JP2010514660A5 - - Google Patents
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- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 31
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 21
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims description 17
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N silicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 15
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 5
- 238000005296 abrasive Methods 0.000 claims description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 3
- 230000032683 aging Effects 0.000 claims description 2
- 239000000551 dentifrice Substances 0.000 claims 3
- 229960004830 Cetylpyridinium Drugs 0.000 claims 1
- NEUSVAOJNUQRTM-UHFFFAOYSA-N cetylpyridinium Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC[N+]1=CC=CC=C1 NEUSVAOJNUQRTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 230000001186 cumulative Effects 0.000 description 2
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L na2so4 Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 2
- 241000255925 Diptera Species 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003205 fragrance Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
Description
したがって、本発明は、沈降シリカの濃密相コーティングを有する研磨沈降シリカ物質を含み、そのコーティングされた沈降シリカ物質は、5.5〜8ミクロンの間のメジアン粒径、最大約2.4m2/gの、500オングストロームより大きい直径を有する細孔についての細孔面積、そして、140°F(60℃)で7日間熟成後の%CPC親和性が少なくとも90%を示す。また、本発明中に含まれる研磨シリカ物質の製造方法は、以下の一連のステップを含む:a) 第1のシリカ物質を形成するため、ケイ酸塩の合計量の5〜25質量%/重量比での任意の電解質の存在下で、ケイ酸塩の第1の量及び酸の第1の量を共に高せん断混合条件下で反応;そして、b) 前記第1のシリカ物質の表面上に濃密相コーティングを形成するために、ケイ酸塩の合計量の5〜25質量%/重量比での任意の電解質の存在下で、前記第1のシリカ物質、ケイ酸塩の第2の量および酸の第2の量を同時存在下で反応、その結果、シリカ被覆シリカ物質を形成し、前記電解質は前記ステップ“a”、“b”のどちらにでも、また両方のステップに存在し、前記ステップ“b”は高せん断混合条件の下で任意に実行される。得られたシリカ被覆シリカ物質は、同じように加香料との高い親和性レベルと同様に、極めて高いCPC親和性レベルを示す。
本願明細書において記載される技術に従って測定されるように、CPC親和性がシリカ全体の細孔面積に関連がないということが判明した。しかし、その代わりに、CPC親和性はほぼ500オングストロームより大きいサイズを有する細孔の累積細孔面積に直接関連がある。一般に、シリカ製品における500オングストロームを超える細孔の減少に優れるほど、より良好な%CPC親和性が達成される。約500オングストローム未満の細孔サイズの存在を減らすことは、達成されるCPC親和性に大きく影響しない。このように、驚くべきことに、一定量の電解質(例えば制限されない例の一つとして、硫酸ナトリウム粉)の包含がこの種の500オングストローム細孔サイズに起因している累積細孔面積を減少させる、より大きな能力を与えると分かった。同様に、この種の細孔面積低減は、反応状態同様に高せん断混合で強化され得ることが分かった(例えば、制限されない例の一つとして、Silverson LS450型ミキサーなどのミキサー装置を使って、100Lの/分の流れ率および5800回転数/分とする)。それは、いかなる科学理論に制限される意図なしに、この種の高いせん断混合条件が粒子の相互凝集塊を減らし、大量の沈降シリカと、従来生成されたシリカ物質の細孔に圧入される電解質(例えば硫酸ナトリウム粉)と、同様に、その上に鋭い刃を減らしたことにより最終的な製品の摩耗性を減らす可能性があると信じられている。
一つの態様では、細孔面積減少プロセスは、水銀圧入で測定されるように、1グラムにつき好ましくは約7平方メートル未満、1グラムにつきより好ましくは、約6平方メートル未満、1グラムにつき約8平方メートル未満の約500オングストロームを超える細孔サイズのために、活性シリカの堆積が割合で、そして、細孔面積を提供するのに効果的な量においてあることを確実にするために、適切に操作される。それも、細孔面積減少プロセスを経なかったシリカ粒子と比較して、それに対してCPCの結合を減らすのに効果的な量においてなければならない。
Claims (6)
- 沈降シリカのコーティングを有する研磨沈降シリカ物質であって、前記沈降シリカのコーティングは、それが施された物質よりも高密度であり、前記コーティングされた沈降シリカ物質は、5.5〜8ミクロンの間のメジアン粒径、最大約2.4m2/gの、500オングストロームより大きい直径を有する細孔についての細孔面積、そして、前記物質を140°F(60℃)で7日間熟成した後の%セチルピリジニウム親和性が少なくとも90%を示す研磨沈降シリカ物質。
- 請求項1に記載の前記研磨沈降シリカ物質において、少なくとも92%の%CPC親和性を呈する研磨沈降シリカ物質。
- 請求項2に記載の前記研磨沈降シリカ物質において、少なくとも96%の%CPC親和性を呈する研磨沈降シリカ物質。
- 請求項1のシリカ物質を含む歯磨き剤。
- 請求項2のシリカ物質を含む歯磨き剤。
- 請求項3のシリカ物質を含む歯磨き剤。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US11/646,124 US7438895B2 (en) | 2006-12-27 | 2006-12-27 | Precipitated silica materials exhibiting high compatibility with cetylpyridinium chloride |
PCT/US2007/084020 WO2008082795A1 (en) | 2006-12-27 | 2007-11-08 | Precipitated silica materials exhibiting high compatibility with cetylpyridinium chloride |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010514660A JP2010514660A (ja) | 2010-05-06 |
JP2010514660A5 true JP2010514660A5 (ja) | 2010-12-24 |
Family
ID=39584298
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009544135A Pending JP2010514660A (ja) | 2006-12-27 | 2007-11-08 | 塩化セチルピリジニウムとの高い親和性を示す沈降シリカ物質 |
Country Status (18)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7438895B2 (ja) |
EP (1) | EP2099407A1 (ja) |
JP (1) | JP2010514660A (ja) |
KR (1) | KR20090114358A (ja) |
CN (1) | CN101594846A (ja) |
AU (1) | AU2007340245A1 (ja) |
BR (1) | BRPI0720682A2 (ja) |
CA (1) | CA2671798C (ja) |
CO (1) | CO6190597A2 (ja) |
DE (1) | DE07864087T1 (ja) |
ES (1) | ES2331174T1 (ja) |
GT (1) | GT200900184A (ja) |
MX (1) | MX2009007103A (ja) |
MY (1) | MY147658A (ja) |
RU (1) | RU2009123397A (ja) |
TW (1) | TW200831405A (ja) |
WO (1) | WO2008082795A1 (ja) |
ZA (1) | ZA200903978B (ja) |
Families Citing this family (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20080160053A1 (en) * | 2006-12-27 | 2008-07-03 | Mcgill Patrick | High electrolyte additions for precipitated silica material production |
JP5379351B2 (ja) * | 2007-01-17 | 2013-12-25 | 三井金属鉱業株式会社 | セリウム系研摩材 |
US20080314872A1 (en) * | 2007-06-19 | 2008-12-25 | Ferro Corporation | Chemical-Mechanical Polishing Compositions Containing Aspartame And Methods Of Making And Using The Same |
US8551457B2 (en) | 2008-11-25 | 2013-10-08 | The Procter & Gamble Company | Oral care compositions comprising spherical fused silica |
BRPI0921830A8 (pt) * | 2008-11-25 | 2017-02-14 | Procter & Gamble | Composição para tratamento bucal compreendendo sílica fundida |
US11052029B2 (en) | 2009-06-16 | 2021-07-06 | W. R. Grace & Co.-Conn. | Cation compatible metal oxides and oral care compositions containing the metal oxides |
AR079182A1 (es) * | 2009-06-16 | 2012-01-04 | Grace W R & Co | Oxidos metalicos cationico - compatibles y composiciones para cuidado bucodental que contienen los oxidos metalicos |
WO2011150004A2 (en) | 2010-05-25 | 2011-12-01 | The Procter & Gamble Company | Oral care compositions and methods of making oral care compositions comprising silica from plant materials |
CA2825139C (en) | 2011-01-31 | 2017-04-04 | Colgate-Palmolive Company | Oral care compositions |
WO2014071284A2 (en) | 2012-11-05 | 2014-05-08 | The Procter & Gamble Company | Heat treated precipitated silica |
JP2016169214A (ja) * | 2015-03-12 | 2016-09-23 | 第一三共ヘルスケア株式会社 | 薬物が含浸された多孔質粒子を含有する口腔用組成物 |
KR102463863B1 (ko) * | 2015-07-20 | 2022-11-04 | 삼성전자주식회사 | 연마용 조성물 및 이를 이용한 반도체 장치의 제조 방법 |
RU2727205C2 (ru) | 2015-09-28 | 2020-07-21 | Эвоник Оперейшнс Гмбх | Противомикробные композиции для полости рта на основе диоксида кремния |
CN105195087A (zh) * | 2015-10-26 | 2015-12-30 | 王立卓 | 一种特大孔径二氧化硅新材料及其制备方法 |
