JP2010281474A - 溶解炉 - Google Patents

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Akira Mukai
昌 向井
Kinichiro Numata
金一郎 沼田
Chikashi Miyamoto
千佳司 宮本
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Abstract

【課題】溶解炉でアルミ等の処理材を溶湯の渦流によって攪拌して溶解させる場合に、渦流の流速を向上すること。
【解決手段】アルミスクラップ等の溶解炉の渦室をドーナツ形状にすること。より詳しくは、溶湯を貯留する溶解室1と、渦流によって処理材を溶解する渦室2とを備え、溶解室の側面に渦室を設け、渦室から連通口3を介して溶解室に溶湯が出入りする溶解炉において、内部空間を平面視円形状とする渦室の中央部に耐火物からなる芯棒7を設置し、渦室と芯棒とによって平面視ドーナツ状の攪拌空間24を形成してあること。
【選択図】 図1

Description

本発明は、主にアルミニウム合金の処理材(切削粉、飲料缶、破砕材や長尺材等)を溶解する溶解炉に関する。
上記処理材を溶解する溶解炉として、溶解貯留部と材料投入部(渦室)を区画して形成し、材料投入部と溶解貯留部との間を連通する通穴が底の左右に設けられたものが存在する(例えば特許文献1参照。)。そして、これは、材料投入部で溶湯の渦流を発生させるために、材料投入部の外周側にリニアモータ式の移動磁界発生装置(非接触型スターラ)を設置してある。
特開2006−10214号公報
ところで、渦室は平面視円形状(円柱状)の攪拌空間を備えているが、渦室で発生する溶湯の攪拌力を向上させるために、溶湯の渦流の流速を向上することが業界として望まれている。
そのほかに、溶解炉を運転して処理材を溶解すると、例えば処理材がアルミであればアルミ以外に含まれる不純物及び酸化アルミ等の滓が浮遊し、その滓が渦室の壁に付着する。運転を継続すると、滓が堆積してゆき、放っておくと運転不可能な量にまで堆積する。このような場合、通常は俗にブレイカーと言われる解体用の機械によって滓を除去するが、除去作業においては作業空間が広いことが望まれる。
本発明は上記実情を考慮して開発されたもので、その解決課題はアルミ等の処理材を渦室内の溶湯の渦流によって攪拌して溶解させる場合に、少なくとも渦流の流速を向上することである。
本発明は、溶湯を貯留する溶解室と、渦流によって処理材を溶解する渦室とを備え、溶解室の側面に渦室を設け、渦室から連通口を介して溶解室に溶湯が出入りし、渦室の外周側に非接触型スターラを設置してある溶解炉を前提とする。
そして、請求項1の発明は、平面視ドーナツ状の周壁を備える渦室の底壁の中央部に耐火物からなる芯棒を設置し、渦室と芯棒とによって平面視ドーナツ状の攪拌空間を形成してあることを特徴とする。
「平面視ドーナツ状の攪拌空間」とは、周壁と芯棒とが同心円状に設置された場合の真円のドーナツ状に限らず、周壁の中央部ではあるが中心から偏心した位置に芯棒が設置された場合の偏心したドーナツ状も含まれるものとする。偏心量はあくまで渦流が発生する程度に限られる。また、芯棒は、渦室内で着脱不能に固着されたものであってもよい。但し、渦室内に付着した滓の除去作業を容易にできるようにするには、渦室内は広い方が良く、それには次のようにすることが望ましい。即ち、請求項2の発明のように、芯棒を着脱可能に設置してあることである。
芯棒の高さについては問わないが、渦流は中心に向かうにつれて低くなるものであるので、渦室と同じ高さにする必然性は無く、例えば、次のようにすることもできる。即ち、請求項3の発明のように、芯棒を渦室の周壁よりも低く形成してあることである。
請求項1の発明は、芯棒を渦室の中央部に設置することにより、渦室と芯棒とによって平面視ドーナツ状の攪拌空間を形成するものである。従って、渦の回転する形状に攪拌空間が近似したものとなり、渦の流速が向上し、攪拌効率が向上する。また、芯棒は設置箇所が渦室の単なる内側ではなく、渦室の中央部、つまり渦流の中心に位置するので、溶湯によって損傷し難いものである。
請求項2の発明によれば、芯棒が着脱可能に設置してあるので、芯棒を撤去して渦室内を広くすることができ、渦室内に付着した滓の除去作業が容易になる。また、芯棒が損傷した場合には、芯棒の交換作業も容易に行える。従って、交換を迅速に行えば、溶解炉の運転を殆ど停止させないことも可能となる。
請求項3の発明によれば、中央部が低く周囲が高くなるという渦の形状に合わせて、芯棒を渦室の周壁よりも低く形成してあるので、従来よりも流速の向上を図りながらも、芯棒を必要以上に高く形成せずに済み、製造コストが安価になる。
(イ)〜(ハ)図は、溶解炉の第一例を示す横断面図、A−A線断面図、B−B線断面図である。 芯棒を渦室の中央から偏心した位置に設置した状態を示す断面図である。 溶解炉の第二例を示す要部横断面図である。 溶解炉の第三例を示す要部縦断面図である。
溶解炉の基本的構造の一例を図1に基づいて説明する。溶解炉は、溶湯を貯留する溶解室1と、処理材を渦流で溶解する渦室2とを備え、渦室2を溶解室1の側面に設け、溶解室1の内部空間と渦室2の内部空間が連通する一対の連通口3、3を設けてあるものである。また、渦室2の外周側に沿って平面視半円状の非接触型スターラ8を設置してある。以下、溶解室1、渦室2、非接触型スターラ8の順で詳述する。
溶解室1とは、溶湯を貯留する部屋のことである。溶解室1は、周りを囲む側壁11と、側壁11で囲まれた空間の上方を覆う天井壁12と、側壁11で囲まれた空間の底を塞ぐ床壁13とから構成される。また、溶解室1は、バーナ4を上部に取り付けてある。
側壁11は、矩形であって、その一側面(図では右側面)の前後幅中央部に渦室2を連続して設けてある。
さらに、側壁11は、渦室2を設置した面以外の面の上部に、溶解室1の内外を連通する一つのノロ掻出口5aを設けてある。つまり側壁11は、その上部において平面視コ字状に形成され、図では左側面がノロ掻出口5aとなっており、ノロ掻出口5aの外側を一枚のノロ掻出用の扉5で開閉可能に覆ってある。
床壁13は、その大半を略水平面とし、その一部(図では左側)において、ノロ掻出口5aに向かって徐々に高くなるスロープ13aを設けてある。略水平面としたのは、溶解室1の底は水平に対して僅かな斜度が付いており、この斜度を利用して溶湯を最終的には全部回収するからである。
渦室2とは、投入したアルミなどの処理材を渦流によって溶解する部屋のことである。渦室2は、有底円筒形状の渦室本体21と、渦室本体21の上端開口を塞ぐ開閉可能な蓋(図示せず)とから構成される。渦室本体21は、円筒形状(平面視ドーナツ状)の周壁22と、周壁22の下端を塞ぐ円形状の底壁23とから構成され、円柱状(平面視円形)の内部空間を形成してある。円筒形状である周壁22の一部分は溶解室1の側壁11によって形成される。また、平面視ドーナツ形状の周壁22の一部には外向きの嵌合穴26が形成されており、この嵌合穴26にレジスタ6の外側部分が嵌り込んでいる。一方、レジスタ6の内側部分は、V字状に先鋭となる形状であって、内向きに突出している。レジスタ6によって、溶湯の流れが複雑になり、攪拌効果が向上する。なお、底壁23は、溶解室1の床壁13に連続して略水平に設けられている。
また、溶解室1の内部空間と渦室2の内部空間が連通する一対の連通口3、3は、渦室本体21の下部であって、円周方向に間隔をあけて設けてある。各連通口3の延在方向は、平面視して、溶解室1の側壁11のうち渦室2を設けた面と直交する方向であって、渦室本体21の内周円の接線方向に一致している。各連通口3の底面は、溶解室1及び渦室本体21の内部の底面と面一に合わせてある。
非接触型スターラ8は、移動磁界発生装置、即ち移動磁界を発生して溶湯に回転力を与えるもので、例えば電磁石(リニアモータ)式である。リニアモータに三相交流を印加して移動磁界を発生させ、その移動磁界が渦室2内の溶湯に作用して誘導電流を流し、それによって溶湯に渦巻力を発生させ、溶湯が攪拌される。
本発明の溶解炉の第一例は、図1に示すように、平面視ドーナツ状の周壁22を有する渦室2の底壁23の中央部に平面視円形状の芯棒7を同心円状に且つ着脱可能に設置し、渦室2と芯棒7によって囲まれる攪拌空間24を平面視して真円のドーナツ状に形成してある。以下、芯棒7について詳述する。
芯棒7は、中空ではなく充実の円柱状である。芯棒7は、溶解室1及び渦室2と同様の耐火物(耐火キャスタブル等)である。この芯棒7は、渦室2の底壁23の中央部に単に置くことにより、着脱可能に設置される。芯棒7の上端は渦室2の周壁22と同じ高さにしてある。この場合、渦室2の周壁22の上端に被せる蓋は、芯棒7の上端に被さるようにしてある。
また、上述した溶解炉の第一例は、非接触型スターラ8を駆動すると、溶湯に渦流が発生する。そして、渦流となった溶湯の中に、渦室2の上方から処理材を投入して溶解する。芯棒7は着脱可能な構造なので、溶湯で損傷した場合には、交換できる。また、図2に示すように、渦室2の底壁23の中央部に芯棒7を中心Cから偏心して設置し、渦室2と芯棒7によって囲まれる攪拌空間24を平面視して偏心したドーナツ状に形成することもできる。このようにすることによって、渦室2内で発生する渦を図1のものと比べて、幾分異なったものとすることができる。
本発明の溶解炉の第二例は、図3に示すように、レジスタ6を芯棒7の外周部に着脱可能に嵌め込み、レジスタ6の先鋭な外側部分を攪拌空間24に突出させたものである。レジスタ6が損傷した場合には、芯棒7を引き上げてレジスタ6だけを交換することもできる。
本発明の溶解炉の第三例は、図4に示すように、芯棒7を末広がりのテーパ形状としたものである。これもドーナツ状の攪拌空間24の一例である。また、芯棒7の上端は、渦室2の周壁22の上端よりも低くしてある。
本発明の溶解炉は上記実施例に限定されない。例えば、非接触型スターラ8は、例えば永久磁石を用いるものであっても良い。永久磁石式の非接触型スターラ8は、円周方向にN極とS極が交互に配置された永久磁石を渦室2の外周に沿って移動させることにより、移動磁界を発生させるものである。また、芯棒7は、第二例とは逆に、尻すぼみのテーパ形状としても良い。なお、芯棒7は、溶湯の渦流によって動かない重量があれば、中空であっても、充実していてもよい。
1溶解室 2渦室
3連通口 4バーナ
5扉 5aノロ掻出口
6レジスタ
7芯棒 8非接触型スターラ
11側壁 12天井壁
13床壁 13aスロープ、
21渦室本体 22周壁
23底壁 24攪拌空間
26嵌合穴
C中心

Claims (3)

  1. 溶湯を貯留する溶解室(1)と、渦流によって処理材を溶解する渦室(2)とを備え、溶解室(1)の側面に渦室(2)を設け、渦室(2)から連通口(3)を介して溶解室(1)に溶湯が出入りし、渦室(2)の外周側に非接触型スターラ(8)を設置してある溶解炉において、
    平面視ドーナツ状の周壁(22)を備える渦室(2)の底壁(23)の中央部に耐火物からなる芯棒(7)を設置し、渦室(2)と芯棒(7)とによって平面視ドーナツ状の攪拌空間(24)を形成してあることを特徴とする溶解炉。
  2. 芯棒(7)を着脱可能に設置してあることを特徴とする請求項1記載の溶解炉。
  3. 芯棒(7)を渦室(2)の周壁(22)よりも低く形成してあることを特徴とする請求項1又は2記載の溶解炉。
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