한 효율을 측정하는 방법 |
Family Cites Families (36)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5767844A (en) * | 1980-10-15 | 1982-04-24 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | Surface inspecting device |
JPS6129712A (ja) * | 1984-07-23 | 1986-02-10 | Hitachi Ltd | 微細パタ−ンの欠陥検出方法及びその装置 |
JPS62153737A (ja) * | 1985-12-27 | 1987-07-08 | Toshiba Corp | 物品表面検査装置 |
JPH04333847A (ja) * | 1991-05-09 | 1992-11-20 | Hitachi Electron Eng Co Ltd | レチクルマスクの異物検査装置 |
JPH06222013A (ja) * | 1992-09-11 | 1994-08-12 | Hologenix Inc | 表面の光学的検査装置 |
US5864394A (en) * | 1994-06-20 | 1999-01-26 | Kla-Tencor Corporation | Surface inspection system |
US6288780B1 (en) | 1995-06-06 | 2001-09-11 | Kla-Tencor Technologies Corp. | High throughput brightfield/darkfield wafer inspection system using advanced optical techniques |
US6512631B2 (en) * | 1996-07-22 | 2003-01-28 | Kla-Tencor Corporation | Broad-band deep ultraviolet/vacuum ultraviolet catadioptric imaging system |
WO1996039619A1 (en) | 1995-06-06 | 1996-12-12 | Kla Instruments Corporation | Optical inspection of a specimen using multi-channel responses from the specimen |
JP2822937B2 (ja) * | 1995-07-17 | 1998-11-11 | 株式会社日立製作所 | 半導体装置の製造システム及び欠陥検査方法 |
JP4001653B2 (ja) * | 1996-08-29 | 2007-10-31 | ケーエルエー・インストルメンツ・コーポレーション | 試料からの多重チャネル応答を用いた試料の光学的検査 |
JP2000162137A (ja) * | 1998-11-26 | 2000-06-16 | Nikon Corp | 面検査装置 |
DE19903486C2 (de) * | 1999-01-29 | 2003-03-06 | Leica Microsystems | Verfahren und Vorrichtung zur optischen Untersuchung von strukturierten Oberflächen von Objekten |
US6404544B1 (en) | 1999-06-01 | 2002-06-11 | Optical Perspectives Group, Llc | Wavelength multiplexed quantitative differential interference contrast microscopy |
US6694284B1 (en) | 2000-09-20 | 2004-02-17 | Kla-Tencor Technologies Corp. | Methods and systems for determining at least four properties of a specimen |
US6673637B2 (en) | 2000-09-20 | 2004-01-06 | Kla-Tencor Technologies | Methods and systems for determining a presence of macro defects and overlay of a specimen |
US7006235B2 (en) | 2000-09-20 | 2006-02-28 | Kla-Tencor Technologies Corp. | Methods and systems for determining overlay and flatness of a specimen |
US6919957B2 (en) | 2000-09-20 | 2005-07-19 | Kla-Tencor Technologies Corp. | Methods and systems for determining a critical dimension, a presence of defects, and a thin film characteristic of a specimen |
NZ530988A (en) * | 2001-07-06 | 2006-09-29 | Palantyr Res Llc | Imaging system and methodology employing reciprocal space optical design |
JP4030815B2 (ja) * | 2001-07-10 | 2008-01-09 | ケーエルエー−テンカー テクノロジィース コーポレイション | 同時のまたは連続的な多重の斜視的な試料欠陥検査のためのシステムおよび方法 |
US7153015B2 (en) | 2001-12-31 | 2006-12-26 | Innovations In Optics, Inc. | Led white light optical system |
US6654109B2 (en) | 2002-02-05 | 2003-11-25 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co. Ltd | System for detecting surface defects in semiconductor wafers |
US7049586B2 (en) | 2002-02-21 | 2006-05-23 | Applied Material Israel, Ltd. | Multi beam scanning with bright/dark field imaging |
WO2003093795A2 (en) * | 2002-05-03 | 2003-11-13 | Immunivest Corporation | Device and method for analytical cell imaging |
US6856436B2 (en) | 2002-06-26 | 2005-02-15 | Innovations In Optics, Inc. | Scanning light source system |
US20040207836A1 (en) * | 2002-09-27 | 2004-10-21 | Rajeshwar Chhibber | High dynamic range optical inspection system and method |
US6828559B2 (en) * | 2002-11-14 | 2004-12-07 | Delphi Technologies, Inc | Sensor having a plurality of active areas |
US7068363B2 (en) * | 2003-06-06 | 2006-06-27 | Kla-Tencor Technologies Corp. | Systems for inspection of patterned or unpatterned wafers and other specimen |
EP1671109A4 (en) * | 2003-06-20 | 2007-09-19 | Univ California | ANALYSIS BY FLUORESCENCE WITH MODULATED EXCITATION |
US7365834B2 (en) * | 2003-06-24 | 2008-04-29 | Kla-Tencor Technologies Corporation | Optical system for detecting anomalies and/or features of surfaces |
DE10332073A1 (de) * | 2003-07-11 | 2005-02-10 | Carl Zeiss Jena Gmbh | Anordnung zur optischen Erfassung von in einer Probe angeregter und / oder rückgestreuter Lichtstrahlung mit Doppelobjektivanordnung |
JP4546741B2 (ja) | 2004-01-08 | 2010-09-15 | オリンパス株式会社 | 蛍光顕微鏡 |
US7184138B1 (en) * | 2004-03-11 | 2007-02-27 | Kla Tencor Technologies Corporation | Spatial filter for sample inspection system |
WO2006006148A2 (en) * | 2004-07-12 | 2006-01-19 | Negevtech Ltd. | Multi mode inspection method and apparatus |
EP1844426A4 (en) * | 2005-02-01 | 2016-09-07 | Amnis Corp | BLOOD ANALYSIS BY MEANS OF FLOW IMAGING CYTOMETER |
US7528943B2 (en) * | 2005-12-27 | 2009-05-05 | Kla-Tencor Technologies Corporation | Method and apparatus for simultaneous high-speed acquisition of multiple images |
-
2007
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