JP2010250318A - リソグラフィマスク及びリソグラフィマスクの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】溝を含む第1の層31と、領域を含む第2の層32と、セクションと、前記セクションを囲う溝状透明構造を含んでおり、前記第1の層31と第2の層32とが、第2の層32において生じる電気的ポテンシャルの差を減少させるように形成されているリソグラフィマスク。
【選択図】図3
Description
には、交互位相マスクの製造方法が開示されており、そこでは、活性領域の外部に配置された補償構造が、チャージを最小化するために活性領域に接続されたさらなる導電性領域を具備している。
上記目的は、独立請求項に係るクレームされた発明によって達成される。
以下においては、非プリント遮断領域250またはプリンティング遮断領域250を備えた分離構造200を含む実施形態を障壁構造と関連づけながら図解する。
h=0.23μm、 i=0.170μm、 j=0.045μm、
k=0.041μm、1=0.04μmとする。
実施形態において、遮断領域の寸法は、遮断領域が基板上にプリントされないように、イメージング装置の限界解像度よりも小さく選択される。
b=0.165μm、 c=0.107μm、 d=0.106μm、
e=0.03μm、 f=0.11125μm、 g=0.165μm、
h=0.105μm、 i=0.148μm、 j=0.191μm、
k=0.0975μm、 1=0.055μm、 m=0.06μm、
n=0.065μm、 0=0.78μm、 p=0.25μm。
b=0.105μm、 c=0.170μm、 d=0.080μm、
e=0.070μmとする。
Claims (21)
- 溝を有する第1層と、
領域、セクション及びそのセクションを囲む溝状透明構造を含む第2層とを具備し、
前記第1層と第2層とが、前記第2層における電気的ポテンシャルの差を減少させるように形成されているリソグラフィマスク。 - 前記溝状透明構造が、前記セクションと前記領域とを分離するものであり、前記第1層と第2層の材料が、前記セクションと前記領域との間に電気的ポテンシャルの差が生じないように選択されたものである請求項1に記載のリソグラフィマスク。
- 前記第2層が絶縁体で構成されている請求項2に記載のリソグラフィマスク。
- 前記第1層と第2層が絶縁体で構成されている請求項3に記載のリソグラフィマスク。
- 前記第1層が導体で構成されている請求項2に記載のリソグラフィマスク。
- 前記溝状透明構造が、前記セクションと前記領域とを分離するものであり、前記溝状透明構造が、前記第2層における前記セクションと前記領域との間に電気的ポテンシャルの差が生じないように形成されたものである請求項1に記載のリソグラフィマスク。
- 前記第2層に形成された前記溝状透明構造が連続のものではなく、連続構造としてプリントされるようにしたものである請求項6に記載のリソグラフィマスク。
- 前記溝状透明構造が、1つ以上の非プリント遮断領域によって互いに分離された少なくとも2つ以上のセグメントを具備しており、前記遮断領域が前記第2層の材料によって構成されている請求項7に記載のリソグラフィマスク。
- 前記セグメントが、少なくともその一端に広がり部を有する線状の第1セグメントを具備する請求項8に記載のリソグラフィマスク。
- 前記遮断部が2つの隣り合う第1セグメントの2つの前記広がり部の間に配置されており、前記広がり部と遮断領域とが、基板上にイメージングされる際に互いを補償するような形を有するものである請求項9に記載のリソグラフィマスク。
- プリンティングパターンが線状になるように前記第1または第2セグメントを形成し配置した請求項9に記載のリソグラフィマスク。
- 少なくとも1つの前記第2セグメントが2つの前記第1セグメントの間に配置されており、前記第1及び第2セグメントが、前記非プリント遮断領域によって互いに分離されている請求項11に記載のリソグラフィマスク。
- 前記第2層が、前記セクションの内部に配置された第1パターンと前記セクションの外部に配置された第2パターンとを具備しており、前記溝状透明構造が、基板にイメージングされた後に前記第1パターンを保護するための保護層を形成するようにしてある請求項8に記載のリソグラフィマスク。
- 前記第2層に形成された前記溝状透明構造が、不連続のものである請求項6に記載のリソグラフィマスク。
- 前記溝状透明構造が、前記第2層の材料で構成された少なくとも1つのプリンティング遮断領域によって互いに分離された、少なくとも2つの溝状セグメントを具備している請求項14に記載のリソグラフィマスク。
- 前記第2層が前記セクションの内部に配置された第1パターンと前記セクションの外部に配置された第2パターンとを具備しており、前記溝状透明構造がコーナーを具備しており、前記プリンティング遮断部が前記コーナと距離をおいて配置されている請求項15に記載のリソグラフィマスク。
- 前記第2層において分離溝と遮断領域とをさらに具備しており、該分離溝と遮断領域が前記セクションと前記領域とを分離している請求項1に記載のリソグラフィマスク。
- 第2層が第1層の上に配置されるように第1層と第2層を形成することと、
セクションを囲む溝状構造と同様に、前記セクションと領域とを具備させるために前記第2層をパターニングすることと、
前記第1層における前記第2層に覆われていない部分に溝を形成することを備えており、
前記第1層に前記溝を形成する過程において前記第2層における電気的ポテンシャルの差が減少するように前記各層が形成されているリソグラフィマスクの製造方法。 - 前記セクションと領域とを分離するために前記溝状構造が形成され、前記第2層における前記セクションと前記領域との電気的ポテンシャルの差が減少するように前記第1層及び第2層の材料が選択される請求項18に記載の方法。
- 前記第1層における前記溝を形成する前に前記パターニングされた第2層の上に導電性フィルムを形成することと、
前記溝が形成される部分に開口部を形成するために前記導電性フィルムをパターニングすることをさらに備えた請求項18に記載の方法。 - 前記第1層に溝を形成した後に、前記溝状構造を第2層に形成する請求項18に記載の方法。
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