JP2010518237A - スチレン化−p−クレゾールを用いるポリマーの安定化剤及びその製法 - Google Patents
スチレン化−p−クレゾールを用いるポリマーの安定化剤及びその製法 Download PDFInfo
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Abstract
Description
2,6−ジスチリル−p−クレゾールの合成−一般的手順
撹拌棒、温度計、及び滴下漏斗を備えた1リットルの丸底フラスコに、p−クレゾール151.3グラム(1.4モル)を充填した。混合物を70℃に加熱し、次いで100μLのシリンジを介してトリフルオロメタンスルホン酸5μLを添加した。窒素ブランケット下で、スチレン284.5グラム(2.73モル)を漏斗に入れ、次いで3時間かけて撹拌しながら滴下した。スチレンの添加中、ポットの温度は80℃を超えなかった。全てのスチレンを添加した後、70℃のポット温度で1.5時間撹拌を継続した。得られたスチレン化p−クレゾール組成物を以下のように分析した。
APHA値=50
酸価=1グラム当たりKOH0.01mg
ブルックフィールド粘度=29900cps(25℃)
重量収率=94%
1.アルキル化モノフェノール、例えば、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール、2−tert−ブチル−4,6−ジメチルフェノール、2,6−ジ−tert−ブチル−4−エチルフェノール、2,6−ジ−tert−ブチル−4−n−ブチルフェノール、2,6−ジ−tert−ブチル−4−イソブチルフェノール、2,6−ジシクロペンチル−4−メチルフェノール、2−(α−メチルシクロヘキシル)−4,6ジメチルフェノール、2,6−ジ−オクタデシル−4−メチルフェノール、2,4,6,−トリシクロヘキシフェノール、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メトキシメチルフェノール。
2.アルキル化ヒドロキノン、例えば、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メトキシフェノール、2,5−ジ−tert−ブチル−ヒドロキノン、2,5−ジ−tert−アミルヒドロキノン、2,6−ジフェニル−4−オクタデシルオキシフェノール。
3.ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル、例えば、2,2’−チオ−ビス−(6−tert−ブチル−4−メチルフェノール)、2,2’−チオ−ビス−(4−オクチルフェノール)、4,4’−チオ−ビス−(6−tert−ブチル−3−メチルフェノール)、4,4’−チオ−ビス−(6−tert−ブチル−2−メチルフェノール)。
4.アルキリデン−ビスフェノール、例えば、2,2’−メチレン−ビス−(6−tert−ブチル−4−メチルフェノール)、2,2’−メチレン−ビス−(6−tert−ブチル−4−エチルフェノール)、2,2’−メチレン−ビス−(4−メチル−6−(α−メチルシクロヘキシル(フェノール)、2,2’−メチレン−ビス−(4−メチル−6−シクロヘキシルフェノール)、2,2’−メチレン−ビス−(6−ノニル−4−メチルフェノール)、2,2’−メチレン−ビス−(6−ノニル−4−メチルフェノール)、2,2’−メチレン−ビス−(6−(α−メチルベンジル)−4−ノニルフェノール)、2,2’−メチレン−ビス−(6−(α,α−ジメチルベンジル)−4−ノニル−フェノール)、2,2’−メチレン−ビス−(4,6−ジ−tert−ブチルフェノール)、2,2’−エチリデン−ビス−(6−tert−ブチル−4−イソブチルフェノール)、4,4’−メチレン−ビス−(2,6−ジ−tert−ブチルフェノール)、4,4’−メチレン−ビス−(6−tert−ブチル−2−メチルフェノール)、1,1−ビス−(5−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェノール)ブタン、2,6−ジ−(3−tert−ブチル−5−メチル−2−ヒドロキシベンジル)−4−メチルフェノール、1,1,3−トリス−(5−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)ブタン、1,1−ビス−(5−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)−3−ドデシル−メルカプトブタン、エチレングリコール−ビス−(3,3,−ビス−(3’−tert−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)−ブチレート)−ジ−(3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)−ジシクロペンタジエン、ジ−(2−(3’−tert−ブチル−2’ヒドロキシ−5’メチルベンジル)−6−tert−ブチル−4−メチルフェニル)テレフタレート、及びエチリデンビス−2,4−ジ−t−ブチルフェノールモノアクリレートエステルなどのビスフェノールのモノ−アクリレートエステルなどの他のフェノール成分。
