JP2010502684A5

JP2010502684A5 -

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Publication number: JP2010502684A5
Application number: JP2009527175A
Authority: JP
Filing date: 2007-09-03
Publication date: 2010-11-11

Claims

未精製ヒドロキノンから出発するヒドロキノンの製造方法であって、
少なくとも次の工程：
（ａ）不純物として少なくともレゾルシン及びピロガロールを含む液体の形の未精製ヒドロキノンを、純粋なヒドロキノンの結晶化を保証する制御された冷却に付す工程、
（ｂ）母液から純粋なヒドロキノン結晶を分離する工程、
（ｃ）再加熱して部分融解させる工程、
（ｄ）精製されたヒドロキノンを完全に融解させる工程、及び
（ｅ）精製されたヒドロキノンを回収する工程
を含むことを特徴とする、前記方法。
前記未精製ヒドロキノンが未精製ヒドロキノンの総重量に対して０．５〜６重量％の不純物含有率を有することを特徴とする、請求項１に記載の方法。
前記未精製ヒドロキノンＨＱ⁰がヒドロキノン異性体（即ちレゾルシン及び随意としての残留ピロカテコール）から本質的に成る「軽質」不純物を０．１〜４重量％含むことを特徴とする、請求項１又は２に記載の方法。
前記未精製ヒドロキノンＨＱ⁰がピロガロールから本質的に成る「重質」不純物を０．１〜４重量％含むことを特徴とする、請求項１又は２に記載の方法。
前記未精製ヒドロキノンＨＱ⁰が未精製ヒドロキノンの総量に対する重量％として：
・９４〜９９．５％のヒドロキノン、
・０．１〜４％のレゾルシン、
・０．１〜４％のピロガロール、
・随意としての痕跡の形のピロカテコール
を含むことを特徴とする、請求項１〜４のいずれかに記載の方法。
ピロカテコールの量が１０〜１００ｐｐｍの範囲である、請求項５に記載の方法。
工程（ａ）を、１７５℃〜２００℃の範囲の温度において融解した未精製ヒドロキノンを数分〜数時間の範囲の時間をかけて８０℃〜１００℃の範囲の逆転温度に制御された態様で冷却することにより実施することを特徴とする、請求項１〜６のいずれかに記載の方法。
工程（ａ）の時間が５〜１５時間の範囲である、請求項７に記載の方法。
工程（ａ）の後に結晶と液体との混合物を数分〜４時間、前記逆転温度に保つことを特徴とする、請求項７又は８に記載の方法。
工程（ａ）の後に結晶と液体との混合物を逆転温度に保つ時間期間が約２時間である、請求項９に記載の方法。
母液からの純粋なヒドロキノン結晶の分離を前記逆転温度において実施することを特徴とする、請求項１〜１０のいずれかに記載の方法。
母液からの純粋なヒドロキノン結晶の分離を重力流によって実施することを特徴とする、請求項１〜１１のいずれかに記載の方法。
再加熱及び部分融解工程を、前記逆転温度から出発して純粋なヒドロキノンの融点まで、数分〜１２時間の期間をかけて実施することを特徴とする、請求項１〜１２のいずれかに記載の方法。
再加熱及び部分融解工程の時間期間が２〜１０時間の範囲である、請求項１３に記載の方法。
完全融解工程を数分〜８時間の範囲の期間をかけて実施することを特徴とする、請求項１〜１４のいずれかに記載の方法。
完全融解工程の時間期間が１〜６時間の範囲である、請求項１５に記載の方法。
連続式で又はバッチ式で、撹拌しながら又は撹拌せずに、実施することを特徴とする、請求項１〜１６のいずれかに記載の方法。
不活性雰囲気下で実施することを特徴とする、請求項１〜１７のいずれかに記載の方法。
液体の形の精製されたヒドロキノンの全部又は一部を別の精製工程に再び装填することを特徴とする、請求項１〜１８のいずれかに記載の方法。
カスケード式に、直列に及び／又は並列に配置された複数の精製工程の組合せを含むことを特徴とする、請求項１〜１９のいずれかに記載の方法。
１回以上の精製工程及び１回以上のリサイクルを組み合わせることによって実施されることを特徴とする、請求項１〜２０のいずれかに記載の方法。
前記未精製ヒドロキノンが、酸触媒の存在下での過酸化水素によるフェノールのヒドロキシル化の結果としての反応混合物から、随意にピロカテコールを蒸留によって実質的に除去した後に、得られたもの又は得ることができるものであることを特徴とする、請求項１〜２１のいずれかに記載の方法。
前記酸触媒が
・強プロトン酸類、
・スルホン樹脂、
・鉄（II）又は銅（II）錯体、
・酸性ゼオライト
から選択されることを特徴とする、請求項２２に記載の方法。
前記酸触媒が
・硫酸、クロロ硫酸、過塩素酸、スルホン酸類、
・スルホン化スチレン−ジビニルベンゼンコポリマー、芳香環上にメチレンスルホン酸基を有するフェノール−ホルムアルデヒドコポリマー、又はスルホン酸基を有するペルフッ素化樹脂、
・鉄（II）又は銅（II）錯体、
・チタンシリカライト（若しくはチタノシリカライト−１）タイプ又は鉄シリカライトタイプ（ＴＳ−１タイプのもの）のゼオライト、ＭＥＬチタンシリカライトタイプのゼオライト又はＭＦＩタイプのチタノゼオシライト又はＭＣＭ−２２ゼオライト
から選択されることを特徴とする、請求項２３に記載の方法。
前記酸触媒がメタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、トルエンスルホン酸又はフェノールスルホン酸であることを特徴とする、請求項２４に記載の方法。
リサイクルなしで１回の精製工程を含み、前記未精製ヒドロキノンが２重量％のレゾルシン、２重量％のピロガロール及び痕跡量のピロカテキンを含むことを特徴とする、請求項１〜２５のいずれかに記載の方法。
リサイクルなしで１回の精製工程を含み、前記未精製ヒドロキノンが１重量％のレゾルシン、１重量％のピロガロール及び痕跡量のピロカテキンを含むことを特徴とする、請求項１〜２６のいずれかに記載の方法。
１回の精製工程を内部リサイクルと共に含み、前記未精製ヒドロキノンが２重量％のレゾルシン、２重量％のピロガロール及び痕跡量のピロカテキンを含み、前の操作からリサイクルされたヒドロキノンが３．０重量％のレゾルシン及び３．０重量％のピロガロールを含み、リサイクル比が１であることを特徴とする、請求項１〜２５のいずれかに記載の方法。
２回の精製工程及び内部リサイクル工程を含み、前記未精製ヒドロキノンが２重量％のレゾルシン、２重量％のピロガロール及び痕跡量のピロカテキンを含み、前の操作からリサイクルされたヒドロキノンが３．０重量％のレゾルシン及び３．０重量％のピロガロールを含み、リサイクル比が１であることを特徴とする、請求項１〜２５のいずれかに記載の方法。
２回の精製工程及び内部リサイクル工程を含み、前記未精製ヒドロキノンが２重量％のレゾルシン、２重量％のピロガロール及び痕跡量のピロカテキンを含み、前の操作からリサイクルされたヒドロキノンが３重量％のレゾルシン及び３重量％のピロガロールを含み、リサイクル比が３であることを特徴とする、請求項１〜２５のいずれかに記載の方法。