JP2010527441A - 小型ナノファブリケーション装置 - Google Patents
小型ナノファブリケーション装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010527441A JP2010527441A JP2010507631A JP2010507631A JP2010527441A JP 2010527441 A JP2010527441 A JP 2010527441A JP 2010507631 A JP2010507631 A JP 2010507631A JP 2010507631 A JP2010507631 A JP 2010507631A JP 2010527441 A JP2010527441 A JP 2010527441A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- assembly
- stage
- pen
- substrate
- axis assembly
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0002—Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y10/00—Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y40/00—Manufacture or treatment of nanostructures
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70383—Direct write, i.e. pattern is written directly without the use of a mask by one or multiple beams
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01Q—SCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
- G01Q80/00—Applications, other than SPM, of scanning-probe techniques
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
Abstract
Description
本出願は、参照によりその全体が本明細書に組み入れられる、2007年5月9日に出願された米国仮出願第60/916,979号の優先権を主張する。
本明細書において記載される特許請求の範囲の発明は、NIH SBIR助成金第2 R44 HG002978-02号を用いて開発された。政府は、特許請求の範囲の発明において特定の権利を有する。
現代の経済における多くの用途は、ナノスケールを含む益々小さいスケールの構築・撮像構造体の使用を必要とする(例えばナノファブリケーション)。例えば更に小さく更に高性能の電子回路および電子部品が必要とされる。また、更に小さく更に高性能の生物学的構造体およびアレイが必要とされる。複雑な修復プロセスが小さいスケールで必要とされる。小さいスケールでの作業では、良好な位置合わせ方法および分解能が高い方法が必要とされる。一つの重要な方法は、直接書き込みリソグラフィ、または直接書き込みナノリソグラフィである。この場合、描写またはパターニングが構造体上で直接に行なわれる。これを行なうための一つの手法がチップベースの手法である。この手法では、鋭利なチップ(例えばSPMまたはAFMチップ)上に材料がコーティングされ、その後、材料が鋭利なチップから表面へと供給される。例えば、Mirkinらの米国特許第6,635,311号(特許文献1)および第6,827,979号(特許文献2)を参照されたい。また、NanoInk(イリノイ州、スコーキー)によって販売されるNSCRIPTOR(商標)ナノリソグラフィ機器も参照されたい。しかしながら、ナノスケールの製造は、更に大きいスケールでは生じ得ない、多くの困難および不確実性を与える。
本明細書において、例えば、物品、機器、装置、キット、製造方法、使用方法、ならびにソフトウェアおよびハードウェアが提供される。
序文
本明細書において引用される全ての文献は、参照によりその全体が本明細書に組み入れられる。
(i)Fundamentals of Microfabrication, The Science of Miniaturization, 2nd Ed., Madou,
(ii)The Nanopositioning Book. Moving and Measuring to Better than a Nanometre, T. R. Hicks et al, 2000;
を使用できる。
以下、様々な重要な要素について説明する。当業者は、公知のハードウェア、ソフトウェア、コントローラ、実装、ケーブル、筐体、電気配線、電源などを使用してこれらの要素を利用できる。幾つかの場合では、製造業者および販売業者から得られる材料および構成要素の一部として要素を得ることができる。
3軸アセンブリ、5軸アセンブリ、および6軸アセンブリは当技術分野において公知である。装置は、ステージを介して少なくとも五つの動作制御モードを与えることができる、少なくとも一つの多軸アセンブリを備えることができる。多軸アセンブリが5軸アセンブリであってもよい。五つのステージは、一体化できるが、独立のステージとなって独立に機能できる。
多軸アセンブリは、筐体またはハウジング内に配置することができる。これにより、塵埃を含む粒子から精密機構を保護することができる。また、これにより、ペンアセンブリおよび基板の周囲の環境を多軸アセンブリの環境から分離することもできる。筐体は、例えば金属または高分子(プラスチックを含む)またはセラミックを含む任意の固体構造要素から形成することができる。筐体は、多軸アセンブリの動作にかかわらず動かないようにすることができる。筐体は、互いに機能する一連の部品、例えばトッププレート、ボトムプレート、および一つまたは複数のサイドプレートを含むプレートを備えることができる。ロッドのような支持構造体を使用することができる。
装置および多軸アセンブリは、サンプルホルダまたは基板ホルダとして機能することができ、またはホルダと結合され得るテーブルアセンブリを更に備えることができる。テーブルアセンブリは、異なるサイズおよび形状を有する多種多様な基板を保持して位置決めするように適合されてもよい。例えば、テーブルアセンブリは、長さまたは直径が例えば最大5インチまで、または最大12インチまでの一般的な市販の基板を受け入れるように適合されてもよい。テーブルアセンブリは、回転させることができるとともに、所望であれば任意の位置または選択された位置にロックすることができる。
装置は、例えば光学顕微鏡、または光学顕微鏡および蛍光顕微鏡の組み合わせを含む顕微鏡などの、観察アセンブリを備えることができる。蛍光に関しては、IRレーザを含めることができる。これは、位置決めおよび位置合わせ、ならびに点在していることを確かめることを含む製造プロセスの視覚による監視のために使用できる。光学素子は、高分解能および長い作動距離によって特徴付けることができる。例えば、少なくとも約20mm、もしくは少なくとも約30mmの作動距離(例えば対物レンズとサンプル表面の間の距離)を使用することができ、または約30mm〜約40mm(例えば34mm)の作動距離を使用することができる。視野を、例えば約2.1×2.8mmから約0.21×0.28mmまで調整するために、一体ズーム機能を使用することができる。これらのズーム値は顕微鏡の仕様に依存し得る。フォーカス機能およびズーム機能は、電動化してリモートコントローラから、またはコンピュータソフトウェアによりアクセスできる。分解能は、例えば約400nmに至るまで対象物を視覚化できるように適合されてもよい。
