JP2010230574A - 屈折率測定方法および屈折率測定装置 - Google Patents

屈折率測定方法および屈折率測定装置 Download PDF

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Abstract

【課題】干渉計を用いて屈折率を測定する技術において、測定に用いる光源における波長の不確かさの影響を排除するための技術を提供する。
【解決手段】干渉計9および31内に配置した被測定プリズム1を特定方向に移動させて、光源3から出射して被測定プリズム1を通過する第1の光の光路長と、同じ光源3から出射して被測定プリズム1によって反射される第2の光の光路長とをそれぞれ変化させ、それらの変化を測定し、測定した、上記第1の光の光路長の変化と上記第2の光の光路長の変化との関係に基づいて、被測定プリズム1の屈折率を算出する。
【選択図】図1

Description

本発明は、物質の屈折率を測定する技術に関するものであり、特に、干渉計を用いて物質の屈折率を測定する技術に関するものである。
光学ガラス産業、プラスチック産業、各種光学デバイスの製作産業等の光関連産業では、光学材料が有する種々の特性の一つである屈折率を正確に測定する技術が求められている。特に近年は、光学デバイスに求められる性能が高くなっており、それに伴い屈折率の測定においても、精密な測定を行うための技術が求められている。さらに、そのような光学デバイスの製造に用いる屈折率測定装置を管理するために必要となる標準の分野では、更に精密な屈折率の測定技術が必要となる。
そのため、様々な屈折率測定技術が開発されている。例えば、特許文献1には、波長の異なる複数のレーザ光を同一の出射口から選択的に出射し、出射レーザ光をビームスプリッタで二光束のレーザ光に分割した後、偏光干渉光学回路に入射し、各レーザ光から更に分割された基準レーザ光と、真空領域、サンプル領域の両領域を通過後の各レーザ光との干渉光をそれぞれ生成し、計数器で前記真空領域及びサンプル領域の光路長を変化させたときに光センサが検知する前記各干渉光の強度変化の波数を計数して屈折率を求める技術が記載されている。
また、特許文献2には、被測定プリズムの斜面と補償用プリズムの斜面とを近接対向配置してプリズム対を形成し、当該プリズム対を干渉計の中に配置し、前記被測定プリズムを、補償用プリズムに向かい合っている面内で平行移動させて、干渉計中の被測定プリズム中の光路長を変化させ、前記被測定プリズム中光路長変化と、別途計測した被測定プリズムの移動量の関係から、被測定プリズムの屈折率を求める技術が記載されている。
特開2005−292033号公報(平成17年10月20日公開) 特開2009−14487号公報(平成21年1月22日公開)
しかしながら、従来の屈折率測定技術では、測定に用いる光源における波長の不確かさ(uncertainty)が明確ではない場合、測定される屈折率の不確かさも不明確になるという問題がある。
光学産業界における屈折率測定の需要は、長い歴史の中で使われてきたスペクトルランプ波長に対する屈折率測定の方が圧倒的に多い。また、次世代半導体露光装置や天体観測装置等において、紫外域や赤外域への波長の拡大が求められているが、これらの波長域では必ずしも高性能で実用的なレーザが得られていないため、スペクトルランプを中心とした光源が使用されている。しかし、レーザに比して一般のスペクトルランプは高精度な波長の評価が困難であり、その不確かさが明確でない。
特にスペクトルランプについては、ランプのガス圧やランプ電流によってスペクトル線のシャープさや、自己吸収状態、波長シフトの変化や、発光体に含まれる同位元素による波長の不確かさがある。そのため、ランプの製造者や使用条件と波長の不確かさについてのデータが必須であるが、現状ではそのようなものはない。
干渉計測によって屈折率を測定する方法の場合、光源波長の不確かさは光路長あるいは光路長変化測定の不確かさに制限を与え、ひいては屈折率測定の不確かさに制限を与える。例えば10−6程度の不確かさで屈折率を測定したい場合、光路長変化測定に関して必要な光源波長の不確かさは、10−7程度である。
また、光源波長の不確かさは、被測定試料の屈折率分散を介して、屈折率測定の不確かさに制限を与える。例えば10−6程度の不確かさで屈折率を測定したい場合、屈折率分散に関して必要な光源波長の不確かさは、材料や波長帯域によって若干異なるが、通常10−5程度である。
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、干渉計を用いて屈折率を測定する技術において、測定に用いる光源における波長の不確かさの影響を排除するための技術を提供することを主たる目的とする。
本発明に係る屈折率測定方法は、上記課題を解決するために、干渉計を用いて被測定プリズムの屈折率を測定する屈折率測定方法であって、上記干渉計内に配置した上記被測定プリズムを特定方向に移動させて、第1の光源から出射して上記被測定プリズムを通過する第1の光の光路長と、同じ上記第1の光源から出射して上記被測定プリズムによって反射される第2の光の光路長とをそれぞれ変化させ、それらの変化を測定し、測定した、上記第1の光の光路長の変化と上記第2の光の光路長の変化との関係に基づいて、上記被測定プリズムの屈折率を算出することを特徴としている。
上記の構成によれば、上記被測定プリズムを通過する第1の光の光路長の変化は、第1の光が上記被測定プリズムを通過する距離の変化と上記被測定プリズムの屈折率から表され、上記被測定プリズムによって反射される第2の光の光路長の変化は、上記被測定プリズムの移動距離から表される。そして、用いる干渉計の光学系および上記被測定プリズムの移動方向(上記特定方向)によって、上記移動距離と、上記移動による被測定プリズムを通過する距離との関係は予め規定されている。よって、第1の光の光路長の変化と、第2の光の光路長の変化との関係に基づけば、上記被測定プリズムの屈折率を算出することができる。ここで、干渉計を用いた光路長の変化の測定値は、用いた光源の波長に依存するが、上記の構成によれば、第1の光の光路長の変化および第2の光の光路長の変化の測定を同じ光源を用いて行うため、例えば、第1の光の光路長の変化に対する第2の光の光路長の変化の比を用いて上記被測定プリズムの屈折率を算出するなどの数学的操作により、上記光源の波長の影響をキャンセルし、測定に用いる光源における波長の不確かさの影響を排除して屈折率を正確に測定することができる。
上記屈折率測定方法では、上記被測定プリズムおよび補償用プリズムの斜面同士を対向させてなるプリズム対が上記干渉計内に配置されており、上記特定方向は、上記被測定プリズムの上記斜面の面内方向であることが好ましい。
上記の構成によれば、上記被測定プリズムおよび補償用プリズムの斜面同士を対向させてなるプリズム対が形成され、上記被測定プリズムを上記斜面の面内方向に移動させるため、上記移動を円滑かつ正確に行うことができる。
上記屈折率測定方法では、上記第1の光と、上記第1の光源から出射して上記被測定プリズムを通過しない第3の光との干渉を検出することにより上記第1の光の光路長の変化を測定するとともに、上記第2の光と、上記第1の光源から出射して上記被測定プリズムによって反射されない第4の光との干渉を検出することにより上記第2の光の光路長の変化を測定することが好ましい。
上記の構成によれば、上記被測定プリズムの移動により、上記被測定プリズム内の通過距離が変化する上記第1の光と、変化しない上記第3の光とを干渉させた合成波の干渉強度によれば、上記第1の光の光路長の変化を首尾よく測定することができる。また、上記被測定プリズムの移動により、上記被測定プリズムによる反射位置が変化して、全体的な光の経路の長さが変化する上記第2の光と、変化しない上記第4の光とを干渉させた合成波の干渉強度によれば、上記第2の光の光路長の変化を首尾よく測定することができる。
上記屈折率測定方法は、上記被測定プリズムを上記特定方向に移動させたときの、特定の波長の光を出射する第2の光源から出射して、上記第2の光と同じ位置かつ同じ反射角で上記被測定プリズムによって反射される第5の光の光路長の変化をさらに測定し、測定した、上記第2の光の光路長の変化と上記第5の光の光路長の変化との関係に基づいて、上記第1の光源が出射する光の波長を算出することが好ましい。
上記の構成によれば、上記第5の光は、上記第2の光と同じ位置かつ同じ反射角で上記被測定プリズムによって反射されるため、上記被測定プリズムの移動に起因した上記被測定プリズムによる反射位置の変化も、上記第2の光と等しくなる。よって、特定の波長の光を出射する上記第2の光源から出射された、予め波長が判明している第5の光の光路長の変化と、上記第2の光の光路長の変化との関係は、それぞれの波長の差異に起因したものとなるため、測定した、上記第2の光の光路長の変化と上記第5の光の光路長の変化との関係に基づけば、上記第1の光源が出射する光の波長と、上記第2の光源が出射する光の波長との差異を検出して、上記第1の光源が出射する光の波長を算出することができる。これにより、さらに、測定に用いる光源における波長の不確かさの影響を排除することができる。