JP6891282B2 (ja) * | 2016-12-19 | 2021-06-18 | ザ プロクター アンド ギャンブル カンパニーThe Procter & Gamble Company | スズ融和性シリカ粒子を含有する歯磨剤組成物 |
JP7060600B2 (ja) * | 2016-12-19 | 2022-04-26 | エボニック オペレーションズ ゲーエムベーハー | 第一スズ適合性シリカ |
MX2020002218A (es) | 2017-08-28 | 2020-07-20 | Evonik Operations Gmbh | Silice esferica para oclusion de tubulo. |
US11285088B2 (en) | 2017-08-29 | 2022-03-29 | Evonik Operations Gmbh | Spherical silica particle size for RDA control |
WO2019238777A1 (en) * | 2018-06-12 | 2019-12-19 | Evonik Operations Gmbh | Spherical stannous compatible silica particles for reduced rda |
CN113164337A (zh) * | 2018-12-04 | 2021-07-23 | 宝洁公司 | 具有改善的锡相容性的口腔护理组合物 |
TWI740221B (zh) | 2018-12-17 | 2021-09-21 | 德商贏創運營有限公司 | 用於有機電池之改良固體電解質 |
WO2023117446A1 (en) | 2021-12-20 | 2023-06-29 | Evonik Operations Gmbh | Precipitated silica and methods thereof |
WO2024100081A1 (en) | 2022-11-08 | 2024-05-16 | Evonik Operations Gmbh | Precipitated silica and methods thereof |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2649089B1 (fr) * | 1989-07-03 | 1991-12-13 | Rhone Poulenc Chimie | Silice a porosite controlee et son procede d'obtention |
KR960010781B1 (ko) * | 1991-10-02 | 1996-08-08 | 유니레버 엔브이 | 실리카 |
JPH0812319A (ja) * | 1994-06-21 | 1996-01-16 | Lion Corp | 低屈折率無機粉体、その製造方法、それを用いた液状洗浄剤組成物及び透明歯磨組成物 |
FR2751635B1 (fr) * | 1996-07-23 | 1998-10-02 | Rhone Poulenc Chimie | Silice compatible avec les aromes, son procede de preparation et compositions dentifrices la contenant |
US6946119B2 (en) * | 2003-02-14 | 2005-09-20 | J.M. Huber Corporation | Precipitated silica product with low surface area, dentifrices containing same, and processes |
EP1599180B1 (en) * | 2003-02-14 | 2012-07-11 | J.M. Huber Corporation | Precipitated silica product, dentrifices containing same, and processes |
-
2006
- 2006-12-27 US US11/646,124 patent/US7438895B2/en active Active
-
2007
- 2007-11-08 RU RU2009123397/15A patent/RU2009123397A/ru not_active Application Discontinuation
- 2007-11-08 AU AU2007340245A patent/AU2007340245A1/en not_active Abandoned
- 2007-11-08 EP EP07864087A patent/EP2099407A1/en not_active Withdrawn
- 2007-11-08 JP JP2009544135A patent/JP2010514660A/ja active Pending
- 2007-11-08 WO PCT/US2007/084020 patent/WO2008082795A1/en active Application Filing
- 2007-11-08 DE DE07864087T patent/DE07864087T1/de active Pending
- 2007-11-08 CN CNA2007800486465A patent/CN101594846A/zh active Pending
- 2007-11-08 CA CA2671798A patent/CA2671798C/en active Active
- 2007-11-08 MY MYPI20092315A patent/MY147658A/en unknown
- 2007-11-08 MX MX2009007103A patent/MX2009007103A/es active IP Right Grant
- 2007-11-08 ES ES07864087T patent/ES2331174T1/es active Pending
- 2007-11-08 BR BRPI0720682-8A patent/BRPI0720682A2/pt not_active Application Discontinuation
- 2007-11-08 KR KR1020097013278A patent/KR20090114358A/ko not_active Application Discontinuation
- 2007-11-19 TW TW096143740A patent/TW200831405A/zh unknown
-
2009
- 2009-06-08 ZA ZA200903978A patent/ZA200903978B/xx unknown
- 2009-06-26 GT GT200900184A patent/GT200900184A/es unknown
- 2009-07-14 CO CO09072786A patent/CO6190597A2/es not_active Application Discontinuation
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