ペンアセンブリは、材料をチップから基板へと供給するように適合されてもよい。チップをカンチレバー上に配置することができる。例えば、単一のチップを使用できる。または、複数のチップを使用できる。チップをカンチレバーのアレイ上に配置することができる。この場合、各カンチレバーが一つのチップを備える。例えば、チップの一次元アレイを使用できる。あるいは、チップの二次元アレイを使用できる。例えば米国特許出願第11/690,738号および米国仮出願第60/894,657号を参照されたい。二次元アレイは、例えば約10,000本のペン〜約100,000本のペン、例えば約55,000本のペンを備えることができる。一つの態様では、二次元10×10ペンアレイを形成して例えばDNAおよびタンパク質を高スループット印刷するための、その他の機器と一体化させることができる。
装置は環境チャンバを更に備えることができる。環境チャンバ内では、多軸アセンブリ(取り囲まれていてもよい)と光学顕微鏡の間の容積をシールするチャンバを使用して、環境状態が周囲の空気から独立するように環境状態を制御することができる。環境チャンバは、ペンアセンブリおよび基板を取り囲むように適合されてもよい。チャンバは透明であってもよい。チャンバは、例えばプラスチックまたはガラスであってもよい。チャンバは比較的小さいため、温度、湿度、およびガス組成などのパラメータを容易に制御できる。チャンバは、流入空気またはガス流に関して、温度センサおよび湿度センサのための出口に関して適合させることができる。特に、これらのパラメータを制御して、チップから基板への材料の供給または付着を制御することができる。自動フィードバック制御を行なうために、環境チャンバをソフトウェアと一体化させることもできる。環境チャンバには、自動フィードバック制御を行なうために、電子的な温度センサおよび湿度センサを設けることができる。
当技術分野において公知の方法およびデバイスは、機器または装置を振動から保護するために使用できる。例えば、装置をエアテーブル上に配置して、設置し、使用することができる。
1.動作制御パネルからのステージルーチンの実行;
2.漸進的および連続的な動作が可能;
3.低速動作および高速動作が可能;
4.ステージを有効にする/無効にする;
5.目標位置を指定して実行する;
6.全てのステージにおける現在の位置を監視する;
7.全てのステージにおけるステージルーチンを同時に実行する;
8.選択された位置を捕えて、保存し、実行する;
9.ルーチンを実行して、自動アプローチ能力および印刷能力を可能にするプリント基板の上端面を画定する;
10.印刷領域内のアプローチ位置を計算する;
11.一次元および二次元ペンアレイのための位置合わせを可能にする;
12.インク付け位置を捕えて、保存し、実行する;
13.安全移動のための限界を指定する;
14.動作制御パネルからパターン形態コードを介してペンに近づいてペンを引き出す;
15.実験設定を保存して開く;
16.個々の点および線ならびにそれらのアレイのための印刷パラメータ(例えば数、間隔、速度、長さ、および滞留時間など)およびパターン形態を指定する;
17.特定の印刷パラメータを用いて単一の実行で複数のパターンを実行する;
18.印刷実行中にペンの再度のインク付けを可能にする;および
19.印刷プロセスの状態および残り時間を監視する。
本明細書において記載される機器および装置は、多種多様な用途で使用できる。
非限定的な実施例について説明する。多軸アセンブリの一例として、独立して動作する五つのステージを備える多軸アセンブリのための、以下の非限定的な仕様に基づいて5軸アセンブリ機器が形成された。
図7〜13は段階的な多軸動作を示す。
Claims (111)
- ペンアセンブリおよび多軸アセンブリが、材料を、該ペンアセンブリから、該多軸アセンブリによって位置決めされた基板へと供給するように適合されている、
少なくとも五つのナノポジショニングステージを備える少なくとも一つの前記多軸アセンブリと、
少なくとも一つの前記ペンアセンブリと、
を備え、
少なくとも一つの観察アセンブリと、
少なくとも一つのコントローラと、
を備える装置。 - 多軸アセンブリが、少なくとも一つのXステージ、少なくとも一つのYステージ、少なくとも一つのZステージ、第1の傾斜ステージ、および該第1の傾斜ステージの傾きに対して直交する傾きを与える第2の傾斜ステージを含む五つの独立したステージを備える、請求項1記載の装置。
- ナノポジショニングステージが圧電ナノポジショニングステージを含む、請求項1記載の装置。
- 多軸アセンブリが、少なくとも一つのXステージ、少なくとも一つのYステージ、少なくとも一つのZステージ、第1の傾斜ステージ、および該第1の傾斜ステージの傾きに対して直交する傾きを与える第2の傾斜ステージを含む五つの独立したステージを備え、前記ステージが圧電機構によって作動される、請求項1記載の装置。
- 多軸アセンブリが第6のナノポジショニングステージを備える、請求項1記載の装置。
- ペンアセンブリから基板への材料の供給を、少なくとも20mm×20mmの基板表面積にわたって行なうことができるように、多軸アセンブリが、十分に移動できる、請求項1記載の装置。
- ペンアセンブリから基板への材料の供給を、少なくとも40mm×40mmの基板表面積にわたって行なうことができるように、多軸アセンブリが、十分に移動できる、請求項1記載の装置。
- 多軸アセンブリが、ペンアセンブリから基板への材料の、20cm/秒またはそれ未満の最大移動速度の供給を可能にする、請求項1記載の装置。
- 多軸アセンブリが、ペンアセンブリから基板への材料の、少なくとも100nm/秒の移動速度の供給を可能にする、請求項1記載の装置。
- 多軸アセンブリがXY並進ステージ上に配置されている、請求項1記載の装置。
- 多軸アセンブリのための筐体を更に備える、請求項1記載の装置。
- 多軸アセンブリが、他の構成要素を装着できるように適合されたテーブルアセンブリを装着するように適合された、ペンアセンブリと対向する開口を備える、請求項1記載の装置。
- 基板を受けるために多軸アセンブリ上に配置されたテーブルアセンブリを更に備える、請求項1記載の装置。
- ペンアセンブリおよび基板を取り囲むための環境チャンバを更に備える、請求項1記載の装置。
- ペンアセンブリおよび基板を取り囲むための環境チャンバを更に備え、該環境チャンバが、観察アセンブリによる観察を容易にするための開口を備える、請求項1記載の装置。
- ペンアセンブリおよび基板を取り囲むための環境チャンバを更に備え、且つ該環境チャンバが、温度、湿度、およびガス組成を制御するように適合されている、請求項1記載の装置。
- ペンアセンブリがペンの一次元アレイを含む、請求項1記載の装置。
- ペンアセンブリがペンの二次元アレイを含む、請求項1記載の装置。
- ペンアセンブリが、少なくとも55,000個のペンを備えるペンの二次元アレイを含む、請求項1記載の装置。
- 観察アセンブリが顕微鏡を含む、請求項1記載の装置。
- 観察アセンブリが、顕微鏡を備え、且つ蛍光検出を可能とするように適合されている、請求項1記載の装置。
