JP2010266560A - プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置のマスク装着方法、及び表示用パネル基板の製造方法 - Google Patents
プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置のマスク装着方法、及び表示用パネル基板の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010266560A JP2010266560A JP2009116190A JP2009116190A JP2010266560A JP 2010266560 A JP2010266560 A JP 2010266560A JP 2009116190 A JP2009116190 A JP 2009116190A JP 2009116190 A JP2009116190 A JP 2009116190A JP 2010266560 A JP2010266560 A JP 2010266560A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask
- arm
- substrate
- exposure apparatus
- holder
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
【解決手段】マスク2の下面の周辺部を複数のアーム36で支持し、各アーム36を上昇させ、複数のアーム36によりマスク2を持ち上げて、マスク2をマスクホルダ20に押し当てる。マスク2をマスクホルダ20に押し当てた後、各アーム36を上昇させる力を小さくし、マスクホルダ20に押し当てられたマスク2の側面を押して、マスク2の位置決めを行う。マスク2の位置決めを行った後、各アーム36を上昇させる力を大きくし、マスクホルダ20に設けた吸着手段21により、マスク2の上面の周辺部を真空吸着する。
【選択図】図13
Description
2 マスク
3 ベース
4 Xガイド
5 Xステージ
6 Yガイド
7 Yステージ
8 θステージ
9 チャック支持台
10 チャック
11 Z−チルト機構
20 マスクホルダ
21 吸着溝
22,25 エア通路
23 負圧ガラス
26,27,28 台
30 マスクリフタ
31 固定ベース
32 ガイド
33 移動ベース
34 移動用エアシリンダ
35 アームスタンド
36 アーム
37 方向制御弁
38a,38b 速度制御弁
39 レギュレータ
40 引張コイルバネ
41 取り付けベース
42 昇降ガイド
43 昇降ベース
44 昇降用エアシリンダ
45 ローラスタンド
46 ローラ
47 方向制御弁
48a,48b,48c,48d 速度制御弁
49 電空レギュレータ
50 基準ピンユニット
51 固定ベース
52 ガイド
53 移動ブロック
54 モータ
55 軸継手
56 軸受
57a ボールねじ
57b ナット
58 アーム
59 基準ピン
60 プレート
61 ガイド
70 押圧ピンユニット
71 固定ベース
73 移動ブロック
74 エアシリンダ
78 アーム
79 押圧ピン
80 プレート
81 ガイド
Claims (6)
- 基板を支持するチャックと、マスクを保持するマスクホルダとを備え、マスクと基板との間に微小なギャップを設けて、マスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ露光装置において、
マスクの下面の周辺部を支持する複数のアーム及び各アームを昇降させる複数の昇降機構を有し、複数のアームによりマスクを持ち上げて、マスクを前記マスクホルダに押し当てるマスク装着手段と、
各昇降機構が各アームを昇降させる力を制御する制御手段と、
前記マスクホルダに押し当てられたマスクの側面を押して、マスクの位置決めを行う位置決め手段と、
前記マスクホルダに設けられ、マスクの上面の周辺部を真空吸着する吸着手段とを備え、
前記制御手段は、前記位置決め手段がマスクの位置決めを行うとき、各昇降機構が各アームを上昇させる力を、複数のアームによりマスクを持ち上げるとき及び前記吸着手段がマスクの上面の周辺部を真空吸着するときよりも小さくすることを特徴とするプロキシミティ露光装置。 - 前記昇降機構は、前記アームを昇降させるエアシリンダを有し、
前記制御手段は、前記エアシリンダに供給される圧縮空気の圧力を制御する電空レギュレータを有することを特徴とする請求項1に記載のプロキシミティ露光装置。 - 基板を支持するチャックと、マスクを保持するマスクホルダとを備え、マスクと基板との間に微小なギャップを設けて、マスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ露光装置のマスク装着方法であって、
マスクの下面の周辺部を複数のアームで支持し、
各アームを上昇させ、複数のアームによりマスクを持ち上げて、マスクをマスクホルダに押し当て、
各アームを上昇させる力を小さくし、マスクホルダに押し当てられたマスクの側面を押して、マスクの位置決めを行い、
各アームを上昇させる力を大きくし、マスクホルダに設けた吸着手段により、マスクの上面の周辺部を真空吸着することを特徴とするプロキシミティ露光装置のマスク装着方法。 - エアシリンダを用いて各アームを上昇させ、
電空レギュレータを用いてエアシリンダに供給される圧縮空気の圧力を制御することを特徴とする請求項3に記載のプロキシミティ露光装置のマスク装着方法。 - 請求項1又は請求項2に記載のプロキシミティ露光装置を用いて基板の露光を行うことを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。
- 請求項3又は請求項4に記載のプロキシミティ露光装置のマスク装着方法を用いてマスクホルダにマスクを装着して、基板の露光を行うことを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009116190A JP5334674B2 (ja) | 2009-05-13 | 2009-05-13 | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置のマスク装着方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009116190A JP5334674B2 (ja) | 2009-05-13 | 2009-05-13 | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置のマスク装着方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010266560A true JP2010266560A (ja) | 2010-11-25 |
JP5334674B2 JP5334674B2 (ja) | 2013-11-06 |
Family
ID=43363600
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009116190A Expired - Fee Related JP5334674B2 (ja) | 2009-05-13 | 2009-05-13 | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置のマスク装着方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5334674B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010266561A (ja) * | 2009-05-13 | 2010-11-25 | Hitachi High-Technologies Corp | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置のマスクの位置ずれ防止方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
CN102608873A (zh) * | 2011-01-21 | 2012-07-25 | 优志旺电机株式会社 | 工作台及使用该工作台的曝光装置 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1152583A (ja) * | 1997-08-08 | 1999-02-26 | Hitachi Electron Eng Co Ltd | プロキシミティ露光装置 |
JP2000241995A (ja) * | 1999-02-22 | 2000-09-08 | Hitachi Electronics Eng Co Ltd | プロキシミティ露光方法及び装置 |
JP2003015310A (ja) * | 2001-07-02 | 2003-01-17 | Hitachi Electronics Eng Co Ltd | プロキシミティ露光装置及びその装置におけるフォトマスク変形補正方法 |
JP2007171723A (ja) * | 2005-12-26 | 2007-07-05 | Hitachi High-Technologies Corp | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
