JP2010262997A - レジスト膜形成装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】本発明は、フォトマスクやウエハの加工工程で表面にレジスト膜を形成するレジスト膜形成装置に関し、レジスト膜形成の均一化を図り、品質向上、歩留り向上を図ることを目的とする。
【解決手段】基板保持回転手段12の基板保持部13にフォトマスク15を嵌合保持する凹部14が形成され、当該基板保持部13の凹部14以外の部分の上方に当該フォトマスク15に応じた開口部17が形成されたエア流路形成部16を設けることで回転により開口部17側から基板保持部13との間隙gを介して外周側にエア流路を形成させる構成とする。
【選択図】 図1
【解決手段】基板保持回転手段12の基板保持部13にフォトマスク15を嵌合保持する凹部14が形成され、当該基板保持部13の凹部14以外の部分の上方に当該フォトマスク15に応じた開口部17が形成されたエア流路形成部16を設けることで回転により開口部17側から基板保持部13との間隙gを介して外周側にエア流路を形成させる構成とする。
【選択図】 図1
Description
本発明は、フォトマスクやウエハの加工工程で表面にレジスト膜を形成するレジスト膜形成装置に関する。
近年、半導体製造においては種々の工程で処理対象であるフォトマスク等の基板を回転させて処理するものがあり、例えば、フォトリソグラフィ工程等で回転される基板にレジストを塗布すること等が行われる。特に、レジスト塗布工程では基板を回転させてレジストを均一に塗布させることが要請されている。
図4に、従来のレジスト膜形成装置の説明図を示す。図4に示すレジスト膜形成装置は、特許文献1で開示されているもので、図4(A)、(B)に示すように、スピンナーヘッド102上に下治具103が設けられ、当該スピンナーヘッド102及び下治具103には吸引孔が形成されている。当該下治具103上には、図4(B)に示すように、基板106を嵌合させる開口部104が形成された上治具104が設けられる。
そして、上治具104の開口部105に基板106を嵌合させて吸引孔により吸引固定し、当該基板106上にレジストを液下させてスピンナーヘッド102を回転させるものである。基板106上に液下されたレジストは、遠心力により当該基板106上で拡がらせ、表面全体にレジスト膜を形成するものである。
しかしながら、上記のようなスピンナーによるレジスト塗布は、図4(C)に示すように、レジスト液の表面張力により回転の遠心力では振り切れないレジスト液がコーナ部やエッジ部に溜まることにより厚膜領域を形成させることとなり、均一な膜形成が困難であるという問題がある。
そこで、本発明は上記課題に鑑みなされたもので、レジスト膜形成の均一化を図り、品質向上、歩留りの向上を図るレジスト膜形成装置を提供することを目的とする。
上記課題を解決するために、請求項1の発明では、所定の基板上にレジスト液を塗布をして回転させることでレジスト膜を形成する処理を行うレジスト膜形成装置において、前記基板を嵌合保持する凹部が形成されて回転される基板保持部を備え、当該凹部が、嵌合された基板の処理面が当該基板保持部の上面位置より同等以上の高さとさせる深さで形成された基板保持回転手段と、前記基板保持部の凹部以外の部分の上方であって、当該凹部に対応した開口部が形成されて当該凹部に嵌合された基板の処理面より高い位置に設けられ、回転により当該開口部側から当該基板保持部との間隙を介して外周側にエア流路を形成させるエア流路形成部と、を有する構成とする。
請求項2の発明では、前記基板は、角型で四隅をテーパ状に形成させる構成である。
請求項1の発明によれば、基板保持回転手段の基板保持部に基板を嵌合保持する凹部が形成され、当該基板保持部の凹部以外の部分の上方に当該基板に応じた開口部が形成されたエア流路形成部を設けることで回転により開口部側から基板保持部との間隙を介して外周側にエア流路を形成させる構成とすることにより、基板上に塗布されたレジスト液の外周縁側で生じる溜まりを当該エア流路形成部によって生じたエア流路で分散させることから、基板の外周縁側でのレジスト液溜まりを防止して基板面にレジスト膜を均一に形成させることができ、これによって品質向上、歩留りの向上を図ることができるものである。