- 観察アセンブリが、少なくとも400nmの分解能で構造を観察するように適合されている顕微鏡を含む、請求項1記載の装置。
- 材料が生物学的材料を含む、請求項1記載の装置。
- コントローラが、多軸アセンブリの少なくとも動きを制御する、請求項1記載の装置。
- コントローラが、材料を、点または線の形態で基板上に供給できるようにするソフトウェアを備える、請求項1記載の装置。
- コントローラが、環境チャンバ内のガスの雰囲気を制御するためのソフトウェアを備える、請求項1記載の装置。
- ナノポジショニングステージが静電ナノポジショニングステージを含む、請求項1記載の装置。
- ナノポジショニングステージが電磁ナノポジショニングステージを含む、請求項1記載の装置。
- 供給が直接書き込みナノリソグラフィである、請求項1記載の装置。
- 多軸アセンブリが少なくとも10度の基板の傾斜を可能にする、請求項1記載の装置。
- ペンアセンブリおよび多軸アセンブリが、材料を、該ペンアセンブリのチップから、該多軸アセンブリによって位置決めされた基板へと供給するように適合されており、
前記多軸アセンブリが、前記ペンアセンブリおよび前記基板を取り囲むための環境チャンバと結合されるように適合され、且つ前記基板が配置される取り外し可能なテーブルアセンブリと共に機能するようにも適合されている、
少なくとも一つの圧電ナノポジショニングXステージ、少なくとも一つの圧電ナノポジショニングYステージ、少なくとも一つの圧電ナノポジショニングZステージ、傾きを与えるための第1の圧電ゴニオメータ、および該第1のゴニオメータの傾きに対して直交する傾きを与えるための第2の圧電ゴニオメータを備える少なくとも一つの前記多軸アセンブリと、
ペンがカンチレバーのアレイを含み、該カンチレバーがその上に配置された前記チップを有する、ペンのアレイを含む少なくとも一つの前記ペンアセンブリと、
を備え、
少なくとも一つの観察アセンブリと、
少なくとも一つのコントローラと、
を備える装置。 - ペンアセンブリがペンをZ方向に移動させるように適合されている、請求項31記載の装置。
- 供給されるべき材料を保持するためのマイクロ流体デバイスを更に備える、請求項31記載の装置。
- 多軸アセンブリが、少なくとも20mmのX動作、少なくとも20mmのY動作、および少なくとも10mmのZ動作を与える、請求項31記載の装置。
- 多軸アセンブリが、少なくとも40mmのX動作、少なくとも40mmのY動作、および少なくとも20mmのZ動作を与える、請求項31記載の装置。
- 多軸アセンブリが、第1のゴニオメータから少なくとも5度の傾きを与え、且つ第2のゴニオメータから少なくとも5度の傾きを与える、請求項31記載の装置。
- 多軸アセンブリが、第1のゴニオメータから少なくとも10度の傾きを与え、且つ第2のゴニオメータから少なくとも10度の傾きを与える、請求項31記載の装置。
- 多軸アセンブリが少なくとも100nm/秒の移動速度を与える、請求項31記載の装置。
- 多軸アセンブリが10mm/秒以下の移動速度を与える、請求項31記載の装置。
- 多軸アセンブリが少なくとも0.001度の傾きに関する角度分解能を与える、請求項31記載の装置。
- 少なくとも5nm分解能で位置フィードバックを与える少なくとも一つのリニアエンコーダを更に備える、請求項31記載の装置。
- X、Y、およびZ動作における長さに関する分解能が、少なくとも±5nmである、請求項31記載の装置。
- X、Y、およびZ動作における長さに関する分解能が、再現可能で、少なくとも±5nmである、請求項31記載の装置。
- 観察アセンブリが少なくとも30mmの移動長を有する顕微鏡を備える、請求項31記載の装置。
- 観察アセンブリが蛍光検出を有する顕微鏡を含む、請求項31記載の装置。
- ペンのアレイがペンの二次元アレイを含む、請求項31記載の装置。
- ペンのアレイが、少なくとも55,000個のペンを備えるペンの二次元アレイを含む、請求項31記載の装置。
- 多軸アセンブリが筐体内に収容されている、請求項31記載の装置。
- 多軸アセンブリがXY並進ステージ上に装着されている、請求項31記載の装置。
- コントローラが多軸アセンブリの動作を制御する、請求項31記載の装置。
- チップを備えるカンチレバーを含むペンのアレイを設ける工程と、
前記チップ上に材料を配置する工程と、
基板の空間位置および方向が、X方向の動作、Y方向の動作、Z方向の動作、第1の傾きの動作、および該第1の傾きに対して直交する第2の傾きの動作を与える多軸アセンブリによって制御される、前記チップから基板へと材料を供給する工程と、
を含む方法。 - チップが走査プローブ顕微鏡チップである、請求項51記載の方法。
- チップが原子間力顕微鏡チップである、請求項51記載の方法。
- チップが固体ナノスケールチップである、請求項51記載の方法。
- チップが少なくとも一つの開口を備える、請求項51記載の方法。
- チップが作動チップである、請求項51記載の方法。
- チップ位置がZ方向で制御される、請求項51記載の方法。
- ペンのアレイがペンの二次元アレイを含む、請求項51記載の方法。
- 材料が生物学的材料である、請求項51記載の方法。
- 材料が、核酸、タンパク質、またはペプチド材料である、請求項51記載の方法。
- 多軸アセンブリが、Xステージ、Yステージ、Zステージ、第1の傾斜ステージ、および該第1の傾斜ステージの傾きに対して直交する傾きを与える第2の傾斜ステージを含む五つの独立したステージを与える、請求項51記載の方法。
- ペンから基板への材料の供給を、少なくとも20mm×20mmの基板表面積にわたって行なうことができるように、多軸アセンブリが、十分に移動できる、請求項51記載の方法。
- ペンから基板への材料の供給を、少なくとも40mm×40mmの基板表面積にわたって行なうことができるように、多軸アセンブリが、十分に移動できる、請求項51記載の方法。
- 多軸アセンブリが、ペンから基板への材料の、最大で20cm/秒の最大移動速度の供給を可能にする、請求項51記載の方法。
- 多軸アセンブリがXY並進ステージ上に配置されている、請求項51記載の方法。
- 多軸アセンブリが手動操作可能なXY並進ステージ上に配置されている、請求項51記載の方法。
- 多軸アセンブリが装置の一部であり、該装置が該多軸アセンブリのための筐体を更に備える、請求項51記載の方法。
- 多軸アセンブリが、基板が配置されたテーブルアセンブリを装着するように適合された、ペンと対向する開口を備える、請求項51記載の方法。
- 多軸アセンブリが装置の一部であり、且つ該装置が、基板を受けるために多軸アセンブリ上に配置されたテーブルアセンブリを更に備える、請求項51記載の方法。
- 多軸アセンブリが装置の一部であり、且つ該装置が、ペンおよび基板を取り囲むための環境チャンバを更に備える、請求項51記載の方法。
- 多軸アセンブリが装置の一部であり、且つ該装置が、ペンおよび基板を取り囲むための環境チャンバを更に備え、該環境チャンバが、該装置の観察アセンブリによる観察を容易にするための開口を備える、請求項51記載の方法。
- 多軸アセンブリが装置の一部であり、且つ該装置が、ペンおよび基板を取り囲むための環境チャンバを更に備え、且つ該環境チャンバが、温度、湿度、およびガス組成を制御するように適合されている、請求項51記載の方法。
- ペンがペンの一次元アレイの一部である、請求項51記載の方法。
- ペンが、少なくとも10,000個のペンを備えるペンの二次元アレイの一部である、請求項51記載の方法。
- 顕微鏡を含む観察アセンブリを用いて基板を観察する工程を更に含む、請求項51記載の方法。
- 蛍光検出を可能にするように適合された顕微鏡を含む観察アセンブリを用いて基板を観察する工程を更に含む、請求項51記載の方法。
- 少なくとも400nmの分解能で構造を観察するように適合された顕微鏡を含む観察アセンブリを用いて基板を観察する工程を更に含む、請求項51記載の方法。
- 材料が核酸またはタンパク質材料を含む、請求項51記載の方法。
- 多軸アセンブリの少なくとも動きを制御するコントローラが使用される、請求項51記載の方法。
- 材料を点または線の形態で基板上に供給できるようにするソフトウェアを備えるコントローラが使用される、請求項51記載の方法。
- ペンアセンブリおよび多軸アセンブリが、材料を、該ペンアセンブリから、5軸アセンブリによって位置決めされた基板へと供給するように適合されている、
少なくとも五つの一体型圧電ナノポジショニングステージを備える少なくとも一つの前記5軸アセンブリと、
少なくとも一つの前記ペンアセンブリと、
少なくとも一つの観察アセンブリと、
少なくとも一つのコントローラと、
を備え、
前記5軸アセンブリが、少なくとも一つのXステージ、少なくとも一つのYステージ、少なくとも一つのZステージ、第1の傾斜ステージ、および該第1の傾斜ステージの傾きに対して直交する傾きを与える第2の傾斜ステージを含む五つの独立したステージを備える、
装置。 - 5軸アセンブリが、その上に基板を配置できるテーブルアセンブリを備える、請求項81記載の装置。
- 観察アセンブリが、少なくとも30mmの作動距離を有する顕微鏡を含む、請求項81記載の装置。
- ペンアセンブリを取り囲むための少なくとも一つの環境チャンバ、および供給されるべき材料のための少なくとも一つのマイクロ流体リザーバとを更に備える、請求項81記載の装置。
- コントローラが、5軸アセンブリのための動作を制御するように適合されている、請求項81記載の装置。
- ペンアセンブリが直接書き込みナノリソグラフィに適合されている、請求項81記載の装置。
- ペンアセンブリがナノスケールチップの二次元アレイを含む、請求項81記載の装置。
- XステージおよびYステージがそれぞれ少なくとも20mmの移動距離を有する、請求項81記載の装置。
- XステージおよびYステージがそれぞれ少なくとも40mmの移動距離を有する、請求項81記載の装置。
- 5軸アセンブリは、ペンアセンブリのための環境チャンバおよび基板のためのテーブルアセンブリと共に機能するように適合されたハウジングによって取り囲まれる、請求項81記載の装置。
- 請求項1記載の装置を設ける工程と、
材料をペンアセンブリから基板へ供給する工程と、
を含む方法。 - 材料が生物学的材料を含む、請求項91記載の方法。
- 材料が核酸、タンパク質、またはペプチドを含む、請求項91記載の方法。
- 材料がオリゴヌクレオチドを含む、請求項91記載の方法。
- 材料が点または線の形態で基板へ供給される、請求項91記載の方法。
- ペンアセンブリが、チップを備えるカンチレバーのアレイを含む、請求項91記載の方法。
- ペンアセンブリが、ナノスケールチップを備えるカンチレバーのアレイを含む、請求項91記載の方法。
- ペンアセンブリが、ナノスケールチップを備えるカンチレバーの二次元アレイを含む、請求項91記載の方法。
- 供給が少なくとも5mmの距離にわたって行なわれる、請求項91記載の方法。
- 供給が少なくとも20mmの距離にわたって行なわれる、請求項91記載の方法。
- 少なくとも一つのXステージ、少なくとも一つのYステージ、少なくとも一つのZステージ、第1の傾斜ステージ、および該第1の傾斜ステージの傾きに対して直交する傾きを与える第2の傾斜ステージを含む五つの独立したステージを備える、少なくとも五つのナノポジショニングステージを備える少なくとも一つの多軸アセンブリ
を備える装置。 - ナノポジショニングステージが、圧電ナノポジショニングステージ、静電ナノポジショニングステージ、電磁ナノポジショニングステージ、または磁歪ナノポジショニングステージである、請求項101記載の装置。
- ナノポジショニングステージが圧電ナノポジショニングステージを含む、請求項101記載の装置。
- 多軸アセンブリが第6のナノポジショニングステージを備える、請求項101記載の装置。
- 少なくともXナノポジショニングステージおよびYナノポジショニングステージが、少なくとも20mm直線的に移動できる、請求項101記載の装置。
- 基板の空間位置および方向がソフトウェアによって更に制御される、請求項51記載の方法。
- 供給がソフトウェアによって制御される、請求項91記載の方法。
- 供給がソフトウェアおよびレーザベースのフィードバックシステムによって制御される、請求項91記載の方法。
- レーザベースのフィードバックシステムを更に備える、請求項1記載の装置。
- 少なくとも一つの原子分解能スキャナを更に備える、請求項1記載の装置。
- コントローラが、基板面の画定を可能にするためのソフトウェアを備える、請求項1記載の装置。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US91697907P | 2007-05-09 | 2007-05-09 | |
US60/916,979 | 2007-05-09 | ||
PCT/US2008/062959 WO2008141048A1 (en) | 2007-05-09 | 2008-05-07 | Compact nanofabrication apparatus |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010527441A true JP2010527441A (ja) | 2010-08-12 |
JP2010527441A5 JP2010527441A5 (ja) | 2011-06-23 |
JP5269887B2 JP5269887B2 (ja) | 2013-08-21 |
Family
ID=39672019
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010507631A Expired - Fee Related JP5269887B2 (ja) | 2007-05-09 | 2008-05-07 | 小型ナノファブリケーション装置 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US20090023607A1 (ja) |
EP (1) | EP2156246A1 (ja) |
JP (1) | JP5269887B2 (ja) |
AU (1) | AU2008251612A1 (ja) |
CA (1) | CA2681443A1 (ja) |
TW (1) | TW200902438A (ja) |
WO (1) | WO2008141048A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018022807A (ja) * | 2016-08-04 | 2018-02-08 | 旭化成株式会社 | 位置合わせ方法、インプリント方法およびインプリント装置 |
