JP2010210449A - 導電性ナノチューブ探針、それを用いた電気特性評価装置及び走査型プローブ顕微鏡 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】導電性基材に金属で接合されたカーボンナノチューブに円錐状の均一な金属被膜を配置し、ナノチューブ探針の先端から根元に向けて電気抵抗を低減させる。金属被膜は、2層以上の多層金属被膜であってもよい。円錐型の構造によって、プロービングで接触する先端部のみ細径化された低抵抗な導電性ナノチューブ探針を提供できる。
【選択図】 図1
Description
しかしながら、カーボンナノチューブ表面との密着性のよい金属被膜を均一に形成することは容易ではない。
図1は、本発明の第1の実施形態に係る導電性ナノチューブ探針1の構成を示した模式図である。本発明に係る導電性ナノチューブ探針1は、導電性基材2と、カーボンナノチューブ3と、金属被膜4とを有する。金属被膜4は、金属ナノ粒子402で形成されている。
本発明の第2の実施形態に係る導電性ナノチューブ探針1は、導電性基材2と、カーボンナノチューブ3と、金属被膜4とを有する。本実施形態の導電性ナノチューブ探針1は、図1と同様の構成である。金属被膜4は、低融点金属403で形成されている。
図4は、本発明の第3の実施形態に係る導電性ナノチューブ探針1の概略を示した模式図である。本実施形態に係る導電性ナノチューブ探針1は、導電性基材2と、カーボンナノチューブ3と、電子ビーム堆積法(EBID:Electron Beam Induced Deposition)によるEBID薄膜6(金属被膜)とを有する。
駆体を用いる。電子ビーム堆積法で形成されたEBID薄膜6は金属ナノ粒子402の凝集体構造となっており、タングステンの場合は約1nm、金の場合は約10nmの粒径の粒子が凝集した構造が得られる。
図6は、本発明に係る第4の実施形態に係る導電性ナノチューブ探針1の概略を示した模式図である。本発明に係る導電性ナノチューブ探針1は、導電性基材2と、カーボンナノチューブ3と、高純度金属被膜604とを有する。ここで言う、高純度金属被膜604とは、金属含有量が90wt%以上の金属から構成される膜を意味する。
図8は、本発明の第5の実施形態に係る導電性ナノチューブ探針1の概略を示した模式図である。本発明に係る導電性ナノチューブ探針1は、導電性基材2と、カーボンナノチューブ3と、電子ビーム堆積法による金属被膜44と、多層金属被膜7とを有する。本実施形態の金属被膜44は、電子ビーム堆積法(電子ビームを集中して照射したサンプル表面に金属被膜を形成する方法)により形成されるが、電子散乱などの影響によって、ビームを照射した部分よりも外側(100nm程度)に、薄く金属被膜が形成されている。
図10は、本発明に係る導電性ナノチューブ探針1を用いた電気特性評価装置8の模式図である。実施例1〜5のいずれかの方法で作製されたナノチューブ探針4本を探針ホルダー804に接続しコントローラ801を用いてピエゾ駆動させる。電子ビーム603で観察しながら、探針先端をステージ803上の測定サンプル805(試料)の表面に接触させて、半導体パラメータアナライザ802を用いて四端子法により測定サンプル805の電気伝導特性を測定することが可能となる。
図11は、本発明に係る導電性ナノチューブ探針1を用いた走査型プローブ顕微鏡9の模式図である。実施例1〜5のいずれかの方法で作製された導電性ナノチューブ探針1をピエゾ駆動探針ホルダー901に接続し、原子間力やトンネル電流を利用し測定サンプル902の表面に近接させ走査することによって、コントローラ903でフィードバック制御しながらサンプル表面形状のプロファイルや、サンプル表面の電気伝導特性をモニタ904に出力することが可能となる。
図11は、本発明の第8の実施形態に係る導電性ナノチューブ探針1の構成を示した模式図である。本発明に係る導電性ナノチューブ探針1は、導電性基材2と、先鋭化部分10を有したカーボンナノチューブ3と、多層金属被膜7とを有する。
スパッタ,抵抗加熱蒸着、または電子ビーム蒸着を用いて、先鋭化したカーボンナノチューブ3および導電性基材2を覆うようにして金属を被膜することで、円錐型を保持したまま、多層金属被膜7の作製が可能となり、電気抵抗を数10〜100Ωに低減することが可能となる。さらにカーボンナノチューブ3は先鋭化部分10を有しているため、機械的強度向上のために直径が50nm以上のカーボンナノチューブ3を採用しても、32nmノード以降のデバイスへのプロービングが可能となる。
2 導電性基材
3 カーボンナノチューブ
4 金属被膜
5 電極
6 EBID薄膜
7 多層金属被膜
8 電気特性評価装置
9 走査型プローブ顕微鏡
10 先鋭化部分
401 金属ナノ粒子分散液
402 金属ナノ粒子
403 低融点金属
601 ノズル
602 有機金属ガス
603 電子ビーム
604 高純度金属被膜
605 プラズマ照射
701 スパッタ装置
702 ターゲット
801,903 コントローラ
802 半導体パラメータアナライザ
803 ステージ
804 探針ホルダー
805 測定サンプル
901 ピエゾ駆動探針ホルダー
902 測定サンプル
904 モニタ
Claims (10)
- 円錐状の導電性ナノチューブ探針であって、
導電性基材と、
前記導電性基材に接合されたカーボンナノチューブと、
前記導電性基材及びカーボンナノチューブを覆う円錐状の金属被膜と、
を具備することを特徴とする導電性ナノチューブ探針。 - 円錐状の導電性ナノチューブ探針であって、
導電性基材と、
前記導電性基材に接合された円錐状のカーボンナノチューブと、
前記導電性基材及びカーボンナノチューブを覆う金属被膜と、
を具備することを特徴とする導電性ナノチューブ探針。 - 前記金属被膜は、2層以上の多層金属被膜であることを特徴とする請求項1または2に記載の導電性ナノチューブ探針。
- 前記多層金属被膜は、Pt/Tiから構成されることを特徴とする請求項3に記載の導電性ナノチューブ探針。
- 請求項1乃至4のいずれか1項に記載の導電性ナノチューブ探針が接続された探針ホルダーと、
前記探針ホルダーをピエゾ駆動させるコントローラと、
ピエゾ駆動する前記導電性ナノチューブ探針をステージ上の測定試料に接触させて、前記測定試料の電気伝導特性を測定する半導体パラメータアナライザと、
を具備することを特徴とする電気特性評価装置。 - 請求項1乃至4のいずれか1項に記載の導電性ナノチューブ探針が接続された探針ホルダーと、
前記探針ホルダーをピエゾ駆動させるコントローラと、
ピエゾ駆動する前記導電性ナノチューブ探針をステージ上の測定試料を走査させ、前記測定試料の電気伝導特性を出力するモニタと、
を具備することを特徴とする走査型プローブ顕微鏡。 - 導電性基材に、金属ナノ粒子または融点100〜200℃の低融点金属を塗布する工程と、
前記導電性基材にカーボンナノチューブを接触させた状態で、通電加熱で前記金属ナノ粒子又は低融点金属を拡散させ、前記導電性基材及びカーボンナノチューブを覆うように円錐状の金属被膜を形成する工程と、
を有することを特徴とする導電性ナノチューブ探針の製造方法。 - 導電性基材にカーボンナノチューブを接触させた状態で、電子ビーム堆積法((Electron Beam Induced Deposition)により、前記導電性基材及びカーボンナノチューブを覆うように円錐状の金属被膜を形成する工程と、
を有することを特徴とする導電性ナノチューブ探針の製造方法。 - 導電性基材にカーボンナノチューブを接触させた状態で、電子ビーム堆積法((Electron Beam Induced Deposition)により、前記導電性基材とカーボンナノチューブ接触部を覆うように金属被膜を形成する工程と、
スパッタ,抵抗加熱蒸着、または電子ビーム蒸着を用いて、カーボンナノチューブおよび導電性基材を覆うようにして金属を被膜する工程と、
を有することを特徴とする導電性ナノチューブ探針の製造方法。 - さらに、金属被膜をプラズマ照射する工程を有することを特徴とする請求項7乃至9のいずれか1項に記載の導電性ナノチューブ探針の製造方法。
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