本発明に係る屈折率測定装置は、内部に配置された被測定プリズムの屈折率を測定する屈折率測定装置であって、第1の光源と、上記第1の光源から出射する光の経路を規定する光学系と、上記被測定プリズムを特定方向に移動させて、上記第1の光源から出射して上記被測定プリズムを通過する第1の光の光路長と、同じ上記第1の光源から出射して上記被測定プリズムによって反射される第2の光の光路長とをそれぞれ変化させる被測定プリズム移動手段と、上記被測定プリズム移動手段が上記被測定プリズムを移動させたときの上記第1の光の光路長の変化を測定する第1光路長変化測定手段と、上記被測定プリズム移動手段が上記被測定プリズムを移動させたときの上記第2の光の光路長の変化を測定する第2光路長変化測定手段とを備えており、第1光路長変化測定手段が測定した上記第1の光の光路長の変化と、上記第2光路長変化測定手段が測定した上記第2の光の光路長の変化との関係に基づいて、上記被測定プリズムの屈折率を算出することを特徴としている。
上記屈折率測定装置では、上記被測定プリズムおよび補償用プリズムの斜面同士を対向させてなるプリズム対が上記屈折率測定装置内に配置されており、上記特定方向は、上記被測定プリズムの上記斜面の面内方向であることが好ましい。
また、上記屈折率測定装置では、上記光学系は、上記第1の光と、上記第1の光源から出射して上記被測定プリズムを通過しない第3の光とを干渉させるとともに、上記第2の光と、上記第1の光源から出射して上記被測定プリズムによって反射されない第4の光とを干渉させ、上記第1光路長変化測定手段は、上記第1の光と上記第3の光との上記干渉を検出することにより上記第1の光の光路長の変化を測定し、上記第2光路長変化測定手段は、上記第2の光と上記第4の光との上記干渉を検出することにより上記第2の光の光路長の変化を測定することが好ましい。
さらに、上記屈折率測定装置は、上記被測定プリズムを上記特定方向に移動させたときの、特定の波長の光を出射する第2の光源から出射して、上記第2の光と同じ位置かつ同じ反射角で上記被測定プリズムによって反射される第5の光の光路長の変化を測定する第3光路長変化測定手段をさらに備え、上記第2光路長変化測定手段が測定した上記第2の光の光路長の変化と、上記第3光路長変化測定手段が測定した上記第5の光の光路長の変化との関係に基づいて、上記第1の光源が出射する光の波長を算出することがさらに好ましい。
上記の構成によれば、本発明に係る屈折率測定方法と同等の効果を奏することができる。
本発明によれば、被測定プリズムを干渉計内で移動させて、上記被測定プリズムを通過する第1の光の光路長の変化と、第2の光の光路長の変化とを測定し、それらの測定結果の関係に基づいて、上記被測定プリズムの屈折率を算出することができる。ここで、第1の光の光路長の変化および第2の光の光路長の変化の測定を同じ光源を用いて行うため、光路長の変化の測定における上記光源の波長の影響をキャンセルし、また、必要であれば、任意に、波長既知の別の光源を用いて測定された光路長の変化と比較することにより、上記光源の波長を校正し、被測定試料の屈折率分散を介した屈折率測定の不確かさを低減し、測定に用いる光源における波長の不確かさの影響を低減して屈折率を正確に測定することができる。
本発明の一実施形態(第1実施形態)に係る屈折率測定装置の概略構成を示す模式図である。 本発明の一実施形態(第2実施形態)に係る屈折率測定装置の概略構成を示す模式図である。
〔第1実施形態〕
本発明の一実施形態(第1実施形態)に係る屈折率測定装置100の概略構成を示す模式図である。以下、図1を参照して屈折率測定装置100の構成と、屈折率測定装置100を用いて実施する一実施形態に係る屈折率測定方法の各工程とを説明する。
図1に示すように、屈折率測定装置100は、光源3と、光源3から出射する光の経路を規定する光学系(第1ビームスプリッタ4、ミラー6、第2ビームスプリッタ7、ミラー8および部分反射鏡30)と、光検出器51および52を備えており、これらにより、マイケルソン干渉計31(第2光路長変化測定手段)およびマッハ・ツェンダー干渉計9(第1光路長変化測定手段)を構成している。
そして、屈折率測定装置100の内部には、屈折率の測定対象である被測定プリズム1が、補償用プリズム2と対をなして配置されている(プリズム対を形成している)。図1に示すように、被測定プリズム1の斜面11と、補償用プリズム2の斜面21とが、平行に向かい合うように近接して配置されている。
被測定プリズム1は、被測定物体の全体またはその被測定物体の少なくとも上記光学系により規定される光の経路が通過する部分であり、プリズム状(すなわち、斜面11と、底面12とを有する形状であり、くさび状を含む)に形成されている。すなわち、干渉計による測定のために用いる光が通過する部分が、上述したようなプリズム状の形状であればよく、他の部分の形状は適宜改変し得る。なお、被測定プリズム1は固体に限定されず、当該部分がプリズム状の容器に被測定液体を満たしたものであってもよい。また、補償用プリズム2の材質は、後述するように特に限定されない。
図1に示すように、光源3から出射した光は、レンズ10を介して、進行方向に対して斜め45°に設けられた第1ビームスプリッタ4によって透過光と反射光とに2分される。第1ビームスプリッタ4を透過した光は、被測定プリズム1の底面12に垂直に入射して、補償用プリズム2の底面22から出射する。被測定プリズム1の底面12とは、上記透過光を入射させる面であり、好ましくは、上記透過光の進行方向に対して垂直な面であり得る。これに対して、被測定プリズム1の斜面11は、上記透過光の進行方向に対して斜めに設けられていることが好ましい。
なお、被測定プリズム1の斜面11における全反射を避け、補償用プリズム2方向へ光を出射させるために、被測定プリズム1と補償用プリズム2の間に適当な屈折率nLの屈折率マッチング液5を満たしておく。屈折率マッチング液5としては、例えば、カーギル標準屈折液を用いることができる。
補償用プリズム2の底面22から出射した光は、進行方向に対して斜め45°に設けられたミラー8によって反射され、さらに第2ビームスプリッタ7によって反射される。
一方、第1ビームスプリッタ4によって反射された光は、部分反射鏡30を通過した後、進行方向に対して斜め45°に設けられたミラー6によって反射され、第2ビームスプリッタ7に到達する。これにより、第1ビームスプリッタ4を透過して第2ビームスプリッタ7に到達した第1の光と第1ビームスプリッタ4を反射して第2ビームスプリッタ7に到達した第3の光とが干渉された合成波が生成される。
上述したように、上記第1の光は、被測定プリズム1内を通過しており、上記第3の光は、被測定プリズム1内を通過していない。よって、光検出器51により上記合成波の干渉強度を測定することにより、全体としてマッハ・ツェンダー干渉計9を構成して、上記合成波による位相測定を行うことができる。
また、光源3から出射して第1ビームスプリッタ4を透過した光の一部は、図1の破線で示すように、被測定プリズム1の底面12によって垂直に反射され、さらに第1ビームスプリッタ4によって反射される。一方、光源3から出射して第1ビームスプリッタ4によって反射された光の一部は、進行方向に垂直に設けられた部分反射鏡30によって垂直に反射され、元の経路を戻り、第1ビームスプリッタ4を透過する。これにより、第1ビームスプリッタ4を透過して第1ビームスプリッタ4に戻った第2の光と第1ビームスプリッタ4を反射して第1ビームスプリッタ4に戻った第4の光とが干渉された合成波が生成される。
上述したように、上記第2の光は、被測定プリズム1によって反射されており、上記第3の光は、被測定プリズム1によって反射されていない。よって、光検出器52により上記合成波の干渉強度を測定することにより、全体としてマイケルソン干渉計31を構成して、上記合成波による位相測定を行うことができる。
ここで、屈折率測定装置100が備える被測定物移動手段は、被測定プリズム1を光学系に対して相対的に、斜面11の面内方向(例えば、図中、白矢印で示した方向)に移動させる。移動後の被測定プリズム1を、被測定プリズム1’として、図に破線で示す。上記被測定物移動手段としては、例えば、被測定プリズム1の下に設けられ、被測定プリズム1を載置する図示しない電動ステージを用いることができる。なお、斜面11の面内方向とは、被測定プリズム1の、補償用プリズム2に対向する面(斜面11)と平行な方向である。
なお、補償用プリズム2は、光学系に対して相対的に固定されている。上記プリズム対が形成されていることによって、被測定プリズム1を正確に斜面11の面内方向に移動させることができる。