Families Citing this family (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009140441A2 (en) * | 2008-05-13 | 2009-11-19 | Nanoink, Inc. | Height sensing cantilever |
CA2750434A1 (en) | 2009-01-26 | 2010-07-29 | Nanoink, Inc. | Large area, homogeneous array fabrication including substrate temperature control |
US8214916B2 (en) * | 2009-01-26 | 2012-07-03 | Nanoink, Inc. | Large area, homogeneous array fabrication including leveling with use of bright spots |
US20100229264A1 (en) * | 2009-01-26 | 2010-09-09 | Nanoink, Inc. | Large area, homogeneous array fabrication including controlled tip loading vapor deposition |
KR20110124214A (ko) | 2009-01-26 | 2011-11-16 | 나노잉크, 인크. | 균일한 기판을 포함하는 넓은 면적의 균일한 어레이 제작 |
AU2010221146A1 (en) | 2009-03-06 | 2011-09-08 | Nanoink, Inc. | Environmental control device |
KR20120013322A (ko) * | 2009-04-14 | 2012-02-14 | 나노잉크, 인크. | 전도성 라인, 나노입자, 잉크 및 패터닝 |
JP2012533891A (ja) * | 2009-07-17 | 2012-12-27 | ナノインク インコーポレーティッド | レベリング装置および方法 |
KR101161060B1 (ko) * | 2009-11-30 | 2012-06-29 | 서강대학교산학협력단 | 나노입자를 기둥형태로 조직화시키기 위한 배열장치 및 그 배열방법 |
US9312095B2 (en) * | 2010-03-24 | 2016-04-12 | Brown University | Method and system for automating sample preparation for microfluidic cryo TEM |
US9355813B2 (en) * | 2010-03-24 | 2016-05-31 | Brown University | Microfluidic blotless cryo TEM device and method |
CA2795920A1 (en) | 2010-04-14 | 2011-10-20 | Nanoink, Inc. | Improved cantilevers for deposition |
WO2011133663A1 (en) | 2010-04-20 | 2011-10-27 | Nanoink, Inc. | Functionalizing biosensors using a multiplexed dip pen array |
US20110268882A1 (en) | 2010-04-27 | 2011-11-03 | Nanolnk, Inc. | Ball spacer method for planar object leveling |
WO2012026927A1 (en) | 2010-08-24 | 2012-03-01 | Nanoink, Inc. | Leveling devices and methods |
WO2012166794A1 (en) | 2011-05-31 | 2012-12-06 | Nanoink, Inc. | Patterning and cellular co-culture |
WO2013067395A2 (en) | 2011-11-04 | 2013-05-10 | Nanoink, Inc. | Method and apparatus for improving ink deposition |
CN102680743B (zh) * | 2012-05-08 | 2014-12-24 | 上海交通大学 | 微纳仪器装备中模板快速逼近和原位检测装置及方法 |
US8957567B2 (en) * | 2012-08-24 | 2015-02-17 | Uchicago Argonne, Llc | Mechanical design of deformation compensated flexural pivots structured for linear nanopositioning stages |
US10252463B2 (en) * | 2014-07-22 | 2019-04-09 | Nabil A. Amro | Compact instrument with exchangeable modules for multiple microfabrication and/or nanofabrication methods |
US10650312B2 (en) | 2016-11-16 | 2020-05-12 | Catalog Technologies, Inc. | Nucleic acid-based data storage |
US11763169B2 (en) | 2016-11-16 | 2023-09-19 | Catalog Technologies, Inc. | Systems for nucleic acid-based data storage |
US10663040B2 (en) * | 2017-07-27 | 2020-05-26 | Uchicago Argonne, Llc | Method and precision nanopositioning apparatus with compact vertical and horizontal linear nanopositioning flexure stages for implementing enhanced nanopositioning performance |
AU2019236289A1 (en) | 2018-03-16 | 2020-10-08 | Catalog Technologies, Inc. | Chemical methods for nucleic acid-based data storage |
CA3100529A1 (en) | 2018-05-16 | 2019-11-21 | Catalog Technologies, Inc. | Compositions and methods for nucleic acid-based data storage |
WO2020227718A1 (en) | 2019-05-09 | 2020-11-12 | Catalog Technologies, Inc. | Data structures and operations for searching, computing, and indexing in dna-based data storage |