請求項2の発明によれば、基板が角型である場合に、四隅をテーパ形状とさせることにより、四隅部分でのレジスト液溜まりを効率的に防止することができ、基板面にレジスト膜を均一に形成することができるものである。
以下、本発明の実施形態を図により説明する。本実施形態では、レジスト膜として、リソグラフィ処理によるフォトマスクや半導体製造プロセスによる集積回路の形成のためにレジスト材で形成されるものの他に、保護層形成のためのコーティング材で形成されるものをも含む概念である。また、本実施形態では、基板として角型のフォトマスクを例として説明するが、ウエハや他の保護膜形成対象物に対しても適用することができるものである。
図1に、本発明に係るレジスト膜形成装置の一部構成図を示す。図1(A)〜(C)において、レジスト膜形成装置11は、ここでは、基板として角型のフォトマスクの表面に対して回転によりレジスト膜を形成させる処理に使用されるもので、基板保持回転手段12の一部を構成する基板保持部13は、例えば円筒形状(断面が矩形状などの多角形状でもよい)のもので、表面にフォトマスク15を嵌合保持する凹部14が形成されて図示しない回転手段により回転されるもので、当該凹部14が、嵌合されたフォトマスク15の処理面が当該基板保持部13の上面位置より同等以上の高さ(ここでは、同じ高さ)とさせる深さで形成されたものである。
なお、当該基板保持部13の凹部14内には、例えば可動爪などの固定手段や、当該凹部14内からフォトマスク15を出し入れするための上下可動面がその底部に設けられるものである。これらは、本発明の要旨に直接的に関係しないことから、図示を省略する。
また、金属やプラスチック等による簿板で形成されるエア流路形成部16が用意される。当該エア流路形成部16は、図1(B)に示すように、フォトマスク15(基板保持部13の凹部14)に応じた開口部17が形成され、基板保持部13上に取り付けるための手段として例えばピン18が所定数設けられる。
このエア流路形成部16は、基板保持部13の凹部14以外の部分に、上記ピン18に対応した係合穴13Aが形成されているもので、図1(C)に示すように、当該係合穴13Aにピン18を係合させることで当該基板保持部13上に設けられる。このときのエア流路形成部16は、少なくとも上記基板保持部13の凹部14に嵌合されたフォトマスク15の処理面より高い位置に設けられるもので、当該基板保持部13の表面とで間隙gを形成させる。当該間隙gの高さは、回転数に応じて、例えば0.5mm〜5mmで設定される。すなわち、基板保持部13が回転されたときに、遠心力でエア流路形成部16とによって遠心ファンとなり、開口部17側から当該基板保持部13とで形成された間隙gを介して外周側にエア流路を発生させる機能を果たすものである。
そして、図1(A)に示すように、基板保持部13の凹部14にフォトマスク15が嵌合保持されたときに当該フォトマスク15の表面上にレジスト液19が塗布され、回転されることによって塗布されたレジスト液19が遠心力で当該フォトマスク15の表面上に拡散されるものである。そして、ベーキングによりレジスト膜が形成されるものである。
そこで、図2に、図1のレジスト膜形成の原理説明図を示す。図2において、基板保持部13の凹部14に嵌合保持されたフォトマスク15の表面にレジスト液19が塗布され、当該基板保持部13が回転されると、盛られたレジスト液19は回転による遠心力で拡散され、そのときに基板保持部13の凹部14以外の部分の表面とエア流路形成部16とで形成された間隙g部分で、外周側(基板保持部13の側面側)に対して当該エア流路形成部16の開口部17側が負圧となることから、当該フォトマスク15の外周縁(四隅やエッジ部分)側から基板保持部13の外周側に遠心ファンによりエア流路が発生される。
これによって、フォトマスク15の外周縁(四隅やエッジ部分)でレジスト液19の表面張力による溜まり部分が、形成されたエア流路のエアにより外周側(基板保持部13の側面側)に強制的に吹き飛ばされる状態となる。そのためには、上記エア流路形成部16が、凹部14に嵌合されたフォトマスク15の処理面より高い位置に設けられることによって基板保持部13の表面とで間隙gを形成させることが必要である。また、基板保持部13に形成される凹部14は、フォトマスク15を嵌合保持したときに当該処理表面が当該基板保持部13の凹部14以外の表面より同等以上の高さとする深さに形成する必要があるものである。
このように、フォトマスク15の処理表面の外周縁側で生じるレジスト液溜まりを当該エア流路形成部によって生じたエア流路で分散させることから、フォトマスク15の処理表面上でレジスト膜を均一に形成させることができ、これによって品質向上、歩留りの向上を図ることができるものである。
なお、上記実施形態では、上記エア流路形成部16を一体的に形成させた場合を示したが、例えば、基板保持部13の凹部14以外の表面形状に沿って、複数の部材により全体としてフォトマスク15に応じた開口部17を形成するように構成して上記間隙gを形成させることとしてもよい。
次に、図3に、本発明に係るレジスト膜形成におけるフォトマスクの他の形態の説明図を示す。図3(A)は、フォトマスク15の四隅をテーパ状に形成したものである。そして、図3(B)に示すように、このようなフォトマスク15を嵌合保持する基板保持部13の凹部14の深さを、フォトマスク15の処理表面が当該基板保持部13の凹部14以外の表面と同等とさせるように形成してもよいが、ここでは特に高くなるように形成させた場合を示す。
そして、図3(A)に示すフォトマスク15を凹部14に嵌合保持させ、レジスト液19を塗布して回転させると、四隅部分ではテーパ形状によってレジスト液19の表面張力が小さくなり、これに合わせてエア流路形成部16で形成されたエア流路によって、四隅部分でのレジスト液溜まりを効率的に防止することができ、基板面にレジスト膜を均一に形成することができるものである。
本発明のレジスト膜形成装置は、フォトマスクやウエハの加工処理工程で形成されるレジスト膜(保護膜を含む)を回転によって形成する場合に利用可能である。
11 レジスト膜形成装置
12 回転基板保持手段
13 基板保持部
14,17 開口部
15 フォトマスク
16 エア流路形成部
12 回転基板保持手段
13 基板保持部
14,17 開口部
15 フォトマスク
16 エア流路形成部
Claims (2)
- 所定の基板上にレジスト液を塗布をして回転させることでレジスト膜を形成する処理を行うレジスト膜形成装置において、
前記基板を嵌合保持する凹部が形成されて回転される基板保持部を備え、当該凹部が、嵌合された基板の処理面が当該基板保持部の上面位置より同等以上の高さとさせる深さで形成された基板保持回転手段と、
前記基板保持部の凹部以外の部分の上方であって、当該凹部に対応した開口部が形成されて当該凹部に嵌合された基板の処理面より高い位置に設けられ、回転により当該開口部側から当該基板保持部との間隙を介して外周側にエア流路を形成させるエア流路形成部と、
を有することを特徴とするレジスト膜形成装置。 - 請求項1記載のレジスト膜形成装置であって、前記基板は、角型で四隅をテーパ状に形成されていることを特徴とするレジスト膜形成装置。
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KR20240030149A (ko) | 2022-08-30 | 2024-03-07 | 아레텍 주식회사 | 반도체 블랭크마스크 및 포토마스크 제조용 포토레지스트 도포장비의 회전테이블장치 |
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2009
- 2009-04-30 JP JP2009111016A patent/JP2010262997A/ja active Pending
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