5.ベンジル化合物、例えば、1,3,5−トリス−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2,4,6−トリメチルベンゼン、ビス−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)スルフィド、イソオクチル3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル−メルカプトアセテート、ビス−(4−tert−ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル)ジチオール−テレフタレート、1,3,5−トリス−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)イソシアヌレート、1,3,5−トリス−(4−tert−ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル)イソシアヌレート、ジオクタデシル3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル−ホスホネート、モノエチル3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホネートのカルシウム塩、1,3,5−トリス−(3,5−ジシクロヘキシル−4−ヒドロキシベンジル)イソシアヌレート。
6.アシルアミノフェノール、例えば、4−ヒドロキシ−ラウリン酸アニリド、4−ヒドロキシ−ステアリン酸アニリド、2,4−ビス−オクチルメルカプト−6−(3,5−tert−ブチル−4−ヒドロキシアニリノ)−s−トリアジン、オクチル−N−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)カルバメート。
7.一価又は多価アルコールとの、例えば、メタノール、ジエチレングリコール、オクタデカノール、トリエチレングリコール、1,6−ヘキサンジオール、ペンタエリスリトール、ネオペンチルグリコール、トリス−ヒドロキシエチルイソシアヌレート、チオジエチレングリコール、ジ−ヒドロキシエチルシュウ酸ジアミドとのβ−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェノール)−プロピオン酸のエステル。
8.一価又は多価アルコールとの、例えば、メタノール、ジエチレングリコール、オクタデカノール、トリエチレングリコール、1,6−ヘキサンジオール、ペンタエリスリトール、ネオペンチルグリコール、トリス−ヒドロキシエチルイソシアヌレート、チオジエチレングリコール、ジヒドロキシエチルシュウ酸ジアミドとのβ−(5−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)−プロピオン酸のエステル。
9.一価又は多価アルコールとの、例えば、メタノール、ジエチレングリコール、オクタデカノール、トリエチレングリコール、1,6−ヘキサンジオール、ペンタエリスリトール、ネオペンチルグリコール、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、チオジエチレングリコール、N,N−ビス(ヒドロキシエチル)シュウ酸ジアミドとのβ−(5−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)プロピオン酸のエステル。
10.β−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェノール)−プロピオン酸のアミド、例えば、N,N’−ジ−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)−ヘキサメチレン−ジアミン、N,N’−ジ−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)トリメチレンジアミン、N,N’−ジ−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)−ヒドラジン。
R1−NH−R2
によって表すことができ、
式中、R1及びR2は、必ずしも同じではないが、同じであってもよい。したがって、好ましい一実施形態では、R1及びR2は、(i)芳香族炭素、(ii)脂肪族R1及び芳香族R2炭素原子、及び(iii)第2の窒素原子に結合してフェニレンジアミンを生成する芳香族炭素からなる群から独立に選択することができる。
も、このクラスの部分として考慮される。
Ar−NH−Ar’
によって表すことができ、
式中、Ar及びAr’は、独立に選択されたアリール基であり、その少なくとも一方は、好ましくは少なくとも1つのアルキル基で置換されている。アリール基は、例えば、フェニル、ビフェニル、テルフェニル、ナフチル、アントリル、フェナントリル等であってよい。アルキル置換基(複数可)は、例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、それらの異性体等であってよい。
によって表すことができ、
式中、
R11は、フェニル及びp−トリル基からなる群から選択され、
R12及びR13は、メチル、フェニル、及びp−トリル基からなる群から独立に選択され、
R14は、メチル、フェニル、p−トリル、及びネオペンチル基からなる群から選択され、
R15は、メチル、フェニル、p−トリル、及び2−フェニルイソブチル基からなる群から選択され;
R16はメチル基である。
式中、
R11〜R15は、式Iに示される基から独立に選択され、R17は、メチル、フェニル、及びp−トリル基からなる群から選択され、
Xは、メチル、エチル、C3〜C10sec−アルキル、α,α−ジメチルベンジル、α−メチルベンジル、塩素、臭素、カルボキシル、及びカルボン酸の金属塩からなる群から選択される基であり、該金属は、亜鉛、カドミウム、ニッケル、鉛、スズ、マグネシウム、及び銅からなる群から選択され、
Yは、水素、メチル、エチル、C3〜C10sec−アルキル、塩素、及び臭素からなる群から選択される基である。
式中、
R11は、フェニル又はp−トリル基からなる群から選択され、
R12及びR13は、メチル、フェニル、及びp−トリル基からなる群から独立に選択され、
R14は、水素、C3〜C10第1級、第2級、及び第3級アルキル、並びにC3〜C10アルコキシルからなる群から選択される基であり、直鎖であっても分岐であってもよく、
X及びYは、水素、メチル、エチル、C3〜C10sec−アルキル、塩素、及び臭素からなる群から選択される基である。
式中、
R18は、フェニル及びp−トリル基からなる群から選択され、
R19は、メチル、フェニル、p−トリル及び2−フェニルイソブチルからなる群から選択される基であり、
R20は、メチル、フェニル、及びp−トリルからなる群から選択される基である。
式中、
R21は、水素、α,α−ジメチルベンジル、α−メチルベンズヒドリル、トリフェニルメチル、及びα,αp−トリメチルベンジル基からなる群から選択され、
R22は、フェニル又はp−トリル基からなる群から選択され、
R23は、メチル、フェニル、及びp−トリル基からなる群から選択され、
R24は、メチル、フェニル、p−トリル、及び2−フェニルイソブチル基からなる群から選択される。
N−フェニル−N’−シクロヘキシル−p−フェニレンジアミン、
N−フェニル−N’−sec−ブチル−p−フェニレンジアミン、
N−フェニル−N’−イソプロピル−p−フェニレンジアミン、
N−フェニル−N’−(1,3−ジメチルブチル)−p−フェニレンジアミン、
N,N’−ビス−(1,4−ジメチルペンチル)−p−フェニレンジアミン、
N,N’−ジフェニル−p−フェニレンジアミン、
N,N’−ジ−βナフチル−p−フェニレンジアミン、混合ジアリール−p−N,N’−ビス−(1−エチル−3−メチルペンチル)−p−フェニレンジアミン、及び
N,N’−ビス−(1 メチルヘプチル)−p−フェニレンジアミンである。
のものが含まれ、
式中、
R1及びR2は、水素;クロロ;ヒドロキシ;C1〜C25アルキル;C7〜C9−フェニルアルキル;非置換の又はC1〜C4アルキルで置換されているフェニル;非置換の又はC1〜C4アルキルで置換されているC5〜C8シクロアルキル;C1〜C18アルコキシ;C1〜C18アルキルチオ;C1〜C4アルキルアミノ;ジ−(C1〜C4アルキル)アミノ;C1〜C25アルカノイルオキシ;C1〜C25アルカノイルアミノ;C3〜C25アルケノイルオキシ;酸素、硫黄、又は>N−R8で遮断されているC3〜C25アルカノイルオキシ;C6〜C9シクロアルキルカルボニルオキシ;ベンゾイルオキシ又はC1〜C12アルキルで置換されているベンゾイルオキシからなる群から独立に選択され、
R8は、水素又はC1〜C8アルキルであり、
R3及びR4は、水素、C1〜C8アルキル、C1〜C4アルコキシ、ハロゲン、基
(式中、nは1又は2である)、又は基
(式中、基Aは、C1〜C8アルキル及びC1〜C8アルコキシからなる群から独立に選択される)
からなる群から独立に選択される。
の5,7−ジ−t−ブチル−3−(3,4,−ジメチルフェニル)−3H−ベンゾフラン−2−オンである。
この化合物は、HP136としてCiba Specialtiesから市販されている。
であり得、
式中、pは1又は2であり、qは0又は1であり、p+q=2であり、R18は、1〜20個の炭素原子の直鎖又は分岐鎖のアルキル部分であり、R19は、1〜8個の炭素原子の直鎖又は分岐鎖のアルキレン部分である。したがって、R18は、例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナデシル、エイコシル、及びその異性体であってよく、R19は、例えば、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペンチレン、ヘキシレン、ヘプチレン、オクチレン、及びその異性体であってよい。R18が、8〜18個の炭素原子の直鎖又は分岐鎖のアルキル部分であり、R19が、1〜4個の炭素原子の直鎖又は分岐鎖のアルキレン部分であることが好ましい。R19がエチレン、即ち−CH2−CH2−であることがより好ましい。
であってよく、
式中、aは0〜3であり、bは1〜4であり、a+b=4であり、R18は先に記載の通りであり、R19及びR20は、1〜8個の炭素原子の、独立に選択された直鎖又は分岐鎖のアルキレン部分である。R19及びR20は、1〜4個の炭素原子の、独立に選択された直鎖又は分岐鎖のアルキレン部分であることが好ましい。R20がメチレン、即ち−CH2−であり、R19がエチレン、即ち−CH2−CH2−であることがより好ましい。
1.UV吸収剤及び光安定化剤
1.1 2−(2’−ヒドロキシフェニル)−ベンゾトリアゾール、例えば、5’−メチル−、3’5’−ジ−tert−ブチル−、5’−tert−ブチル−、5’(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−、5−クロロ−3’,5’−ジ−tert−ブチル−、5−クロロ−3’−tert−ブチル−5’−メチル−、3’−sec−ブチル−5’−tert−ブチル−、4’−オクトキシ、3’,5’−ジ−tert−アミル−3’,5’−ビス−(α,α−ジメチルベンジル)誘導体。
1.2 2−ヒドロキシ−ベンゾフェノン、例えば、4−ヒドロキシ−4−メトキシ−、4−オクトキシ、4−デクロキシ(decloxy)−、4−ドデシルオキシ−、4−ベンジルオキシ、4,2’,4’−トリヒドロキシ−、及び2’−デシルヒドロキシ−4,4’−ジメトキシ誘導体。
1.3 置換及び非置換の安息香酸のエステル、例えば、サリチル酸フェニル、4−tert−ブチルフェニル−サリチル酸エステル、サリチル酸オクチルフェニル、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス−(4−tert−ブチルベンゾイル)−レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、2,4−ジ−tert−ブチル−フェニル−3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、及びヘキサデシル−3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート。
1.4 アクリレート、例えば、α−シアノ−β、β−ジフェニルアクリル酸−エチルエステル又はイソオクチルエステル、α−カルボメトキシ−桂皮酸メチルエステル、α−シアノ−β−メチル−p−メトキシ−桂皮酸メチルエステル又はブチルエステル、α−カルボメトキシ−p−メトキシ−桂皮酸メチルエステル、N−(β−カルボメトキシ−β−シアノ−ビニル)−2−メチル−インドリン。
1.5 ニッケル化合物、例えば、2,2’−チオビス(4−(1,1,1,3−テトラメチルブチル)−フェノール)と、任意選択でn−ブチルアミン、トリエタノールアミン又はN−シクロヘキシル−ジエタノールアミンなどの追加のリガンドとの1:1又は1:2の錯体などのニッケル錯体、ニッケルジブチルジチオカルバメート、メチル、エチル、又はブチルエステルなどの4−ヒドロキシ−3,5−ジ−tert−ブチルベンジルホスホン酸モノアルキルエステルのニッケル塩、2−ヒドロキシ−4−メチル−フェニルウンデシルケトオキシムなどのケトオキシムのニッケル錯体、1−フェニル−4−ラウロイル−5−ヒドロキシ−ピラゾールの、任意選択でさらなるリガンドとのニッケル錯体。
1.6 立体的ヒンダードアミン、例えば、セバシン酸ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)、セバシン酸ビス−(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル)、n−ブチル−3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジルマロン酸ビス(1,2,2,6,6,−ペンタメチルピペリジル)エステル、1−ヒドロキシエチル−2,2,6,6−テトラメチル−4−ヒドロキシ−ピペリジン及びコハク酸の縮合生成物、N,N’−(2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)−ヘキサメチレンジアミン及び4−tert−オクチルアミノ−2,6−ジクロロ−1,3,5−s−トリアジンの縮合生成物、トリス−(2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)−ニトリロアセテート、テトラキス−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−1,2,3,4−ブタン−テトラ炭酸、1,1’(1,2−エタンジイル)−ビス−(3,3,5,5−テトラメチルピペラジノン)。一般にHALSと呼ばれるこれらのアミンには、ブタンテトラカルボン酸2,2,6,6−テトラメチルピペリジノールエステルが含まれる。かかるアミンには、ジ(1−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)セバシン酸エステル、1−ヒドロキシ2,2,6,6−テトラメチル−4−ベンズオキシピペリジン、1−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチル−4−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシヒドロシンナモイルオキシ)−ピペリジン、及びN−(1−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチル−ピペリジン−4−イル)−ε−カプロラクタムなどのヒンダードアミン由来のヒドロキシルアミンが含まれる。
1.7 シュウ酸ジアミド、例えば、4,4’−ジオクチルオキシ−オキサニリド、2,2’−ジ−オクチルオキシ−5’,5’−ジ−tert−ブチルオキサニリド、2,2’−ジ−ドデシルオキシ−5’,5’−ジ−tert−ブチル−オキサニリド、2−エトキシ−2’−エチル−オキサニリド、N,N’−ビス(3−ジメチルアミノプロピル)−オキサルアミド、2−エトキシ−5−tert−ブチル−2’−エチルオキサニリド及び2−エトキシ−2’エチル−5,4−ジ−tert−ブチルオキサニリドとのその混合物、並びにオルト−及びパラ−メトキシの混合物並びにo−及びp−エトキシ−二置換オキサニリドの混合物。
2.金属不活性化剤、例えば、N,N’−ジフェニルシュウ酸ジアミド、N−サリチルアル−N’−サリチロイルヒドラジン、N,N’−ビス−サリチロイルヒドラジン、N,N’−ビス−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロフェニルプロピオニル)−ヒドラジン、サリチロイルアミノ−1,2,4−トリアゾール、ビス−ベンジリデン−シュウ酸ジヒドラジド。
3.過酸化物捕捉剤、例えばβ−チオジプロピオン酸、例えば、ラウリル、ステアリル、ミリスチル、又はトリデシルエステル、メルカプトベンズイミダゾールのエステル、或いは2−メルカプトベンズイミダゾールの亜鉛塩、亜鉛−ジブチルジチオカルバメート、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリスリトールテトラキス−(β−ドデシルメルカプト)−プロピオン酸エステル。
4.ポリアミド安定化剤、例えば、銅塩とヨウ化物及び/又はリン化合物並びに二価マンガンの塩の組合せ。
5.塩基性共安定化剤、例えば、メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高脂肪酸のアルカリ金属塩及びアルカリ土類金属塩、例えば、ステアリン酸カルシウム、ステアロイル乳酸カルシウム、乳酸カルシウム、ステアリン酸Zn、ステアリン酸Mg、リシノール酸Na及びパルミチン酸K、ハイドロタルサイト及び合成ハイドロタルサイト、並びにLi、Na、Mg、Ca及びアルミニウムヒドロキシカーボネートなどの中和剤を含む、アンチモンピロカテコレート又は亜鉛ピロカテコレート。
6.核形成剤、例えば、4−tertブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸、メチレンビス−2,4−ジブチルフェニルのナトリウム塩、環状リン酸エステル、ソルビトールトリス−ベンズアルデヒドアセタール、及びビス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)リン酸エステルのナトリウム塩。
7.充填剤及び強化剤、例えば、カルシウムカーボネート、ケイ酸塩、ガラス繊維、アスベスト、タルク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物及び水酸化物、カーボンブラック及びグラファイト。
8.本発明の化合物は、メチル−3−(N,N−ジベンジルアミノオキシ)プロパノエート、エチル−3−(N,N−ジベンジルアミノオキシ)プロパノエート、1,6−ヘキサメチレン−ビス(3−N,N−ジベンジルアミノオキシ)プロパノエート)、メチル−(2−(メチル)−3(N,N−ジベンジルアミノオキシ)プロパノエート)、オクタデシル−3−(N,N−ジベンジルアミノオキシ)プロパン酸、テトラキス(N,N−ジベンジルアミノオキシ)エチルカルボニルオキシメチル)メタン、オクタデシル−3−(N,N−ジエチルアミノオキシ)−プロパノエート、3−(N,N−ジベンジルアミノオキシ)プロパン酸カリウム塩、及び1,6−ヘキサメチレンビス(3−(N−アリル−N−ドデシルアミノオキシ)プロパノエート)などのアミノオキシプロパノエート誘導体と併用することもできる。
9.本発明の化合物と組み合わせて使用できる他の添加剤には、例えば、可塑剤、エポキシ化大豆油などのエポキシ化植物油、潤滑剤、乳化剤、色素、R2NOHなどのヒドロキシルアミン(式中、Rはプロピル又はステアリルなどのC1〜C30アルキル基である)、蛍光増白剤、防炎剤、静電気防止剤、発泡剤、及びチオ協力剤が含まれる。
10.ニトロン、例えばn−ベンジル−α−フェニルニトロン、N−エチル−α−メチルニトロン、N−オクチル−α−ヘプチルニトロン、N−ラウリル−α−ウンデシルニトロン、N−テトラデシル−α−トリデシルニトロン、N−ヘキサデシル−α−ペンタ−デシルニトロン、n−オクタデシル−α−ヘプタデシルニトロン、N−ヘキサデシル−α−ヘプタデシルニトロン、N−オクタデシル−α−ペンタデシニトロン、N−ヘプタデシル−α−ヘプタデシニトロン、N−オクタデシル−α−ヘキサデシルニトロン、及び水素化獣脂アミン由来のN,N−ジアルキルヒドロキシルアミン由来のニトロン。
多層押出時のメルトフローインデックスのLLDPE保持における2,6−ジスチレン化−p−クレゾールの性能評価
この実施例は、オクタデシル3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシヒドロシンナメート及び亜リン酸エステル安定化剤のブレンドを含む対照と比較した、亜リン酸エステル安定化剤の存在下での2,6−ジスチリル−p−クレゾールの安定化剤の有効性を示す。
P1はトリス(ノニルフェニル)亜リン酸エステル
この実施例は、亜リン酸エステル安定化剤の存在下、色の保持を測定することによって決定した2,6−ジスチリル−p−クレゾールの安定化剤の有効性を示す。この結果を、オクタデシル3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシヒドロシンナメート及び同じ亜リン酸エステル安定化剤のブレンドを含む対照と比較する。
P1はトリス(ノニルフェニル)亜リン酸エステル
スチレンブタジエンゴムの100℃でのオーブン加熱老化中の経時的ムーニー粘度の変化における2,6−ジスチリル−p−クレゾールの性能評価
この実施例は、安定化していない材料(対照)と比較した、2,6−ジスチリル−p−クレゾール単独及び亜リン酸エステル安定化剤との組合せの両方の安定化剤の有効性を示す。
P1はトリス(ノニルフェニル)亜リン酸エステル
Claims (27)
- 室温で液体であり、25℃で40,000cps未満の粘度を有するスチレン化p−クレゾール種の混合物の調製方法であって、GC領域パーセントで最小70%と試金される2,6−ジスチレン化p−クレゾールを提供し、酸触媒の存在下、高温でスチレンとp−クレゾールをそれぞれ1.85〜2.1:1のモル比で反応させるステップを含み、前記混合物が、モノスチレン化−p−クレゾール、ジスチレン化−p−クレゾール、及びトリスチレン化−p−クレゾールを含み、1グラム当たりKOH0.1mg未満の酸価を示す、上記方法。
- GC領域パーセントで約80〜約90%の範囲と試金される2,6−ジスチレン化p−クレゾールを提供する、請求項1に記載の方法。
- 酸値が、1グラム当たりKOH0.01mg未満である、請求項1に記載の方法。
- 酸触媒が、ブレンステッド酸又はルイス酸である、請求項1に記載の方法。
- 酸触媒が、トリフルオロメタンスルホン酸である、請求項1に記載の方法。
- 混合物が、150未満のAPHA値を有する、請求項1に記載の方法。
- 2,6−ジスチレン化−p−クレゾールが、モノスチレン化−p−クレゾール、ジスチレン化−p−クレゾール、及びトリスチレン化−p−クレゾールの全領域に対してGC領域で最小75%の濃度で存在する、請求項1に記載の方法。
- 2,6−ジスチレン化−p−クレゾールが、モノスチレン化−p−クレゾール、ジスチレン化−p−クレゾール、及びトリスチレン化−p−クレゾールの全領域に対してGC領域で約80〜約95%の濃度で存在する、請求項1に記載の方法。
- モノスチレン化−p−クレゾール及びトリスチレン化−p−クレゾールが、モノスチレン化−p−クレゾール、ジスチレン化−p−クレゾール、及びトリスチレン化−p−クレゾールの全領域に対してGC領域で約1〜約15%の範囲の濃度でそれぞれ存在する、請求項8に記載の方法。
- モノスチレン化−p−クレゾール及びトリスチレン化−p−クレゾール成分の組合せのGC領域パーセンテージが、モノスチレン化−p−クレゾール、ジスチレン化−p−クレゾール、及びトリスチレン化−p−クレゾールの全領域に対して領域で約5〜約30パーセントの範囲となる、請求項9に記載の方法。
- 室温で液体であり、25℃で40,000cps未満の粘度を有する、有効量のスチレン化p−クレゾール種の混合物を前記組成物に含ませるステップを含む、ポリマー組成物の安定化法であって、前記混合物が、GC領域で最小70%と試金される2,6−ジスチリル−p−クレゾールを得る方法によって調製され、酸触媒の存在下、高温でスチレンとp−クレゾールをそれぞれ1.85〜2.1:1のモル比で反応させるステップを含み、前記混合物が、モノスチレン化−p−クレゾール、ジスチレン化−p−クレゾール、及びトリスチレン化−p−クレゾールを含み、1グラム当たりKOH0.1mg未満の酸価を示す、上記方法。
- ジスチレン化−p−クレゾールが、モノスチレン化−p−クレゾール、ジスチレン化−p−クレゾール、及びトリスチレン化−p−クレゾールの全領域に対してGC領域で最小75%の濃度で存在する、請求項11に記載の方法。
- ジスチレン化−p−クレゾールが、モノスチレン化−p−クレゾール、ジスチレン化−p−クレゾール、及びトリスチレン化−p−クレゾールの全領域に対してGC領域で約80〜約95%の濃度で存在する、請求項11に記載の方法。
- モノスチレン化−p−クレゾール及びトリスチレン化−p−クレゾールが、モノスチレン化−p−クレゾール、ジスチレン化−p−クレゾール、及びトリスチレン化−p−クレゾールの全領域に対してGC領域で約1〜約15%の範囲の濃度でそれぞれ存在する、請求項13に記載の方法。
- モノスチレン化−p−クレゾール及びトリスチレン化−p−クレゾール成分の組合せのGC領域パーセンテージが、モノスチレン化−p−クレゾール、ジスチレン化−p−クレゾール、及びトリスチレン化−p−クレゾールの全領域に対して領域によって約5〜約30パーセントの範囲となる、請求項14に記載の方法。
- 組成物が、共安定化剤をさらに含む、請求項11に記載の方法。
- ポリマーが、ポリオレフィン、PVC、ポリウレタン、ポリオール、及びエラストマーからなる群から選択される、請求項16に記載の方法。
- エラストマーが、スチレン−ブタジエンゴムである、請求項17に記載の方法。
- 共安定化剤が、フェノール成分、亜リン酸エステル、ジアリールアミン、及びエポキシ化植物油からなる群から選択される、請求項16に記載の方法。
- 共安定化剤が、有機亜リン酸エステルである、請求項19に記載の方法。
- 有機亜リン酸エステルが、トリス(ノニルフェニル)亜リン酸エステルである、請求項20に記載の方法。
- 共安定化剤が、ジアルキル化ジフェニルアミンである、請求項19に記載の方法。
- 共安定化剤が、エポキシ化大豆油である、請求項19に記載の方法。
- ポリマー組成物が、ポリオール又はポリウレタンを含み、前記安定化組成物が少ない曇りを示す、請求項11に記載の方法。
- 室温で液体であり、25℃で40,000cps未満の粘度を有するスチレン化p−クレゾール種の混合物を含み、酸触媒の存在下、高温でスチレンとp−クレゾールをそれぞれ1.85〜2.1:1のモル比で反応させるステップを含む方法によって調製される、GC領域パーセントで最小70%と試金される2,6−ジスチレン化p−クレゾールを含む組成物であって、前記混合物が、モノスチレン化−p−クレゾール、ジスチレン化−p−クレゾール、及びトリスチレン化−p−クレゾールを含み、1グラム当たりKOH0.1mg未満の酸価を示す、上記組成物。
- 混合物が、150未満のAPHA値を有する、請求項25に記載の組成物。
- モノスチレン化−p−クレゾール及びトリスチレン化−p−クレゾールが、モノスチレン化−p−クレゾール、ジスチレン化−p−クレゾール、及びトリスチレン化−p−クレゾールの全領域に対してGC領域によって約1〜約15%の範囲の濃度でそれぞれ存在し、前記酸値が1グラム当たりKOH0.01mg未満である、請求項26に記載の組成物。
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010532763A (ja) * | 2007-07-06 | 2010-10-14 | ケムチュア コーポレイション | 液状スチレン化フェノリック組成物及び液状スチレン化フェノリック組成物を形成する方法 |
JP2012057079A (ja) * | 2010-09-10 | 2012-03-22 | Nippon Steel Chem Co Ltd | 多価ヒドロキシ樹脂、エポキシ樹脂、それらの製造方法、エポキシ樹脂組成物及びその硬化物 |
JP2016199629A (ja) * | 2015-04-07 | 2016-12-01 | 新中村化学工業株式会社 | 保存安定性に優れるエポキシ基含有(メタ)アクリレート化合物の製造方法 |
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Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9481775B2 (en) * | 2014-04-28 | 2016-11-01 | Vanderbilt Chemicals, Llc | Polyurethane scorch inhibitor |
KR102118774B1 (ko) * | 2017-09-12 | 2020-06-03 | 주식회사 엘지화학 | 고분자량 산화방지제의 정량분석방법 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0383944A (ja) * | 1989-08-28 | 1991-04-09 | Mitsubishi Petrochem Co Ltd | スチレン化フェノールの製造方法 |
JPH07186296A (ja) * | 1993-12-27 | 1995-07-25 | Bridgestone Corp | 伝動ベルト用ウレタン組成物 |
JP2003193024A (ja) * | 2001-12-27 | 2003-07-09 | Nippon Steel Chem Co Ltd | 制振材 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3523083A (en) * | 1968-05-27 | 1970-08-04 | Exxon Research Engineering Co | Stabilization of white oils |
SU540886A1 (ru) * | 1972-11-27 | 1976-12-30 | Предприятие П/Я А-7345 | Полимерна композици |
US3959206A (en) * | 1974-10-21 | 1976-05-25 | The Southland Corporation | High molecular weight butadiene-styrene latex can end sealant composition |
US3956247A (en) * | 1975-01-15 | 1976-05-11 | Uniroyal Inc. | Halogenation of EPDM in solution in the presence of epoxide and, optionally, poly(alkylene ether) glycol |
JPS5912720B2 (ja) | 1981-02-02 | 1984-03-24 | 花王株式会社 | 洗浄剤組成物 |
US5140055A (en) * | 1986-07-01 | 1992-08-18 | Bridgestone Corporation | Rubber composition |
JP2595182B2 (ja) | 1993-03-22 | 1997-03-26 | 三井東圧化学株式会社 | 塩化ビニル類の重合方法 |
JP3086566B2 (ja) * | 1993-05-06 | 2000-09-11 | 株式会社海水化学研究所 | 安定化された含ハロゲン樹脂組成物 |
US6391065B1 (en) | 1995-11-03 | 2002-05-21 | Boehme Filatex, Inc. | UV light absorber composition and method of improving the lightfastness of dyed textiles |
RU2100386C1 (ru) * | 1996-05-14 | 1997-12-27 | Воронежский филиал Государственного предприятия "Научно-исследовательский институт синтетического каучука им.акад.С.В.Лебедева" | Полимерная композиция |
US6242562B1 (en) * | 1998-12-28 | 2001-06-05 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Process for producing vinyl chloride polymer |
JP4389083B2 (ja) | 2004-08-10 | 2009-12-24 | 石原薬品株式会社 | 鉛フリーのスズ−ビスマス系合金電気メッキ浴 |
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0383944A (ja) * | 1989-08-28 | 1991-04-09 | Mitsubishi Petrochem Co Ltd | スチレン化フェノールの製造方法 |
JPH07186296A (ja) * | 1993-12-27 | 1995-07-25 | Bridgestone Corp | 伝動ベルト用ウレタン組成物 |
JP2003193024A (ja) * | 2001-12-27 | 2003-07-09 | Nippon Steel Chem Co Ltd | 制振材 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
JPN6012049502; 化学大辞典3 , 19720915, 第939頁, 共立出版株式会社 * |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010532763A (ja) * | 2007-07-06 | 2010-10-14 | ケムチュア コーポレイション | 液状スチレン化フェノリック組成物及び液状スチレン化フェノリック組成物を形成する方法 |
JP2012057079A (ja) * | 2010-09-10 | 2012-03-22 | Nippon Steel Chem Co Ltd | 多価ヒドロキシ樹脂、エポキシ樹脂、それらの製造方法、エポキシ樹脂組成物及びその硬化物 |
US9920274B2 (en) | 2015-02-09 | 2018-03-20 | Moresco Corporation | Lubricant composition, use thereof and aliphatic ether compound |
JP2016199629A (ja) * | 2015-04-07 | 2016-12-01 | 新中村化学工業株式会社 | 保存安定性に優れるエポキシ基含有(メタ)アクリレート化合物の製造方法 |
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