KR20220080172A (ko) | 2019-10-11 | 2022-06-14 | 카탈로그 테크놀로지스, 인크. | 핵산 보안 및 인증 |
JP2023526017A (ja) | 2020-05-11 | 2023-06-20 | カタログ テクノロジーズ, インコーポレイテッド | Dnaベースのデータ記憶におけるプログラムおよび機能 |
Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3564240A (en) * | 1969-07-22 | 1971-02-16 | Charles Supper Co Inc | Goniometer head for x-ray diffraction apparatus with improved z-motion mechanism |
US5103095A (en) * | 1990-05-23 | 1992-04-07 | Digital Instruments, Inc. | Scanning probe microscope employing adjustable tilt and unitary head |
JPH10106920A (ja) * | 1996-09-27 | 1998-04-24 | Ushio Inc | プロキシミティ露光方法 |
US20030029012A1 (en) * | 2000-06-20 | 2003-02-13 | Government Of The Usa, Secretary Of Commerce, 14Th & Constitution, Ntl Inst Of Standards & Technolog | Positioning stage |
JP2003534141A (ja) * | 2000-05-26 | 2003-11-18 | ノースウエスタン ユニバーシティ | 走査プローブ顕微鏡チップの使用方法及び該使用方法を実施するための製品又は該使用方法によって製造される製品 |
JP2004106172A (ja) * | 2002-08-05 | 2004-04-08 | Xerox Corp | 流体用導管、流体用導管を形成する方法、マイクロアレイシステム、dpnシステム、流体回路、及びマイクロアレイの製造方法 |
JP2004538443A (ja) * | 2000-08-15 | 2004-12-24 | バイオフォース ナノサイエンシズ インコーポレイテッド | ナノスケール分子配列装置 |
JP2006071534A (ja) * | 2004-09-03 | 2006-03-16 | Sii Nanotechnology Inc | 長尺体の試料観察に適したプローブ顕微鏡システム |
JP2006220597A (ja) * | 2005-02-14 | 2006-08-24 | Sii Nanotechnology Inc | 表面情報計測装置。 |
JP2006349419A (ja) * | 2005-06-14 | 2006-12-28 | Research Institute Of Biomolecule Metrology Co Ltd | 立体試料観察システム及び立体試料観察方法 |
JP2008526538A (ja) * | 2005-01-10 | 2008-07-24 | バイオフォース・ナノサイエンシィズ・インコーポレーテッド | 表面パターンを作るためのシステムと方法 |
JP2009534200A (ja) * | 2006-04-19 | 2009-09-24 | ノースウエスタン ユニバーシティ | 2次元ペン配列を有する並列リソグラフィのための物品 |
Family Cites Families (34)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5616980A (en) * | 1993-07-09 | 1997-04-01 | Nanomotion Ltd. | Ceramic motor |
IL113291A0 (en) * | 1995-04-06 | 1995-07-31 | Nanomotion Ltd | A multi-axis rotation device |
US6244076B1 (en) * | 1997-05-15 | 2001-06-12 | Nanomotion Ltd. | Optical position monitor for knitting machines |
AU2711697A (en) * | 1997-05-15 | 1998-12-08 | Nanomotion Ltd. | Knitting machine |
JP4087464B2 (ja) * | 1997-12-15 | 2008-05-21 | ナノモーション リミテッド | 搬送手段及び方法 |
WO1999034048A1 (en) * | 1997-12-24 | 1999-07-08 | Nanomotion Ltd. | Selector for knitting machine |
JP2002517874A (ja) * | 1998-06-04 | 2002-06-18 | ナノモーション リミテッド | 圧電ディスクラッチ |
US6193199B1 (en) * | 1998-07-15 | 2001-02-27 | Nanomotion, Inc. | Sample stage including a slider assembly |
EP1131853B1 (en) * | 1998-10-25 | 2008-01-09 | Nanomotion Ltd | Driver for piezoelectric motors |
DE69839530D1 (de) * | 1998-10-26 | 2008-07-03 | Nanomotion Ltd | Multidirektionale motoren |
US6635311B1 (en) * | 1999-01-07 | 2003-10-21 | Northwestern University | Methods utilizing scanning probe microscope tips and products therefor or products thereby |
US6573369B2 (en) * | 1999-05-21 | 2003-06-03 | Bioforce Nanosciences, Inc. | Method and apparatus for solid state molecular analysis |
WO2000074153A1 (en) * | 1999-05-31 | 2000-12-07 | Nanomotion Ltd. | Multilayer piezoelectric motor |
IL137206A0 (en) * | 1999-10-31 | 2001-07-24 | Nanomotion Ltd | Piezoelectric motors and motor driving configurations |
EP1228542A1 (en) * | 1999-10-31 | 2002-08-07 | Nanomotion Ltd. | Replaceable friction coupling for piezoelectric motors |
WO2001063679A1 (en) * | 2000-02-24 | 2001-08-30 | Nanomotion Ltd. | Resonance shifting |
