JP2010286419A - 微小接触式プローバ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】微小接触式プローバにおいて、カンチレバー型のプローブを有し、カンチレバーは先端に設置されたホルダーより長さ50〜100nmで突出したナノワイヤやナノピラー、または金属被覆のカーボンナノチューブ探針と、各カンチレバーを被検体に対して水平方向に振動させるための加振機構を設置する。ホルダーの先端部は前記カンチレバーの自由端よりも突出してよく、カンチレバー上部よりホルダー先端を確認することができる。
【選択図】 図8
Description
図1は、本発明の第1の実施形態に係る微小接触式プローバにおけるプローブの概略を示した模式図である。本発明に係るプローブ9は、基板5より突出したカンチレバー3先端に取り付けられたホルダー2と、そのホルダー2より50〜100nmの長さで突出した直径10〜20nmのナノピラー探針1からなる。
図2は、本発明の第2の実施形態に係る微小接触式プローバにおけるプローブ9の概略を示した模式図である。本発明に係るプローブ9は、基板5より突出したカンチレバー3先端にカンチレバー3自由端よりも先端部が突出しているホルダー2と、そのホルダー2より50〜100nmの長さで突出した先鋭化されたナノピラー探針1からなる。
図3は、本発明の第3の実施形態に係る微小接触式プローバにおけるプローブ9の概略を示した模式図である。本発明に係るプローブ9は、基板5より突出したカンチレバー3先端に取り付けられたホルダー2と、そのホルダー2より50〜100nmの長さで突出させ、金属固定被膜11で固定された直径10〜20nmのカーボンナノチューブ10とその表面を金属被膜12でコーティングした。
図4は、本発明の第4の実施形態に係る微小接触式プローバにおけるプローブ9の概略を示した模式図である。本発明に係るプローブ9は、基板5より突出したカンチレバー3先端にカンチレバー3自由端よりも先端部が突出しているホルダー2と、そのホルダー2より50〜100nmの長さで突出させ、金属固定被膜11で固定された直径10〜20nmのカーボンナノチューブ10とその表面を金属被膜12でコーティングした。
図5は、本発明の第5の実施形態に係る微小接触式プローバにおけるプローブ9の概略を示した模式図である。本発明に係るプローブ9は、基板5より突出したカンチレバー3先端に取り付けられたホルダー2と、そのホルダー2より50〜100nmの長さで突出させ、金属固定被膜11で固定された金属ナノワイヤ13からなる。
図6は、本発明の第6の実施形態に係る微小接触式プローバにおけるプローブ9の概略を示した模式図である。本発明に係るプローブ9は、基板5より突出したカンチレバー3自由端よりも先端部が突出しているホルダー2と、そのホルダー2より50〜100nmの長さで突出させ、金属固定被膜11で固定された金属ナノワイヤ13からなる。
図7は、本発明の第7の実施形態に係る微小接触式プローバにおける接触検知型プローブ15の概略を示した模式図である。本発明に係る接触検知型プローブ15は、基板5より突出したカンチレバー3先端に設置されたチップ4と、カンチレバー3および基板5の一面にコーティングされた圧電体14からなる。チップ4は実施形態1〜6のいずれのホルダー2および探針を利用することが可能である。
図13は、本発明の第8の実施形態に係る微小接触式プローバの概略を示した模式図である。本発明に係る微小接触式プローバは、実施例1〜6と同様にSEM機構を有しているが、トンネル電流による探針−測定サンプル間の接触検知を適用していることから、ステージ接地33と、トンネル電流フィードバック制御機構34と、半導体パラメータアナライザ23との切り換えスイッチ35が設置されている点で異なる。
図15は、本発明の第9の実施形態に係る微小接触式プローバの概略を示した模式図である。本発明に係る微小接触式プローバは、実施例1〜8と同様にSEM機構を有しておらず、光てこによる探針−測定サンプル間の接触検知を適用していることから、フォトディテクタ36と、半導体レーザ37と、AFMフィードバック制御回路38と、AFM制御コンピュータ39が設置されている点で異なる。
図12に比較例を示す。従来型の微小接触式プローバは金属探針のみで構成される。このため、探針の先端極率半径が小さくなるにつれ接触時の荷重に耐えられなくなり、数回のプロービングで探針先端部が折れ曲がったり、磨耗したりする。そこでカーボンナノチューブ10のような剛性,弾性ともに高い探針をプローバ応用する。しかしながら、SEM観察方向がサンプルに対して垂直である場合、プローブ9のサンプルへのアプローチは垂直方向からでは不可能であり、45°の傾斜をもつため、カーボンナノチューブ10はサンプルと接触した瞬間に数nN程度の力で曲がってしまう。すなわち接触応力が小さいため接触抵抗は高いままである。
2 ホルダー
3 カンチレバー
4 チップ
5 基板
6 加振ピエゾ
7 プローブホルダー
8 微動・粗動スキャナー
9 プローブ
10 カーボンナノチューブ
11 金属固定被膜
12 金属被膜
13 金属ナノワイヤ
14 圧電体
15 接触検知型プローブ
16 電子源
17 収束電子レンズ
18 電子顕微鏡制御コンピュータ
19 モニタ
20 測定サンプル
21 ステージ
22 プローブ専用コントローラ
23 半導体パラメータアナライザ
24 排気装置
25 接触検知型プローブ専用コントローラ
26 筐体
27 走査コイル
28 焦点コイル
29 対物レンズ
30 鏡筒
31 二次電子検出器
32 電子線
33 ステージ接地
34 トンネル電流フィードバック制御機構
35 切り換えスイッチ
36 フォトディテクタ
37 半導体レーザ
38 AFMフィードバック制御回路
39 AFM制御コンピュータ
Claims (7)
- 電子顕微鏡内で観察しながら複数のプローブ間に電気信号を与え、被検体の電気物性を評価する微小接触式プローバにおいて、前記プローブはカンチレバーを有し、
前記カンチレバーは、先端に設置されたホルダーより突出した探針と、
各カンチレバーを被検体に対して水平方向に振動させる加振機構と、
前記加振機構を駆動する信号発生装置と、
カンチレバー間に所望の電圧を印加する電圧源と、
前記電圧源によって所望の電圧が印加されたプローブ間に流れる電流を計測する電流計と、を具備することを特徴とする微小接触式プローバ。 - 請求項1に記載の微小接触式プローバにおいて、前記探針は、前記ホルダーより長さ50〜100nmで突出した金属または金属を含むナノワイヤやナノピラーからなることを特徴とする微小接触式プローバ。
- 請求項1に記載の微小接触式プローバにおいて、前記探針は、前記ホルダーより長さ50〜100nmで突出した金属を被覆したカーボンナノチューブからなることを特徴とする微小接触式プローバ。
- 請求項1に記載の微小接触式プローバにおいて、前記ホルダーの先端部は前記カンチレバーの自由端よりも突出しており、カンチレバー上部より前記ホルダーおよび前記探針の先端を確認することを特徴とする微小接触式プローバ。
- 請求項1に記載の微小接触式プローバにおいて、前記カンチレバーは、金属またはシリコンに金属被膜した導電性のカンチレバーからなることを特徴とする微小接触式プローバ。
- 請求項1に記載の微小接触式プローバにおいて、前記カンチレバーに圧電体を設け、カンチレバーの撓み量を前記圧電体の電気信号によって検知することを特徴とする微小接触式プローバ。
- 請求項1に記載の微小接触式プローバにおいて、前記プローバにトンネル電流のフィードバック機構を設け、探針−測定サンプル間の接触をトンネル電流によって検知することを特徴とする微小接触式プローバ。
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