JP2010266561A (ja) * | 2009-05-13 | 2010-11-25 | Hitachi High-Technologies Corp | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置のマスクの位置ずれ防止方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
-
2009
- 2009-05-13 JP JP2009116190A patent/JP5334674B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1152583A (ja) * | 1997-08-08 | 1999-02-26 | Hitachi Electron Eng Co Ltd | プロキシミティ露光装置 |
JP2000241995A (ja) * | 1999-02-22 | 2000-09-08 | Hitachi Electronics Eng Co Ltd | プロキシミティ露光方法及び装置 |
JP2003015310A (ja) * | 2001-07-02 | 2003-01-17 | Hitachi Electronics Eng Co Ltd | プロキシミティ露光装置及びその装置におけるフォトマスク変形補正方法 |
JP2007171723A (ja) * | 2005-12-26 | 2007-07-05 | Hitachi High-Technologies Corp | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
JP2010266561A (ja) * | 2009-05-13 | 2010-11-25 | Hitachi High-Technologies Corp | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置のマスクの位置ずれ防止方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010266561A (ja) * | 2009-05-13 | 2010-11-25 | Hitachi High-Technologies Corp | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置のマスクの位置ずれ防止方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
CN102608873A (zh) * | 2011-01-21 | 2012-07-25 | 优志旺电机株式会社 | 工作台及使用该工作台的曝光装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5334674B2 (ja) | 2013-11-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5219599B2 (ja) | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の基板吸着方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP4799172B2 (ja) | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP2010128079A (ja) | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の基板支持方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP5334675B2 (ja) | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置のマスクの位置ずれ防止方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP5334536B2 (ja) | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置のマスク搬送方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP2007171723A (ja) | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP5334674B2 (ja) | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置のマスク装着方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP5392946B2 (ja) | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置のマスク搬送方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP5052438B2 (ja) | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の基板搬送方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP5320552B2 (ja) | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置のマスク保持方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP2013205709A (ja) | 露光装置 | |
JP5878821B2 (ja) | パターン形成装置 | |
JP5977044B2 (ja) | 印刷装置および印刷方法 | |
JP2011123102A (ja) | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の基板温度調節方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP5178464B2 (ja) | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の基板ロード/アンロード方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP5441770B2 (ja) | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置のギャップ制御方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP5371859B2 (ja) | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の基板支持方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP5894466B2 (ja) | パターン形成方法およびパターン形成装置 | |
KR102552738B1 (ko) | 회전 가능한 마그넷 부재를 포함하는 얼라인 장치 및 그 제어 방법 | |
JP2010175661A (ja) | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置のチャック高さ調整方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP5392945B2 (ja) | プロキシミティ露光装置、及びプロキシミティ露光装置の負圧室の天板搬送方法 | |
JP2011123103A (ja) | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置のギャップ制御方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP2012032498A (ja) | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の基板ロード/アンロード方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP2012234021A (ja) | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置のアライメント方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP2014148386A (ja) | 基材搬送装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20111005 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130718 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130730 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130730 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5334674 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |