JP2010243379A - 平面形状測定装置および平面形状測定方法 - Google Patents

平面形状測定装置および平面形状測定方法 Download PDF

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Abstract

【課題】平面の形状を効率、精度よく測定できる平面形状測定装置、測定方法の提供。
【解決手段】光源11からの射出光の一部を反射させて参照光を生成する部分反射板14、残りの前記射出光を収束レンズ15により収束された照明光に対して被測定平面2aを傾斜させた支持状態を保ち被測定物2を光軸方向に相対移動可能な第1支持機構20、被測定平面での反射光を被測定平面に向けて再び反射させる反射球面30aを有する反射鏡30、反射球面の収束点cが照明光の収束点Aと重なるように反射鏡を支持し、被測定物の移動に応じて照明光の光軸方向且つ反射光の光軸方向に反射鏡を移動可能な第2支持機構40、被測定平面及び反射球面からの反射光と参照光から干渉縞を取得する撮像装置18等と被測定平面の測定領域全体に照射され取得された第1干渉縞、照明光の収束点Aが被測定平面上に位置するときの第2干渉縞から形状を算出する演算・制御部50からなる。
【選択図】図1

Description

本発明は、被測定平面の形状を測定する平面形状測定装置および平面形状測定方法に関する。
従来、平面形状の測定方法として、3枚の平面を用いて、フィゾー干渉法により2枚ずつ平面形状の差を相対測定し、その測定結果から平面形状を算出する方法が知られている(例えば、非特許文献1を参照)。すなわち、この測定方法は、被測定平面a、平面bおよび平面cの形状をTa(x,y)、Tb(x,y)およびTc(x,y)とした場合(なお、各面の座標(x,y)はz軸を光軸に一致させた直角座標である)、フィゾー干渉計を用いて、被測定平面aと平面bの平面形状の差{Ta(x,y)−Tb(x,y)}、平面cとbの差{Tc(x,y)−Tb(x,y)}、および、平面cとx軸周りに反転(回転)させた被測定平面aの差{Tc(x,y)−Ta(x,−y)}を測定し、それらの測定結果から被測定平面aのうちx軸(反転軸)に対応するライン上の形状Ta(x,0)を演算で求めることができる。さらに、反転軸を別の軸として以上の測定を行えば、被測定平面aの別のライン上の形状を求めることができ、この測定を繰り返し行うことにより最終的に被測定平面aの全体の形状を求めることができる。
ダニエルマラカーラ(Daniel Malacara)編,「オプティカル・ショップ・テスティング(Optical Shop Testing)」,第2版,ウィレイ・インターサイエンス(Wiley-Interscience)発行,p.43-44
しかしながら、上記測定方法では、被測定平面全体の形状を求めるために、反転軸を変えて多数回測定を行う必要があるので、測定に時間がかかるという問題がある。また、被測定平面を反転させるため、被測定物の姿勢が変化することで重力の影響による測定誤差が生じるという問題もある。
本発明はこのような課題に鑑みたものであり、被測定平面の形状を効率よく、且つ精度よく測定することができる平面形状測定装置および測定方法を提供することを目的とする。
このような目的を達成するため、本発明に係る平面形状測定装置は、光源部から射出された射出光の一部を反射させて参照光を生成する参照光生成部と、残りの前記射出光を収束させる収束光学系と、前記収束光学系により収束された照明光の光軸に対して被測定物の被測定平面を傾斜させた状態で前記被測定物を支持するとともに、この支持状態を保ちつつ前記被測定物を前記収束光学系に対して前記照明光の光軸方向に相対移動させることが可能な被測定物支持部と、前記被測定平面に照射された前記照明光のうち前記被測定平面で反射した反射光を前記被測定平面に向けて再び反射させる凹状の反射球面を有してなる反射鏡と、前記反射球面に前記反射光の光軸が直交するように且つ前記反射球面で反射した光の収束点が前記照明光の収束点と重なるように前記反射鏡を支持するとともに、前記被測定物支持部による前記被測定物の移動に応じて前記照明光の光軸方向且つ前記反射光の光軸方向に前記反射鏡を移動させることが可能な反射鏡支持部と、前記照明光のうち前記被測定平面および前記反射球面で反射して同一光路を通って戻ってくる光と前記参照光とを重ね合わせて干渉縞を取得する干渉縞取得部と、前記照明光が前記被測定平面の測定領域全体に照射されるときに前記干渉縞取得部において取得された第1干渉縞と、前記照明光の収束点が前記被測定平面上に位置するときに前記干渉縞取得部において取得された第2干渉縞とに基づいて前記被測定平面の形状を算出する平面形状算出部とを備えて構成される。
上記目的を達成するため、本発明に係る平面形状測定方法は、光源部から射出された射出光の一部を反射させて参照光を生成するとともに残りの前記射出光を収束させて照明光を生成し、前記照明光を被測定物の被測定平面に斜めに照射する照射ステップと、前記照明光が前記被測定平面の測定領域全体に照射されるように前記被測定物を配置し、前記照明光のうち前記被測定平面で反射した光を、その光が入射する位置に設けられた反射凹面鏡において同一光路を通って戻るように前記被測定平面に向けて反射させ、前記被測定平面で再び反射した光と前記参照光とを重ね合わせて干渉縞を取得する第1測定ステップと、前記照明光の収束点が前記被測定平面上に位置するように前記被測定物を相対移動させ、前記照明光のうち前記被測定平面で反射した光を、前記被測定物の相対移動に応じて移動させた前記反射凹面鏡において同一光路を通って戻るように前記被測定平面に向けて反射させ、前記被測定平面で再び反射して光と前記参照光と重ね合わせて干渉縞を取得する第2測定ステップと、前記第1測定ステップにおいて取得した第1干渉縞と前記第2測定ステップにおいて取得した第2干渉縞とに基づいて前記被測定平面の形状を算出する算出ステップとを備えることを特徴とする。
本発明によれば、被測定平面の形状を効率よく、且つ精度よく測定することができる。
本発明に係る平面形状測定装置の構成を示す図であり、照明光が測定領域全体を照射する状態の図である。 上記平面形状測定装置を用いて被測定平面の形状を測定する測定手順を示すフローチャートである。 上記平面形状測定装置の構成を示す図であり、被測定平面上に集光点が位置する状態の図である。 照明光により照射される被測定平面上の照射領域(測定領域)を示す図である。 被測定平面上に入射する照明光の角度(被測定平面に対する角度)を算出する方法について説明する説明図である。
以下、図面を参照して本発明の好ましい実施形態について説明する。本発明の実施形態に係る平面形状測定装置1の構成を図1に示しており、まずこの図面を参照して平面形状測定装置1の基本構成について説明する。
平面形状測定装置1は、被測定物2の被測定平面2aの形状を測定するための装置であり、被測定平面2aで反射した光と参照光とを重ね合わせて干渉縞を形成させるフィゾー型の干渉計本体10と、干渉計本体10から射出される光(照明光)が被測定平面2aに入射するように被測定物2を支持するとともに被測定物2を照明光の光軸方向に移動させることが可能な第1支持機構20と、被測定平面2aに入射した照明光のうち被測定平面2aで反射した光を被測定平面2aに向けて再び反射させる反射鏡30と、反射鏡30を支持するとともに第1支持機構20による被測定物2の移動に応じて反射鏡30を移動させることが可能な第2支持機構40と、干渉計本体10、第1支持機構20および第2支持機構40の駆動制御ならびに被測定平面2aの形状の算出を行う演算・制御部50とを備えて構成される。
干渉計本体10は、レーザ光を射出する光源11と、光源11から射出された光の径を拡大するビームエキスパンダ12と、ビームエキスパンダ12によって拡大された平行光に対して傾けて配置されたハーフミラー13と、部分反射面14aを有した平行平板ガラスからなりハーフミラー13を透過した平行光を反射と透過によって二つの光に分割する部分反射板14と、部分反射板14を透過した平行光(照明光)を収束させる収束レンズ15と、部分反射板14で反射した平行光(参照光)がハーフミラー13で反射した後に結像レンズ16および絞り17を介して入射する位置に配置された撮像装置18とから構成される。
光源11から射出した光は、ビームエキスパンダ12によって適切なサイズの径の平行光に変換されてハーフミラー13に入射し、そのうちのハーフミラー13を透過した平行光が部分反射板14に入射する。部分反射板14に入射した平行光は、一部が部分反射面14a(ハーフミラー13と対向する面の裏面)で反射し、他の一部が部分反射面14aを透過する。部分反射面14aで反射した平行光(参照光)は、光路を折り返して(同一光路を戻って)ハーフミラー13に入射し、そのうちのハーフミラー13で反射した光が結像レンズ16および絞り17を介して撮像装置18に入射する。一方、部分反射面14aを透過した平行光(照明光)は、収束レンズ15により一旦収束した後に発散して被測定物2の被測定平面2aに入射する。
第1支持機構20は、干渉計本体10から射出される照明光の光軸L(以下、照明光軸Lと称する)に対して被測定平面2aを傾斜させた状態で被測定物2を支持するとともに、この支持状態を保ちつつ被測定物2を照明光軸Lの方向に移動させることが可能なように構成される。
反射鏡30は、凹状の反射球面30aを有する球面鏡(凹面鏡)からなり、被測定平面2aに入射した照明光のうち被測定平面2aで反射した光(以下、反射光と称する)が反射球面30aに入射するように、且つ反射光の光軸L′(以下、反射光軸L′と称する)が反射球面30aに直交するように第2支持機構40によって支持され、被測定平面2aで反射して反射球面30aに入射した光を被測定平面2aに向けて反射させるように構成される。
第2支持機構40は、上述したように被測定平面2aで反射した光(反射光)が反射球面30aに入射し且つ反射光軸L′が反射球面30aに直交するように反射鏡30を支持するとともに、さらに反射球面30aで反射した光の収束点cが収束レンズ15の集光点Aと重なるように反射鏡30を支持し、この支持状態を保つように反射鏡30を第1支持機構20による被測定物2の移動に応じて移動させることが可能なように構成される。
すなわち、第2支持機構40は、第1支持機構20により被測定物2が移動した場合、反射光軸L′が反射球面30aに直交する状態を保つため、反射鏡30を照明光軸Lの方向(被測定物2と同じ方向)に被測定物2と同じ移動量で移動させるとともに、収束点cが収束レンズ15の集光点Aと重なる状態を保つため、反射鏡30を反射光軸L′の方向に、被測定平面2a上の照明光軸Lと交差する交点Bと収束レンズ15の集光点Aとの距離D(図5を参照)の変化量と同じ移動量で移動させる。なお、反射鏡30の反射光軸L′の方向への移動は、被測定物2が収束レンズ15に近づく場合には、反射鏡30が被測定平面2aと離れる方向に移動され、逆に被測定物2が収束レンズ15と離れる場合には、反射鏡30が被測定平面2aに近づく方向に移動される。
このように第2支持機構40により反射鏡30が支持されるため、被測定平面2aに入射した照明光のうち被測定平面2aで反射した光は、反射球面30aに対して垂直に入射し、反射球面30aで反射して同一光路を被測定平面2aに向かって戻り、被測定平面2aで反射した後に収束レンズ15に入射する。
このようにして収束レンズ15に入射した光(被検光)は、収束レンズ15によって発散光から平行光に変換されて部分反射板14に入射し、そのうちの部分反射板14を透過した光が、上記参照光と同様に、ハーフミラー13、結像レンズ16および絞り17を介して撮像装置18に入射する。よって、撮像装置18の撮像面18aには、部分反射面14aで反射した参照光と被測定平面2aおよび反射球面30aで反射した被検光とが重なり合って干渉縞が形成される。
演算・制御部50は、干渉計本体10(光源11および撮像装置18)、第1支持機構20および第2支持機構40を駆動して干渉縞の画像データ(輝度分布データ)を取得する駆動制御部と、取得した干渉縞の画像データに基づいて被測定平面2aの形状を算出する平面形状演算部とから構成される。これらの駆動制御および平面形状の算出については、以下の測定手順において詳細に説明する。
次に、以上のように構成された平面形状測定装置1を用いて被測定物2の被測定平面2aの形状を測定する測定手順について、図2に示すフローチャートを参照して説明する。
この測定では、まず、光源11を駆動して被測定物2の被測定平面2aに照明光を照射する(ステップS21)。光源11から射出した光は、上述したようにビームエキスパンダ12およびハーフミラー13を介して部分反射板14に入射し、そのうちの部分反射面14aを透過した光(照明光)が収束レンズ15により一旦収束した後に発散して被測定平面2aに入射する。
次に、図1に示すように、第1支持機構20を駆動して被測定平面2aの測定領域全体が照明光で照射されるように被測定物2を光軸方向に移動させるとともに、第2支持機構40を駆動して反射鏡30を上述したように被測定物2の移動に応じて移動させる(ステップS22)。被測定平面2aの測定領域全体に入射した照明光のうち被測定平面2aで反射した光は、反射球面30aに対して垂直に入射し、反射球面30aで反射して同一光路を被測定平面2aに向かって戻り、被測定平面2aで反射した後に収束レンズ15に入射する。この収束レンズ15に入射した光(被検光)は、上述したように撮像装置18の撮像面18aにおいて部分反射面14aで反射した参照光と重ね合わさり干渉縞を形成する。
このとき、撮像装置18で取得された干渉縞の画像データ(輝度分布データ)は、撮像装置18から演算・制御部50に出力され、演算・制御部50において位相分布データΨ1(x,y)に変換される。この位相分布データΨ1(x,y)は、部分反射面14aで反射した参照光の波面と、部分反射面14aを透過して被測定平面2aおよび反射球面30aで反射した光(被検光)の波面との差異を示す情報を含んでいる。
ここで、部分反射面14aでの反射による波面の変形量をQ14(x,y)、収束レンズ15を透過することによる波面の変形量Q15(x,y)、被測定平面2aでの反射による波面の変形量をQ2(x,y)、反射球面30aでの反射による波面の変形量Q30(x,y)とおくと、位相分布データΨ1(x,y)は、次の式(1)のように表される。
Figure 2010243379
なお、部分反射面14aで反射した波面と、部分反射面14aを透過した波面とに共通して生じる変形量(例えば、ハーフミラー13や結像レンズ16による変形量)は、相殺されるので位相分布データΨ1(x,y)に影響を与えない。
続いて、図3に示すように、第1支持機構20を駆動して被測定平面2a上に収束レンズ15の集光点Aが位置するように被測定物2を光軸方向に移動させるとともに、第2支持機構40を駆動して反射鏡30を上述したように被測定物2の移動に応じて移動させる(ステップS23)。このとき照明光は、被測定平面2a上の照明光軸Lと交差する交点B(微小範囲)に入射する。このうち交点Bで反射した光は、反射球面30aに対して垂直に入射し、反射球面30aで反射して同一光路を被測定平面2aに向かって戻り、被測定平面2a上の交点Bで反射した後に収束レンズ15に入射する。この収束レンズ15に入射した光(被検光)は、上述したように撮像装置18の撮像面18aにおいて部分反射面14aで反射した参照光と重ね合わさり干渉縞を形成する。
このとき、撮像装置18で取得された干渉縞の画像データは、撮像装置18から演算・制御部50に出力され、演算・制御部50において位相分布データΨ2(x,y)に変換される。この位相分布データΨ2(x,y)は、上記位相分布データΨ1(x,y)と同様に、部分反射面14aで反射した参照光の波面と、被測定平面2aおよび反射球面30aで反射した被検光の波面との差異を示す情報を含んでいるが、被測定平面2aでの照明光の反射領域が微小なため(照明光が交点Bで反射するため)、被測定平面2aでの反射による波面の変形はほとんどない(すなわち、Q2(x,y)≒0である)。したがって、位相分布データΨ2(x,y)は、次の式(2)のように表される。
Figure 2010243379
なお、上記ステップS23をステップS22よりも前に行ってもよい。すなわち、被測定平面2a上に収束レンズ15の集光点Aが位置するようにして上記位相分布データΨ2(x,y)を取得した後に、照明光が被測定平面2aの測定領域全体に入射するようにして上記位相分布データΨ1(x,y)を取得するようにしてもよい。
2つの位相分布データΨ1(x,y),Ψ2(x,y)を取得すると、演算・制御部50においてこれらの位相分布データに基づいて被測定平面2aの形状を算出する(ステップS24)。位相分布データΨ1(x,y)と位相分布データΨ2(x,y)の差を取ると、被測定平面2aでの反射による波面の変形量Q2(x,y)以外の各光学素子の影響(部分反射面14aや反射球面30aでの反射による波面の変形量Q14(x,y),Q30(x,y)等)を取り除くことができる。よって、被測定平面2aでの反射による波面の変形量Q2(x,y)は、次の式(3)のように求められる。
Figure 2010243379
そして、この変形量Q2(x,y)から被測定平面2aの形状T(x,y)を算出することができる。ただし、平面形状測定装置1では、照明光が発散光なので被測定平面2a上の位置によって照明光の入射角が異なるため、上記変形量Q2(x,y)から直接に被測定平面2aの形状T(x,y)を算出できない。すなわち、被測定平面2aに入射する照明光の角度(被測定平面2aに対する角度)を用いて算出結果を補正する必要がある。そこで、被測定平面2aに入射する照明光の角度γ(x,y)(図5(b)を参照)とおくと、上記変形量Q2(x,y)、すなわち上記2つの位相分布データの差分{Ψ1(x,y)−Ψ2(x,y)}から、次の式(4)より被測定平面2aの形状T(x,y)を算出することができる。
Figure 2010243379
ここで、図4および図5を用いて、被測定平面2aに入射する照明光の角度γ(x,y)(被測定平面2aに対する角度)の算出方法について説明する。この算出方法では、図4および図5に示すように、照明光が円錐形であると仮定する。このように仮定すると、照明光により照射される被測定平面2a上の照射領域(すなわち測定領域)は楕円形になる。この楕円(以下、測定楕円と称する)の中心を被測定平面2a上の座標(x,y)の座標原点Oとする。また、照明光軸Lと被測定平面2aの法線(z軸)を含む面(図5における紙面)と測定楕円とが交差する線をx軸、x軸と直交し被測定平面2a上の線をy軸とする。さらに、測定楕円がx軸と交差する点をE、Fとする。この点Eと点Fは、被測定平面2a上の測定領域のx軸上の最大値と最小値であり、点Eと点Fの中間点が座標原点Oとなる。
また、角度γ(x,y)の算出のため、照明光軸Lとz軸を含む面(図5の紙面)内に、被測定平面2aの交点Bを通り照明光軸Lと直交する補助線を引き、この補助線が照明光における最も外側の光線(最外側光線)と交差する点をC、Pとする。また、交点Bから最外側光線と直交するように補助線を引き、この補助線が最外側光線と交差する点をI、Jとする。
ここで、図5(a)に示すように、照明光の開口数NAがNA=sinθ、照明光軸Lの被測定平面2aに対する角度をαとすると、△CEBにおいて∠CEB=(α−θ)、△PFBにおいて∠PFB=(α+θ)である。よって、△ABIと△EBIにより距離EBが次の式(5)のように求まり、△ABJと△FBJにより距離BFが次の式(5)のように求まる。
Figure 2010243379
よって、式(5)より交点Bのx軸座標xB、集光点Aのx軸座標xAがそれぞれ次の式(6)のように求まる。
Figure 2010243379
そして、図5(b)に示すように、被測定平面2a上の任意点G(x,y)、点G(x,y)からx軸と直交するように補助線を引き、この補助線がx軸と交差する点をKとすると、三平方の定理より△GHKにおいて距離GHが次の式(7)のように求まり、△ABHにおいて距離HAが次の式(7)のように求まる。
Figure 2010243379
よって、被測定平面2a上の任意点G(x,y)に入射する照明光の角度γ(x,y)(被測定平面2aに対する角度)を、次の式(8)のように算出することができる。
Figure 2010243379
したがって、上記式(4)および式(8)より、ステップS22,23において取得した2つの位相分布データの差分{Ψ1(x,y)−Ψ2(x,y)}から、被測定平面2aの形状T(x,y)を算出することができる。
以上において説明したように、平面形状測定装置1およびこの装置1を用いた被測定平面2aの形状測定によれば、干渉計本体10を構成する各光学素子、被測定物2および反射鏡30の姿勢を変化させずに被測定平面2aの形状を測定することができるので、重力の影響による測定誤差が発生しない。そのため、被測定平面2aの形状を精度よく測定することができる。なお、被測定物2および反射鏡30は、測定時において平行移動するだけなので姿勢は変化しない。また、照明光が被測定平面2aの測定領域全体に照射されるときの測定と、照明光の収束点Aが被測定平面2a上に位置するときの測定とを行えばよく、従来のように反転軸を変えて多数回測定を行う必要がないので、被測定平面2aの形状を効率よく測定することができる。
なお、上記実施形態において、第2支持機構40により反射鏡30を移動する際、反射鏡30のチルト(傾動)管理を行うことにより、被測定平面2aの形状測定の精度が向上される。また、上記実施形態において、平面形状測定装置1は、フィゾー型の干渉計本体10を有して構成されているが、干渉計本体10をトワイマン‐グリーン型など他の形態に構成してもよい。
また、上記実施形態において、被測定平面2aの形状を測定する際、第1支持機構20により被測定物2を照明光軸Lの方向に移動させるように構成されているが、干渉計本体10に移動機構を設けて干渉計本体10を照明光軸Lの方向に移動させるように構成してもよく、その場合には、第2支持機構40は干渉計本体10の移動に応じて反射鏡30を移動させるように構成される。
1 平面形状測定装置 2 被測定物
2a 被測定平面 11 光源(光源部)
12 ビームエキスパンダ(光源部) 13 ハーフミラー(干渉縞取得部)
14 部分反射板(参照光生成部) 15 収束レンズ(収束光学系)
16 結像レンズ(干渉縞取得部) 17 絞り(干渉縞取得部)
18 撮像装置(干渉縞取得部) 20 第1支持機構(被測定物支持部)
30 反射鏡 30a 反射球面
40 第2支持機構(反射鏡支持部) 50 演算・制御部(平面形状算出部)

Claims (4)

  1. 光源部から射出された射出光の一部を反射させて参照光を生成する参照光生成部と、
    残りの前記射出光を収束させる収束光学系と、
    前記収束光学系により収束された照明光の光軸に対して被測定物の被測定平面を傾斜させた状態で前記被測定物を支持するとともに、この支持状態を保ちつつ前記被測定物を前記収束光学系に対して前記照明光の光軸方向に相対移動させることが可能な被測定物支持部と、
    前記被測定平面に照射された前記照明光のうち前記被測定平面で反射した反射光を前記被測定平面に向けて再び反射させる凹状の反射球面を有してなる反射鏡と、
    前記反射球面に前記反射光の光軸が直交するように且つ前記反射球面で反射した光の収束点が前記照明光の収束点と重なるように前記反射鏡を支持するとともに、前記被測定物支持部による前記被測定物の移動に応じて前記照明光の光軸方向且つ前記反射光の光軸方向に前記反射鏡を移動させることが可能な反射鏡支持部と、
    前記照明光のうち前記被測定平面および前記反射球面で反射して同一光路を通って戻ってくる光と前記参照光とを重ね合わせて干渉縞を取得する干渉縞取得部と、
    前記照明光が前記被測定平面の測定領域全体に照射されるときに前記干渉縞取得部において取得された第1干渉縞と、前記照明光の収束点が前記被測定平面上に位置するときに前記干渉縞取得部において取得された第2干渉縞とに基づいて前記被測定平面の形状を算出する平面形状算出部とを備えて構成されることを特徴とする平面形状測定装置。
  2. 前記平面形状算出部は、前記第1干渉縞と前記第2干渉縞との位相分布の差を算出し、その算出結果を前記照明光の前記被測定平面に入射する角度を用いて補正して前記被測定平面の形状を求めることを特徴とする請求項1に記載の平面形状測定装置。
  3. 光源部から射出された射出光の一部を反射させて参照光を生成するとともに残りの前記射出光を収束させて照明光を生成し、前記照明光を被測定物の被測定平面に斜めに照射する照射ステップと、
    前記照明光が前記被測定平面の測定領域全体に照射されるように前記被測定物を配置し、前記照明光のうち前記被測定平面で反射した光を、その光が入射する位置に設けられた反射凹面鏡において同一光路を通って戻るように前記被測定平面に向けて反射させ、前記被測定平面で再び反射した光と前記参照光とを重ね合わせて干渉縞を取得する第1測定ステップと、
    前記照明光の収束点が前記被測定平面上に位置するように前記被測定物を相対移動させ、前記照明光のうち前記被測定平面で反射した光を、前記被測定物の相対移動に応じて移動させた前記反射凹面鏡において同一光路を通って戻るように前記被測定平面に向けて反射させ、前記被測定平面で再び反射して光と前記参照光と重ね合わせて干渉縞を取得する第2測定ステップと、
    前記第1測定ステップにおいて取得した第1干渉縞と前記第2測定ステップにおいて取得した第2干渉縞とに基づいて前記被測定平面の形状を算出する算出ステップとを備えることを特徴とする平面形状測定方法。
  4. 前記算出ステップでは、前記第1干渉縞と前記第2干渉縞との位相分布の差を算出し、その算出結果を前記照明光の前記被測定平面に入射する角度を用いて補正して前記被測定平面の形状を求めることを特徴とする請求項3に記載の平面形状測定方法。
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