JP2010502004A - 光強度記録用検出器を備える照明システム - Google Patents
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Abstract
【選択図】図3
Description
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光損失は、特に、投影露光装置のスキャン速度が比較的小さくなることをもたらす。というのは、感光層、たとえばフォトラッカー、を露光するために、常に所定の光量が必要とされるからである。たとえば光源の光パルスが絞られることによって、単位時間当たり少ない光しか提供されない場合には、必然的にマイクロリソグラフィー投影露光装置のスキャン速度が低下する。
SE(x)=∫I(x、y)dy
その場合に、I(x、y)は、露光のために利用される光の強度、すなわち像面内の点x、yにおける、たとえば13.5nmの有効放射の強度である。換言すると、積分されたスキャンエネルギSEは、投影露光装置の像面内に配置されている、感光性基板上の点に、スキャンプロセスの推移において供給される、全光エネルギである。
Claims (27)
- マイクロリソグラフィー投影露光装置用の照明システムであって、前記照明システムが:
−射出瞳面(121)を照明するための、波長領域≦100nm、特にEUV波長領域内の光を放出する、光源、および
−射出瞳面(121)内で少なくとも1つの第1の照明(22)を第2の照明(24)へ変化させることができる素子および光を検出するための少なくとも1つの検出器(106.1、106.2)、
を有し、
前記照明システムが、検出器(106.1、106.2)の少なくとも1つの光強度信号を記録して、少なくとも記録した光強度信号に従って制御信号(166)を提供する装置(164)を有しており、前記制御信号によって、マイクロリソグラフィー投影露光装置の像面(121)内で感光性の物体のスキャン速度を調節することができる、
マイクロリソグラフィー投影露光装置用の照明システム。 - 検出器(106.1、106.2)が、光源(100)から射出瞳面(121)への光の光路内で、光源(100)と射出瞳面(121)との間に配置されていることを特徴とする請求項1に記載の照明システム。
- 前記装置が、素子の第1の調節を表す、第1の調節信号を記録し、前記第1の調節によって第1の照明(22)が提供されることを特徴とする請求項1から2のいずれか1項に記載の照明システム。
- 前記装置が、素子の第2の調節を表す、第2の調節信号を記録し、前記第2の調節によって第2の照明(26)が提供されることを特徴とする請求項3に記載の照明システム。
- 前記装置が、メモリユニットを備えた制御ユニット(1030、164)を有しており、前記メモリユニット内に、第1の照明のための少なくとも1つの第1の較正値と、第2の照明のための第2の較正値が格納されていることを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載の照明システム。
- メモリユニット内に、多数の較正値をもたらす較正テーブルが格納されていることを特徴とする請求項5に記載の照明システム。
- 前記素子が、射出瞳面(121)内で照明を連続的に調節し、かつメモリユニット内に検定カーブが格納されていることを特徴とする請求項5に記載の照明システム。
- 感光性の物体が、スキャンテーブル(502)上に配置されており、かつスキャン速度がスキャンテーブルの送り速度を定めることを特徴とする請求項1から7のいずれか1項に記載の照明システム。
- 感光性の物体(200)が、ウェファであることを特徴とする請求項8に記載の照明システム。
- 照明を変化させるための素子が、絞り(130)であって、前記絞りが射出瞳面(121)内またはその近傍、あるいは射出瞳面(121)に対して共役の平面内に配置されていることを特徴とする請求項1から9のいずれか1項に記載の照明システム。
- 照明システムが、交換可能な、研磨された光学素子を有しており、かつ照明を変化させる素子が、交換可能な、研磨された光学素子であることを特徴とする請求項1から9のいずれか1項に記載の照明システム。
- 照明システムが、位置において可変の多数のフェーセットミラーを備えた、研磨された光学素子(113)を有し、かつ照明を変化させる素子が、位置において可変のフェーセットミラー(114)を有する、研磨された素子であることを特徴とする請求項1から9のいずれか1項に記載の照明システム。
- 検出器(160.1)が、光源(100)から射出瞳面(121)への光路内で、照明の調節を変化させるための素子(130)の後方に配置されていることを特徴とする請求項1から12のいずれか1項に記載の照明システム。
- 検出器(160.2)が、光源(100)から射出瞳面(121)への光路内で、照明の調節を変化させるための素子(130)の前に配置されていることを特徴とする請求項1から13のいずれか1項に記載の照明システム。
- 検出器(160.1、160.2)が、射出瞳面の照明の調節を変化させるための素子(130)に、あるいはその近傍に配置されていることを特徴とする請求項1から14のいずれか1項に記載の照明システム。
- 検出器(160.1、160.2)が、マイクロリソグラフィー投影露光装置の物体面(200)または像面(221)に、あるいはその近傍に配置されていることを特徴とする請求項1から15のいずれか1項に記載の照明システム。
- 照明システムが、カトプトリックな照明システムであることを特徴とする請求項1から16のいずれか1項に記載の照明システム。
- 照明システムが、研磨された光学素子であることを特徴とする請求項1から17のいずれか1項に記載の照明システム。
- 研磨された光学素子(116)が、多数のフェーセットミラー(115、115.1、115.2)を有していることを特徴とする請求項18に記載の照明システム。
- 物体面(200)と、物体面(300)内に配置されている物体を像面(221)内へ結像させるためのプロジェクション対物レンズ(300)とを有する、請求項1から19のいずれか1項に記載の照明システムを有するマイクロリソグラフィー投影露光装置。
- プロジェクション対物レンズ(300)が、アパーチャ絞り(B)を有していることを特徴とする請求項20に記載のマイクロリソグラフィー投影露光装置。
- 射出瞳面(121)の照明に関係なく、波長≦100nm、特にEUV波長のためのマイクロリソグラフィー投影露光装置の像面内で、スキャンルートに沿って実質的に等しい光エネルギ、特に積分された光エネルギを調節する方法であって、
前記マイクロリソグラフィー投影露光装置が、射出瞳面内で照明を変化させる素子と検出器とを有する、前記方法が、以下のステップを有する;
−光エネルギが、射出瞳面内で照明を変化させる前に測定され、
−光エネルギが、射出瞳面内で照明を変化させた後に測定され、
−照明の変化の前と後に測定された光エネルギの差信号が形成されて、差信号に基づいて、像面内で感光性の物体のスキャン速度が調節される、
前記方法。 - 差信号が連続的に記録されて、制御ユニットへ供給され、かつ像面内で感光性の物体のスキャン速度が連続的に調節されることを特徴とする請求項22に記載の方法。
- 射出瞳面の照明に関係なく、波長≦100nm、特にEUV波長のためのマイクロリソグラフィー投影露光装置の像面内でスキャンルートに沿って実質的に等しい光エネルギ、特に積分された光エネルギを調節する方法であって、
前記マイクロリソグラフィー投影露光装置が、射出瞳面内で照明を変化させるための素子と検出器とを有する、前記方法が、以下のステップを有する:
−光エネルギが、射出瞳面内の様々な照明のために検出器によって測定され、
−測定された値が、較正値として制御ユニット内に格納され、
−較正値の格納後に、光エネルギが検出器によって求められて、格納されている較正値と比較され、
−較正値との比較に基づいて、像面内で感光性の物体のスキャン速度が調節される、
前記方法。 - 較正値が、較正テーブルおよび/または較正カーブの形式で格納されることを特徴とする請求項24に記載の方法。
- 検出器が、射出瞳面の照明の調節を変化させるための素子に、あるいはその近傍に配置されていることを特徴とする請求項22から25のいずれか1項に記載の方法。
- マイクロリソグラフィー投影露光装置が、物体面と像面を有し、かつ検出器が、物体面および/または像面に、あるいはその近傍に配置されていることを特徴とする請求項22から25のいずれか1項に記載の方法。
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