US6642129B2 (en) * | 2001-07-26 | 2003-11-04 | The Board Of Trustees Of The University Of Illinois | Parallel, individually addressable probes for nanolithography |
EP1461605A4 (en) * | 2001-10-02 | 2009-10-21 | Univ Northwestern | PROTEIN AND PEPTIDE NANOARRAYS |
US7273636B2 (en) * | 2001-12-17 | 2007-09-25 | Northwestern University | Patterning of solid state features by direct write nanolithographic printing |
AU2003211027A1 (en) * | 2002-03-27 | 2003-10-13 | Nanoink, Inc. | Method and apparatus for aligning patterns on a substrate |
US7060977B1 (en) * | 2002-05-14 | 2006-06-13 | Nanoink, Inc. | Nanolithographic calibration methods |
JP4907084B2 (ja) * | 2002-05-21 | 2012-03-28 | ノースウエスタン ユニバーシティ | 静電気駆動リソグラフィー |
US7061158B2 (en) * | 2002-07-25 | 2006-06-13 | Nanomotion Ltd. | High resolution piezoelectric motor |
WO2004015772A1 (en) * | 2002-08-08 | 2004-02-19 | Nanoink, Inc. | Protosubstrates |
US7098056B2 (en) * | 2002-08-09 | 2006-08-29 | Nanoink, Inc. | Apparatus, materials, and methods for fabrication and catalysis |
US8071168B2 (en) * | 2002-08-26 | 2011-12-06 | Nanoink, Inc. | Micrometric direct-write methods for patterning conductive material and applications to flat panel display repair |
US7005378B2 (en) * | 2002-08-26 | 2006-02-28 | Nanoink, Inc. | Processes for fabricating conductive patterns using nanolithography as a patterning tool |
US7223438B2 (en) * | 2002-09-17 | 2007-05-29 | Northwestern University | Patterning magnetic nanostructures |
JP2006504136A (ja) * | 2002-10-21 | 2006-02-02 | ナノインク インコーポレーティッド | ナノメートル・スケール設計構造、その製造方法および装置、マスク修復、強化、および製造への適用 |
US7491422B2 (en) * | 2002-10-21 | 2009-02-17 | Nanoink, Inc. | Direct-write nanolithography method of transporting ink with an elastomeric polymer coated nanoscopic tip to form a structure having internal hollows on a substrate |
AU2003295889A1 (en) * | 2002-11-22 | 2004-06-18 | Florida State University | Depositing nanowires on a substrate |
WO2005048283A2 (en) * | 2003-07-18 | 2005-05-26 | Northwestern University | Surface and site-specific polymerization by direct-write lithography |
JP2005037205A (ja) * | 2003-07-18 | 2005-02-10 | Hitachi Kenki Fine Tech Co Ltd | 走査型プローブ顕微鏡およびその計測方法 |
US7541062B2 (en) * | 2004-08-18 | 2009-06-02 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Thermal control of deposition in dip pen nanolithography |
-
2008
- 2008-05-07 JP JP2010507631A patent/JP5269887B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2008-05-07 AU AU2008251612A patent/AU2008251612A1/en not_active Abandoned
- 2008-05-07 US US12/116,908 patent/US20090023607A1/en not_active Abandoned
- 2008-05-07 CA CA002681443A patent/CA2681443A1/en not_active Abandoned
- 2008-05-07 EP EP08755137A patent/EP2156246A1/en not_active Withdrawn
- 2008-05-07 WO PCT/US2008/062959 patent/WO2008141048A1/en active Application Filing
- 2008-05-08 TW TW097117016A patent/TW200902438A/zh unknown
-
2011
- 2011-04-15 US US13/088,284 patent/US20110195850A1/en not_active Abandoned
Patent Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3564240A (en) * | 1969-07-22 | 1971-02-16 | Charles Supper Co Inc | Goniometer head for x-ray diffraction apparatus with improved z-motion mechanism |
US5103095A (en) * | 1990-05-23 | 1992-04-07 | Digital Instruments, Inc. | Scanning probe microscope employing adjustable tilt and unitary head |
JPH10106920A (ja) * | 1996-09-27 | 1998-04-24 | Ushio Inc | プロキシミティ露光方法 |
JP2003534141A (ja) * | 2000-05-26 | 2003-11-18 | ノースウエスタン ユニバーシティ | 走査プローブ顕微鏡チップの使用方法及び該使用方法を実施するための製品又は該使用方法によって製造される製品 |
US20030029012A1 (en) * | 2000-06-20 | 2003-02-13 | Government Of The Usa, Secretary Of Commerce, 14Th & Constitution, Ntl Inst Of Standards & Technolog | Positioning stage |
JP2004538443A (ja) * | 2000-08-15 | 2004-12-24 | バイオフォース ナノサイエンシズ インコーポレイテッド | ナノスケール分子配列装置 |
JP2004106172A (ja) * | 2002-08-05 | 2004-04-08 | Xerox Corp | 流体用導管、流体用導管を形成する方法、マイクロアレイシステム、dpnシステム、流体回路、及びマイクロアレイの製造方法 |
JP2006071534A (ja) * | 2004-09-03 | 2006-03-16 | Sii Nanotechnology Inc | 長尺体の試料観察に適したプローブ顕微鏡システム |
JP2008526538A (ja) * | 2005-01-10 | 2008-07-24 | バイオフォース・ナノサイエンシィズ・インコーポレーテッド | 表面パターンを作るためのシステムと方法 |
JP2006220597A (ja) * | 2005-02-14 | 2006-08-24 | Sii Nanotechnology Inc | 表面情報計測装置。 |
JP2006349419A (ja) * | 2005-06-14 | 2006-12-28 | Research Institute Of Biomolecule Metrology Co Ltd | 立体試料観察システム及び立体試料観察方法 |
JP2009534200A (ja) * | 2006-04-19 | 2009-09-24 | ノースウエスタン ユニバーシティ | 2次元ペン配列を有する並列リソグラフィのための物品 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
JPN5010008878; SALAITA KHALID: ANGEW. CHEM. INT. ED. V45 N43, 20061103, P7220-7223 * |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018022807A (ja) * | 2016-08-04 | 2018-02-08 | 旭化成株式会社 | 位置合わせ方法、インプリント方法およびインプリント装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5269887B2 (ja) | 2013-08-21 |
CA2681443A1 (en) | 2008-11-20 |
US20110195850A1 (en) | 2011-08-11 |
EP2156246A1 (en) | 2010-02-24 |
US20090023607A1 (en) | 2009-01-22 |
AU2008251612A1 (en) | 2008-11-20 |
WO2008141048A1 (en) | 2008-11-20 |
TW200902438A (en) | 2009-01-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5269887B2 (ja) | 小型ナノファブリケーション装置 | |
US20080309688A1 (en) | Nanolithography with use of viewports | |
US7008769B2 (en) | Nanoscale molecular arrayer | |
EP2013662B1 (en) | Article for parallel lithography with two-dimensional pen arrays | |
KR20100121634A (ko) | 어레이 및 캔틸레버 어레이 레벨링 방법 | |
US7635844B2 (en) | Microsystem manipulation apparatus | |
AU2002245009A1 (en) | Nanoscale molecular arrayer | |
US20090074966A1 (en) | System and method for creating a surface pattern | |
WO2002071412A1 (en) | Enhanced scanning probe microscope | |
US20110268883A1 (en) | Force curve analysis method for planar object leveling | |
WO2011009094A2 (en) | Leveling devices and methods | |
US10252463B2 (en) | Compact instrument with exchangeable modules for multiple microfabrication and/or nanofabrication methods | |
KR20130111198A (ko) | 레벨링 장치 및 방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110509 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110509 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120620 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20120919 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20120926 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121214 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130318 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20130416 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20130423 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130508 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |