JP2010252095A - Image sensor module - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce in size an image sensor module by effectively utilizing the dead space in the module. <P>SOLUTION: The present invention relates to an image sensor module comprising a first wiring board which has a first surface and a second surface and in which a first wiring pattern having a first land is provided at a first surface side; a solid-state image sensor chip in which a functional surface having a photodetection part and a non-photodetection part including a terminal pad is provided on a side opposite to a side of the first wiring board and which is provided on the first surface of the first wiring board; a second wiring board which has a first surface and a second surface, in which a second wiring pattern having a second land is provided at a first surface side and a third wiring pattern having a third land is provided at a second surface side, in which the second surface side is turned toward a side of the solid-state image sensor chip and the third land is electrically connected with the terminal pad of the solid-state image sensor chip via a conductive pad, and which is provided on the non-photodetection part of the solid-state image sensor chip; and a connection member for electrically connecting the second land of the second wiring board and the first land of the first wiring board. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、固体撮像素子チップと配線板とを有する撮像素子モジュールに係り、特に、その小型化に好適な撮像素子モジュールに関する。   The present invention relates to an image sensor module having a solid-state image sensor chip and a wiring board, and more particularly to an image sensor module suitable for miniaturization thereof.

携帯電話や携帯型PCなどの携帯型電子機器は近年、撮像入力部を備えたものが多い。撮像入力部は、固体撮像素子チップとその周辺部品を実装した配線板、およびレンズユニットで主に構成される(以下、部品としての撮像入力部を「撮像素子モジュール」という)。このような携帯型電子機器の撮像素子モジュールでは、一般に、さらに小型のスペースに収まり、なおかつさらに多画素による撮像に対応することが要求されている。固体撮像素子チップでは、近年、500万画素や800万画素のものが市場投入されている。配線板としては、その多層化や、パターンの高密度レイアウト化、部品の内蔵化などによりその小型化対応が図られている。   In recent years, many portable electronic devices such as cellular phones and portable PCs include an imaging input unit. The imaging input unit mainly includes a wiring board on which a solid-state imaging device chip and its peripheral components are mounted, and a lens unit (hereinafter, the imaging input unit as a component is referred to as an “imaging device module”). In such an image sensor module of a portable electronic device, it is generally required that the image sensor module can be accommodated in a smaller space and can cope with imaging with a larger number of pixels. In recent years, solid-state image sensor chips having 5 million pixels or 8 million pixels have been put on the market. The wiring board is designed to be miniaturized by multilayering, high-density layout of patterns, built-in components, and the like.

撮像素子モジュールの技術として、特開2004−120615公報に開示のものがある。この開示では、固体撮像素子チップの周縁外側に周辺部品を備えた配線板が用いられている。このような構成においては、固体撮像素子チップの多画素化によってそのチップサイズの大型化すると、必然的に2次元的な全体としての大きさが増す。また、その配線板はモジュールとして求められる周辺回路部分をすべて担うため層数が多くなりがちであり、これによりモジュールとして厚さ方向のサイズもあまり低減が効かない。   Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-120615 discloses an image sensor module technology. In this disclosure, a wiring board having peripheral components on the outer periphery of the solid-state imaging device chip is used. In such a configuration, if the chip size is increased by increasing the number of pixels of the solid-state imaging device chip, the overall size of the two-dimensional image inevitably increases. Further, since the wiring board bears all the peripheral circuit portions required as a module, the number of layers tends to increase, and as a result, the size of the module in the thickness direction does not decrease much.

特開2004−120615号公報JP 2004-120615 A

本発明は、上記の事情を考慮してなされたもので、固体撮像素子チップと配線板とを有する撮像素子モジュールにおいて、モジュール内のデッドスペースを活かしてその小型化に資することが可能な撮像素子モジュールを提供することを目的とする。   The present invention has been made in consideration of the above circumstances, and in an image sensor module having a solid-state image sensor chip and a wiring board, an image sensor capable of contributing to downsizing by utilizing a dead space in the module. The purpose is to provide modules.

上記の課題を解決するため、本発明の一態様である撮像素子モジュールは、第1の面と第2の面とを有し、第1のランドを有する第1の配線パターンを前記第1の面側に備えた第1の配線板と、受光部と端子パッドを含む非受光部とを有する機能面を有し、該機能面が前記第1の配線板の側とは反対の側に向けられて前記第1の配線板の前記第1の面上に設けられた固体撮像素子チップと、第1の面と第2の面とを有し、第2のランドを有する第2の配線パターンを前記第1の面側に備え、第3のランドを有する第3の配線パターンを前記第2の面の側に備え、該第2の面の側が前記固体撮像素子チップの側に向けられかつ前記第3のランドと前記固体撮像素子チップの前記端子パッドとが導電バンプを介して電気的に接続されて、該固体撮像素子チップの前記非受光部上に設けられた第2の配線板と、前記第2の配線板の前記第1の面の前記第2のランドと前記第1の配線板の前記第1の面の前記第1のランドとを電気的に接続する接続部材とを具備することを特徴とする。   In order to solve the above-described problem, an imaging element module which is one embodiment of the present invention includes a first wiring pattern having a first surface and a second surface, and having a first land. A functional surface having a first wiring board provided on the surface side and a non-light receiving portion including a light receiving portion and a terminal pad, the functional surface being directed to a side opposite to the first wiring board side; And a second wiring pattern having a solid state imaging device chip provided on the first surface of the first wiring board, a first surface, a second surface, and a second land. Is provided on the first surface side, a third wiring pattern having a third land is provided on the second surface side, and the second surface side is directed to the solid-state imaging device chip side, and The third land and the terminal pad of the solid-state imaging device chip are electrically connected via a conductive bump, and the solid-state imaging is performed. A second wiring board provided on the non-light-receiving portion of the element chip; the second land on the first face of the second wiring board; and the first face of the first wiring board. And a connecting member for electrically connecting the first land.

すなわち、この撮像素子モジュールでは、モジュールとして求められる周辺回路部分を、固体撮像素子チップの下側に位置する第1の配線板と、固体撮像素子チップの非受光部上に設けられる第2の配線板とに分担的に担わせることができる。したがって、モジュールとしての2次元的な大きさを支配している第1の配線板の小型化が可能である。また第1の配線板に必要な回路パターン構成も軽減され、配線層数の低減により第1の配線板の厚みも薄くすることができる。   That is, in this imaging device module, the peripheral circuit portion required as a module is divided into a first wiring board located below the solid-state imaging device chip and a second wiring provided on the non-light-receiving portion of the solid-state imaging device chip. It can be shared with the board. Therefore, it is possible to reduce the size of the first wiring board that controls the two-dimensional size as a module. Further, the circuit pattern configuration necessary for the first wiring board is also reduced, and the thickness of the first wiring board can be reduced by reducing the number of wiring layers.

一方、第1の配線板の簡素化に伴い導入された、固体撮像素子チップ上の第2の配線板は、固体撮像素子チップの非受光部上に設けられるため、モジュールとしての受光機能を害さない。また、固体撮像素子チップの受光部上に結像させるためのレンズは、この固体撮像素子チップから離間して設けられるため、固体撮像素子チップの非受光部上に第2の配線板を設けても、モジュールとして厚みの増加にならない。   On the other hand, the second wiring board on the solid-state imaging device chip, which has been introduced with the simplification of the first wiring board, is provided on the non-light-receiving portion of the solid-state imaging element chip. Absent. Further, since the lens for forming an image on the light receiving portion of the solid-state image pickup device chip is provided apart from the solid-state image pickup device chip, a second wiring board is provided on the non-light receiving portion of the solid-state image pickup device chip. However, the thickness does not increase as a module.

したがって、モジュール内のデッドスペースを活かし小型化が実現された撮像素子モジュールとなる。   Therefore, the imaging element module is realized by making use of the dead space in the module to achieve miniaturization.

本発明によれば、固体撮像素子チップと配線板とを有する撮像素子モジュールにおいて、モジュール内のデッドスペースを活かしてその小型化に資することが可能な撮像素子モジュールを提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, in the image pick-up element module which has a solid-state image pick-up element chip | tip and a wiring board, the image pick-up element module which can contribute to size reduction using the dead space in a module can be provided.

本発明の一実施形態に係る撮像素子モジュールの構成を模式的に示す断面図。1 is a cross-sectional view schematically showing a configuration of an image sensor module according to an embodiment of the present invention. 図1中に示した固体撮像素子チップ30と配線板20との位置関係の一例を示す平面図。FIG. 2 is a plan view illustrating an example of a positional relationship between a solid-state imaging element chip 30 and a wiring board 20 illustrated in FIG. 1. 図1中に示した固体撮像素子チップ30と配線板20との位置関係の別の例を示す平面図。FIG. 6 is a plan view showing another example of the positional relationship between the solid-state imaging device chip 30 and the wiring board 20 shown in FIG. 1. 図1中に示した配線板10の具体的構成例を模式的に示す断面図。Sectional drawing which shows typically the example of a specific structure of the wiring board 10 shown in FIG. 図1中に示した配線板20の具体的構成例を模式的に示す断面図。Sectional drawing which shows typically the example of a specific structure of the wiring board 20 shown in FIG.

本発明の実施態様として、前記第2の配線板が、前記固体撮像素子チップの前記非受光部上で位置を互いに異ならせて複数存する、とすることができる。固体撮像素子チップの非受光部は、通常、受光部を取り囲むように設けられているので、第2の配線板は、これらの非受光部上で位置を互いに異ならせて複数設けることが可能である。いずれの場所もデッドスペースであり、これにより、モジュール内のデッドスペースを活かした小型化を一層進めることができる。   As an embodiment of the present invention, a plurality of the second wiring boards may be present at different positions on the non-light receiving portion of the solid-state imaging device chip. Since the non-light-receiving portion of the solid-state imaging device chip is usually provided so as to surround the light-receiving portion, a plurality of second wiring boards can be provided at different positions on these non-light-receiving portions. is there. Every place is a dead space, and this makes it possible to further reduce the size by utilizing the dead space in the module.

また、実施態様として、前記第2の配線板が、前記固体撮像素子チップの前記受光部に向かい合う位置に開口部を有するロの字形の板形状を有して、該固体撮像素子チップの前記非受光部上に設けられている、とすることができる。これは、固体撮像素子チップの受光部を取り囲むように設けられた非受光部に対応してロの字形に第2の配線板を形状設定したものである。これによれば、モジュール内のデッドスペースの活用増進が実現するとともに、第2の配線板上に固体撮像素子チップをフリップチップ接続してこれら間を電気的、機械的に接続する工程がより容易になる。   Further, as an embodiment, the second wiring board has a square-shaped plate shape having an opening at a position facing the light receiving portion of the solid-state image sensor chip, and the non-solid state of the solid-state image sensor chip. It can be provided on the light receiving part. In this case, the second wiring board is set in a square shape corresponding to a non-light-receiving portion provided so as to surround the light-receiving portion of the solid-state imaging device chip. According to this, the utilization of the dead space in the module can be improved, and the process of flip-chip connecting the solid-state imaging device chip on the second wiring board and electrically and mechanically connecting them can be facilitated. become.

また、実施態様として、前記固体撮像素子チップの前記受光部に対向して設けられたレンズを含むレンズユニットをさらに具備する、とすることができる。レンズユニットを備えることで付加価値を高めることができる。また、レンズを固体撮像素子チップの受光部に対して適切な位置に配置するように組み立てたモジュールとして、市場供給できる。   In addition, as an embodiment, it may further include a lens unit including a lens provided to face the light receiving portion of the solid-state imaging element chip. Adding a lens unit can increase added value. Further, it can be supplied to the market as a module assembled so that the lens is arranged at an appropriate position with respect to the light receiving portion of the solid-state imaging device chip.

また、実施態様として、前記第2の配線板が、前記第1の面上に、または埋め込まれて部品が実装された配線板である、とすることができる。第2の配線板に部品実装をすることで、第1の配線板における部品実装の負担を減らすことが可能である。これにより、モジュールとしての2次元的な大きさを支配している第1の配線板のさらなる小型化が可能である。   As an embodiment, the second wiring board may be a wiring board on which the components are mounted on the first surface or embedded. By mounting components on the second wiring board, it is possible to reduce the burden of component mounting on the first wiring board. Thereby, the further miniaturization of the 1st wiring board which controls the two-dimensional magnitude | size as a module is possible.

また、実施態様として、前記第1の配線板が、該第1の配線板の前記第2の面に外部接続用の第4のランドを有する第4の配線パターンを備える、とすることができる。第1の配線板の裏面にこのように外部接続用のランドを設けることで、外部接続のための部材として例えば別の基板やリードフレームが不要であり、モジュール小型化に好ましい。   As an embodiment, the first wiring board may include a fourth wiring pattern having a fourth land for external connection on the second surface of the first wiring board. . By providing the external connection lands on the back surface of the first wiring board in this manner, for example, a separate substrate or a lead frame is unnecessary as a member for external connection, which is preferable for downsizing of the module.

また、実施態様として、前記第1の配線板または第2の配線板が、導電性組成物を有する縦方向の電気的接続路を備える、とすることができる。導電性組成物を有する縦方向の電気的接続路は、スルーホールを利用するめっき層による縦方向の電気的接続路より小さな領域に形成可能であり、モジュールとしての小型化に寄与できる。また、より複雑なパターン設計にも向いている。   Further, as an embodiment, the first wiring board or the second wiring board may include a vertical electrical connection path having a conductive composition. The vertical electrical connection path having the conductive composition can be formed in a smaller area than the vertical electrical connection path by the plating layer using the through hole, and can contribute to miniaturization as a module. It is also suitable for more complex pattern design.

また、実施態様として、前記接続部材が、ボンディングワイヤである、とすることができる。一般にボンディングワイヤは固体撮像素子チップの端子パッド上への接合に多用される部材であり、この態様はこれを第1、第2の配線板間の電気的な接続用部材として利用するものである。   As an embodiment, the connecting member can be a bonding wire. Generally, a bonding wire is a member frequently used for bonding a solid-state imaging device chip onto a terminal pad, and this embodiment uses this as a member for electrical connection between the first and second wiring boards. .

以上を踏まえ、以下では本発明の実施形態を図面を参照しながら説明する。図1は、本発明の一実施形態に係る撮像素子モジュールの構成を模式的に示す断面図である。図1に示すように、この撮像素子モジュールは、配線板10、配線板20、固体撮像素子チップ30、ボンディングワイヤ41、導電バンプ42、アンダーフィル樹脂51、レンズ61、レンズ保持部62を有する。   Based on the above, embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing the configuration of an image sensor module according to an embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, the imaging element module includes a wiring board 10, a wiring board 20, a solid-state imaging element chip 30, a bonding wire 41, a conductive bump 42, an underfill resin 51, a lens 61, and a lens holding portion 62.

配線板10は、ランド11を含む表面の配線パターンと、ランド12を含む裏面の配線パターンとを少なくとも備え、不図示の縦方向導電体により、これらの配線パターンは電気的に接続可とされている。配線板20は、ランド21を含む表面の配線パターンと、この配線パターン上に表面実装された部品(表面実装型受動素子部品)22と、ランド23を含む裏面の配線パターンとを少なくとも有している。表裏面の配線パターンは、不図示の縦方向導電体により電気的に接続可とされている。固体撮像素子チップ30は、受光部31を備えており、受光部31のある面の面端近くには端子パッド32が位置している。   The wiring board 10 includes at least a wiring pattern on the front surface including the lands 11 and a wiring pattern on the back surface including the lands 12, and these wiring patterns are electrically connectable by a not-shown vertical conductor. Yes. The wiring board 20 includes at least a wiring pattern on the front surface including the land 21, a component (surface mounted passive element component) 22 mounted on the surface of the wiring pattern, and a wiring pattern on the back surface including the land 23. Yes. The wiring patterns on the front and back surfaces can be electrically connected by a not-shown vertical conductor. The solid-state imaging device chip 30 includes a light receiving unit 31, and a terminal pad 32 is positioned near the surface end of the surface on which the light receiving unit 31 is provided.

配線板10と固体撮像素子チップ30との間は、不図示の接着剤の層が配され、それら間を固定している。また、配線板10および配線板20のそれぞれ表裏面には、不図示のソルダーレジストの層がある。このソルダーレジストの層は、はんだ、導電バンプまたはボンディングワイヤなどの導電材が接続され得るランド上を除いて全面的に形成された保護膜である。配線板10および配線板20については、より具体的な構成の例を後述する(図4、図5)。   Between the wiring board 10 and the solid-state image sensor chip 30, an adhesive layer (not shown) is disposed and fixed therebetween. In addition, a solder resist layer (not shown) is provided on each of the front and back surfaces of the wiring board 10 and the wiring board 20. This solder resist layer is a protective film formed on the entire surface except on a land to which a conductive material such as solder, conductive bump or bonding wire can be connected. About the wiring board 10 and the wiring board 20, the example of a more concrete structure is mentioned later (FIG. 4, FIG. 5).

配線板10は、その面ほぼ中央に固体撮像素子チップ30を載置、保持する基板として機能するとともに、電気的には、固体撮像素子チップ30の端子パッド32から導電バンプ32、配線板20、ボンディングワイヤ41を介して、さらにランド11を経てランド12に至る経路を仲介している仲介基板である。ランド12が、この撮像素子モジュールとしての外部接続用の端子になる。このように配線板10に外部接続用の端子を設ければ、モジュールとしてコンパクトなまとまりにできる。ランド11は、配線板10の、固体撮像素子チップ30が位置する場所の周辺外側に設けられている。   The wiring board 10 functions as a substrate on which the solid-state imaging device chip 30 is placed and held at substantially the center thereof, and electrically, from the terminal pads 32 of the solid-state imaging device chip 30, the conductive bumps 32, the wiring board 20, It is an intermediary substrate that mediates a route from the land 11 to the land 12 via the bonding wire 41. The land 12 serves as a terminal for external connection as the image sensor module. If the terminals for external connection are provided on the wiring board 10 in this way, the module can be made compact. The land 11 is provided outside the periphery of the place where the solid-state imaging device chip 30 is located on the wiring board 10.

配線板20は、固体撮像素子チップ30の受光部31上を避けてその機能面上に配置された部品実装基板である。電気的には、配線板10上のランド11からボンディングワイヤ41を介してランド21の経路で配線板10と相互に接続され、さらに、固体撮像素子チップ30の端子パッド32から導電バンプ32を介してランド23の経路で固体撮像素子チップ30とも相互に接続されている。部品実装の形態としては、その表面に部品22が実装されている形態に限らず、板内に内蔵(埋め込み)で設けられていてもよい。   The wiring board 20 is a component mounting board disposed on the functional surface of the solid-state imaging device chip 30 so as to avoid the light receiving portion 31. Electrically, the land 11 on the wiring board 10 is connected to the wiring board 10 via the bonding wire 41 and the path of the land 21, and is further connected to the terminal pad 32 of the solid-state imaging device chip 30 via the conductive bump 32. The solid-state image sensor chip 30 is also connected to each other through the path of the land 23. The form of component mounting is not limited to the form in which the component 22 is mounted on the surface thereof, and may be provided in the board (embedded).

固体撮像素子チップ30は、機能面に、光電変換素子がアレー状に集積形成された受光部31があり、機能面にはさらに、受光部31の素子を制御、駆動するための回路が集積形成された領域(以下、非受光部という場合がある)も確保されている。受光部31は機能面のほぼ中央に位置し、非受光部は平面的に見て受光部31を取り囲む枠状に位置している。非受光部の外側端部近傍には、固体撮像素子チップ30の端子である端子パッド32が形設されている。上記の配線板20は、固体撮像素子チップ30の非受光部上であって、少なくとも端子パッド32に重なる領域上に設けることができる。   The solid-state imaging device chip 30 has a light receiving unit 31 in which photoelectric conversion elements are integrated and formed on the functional surface, and a circuit for controlling and driving the elements of the light receiving unit 31 is further integrated on the functional surface. An area (hereinafter also referred to as a non-light receiving portion) that has been made is also secured. The light receiving part 31 is located at the approximate center of the functional surface, and the non-light receiving part is located in a frame shape surrounding the light receiving part 31 when seen in a plan view. A terminal pad 32 that is a terminal of the solid-state imaging device chip 30 is formed in the vicinity of the outer end portion of the non-light receiving portion. The wiring board 20 can be provided on the non-light-receiving portion of the solid-state image sensor chip 30 and at least on a region overlapping the terminal pad 32.

ボンディングワイヤ41は、配線板20上のランド21と配線板10上のランド11とを電気的に導通させるように接続する接続部材である。その材質は例えば金(Au)であり、ランド11、ランド21との接続には、周知の金ボンディング技術を利用できる。なお、ボンディングワイヤ41は、配線板20上のランド21と配線板10上のランド11とを電気的に導通させる目的としては、これに代えて、例えば、ポリイミド樹脂基材を有するフィルム状配線基板、フラットケーブルなどを用いることも可能である。   The bonding wire 41 is a connection member that connects the land 21 on the wiring board 20 and the land 11 on the wiring board 10 so as to be electrically connected. The material is gold (Au), for example, and a well-known gold bonding technique can be used for connection with the land 11 and the land 21. For the purpose of electrically connecting the lands 21 on the wiring board 20 and the lands 11 on the wiring board 10, the bonding wire 41 is replaced with, for example, a film-like wiring board having a polyimide resin base material. It is also possible to use a flat cable or the like.

導電バンプ42は、配線板20のランド23と固体撮像素子チップ30の端子パッド32とを電気的に導通させる部材である。導電バンプ42も、その材質は例えば金(Au)である。導電バンプ42を介する配線板20と固体撮像素子チップ30との電気的接続の状態は、いわゆるフリップチップ接続技術を適用して得ることができる。   The conductive bumps 42 are members that electrically connect the lands 23 of the wiring board 20 and the terminal pads 32 of the solid-state image sensor chip 30. The material of the conductive bumps 42 is, for example, gold (Au). The state of electrical connection between the wiring board 20 and the solid-state imaging device chip 30 via the conductive bumps 42 can be obtained by applying a so-called flip chip connection technique.

すなわち、例えば、固体撮像素子チップ30の端子パッド32上に、ワイヤボンディングツールを用いて金線をボンディング接続し、接続の根元近くで金線を切断することにより、まず端子パッド32上に導電バンプ42を形設することができる。そして、アンダーフィル樹脂51とすべきペースト状樹脂材料を固体撮像素子チップ30上に塗布、またはアンダーフィル樹脂51とすべきフィルム状樹脂材料を配線板20の下面上に貼付してから、固体撮像素子チップ30と配線板20とを図示の位置関係で積層方向に加圧、さらに加熱することでこれら間を図示のように電気的かつ機械的に接続することができる。   That is, for example, by connecting a gold wire on the terminal pad 32 of the solid-state imaging device chip 30 by using a wire bonding tool and cutting the gold wire near the base of the connection, first, a conductive bump is formed on the terminal pad 32. 42 can be shaped. Then, a paste-like resin material to be used as the underfill resin 51 is applied on the solid-state imaging element chip 30 or a film-like resin material to be used as the underfill resin 51 is pasted on the lower surface of the wiring board 20. The element chip 30 and the wiring board 20 can be electrically and mechanically connected as illustrated by pressurizing and heating the element chip 30 and the wiring board 20 in the stacking direction in the illustrated positional relationship.

レンズ保持部62は、レンズ61の位置が固体撮像素子チップ30の受光部31から所望の間隔になるように保持するものである。レンズ61は、その光軸が固体撮像素子チップ30の受光部31の面に直交するように設けられていて、固体撮像素子チップ30が位置する側とは反対側からの光を導いて受光部31上に像を結像させる。レンズ61とレンズ保持部62とでレンズユニットが構成される。   The lens holding unit 62 holds the lens 61 so that the position of the lens 61 is at a desired distance from the light receiving unit 31 of the solid-state imaging device chip 30. The lens 61 is provided so that the optical axis thereof is orthogonal to the surface of the light receiving unit 31 of the solid-state image sensor chip 30, and guides light from the side opposite to the side where the solid-state image sensor chip 30 is located. An image is formed on 31. The lens 61 and the lens holding part 62 constitute a lens unit.

以上説明の撮像素子モジュールは、固体撮像素子チップ30の下に位置する配線板10が担うべき機能の一部が、配線板20に移されている。すなわち、モジュールとして必要な、固体撮像素子チップ30の周辺回路部分が、配線板20に設けられている。したがって、配線板10をより小面積にすることができる。配線板10は図示でわかるようにモジュールとしての平面的な面積を支配しているので、配線板20を設けることによるモジュールの平面的な小型化の効果は大きい。   In the imaging element module described above, a part of the functions that the wiring board 10 located under the solid-state imaging element chip 30 should bear is transferred to the wiring board 20. That is, the peripheral circuit portion of the solid-state image sensor chip 30 necessary as a module is provided on the wiring board 20. Therefore, the wiring board 10 can be made smaller. Since the wiring board 10 dominates the planar area of the module as can be seen in the figure, the effect of miniaturizing the module by providing the wiring board 20 is great.

また、配線板10のパターン設計はより簡易に済ませることも可能になる。このため、配線層数の多い配線板の使用を避けることができる。これにより、配線板10を薄くして、モジュールとしてより薄型化することにも寄与できる。   In addition, the pattern design of the wiring board 10 can be made simpler. For this reason, use of a wiring board with many wiring layers can be avoided. As a result, the wiring board 10 can be made thinner to contribute to making the module thinner.

配線板20は、固体撮像素子チップ30の受光部31とレンズ61との離間で必要な空間であって、そのうちの非受光部上の領域に配されている。したがって、受光部31とレンズ61間の光学的機能を害することがないことはもちろんのこと、従来のデッドスペースと言える空間への配置なので、モジュールとして何らの大きさ増加をもたらすものでない。   The wiring board 20 is a space necessary for the separation between the light receiving unit 31 and the lens 61 of the solid-state image sensor chip 30, and is arranged in a region on the non-light receiving unit. Therefore, the optical function between the light receiving unit 31 and the lens 61 is not impaired, and it is arranged in a space that can be regarded as a conventional dead space, so that the module does not increase in size.

以上より、この撮像素子モジュールは、平面的にも、厚さ方向にも、その大きさが縮減されたものになる。   As described above, the size of the image pickup device module is reduced both in plan and in the thickness direction.

次に、図2は、図1中に示した固体撮像素子チップ30と配線板20との位置関係の一例を示す平面図である。図2において、図1ですでに説明したものと同一のものには同一符号を付してある。この図2においては、固体撮像素子チップ30と配線板20との位置関係を説明するのを主旨とするので、それ以外の要素は原則として図示省略している。   Next, FIG. 2 is a plan view showing an example of the positional relationship between the solid-state imaging element chip 30 and the wiring board 20 shown in FIG. In FIG. 2, the same components as those already described with reference to FIG. In FIG. 2, the main purpose is to explain the positional relationship between the solid-state imaging device chip 30 and the wiring board 20, and therefore other elements are not shown in principle.

この例では、配線板20は、固体撮像素子チップ30上で受光部31を挟んで向かい合う位置に2枚設けるようにしている。このように複数枚の配線板20を設けることでモジュール内のデッドスペースを活かした小型化の効果は高くなる。同様の考えにより、配線板20は、固体撮像素子チップ30の4辺のうちのいずれか2以上の辺に沿って2枚、または3枚設けることもできる。もちろん、4辺に沿って4枚設けることもできる。   In this example, two wiring boards 20 are provided on the solid-state imaging device chip 30 at positions facing each other with the light receiving unit 31 interposed therebetween. By providing a plurality of wiring boards 20 in this way, the effect of downsizing utilizing the dead space in the module is enhanced. Based on the same idea, two or three wiring boards 20 can be provided along any two or more of the four sides of the solid-state imaging element chip 30. Of course, four sheets can be provided along the four sides.

なお、符号43は、固体撮像素子チップ30上に設けられた端子パッドのうち配線板20との接続に供せられていない端子パッドを、配線板10上のランドに電気的に導通させるためのボンディングワイヤである。このように、固体撮像素子チップ30上に設けられた端子パッドは、配線板20との接続がされない場合には、ボンディングワイヤにより配線板10との接続に供することができる。   Reference numeral 43 denotes a terminal pad that is not provided for connection to the wiring board 20 among terminal pads provided on the solid-state imaging element chip 30 and is electrically connected to a land on the wiring board 10. It is a bonding wire. As described above, the terminal pads provided on the solid-state imaging element chip 30 can be used for connection to the wiring board 10 by the bonding wires when the wiring board 20 is not connected.

固体撮像素子チップ30と配線板20とはフリップチップ接続技術を適用して電気的かつ機械的に接続可能である点をすでに述べたが、図2に示すような固体撮像素子チップ30と配線板20との位置関係の場合には、フリップチップボンダによる加重位置に注意が必要である。すなわち、フリップチップ接続を支える脚となる導電バンプ42の列位置が配線板20の面内で偏っており、配線板20の中央領域を中心に加重をかけると配線板20が傾いて固定されてしまう可能性がある。そこで、フリップチップ接続工程時の加重は、ランド23の存在する列位置を中心に行うのが好ましい。   As described above, the solid-state image sensor chip 30 and the wiring board 20 can be electrically and mechanically connected by applying a flip chip connection technique. In the case of the positional relationship with 20, attention should be paid to the weighted position by the flip chip bonder. That is, the row positions of the conductive bumps 42 that serve as the legs that support the flip chip connection are biased in the plane of the wiring board 20, and when a load is applied around the central region of the wiring board 20, the wiring board 20 is tilted and fixed. There is a possibility. Therefore, it is preferable that the weighting at the time of the flip chip connection process is performed around the row position where the land 23 exists.

次に、図3は、図1中に示した固体撮像素子チップ30と配線板20との位置関係の別の例を示す平面図である。図3において、図1ですでに説明したものと同一のものには同一符号を付してある。図3は、固体撮像素子チップ30と配線板20との位置関係を説明するのを主旨とするので、それ以外の要素は原則として図示省略している。   Next, FIG. 3 is a plan view showing another example of the positional relationship between the solid-state imaging element chip 30 and the wiring board 20 shown in FIG. In FIG. 3, the same components as those already described with reference to FIG. 3 mainly explains the positional relationship between the solid-state imaging device chip 30 and the wiring board 20, and other elements are not shown in principle.

この例では、配線板20は、固体撮像素子チップ30の受光部31に向かい合う位置に開口部のあるロの字形の板形状を有して、固体撮像素子チップ30の非受光部上に設けられている。このようにロの字形に配線板20を設けることでモジュール内のデッドスペースを活かした小型化の効果は高くなる。また、この形態では、配線板20上に固体撮像素子チップ30をフリップチップ接続してこれら間を電気的、機械的に接続する工程がより容易である。すなわち、フリップチップ接続を支える脚となる導電バンプ42の列位置が配線板20の4辺に沿っているので、加重は特定領域に偏らず全体的に均一に行えばよい。   In this example, the wiring board 20 has a square plate shape with an opening at a position facing the light receiving portion 31 of the solid-state image sensor chip 30 and is provided on the non-light-receiving portion of the solid-state image sensor chip 30. ing. Thus, by providing the wiring board 20 in a square shape, the effect of miniaturization utilizing the dead space in the module is enhanced. Further, in this embodiment, the process of flip-chip connecting the solid-state imaging element chip 30 on the wiring board 20 and electrically and mechanically connecting them is easier. That is, since the row positions of the conductive bumps 42 that serve as the legs that support the flip chip connection are along the four sides of the wiring board 20, the weights may be uniformly distributed over the specific area.

次に、図4は、図1中に示した配線板10の具体的構成例を模式的に示す断面図である。図4において、図1中に示した構成要素と同一のものには同一符号を付してある。図1に示した撮像素子モジュールで使用の配線板10は、この図4に示される構成のものには限られない。しかし、例示として説明する。図4では、図1では図示省略されたソルダーレジスト17、18と、配線板10の内部構造とが示されている。   Next, FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing a specific configuration example of the wiring board 10 shown in FIG. 4, the same components as those shown in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals. The wiring board 10 used in the image sensor module shown in FIG. 1 is not limited to the one shown in FIG. However, it will be described as an example. In FIG. 4, solder resists 17 and 18 that are not shown in FIG. 1 and the internal structure of the wiring board 10 are shown.

配線板10は、ランド11を含む表面の配線パターン、ランド12を含む裏面の配線パターン、内層の配線層141、同161、絶縁層14、同15、同16、層間接続体14a、同15a、同16a、ソルダーレジスト17、同18を有する。したがって、この配線板10は、絶縁層14、15、16によって隔てられる配線層が4つ存在する4層基板である。   The wiring board 10 includes a wiring pattern on the front surface including the lands 11, a wiring pattern on the back surface including the lands 12, an inner wiring layer 141, 161, an insulating layer 14, 15, 16, an interlayer connector 14 a, 15 a, 16a, solder resist 17 and 18 are provided. Therefore, the wiring board 10 is a four-layer board having four wiring layers separated by the insulating layers 14, 15, and 16.

絶縁層14、15、16は、それぞれ、例えばガラスエポキシ樹脂でできたリジッドな層である。ランド11を含む表面の配線パターン、ランド12を含む裏面の配線パターン、および内層の配線層141、161は、それぞれ、例えば、銅箔を周知のフォトリソグラフィ技術で所望にパターニング加工して得られた層である。層間接続体14a、15a、16aは、それぞれ、絶縁層14、15、16を貫通して配線パターン間に挟設された導電性組成物の接続体であり、これにより、縦方向の電気的接続路として機能する。ソルダーレジスト17、18は、はんだまたはボンディングワイヤが接続され得るランド上を除いて絶縁層14または絶縁層16上に全面的に形成された保護膜である。   The insulating layers 14, 15, and 16 are rigid layers made of, for example, glass epoxy resin. The wiring pattern on the front surface including the lands 11, the wiring pattern on the back surface including the lands 12, and the wiring layers 141 and 161 on the inner layer are obtained by, for example, performing desired patterning on a copper foil by a known photolithography technique. Is a layer. The interlayer connectors 14a, 15a, and 16a are conductive composition connectors that pass through the insulating layers 14, 15, and 16 and are sandwiched between wiring patterns, respectively. Functions as a road. The solder resists 17 and 18 are protective films formed entirely on the insulating layer 14 or the insulating layer 16 except on lands to which solder or bonding wires can be connected.

製造プロセスを概略説明すると、はじめに、ランド12を含む配線パターン、配線層141、絶縁層14、層間接続体14aを有する部分積層体と、ランド11を含む配線パターン、配線層161、絶縁層16、層間接続体16aを有する部分積層体とがそれぞれ形成される。前者の方の部分積層体で言うと、まず、配線層141とすべき銅箔上に層間接続体14aとすべき、ペースト状の導電性組成物(樹脂中に微細な例えば銀粒子を分散させた組成)をバンプ状に印刷形成する。   The manufacturing process will be briefly described. First, the wiring pattern including the land 12, the wiring layer 141, the insulating layer 14, the partial stacked body including the interlayer connection body 14a, the wiring pattern including the land 11, the wiring layer 161, the insulating layer 16, A partial laminated body having the interlayer connector 16a is formed. In the former partial laminated body, first, a paste-like conductive composition (a fine silver particle, for example, is dispersed in a resin) to be the interlayer connector 14a on the copper foil to be the wiring layer 141. The composition is printed in the form of bumps.

続いて、導電性組成物を乾燥、硬化させ、この導電性組成物のバンプを貫通させるように、絶縁層14とすべきプリプレグを上記銅箔上に積層する。そして、貫通したバンプの頭部にかぶせるように、ランド12を含む配線パターンとすべき、別の銅箔を上記プリプレグ上に積層する。さらに、その状態で積層方向に圧縮加圧、加熱してプリプレグを硬化させて一体化し絶縁層14を中心とする部分積層体に仕上げる。そのあと、その部分積層体の両面の銅箔をパターニングし、ランド12を含む配線パターン、および配線層141を形成する。ランド11を含む配線パターン、配線層161、絶縁層16、層間接続体16aを有する部分積層体についても同様に形成できる。   Subsequently, the conductive composition is dried and cured, and a prepreg to be the insulating layer 14 is laminated on the copper foil so as to penetrate the bumps of the conductive composition. Then, another copper foil to be a wiring pattern including the land 12 is laminated on the prepreg so as to cover the heads of the penetrating bumps. Further, in this state, the prepreg is cured by compressing and pressing in the laminating direction and heated to be integrated into a partial laminated body centered on the insulating layer 14. Thereafter, the copper foils on both sides of the partial laminate are patterned to form a wiring pattern including the land 12 and a wiring layer 141. A partial laminate including the wiring pattern including the land 11, the wiring layer 161, the insulating layer 16, and the interlayer connector 16a can be formed in the same manner.

絶縁層14を中心とする部分積層体においては、両面の銅箔のパターニングに続いて、配線層141上の所定位置に、層間接続体15aとすべき、ペースト状の導電性組成物をバンプ状に印刷形成する。続いて、この導電性組成物を乾燥、硬化させ、この導電性組成物のバンプを貫通させるように、絶縁層15とすべきプリプレグをこの部分積層体上に積層する。   In the partial laminated body centering on the insulating layer 14, after patterning the copper foils on both sides, a paste-like conductive composition to be the interlayer connection body 15 a is formed in a bump shape at a predetermined position on the wiring layer 141. Printed on. Subsequently, the conductive composition is dried and cured, and a prepreg to be the insulating layer 15 is laminated on the partial laminate so as to penetrate the bumps of the conductive composition.

そして、貫通したバンプの頭部にかぶせるように、上記で述べた後者の方の部分積層体を絶縁層15とすべきプリプレグ上に積層する。さらに、その状態で積層方向に圧縮加圧、加熱して絶縁層15とすべきプリプレグを硬化させて一体化し3層の絶縁層を有する積層体を得る。その後、ソルダーレジスト17、18の層をこの積層体両面に形成し、図4に示すような配線板10に仕上げる。   And the latter partial laminated body mentioned above is laminated | stacked on the prepreg which should be used as the insulating layer 15, so that it may cover the head of the penetrated bump. Further, in this state, the prepreg that should be made into the insulating layer 15 is compressed and pressurized in the laminating direction and heated to be integrated to obtain a laminated body having three insulating layers. Thereafter, layers of solder resists 17 and 18 are formed on both sides of the laminate, and finished to a wiring board 10 as shown in FIG.

なお、ランド11を含む表面の配線パターン、およびランド12を含む裏面の配線パターンについては、そのパターニングを後者の積層(全体の積層)のあとに行うこともできる。また、ランド11、12上には、ボンディング接続などの他導体との接続に適するように表面にNi/Auのめっき処理を行うのが適当である。   In addition, about the wiring pattern of the surface containing the land 11, and the wiring pattern of the back surface containing the land 12, the patterning can also be performed after the latter lamination | stacking (entire lamination | stacking). Further, it is appropriate to perform Ni / Au plating on the lands 11 and 12 so that the surfaces thereof are suitable for connection with other conductors such as bonding connection.

このような配線板10は、縦方向の電気的接続路が、導電性組成物印刷による導電性バンプを由来とするものであり、例えば、スルーホールを利用するめっき層による縦方向の電気的接続路より小さな領域に形成可能である。したがって、配線板10として複雑な配線を必要とする場合であっても、配線板10をより小型にまとめることができる。   In such a wiring board 10, the electrical connection path in the vertical direction is derived from the conductive bump printed by the conductive composition printing. For example, the electrical connection in the vertical direction by a plating layer using a through hole. It can be formed in an area smaller than the path. Therefore, even when complicated wiring is required as the wiring board 10, the wiring board 10 can be made smaller.

次に、図5は、図1中に示した配線板20の具体的構成例を模式的に示す断面図である。図5において、図1中に示した構成要素と同一のものには同一符号を付してある。図1に示した撮像素子モジュールで使用の配線板20は、この図5に示される構成のものには限られない。しかし、例示として説明する。図5では、図1では図示省略されたソルダーレジスト261、262と、配線板20の内部構造とが示されている。   Next, FIG. 5 is a cross-sectional view schematically showing a specific configuration example of the wiring board 20 shown in FIG. In FIG. 5, the same components as those shown in FIG. The wiring board 20 used in the imaging element module shown in FIG. 1 is not limited to the one shown in FIG. However, it will be described as an example. FIG. 5 shows solder resists 261 and 262 not shown in FIG. 1 and the internal structure of the wiring board 20.

配線板20は、ランド21を含む表面の配線パターン、ランド23を含む裏面の配線パターン、内層の配線層222、同223、同224、同225、絶縁層201、同202、同203、同204、同205、層間接続体231、同232、同234、同235、スルーホール導電体233、ソルダーレジスト261、同262を有する。また、板内埋設で配線層222にはんだ251を介して実装された表面実装型受動素子部品241を有し、さらに、表面の配線パターン上にも表面実装型受動素子部品22がはんだ22aを介して実装されている。この配線板20は、絶縁層201〜205によって隔てられる配線層が6つ存在する6層基板である。   The wiring board 20 includes a wiring pattern on the front surface including the lands 21, a wiring pattern on the back surface including the lands 23, an inner wiring layer 222, 223, 224, 225, insulating layers 201, 202, 203, and 204. 205, interlayer connection body 231, 232, 234, 235, through-hole conductor 233, solder resist 261, 262. Further, it has a surface-mounted passive element component 241 that is embedded in the board and mounted on the wiring layer 222 via the solder 251. Furthermore, the surface-mounted passive element component 22 is also connected to the surface wiring pattern via the solder 22a. Has been implemented. The wiring board 20 is a six-layer substrate having six wiring layers separated by insulating layers 201 to 205.

絶縁層201〜205は、それぞれ、例えばガラスエポキシ樹脂でできたリジッドな層である。ランド21を含む表面の配線パターン、ランド23を含む裏面の配線パターン、および内層の配線層222〜225は、それぞれ、例えば、銅箔を周知のフォトリソグラフィ技術で所望にパターニング加工して得られた層である。層間接続体231、232、234、235は、それぞれ、絶縁層201、202、204、205を貫通して配線パターン間に挟設された導電性組成物の接続体であり、これにより、縦方向の電気的接続路として機能する。   Each of the insulating layers 201 to 205 is a rigid layer made of, for example, a glass epoxy resin. The wiring pattern on the front surface including the lands 21, the wiring pattern on the back surface including the lands 23, and the inner wiring layers 222 to 225 are each obtained by, for example, performing desired patterning on a copper foil by a known photolithography technique. Is a layer. The interlayer connectors 231, 232, 234, and 235 are conductive composition connectors that pass through the insulating layers 201, 202, 204, and 205 and are sandwiched between the wiring patterns, respectively. It functions as an electrical connection path.

さらに、ソルダーレジスト261、262は、はんだ、導電バンプまたはボンディングワイヤが接続され得るランド上を除いて絶縁層201または絶縁層205上に全面的に形成された保護膜である。スルーホール導電体233は、絶縁層203を貫通するスルーホールの内壁面に銅めっき層として形成された縦方向の電気的接続路である。   Furthermore, the solder resists 261 and 262 are protective films formed on the entire surface of the insulating layer 201 or the insulating layer 205 except on the lands to which solder, conductive bumps or bonding wires can be connected. The through-hole conductor 233 is a vertical electrical connection path formed as a copper plating layer on the inner wall surface of the through-hole that penetrates the insulating layer 203.

この配線板20の製造プロセスは、導電性組成物の層間接続体231、232、234、235を用いている点で前述した配線板10と類似する点が多い。主な違いは、配線層数の違いおよび部品241の内蔵についてである。   The manufacturing process of the wiring board 20 is similar to the wiring board 10 described above in that the interlayer connectors 231, 232, 234, and 235 made of a conductive composition are used. The main difference is the difference in the number of wiring layers and the incorporation of the component 241.

はじめに、ランド21を含む配線パターン、配線層225、絶縁層205、層間接続体235を有する第1の部分積層体と、ランド23を含む配線パターン、配線層222、絶縁層201、層間接続体231を有する第2の部分積層体と、配線層223、配線層224、絶縁層203、スルーホール導電体233を有する第3の部分積層体とがそれぞれ形成される。第1、第2の部分積層体については、図1での部分積層体の説明と同様の要領で形成できる。第3の部分積層体については、通常の両面銅張り基板にスルーホールを形成し、その内壁面に銅のめっき層を成長させてスルーホール導電体233とし、形成することができる。   First, the wiring pattern including the land 21, the wiring layer 225, the insulating layer 205, the first partial stacked body including the interlayer connector 235, the wiring pattern including the land 23, the wiring layer 222, the insulating layer 201, and the interlayer connector 231. And a third partial laminated body having a wiring layer 223, a wiring layer 224, an insulating layer 203, and a through-hole conductor 233, respectively. About the 1st, 2nd partial laminated body, it can form in the way similar to description of the partial laminated body in FIG. The third partial laminate can be formed by forming a through hole in a normal double-sided copper-clad substrate and growing a copper plating layer on the inner wall surface to form a through-hole conductor 233.

第1の部分積層体上には、図4における層間接続体15a、絶縁層15と同様の要領で、層間接続体234、絶縁層(プリプレグ段階)204を形成する。また、第3の部分積層体上にも、図2における層間接続体15a、絶縁層15と同様の要領で、層間接続体232、絶縁層(プリプレグ段階)202を形成する。その後、第3の部分積層体には、部品241の位置に合わせて開口を形成しておく。   On the first partial stacked body, an interlayer connector 234 and an insulating layer (prepreg stage) 204 are formed in the same manner as the interlayer connector 15a and the insulating layer 15 in FIG. Further, the interlayer connector 232 and the insulating layer (prepreg stage) 202 are also formed on the third partial stacked body in the same manner as the interlayer connector 15a and the insulating layer 15 in FIG. Thereafter, an opening is formed in the third partial laminate in accordance with the position of the component 241.

第2の部分積層体上には、配線層222上所定位置に部品241をはんだ251を用いて実装する。これには、通常の部品表面実装と同様に、例えば、はんだ251とすべきクリームはんだのスクリーン印刷、部品241のマウンタによる載置、クリームはんだのリフローという手順を採用できる。   On the second partial laminate, the component 241 is mounted at a predetermined position on the wiring layer 222 by using the solder 251. For this purpose, for example, the procedures of screen printing of cream solder to be the solder 251, placement of the component 241 by the mounter, and reflow of the cream solder can be adopted as in the case of normal component surface mounting.

その後、上記の第2(下)、第3(中)、第1(上)の部分積層体を重ねて配置しプレス機で加圧・加熱する。これにより、絶縁層202とすべきプリプレグおよび絶縁層204とすべきプリプレグが完全に硬化して全体が一体化し、5層の絶縁層を有する積層体を得る。この一体化では加熱により得られる各プリプレグの流動性により、部品241の周りの空間およびスルーホール導電体233内部の空間には各プリプレグが変形進入し空隙は発生しない。また、配線層222、224は、層間接続体232、234にそれぞれ電気的に接続される。   Thereafter, the second (lower), third (middle), and first (upper) partial laminates are stacked and pressed and heated with a press. As a result, the prepreg to be the insulating layer 202 and the prepreg to be the insulating layer 204 are completely cured and integrated as a whole to obtain a laminate having five insulating layers. In this integration, due to the fluidity of each prepreg obtained by heating, each prepreg enters the space around the component 241 and the space inside the through-hole conductor 233 so that no gap is generated. The wiring layers 222 and 224 are electrically connected to the interlayer connectors 232 and 234, respectively.

その後、ソルダーレジスト261、262の層をこの積層体両面に形成する。さらに、部品22を通常の表面実装プロセスを実行して実装し、図5に示すような配線板20に仕上げる。なお、ランド21を含む表面の配線パターン、およびランド23を含む裏面の配線パターンについては、そのパターニングを全体の積層のあとに行うこともできる。また、ランド21、23上には、それぞれ、ボンディング接続、フリップチップ接続に適するように表面にNi/Auのめっき処理を行うのが適当である。   Thereafter, layers of solder resists 261 and 262 are formed on both sides of the laminate. Further, the component 22 is mounted by executing a normal surface mounting process to finish the wiring board 20 as shown in FIG. In addition, about the wiring pattern of the surface containing the land 21, and the wiring pattern of the back surface containing the land 23, the patterning can also be performed after the whole lamination | stacking. Further, it is appropriate to perform Ni / Au plating on the lands 21 and 23 so that the surfaces thereof are suitable for bonding connection and flip chip connection, respectively.

このような配線板20は、縦方向の電気的接続路が、一部を除き導電性組成物印刷による導電性バンプを由来とするものであり、小さな領域に形成可能である。したがって、配線板20として複雑な配線を必要とする場合であっても、配線板20をより小型にまとめることができる。また、部品241の内蔵により、部品の実装密度を向上しており、小さな面積により多くの部品を実装することができる。よって、モジュールとしての2次元的な大きさを支配している配線板10に部品実装されなければならない事態をさらに回避することができ、モジュールとしてのさらなる小型化に貢献する。   In such a wiring board 20, the electrical connection path in the vertical direction is derived from the conductive bumps printed by the conductive composition except for a part thereof, and can be formed in a small area. Therefore, even when complicated wiring is required as the wiring board 20, the wiring board 20 can be made smaller. Further, the mounting density of the components is improved by incorporating the components 241, and a large number of components can be mounted in a small area. Therefore, it is possible to further avoid a situation where components must be mounted on the wiring board 10 that controls the two-dimensional size as a module, and contribute to further miniaturization as a module.

10…配線板(第1の配線板)、11…ランド(第1のランド)、12…ランド(第4のランド)、14…絶縁層、14a…層間接続体(導電性組成物印刷による導電性バンプを由来とする)、15…絶縁層、15a…層間接続体(導電性組成物印刷による導電性バンプを由来とする)、16…絶縁層、16a…層間接続体(導電性組成物印刷による導電性バンプを由来とする)、17…ソルダーレジスト、18…ソルダーレジスト、20…配線板(第2の配線板)、21…ランド(第2のランド)、22…表面実装型受動素子部品、22a…はんだ、23…ランド(第3のランド)、30…固体撮像素子チップ、31…受光部、32…端子パッド、41…ボンディングワイヤ、42…導電バンプ、43…ボンディングワイヤ、51…アンダーフィル樹脂、61…レンズ、62…レンズ保持部、141…配線層(配線パターン)、161…配線層(配線パターン)、201…絶縁層、202…絶縁層、203…絶縁層、204…絶縁層、205…絶縁層、222…配線層(配線パターン)、223…配線層(配線パターン)、224…配線層(配線パターン)、225…配線層(配線パターン)、231…層間接続体(導電性組成物印刷による導電性バンプを由来とする)、232…層間接続体(導電性組成物印刷による導電性バンプを由来とする)、233…スルーホール導電体、234…層間接続体(導電性組成物印刷による導電性バンプ)、235…層間接続体(導電性組成物印刷による導電性バンプを由来とする)、241…表面実装型受動素子部品(基板内蔵部品)、251…はんだ、261…ソルダーレジスト、262…ソルダーレジスト。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Wiring board (1st wiring board), 11 ... Land (1st land), 12 ... Land (4th land), 14 ... Insulating layer, 14a ... Interlayer connection body (conductivity by electroconductive composition printing) 15 ... Insulating layer, 15a ... Interlayer connection body (derived from conductive bump by conductive composition printing), 16 ... Insulating layer, 16a ... Interlayer connection body (conductive composition printing) 17 ... Solder resist, 18 ... Solder resist, 20 ... Wiring board (second wiring board), 21 ... Land (second land), 22 ... Surface mounted passive element parts 22a ... solder, 23 ... land (third land), 30 ... solid-state imaging device chip, 31 ... light receiving portion, 32 ... terminal pad, 41 ... bonding wire, 42 ... conductive bump, 43 ... bonding wire, 51 ... under Fill resin, 61 ... lens, 62 ... lens holding part, 141 ... wiring layer (wiring pattern), 161 ... wiring layer (wiring pattern), 201 ... insulating layer, 202 ... insulating layer, 203 ... insulating layer, 204 ... insulating layer , 205 ... insulating layer, 222 ... wiring layer (wiring pattern), 223 ... wiring layer (wiring pattern), 224 ... wiring layer (wiring pattern), 225 ... wiring layer (wiring pattern), 231 ... interlayer connector (conductive) Derived from conductive bump by composition printing), 232 ... Interlayer connection (derived from conductive bump by conductive composition printing), 233 ... Through-hole conductor, 234 ... Interlayer connection (conductive composition) Conductive bump by physical printing), 235... Interlayer connection body (derived from conductive bump by conductive composition printing), 241... Surface mounted passive element component (substrate built-in component), 2 1 ... solder, 261 ... solder resist, 262 ... solder resist.

Claims (9)

第1の面と第2の面とを有し、第1のランドを有する第1の配線パターンを前記第1の面側に備えた第1の配線板と、
受光部と端子パッドを含む非受光部とを有する機能面を有し、該機能面が前記第1の配線板の側とは反対の側に向けられて前記第1の配線板の前記第1の面上に設けられた固体撮像素子チップと、
第1の面と第2の面とを有し、第2のランドを有する第2の配線パターンを前記第1の面側に備え、第3のランドを有する第3の配線パターンを前記第2の面の側に備え、該第2の面の側が前記固体撮像素子チップの側に向けられかつ前記第3のランドと前記固体撮像素子チップの前記端子パッドとが導電バンプを介して電気的に接続されて、該固体撮像素子チップの前記非受光部上に設けられた第2の配線板と、
前記第2の配線板の前記第1の面の前記第2のランドと前記第1の配線板の前記第1の面の前記第1のランドとを電気的に接続する接続部材と
を具備することを特徴とする撮像素子モジュール。
A first wiring board having a first wiring pattern having a first surface and a second surface and having a first land on the first surface side;
A functional surface having a light receiving portion and a non-light receiving portion including a terminal pad, the functional surface being directed to a side opposite to the side of the first wiring board; A solid-state imaging device chip provided on the surface of
A second wiring pattern having a first surface and a second surface and having a second land is provided on the first surface side, and a third wiring pattern having a third land is provided in the second surface. The second land side is directed to the solid-state image sensor chip side, and the third land and the terminal pad of the solid-state image sensor chip are electrically connected via a conductive bump. A second wiring board connected and provided on the non-light-receiving part of the solid-state imaging device chip;
A connecting member that electrically connects the second land on the first surface of the second wiring board and the first land on the first surface of the first wiring board. An image sensor module characterized by the above.
前記第2の配線板が、前記固体撮像素子チップの前記非受光部上で位置を互いに異ならせて複数存することを特徴とする請求項1記載の撮像素子モジュール。   2. The image pickup device module according to claim 1, wherein a plurality of the second wiring boards exist at different positions on the non-light-receiving portion of the solid-state image pickup device chip. 前記第2の配線板が、前記固体撮像素子チップの前記受光部に向かい合う位置に開口部を有するロの字形の板形状を有して、該固体撮像素子チップの前記非受光部上に設けられていることを特徴とする請求項1記載の撮像素子モジュール。   The second wiring board has a square-shaped plate shape having an opening at a position facing the light receiving portion of the solid-state image sensor chip, and is provided on the non-light-receiving portion of the solid-state image sensor chip. The image pickup device module according to claim 1, wherein the image pickup device module is provided. 前記固体撮像素子チップの前記受光部に対向して設けられたレンズを含むレンズユニットをさらに具備することを特徴とする請求項1記載の撮像素子モジュール。   The image pickup device module according to claim 1, further comprising a lens unit including a lens provided to face the light receiving portion of the solid-state image pickup device chip. 前記第2の配線板が、前記第1の面上に、または埋め込まれて部品が実装された配線板であることを特徴とする請求項1記載の撮像素子モジュール。   The imaging device module according to claim 1, wherein the second wiring board is a wiring board on which the components are mounted on the first surface or embedded. 前記第1の配線板が、該第1の配線板の前記第2の面に外部接続用の第4のランドを有する第4の配線パターンを備えることを特徴とする請求項1記載の撮像素子モジュール。   The imaging device according to claim 1, wherein the first wiring board includes a fourth wiring pattern having a fourth land for external connection on the second surface of the first wiring board. module. 前記第1の配線板が、導電性組成物を有する縦方向の電気的接続路を備えることを特徴とする請求項1記載の撮像素子モジュール。   The image sensor module according to claim 1, wherein the first wiring board includes a vertical electrical connection path having a conductive composition. 前記第2の配線板が、導電性組成物を有する縦方向の電気的接続路を備えることを特徴とする請求項1記載の撮像素子モジュール。   The imaging device module according to claim 1, wherein the second wiring board includes a vertical electrical connection path having a conductive composition. 前記接続部材が、ボンディングワイヤであることを特徴とする請求項1記載の撮像素子モジュール。   The imaging device module according to claim 1, wherein the connection member is a bonding wire.
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