ここで、マッハ・ツェンダー干渉計9の測定干渉信号(光検出器51の測定結果)の変化量から、第1の光の光路長変化Yを測定し、マイケルソン干渉計31の測定干渉信号(光検出器52の測定結果)の変化量から、第2の光の光路長変化を測定する。
被測定プリズム1の底面12に垂直な方向の幾何学的変位量をDとすると、マッハ・ツェンダー干渉計9内の光路長変化Yは、(n−n)Dとなる。なお、(n)は被測定プリズム1の屈折率、(n)は空気の屈折率である。また、マイケルソン干渉計31内の光路長変化Xは、nDとなる。マッハ・ツェンダー干渉計9の測定干渉信号の変化量から求められる光路長変化Yと、マイケルソン干渉計31の測定干渉信号の変化量から求められる光路長変化Xを用いると、被測定プリズム1の屈折率nは、下記式(1)
=(Y/X+1)n (1)
により求めることができる。なお、上記は、被測定プリズム1の移動に伴う変化を測定しているため、補償用プリズム2および屈折率マッチング液5の屈折率は、測定結果に影響を及ぼさない。
ここで、光源3の真空中波長をλ、マッハ・ツェンダー干渉計9で測定される位相変化量をφ、マイケルソン干渉計31で測定される位相変化量をφとすると、
Y=λφ/2π (2)
X=λφ/2π (3)
と表されるので、(1)式は、
=(Y/X+1)n=(φ/φ+1)n (4)
と表すことができ、真空波長の絶対値λはキャンセルされ、真空波長の絶対値λの影響を受けることなく、被測定プリズム1の屈折率nを算出することができる。
本発明に係る屈折率測定装置および屈折率測定方法は、例えば、上述のように構成することにより、上述のような簡単な構成で光路長変化量測定に関する光源波長の不確かさをキャンセルし、極めて高精度の屈折率の測定を可能とする。以下、本発明に係る屈折率測定装置および屈折率測定方法のさらなる改良について言及する。
〔第2実施形態〕
図2は、本発明の一実施形態(第2実施形態)に係る屈折率測定装置110の概略構成を示す模式図である。以下、図2を参照して屈折率測定装置110の構成と、屈折率測定装置110を用いて実施する一実施形態に係る屈折率測定方法の各工程とを説明する。なお、屈折率測定装置100と同様の部材には同じ符号を付して説明を省略する。
図2に示すように、屈折率測定装置110は、屈折率測定装置100に対して、波長が既知の光源(第2の光源)40が追加されており、マイケルソン干渉計31(第2光路長変化測定手段、第3光路長変化測定手段)内に、第3ビームスプリッタ41、ダイクロイックミラー42および光検出器53がさらに設けられている点で異なっている。
光源40としては、予め判明している特定の波長の光を出射する光源であればよく、例えば、レーザを用いることができる。
光源40から出射された光は、図2中の一点鎖線で示すように、進行方向に対して斜め45°に設けられた第3ビームスプリッタ41およびダイクロイックミラー42をそれぞれ透過した後、第1ビームスプリッタ4において、透過光と反射光に2分される。ここで、光源40から出射して第1ビームスプリッタ4によって反射された光(第5の光)は、光源3から出射して第1ビームスプリッタ4を透過した光と重なり、光源40から出射して第1ビームスプリッタ4を透過した光(第6の光)は、光源3から出射して第1ビームスプリッタ4によって反射された光と重なる。よって、それぞれの光は、上述した第2の光および第4の光と同軸の経路をたどる。すなわち、上記第5の光は、被測定プリズム1の底面12において、上記第2の光と同じ位置かつ同じ反射角で反射され、さらに第1ビームスプリッタ4において反射される。一方、上記第6の光は、部分反射鏡30において垂直に反射され第1ビームスプリッタ4に戻る。これにより、第5の光と第6の光とが干渉された合成波が生成される。なお、光源3由来の合成波と、光源40由来の合成波は、進行方向に対して斜め45°に設けたダイクロイックミラー42によって分離する。光検出器52は、ダイクロイックミラー42によって反射された光源3由来の合成波を検出し、光検出器53は、ダイクロイックミラー42を透過し、第3ビームスプリッタ41により反射された光源40由来の合成波を検出する。
上述したように、上記第5の光は、被測定プリズム1によって反射されており、上記第6の光は、被測定プリズム1によって反射されていない。よって、光検出器53により上記光源40由来の合成波の干渉強度を測定することにより、全体としてマイケルソン干渉計31を構成して、上記合成波による位相測定を行うことができる。
ここで、第1の実施形態と同様に被測定プリズム1を特定方向に移動させ、それぞれの光の光路長の変化を測定する。
光源40の真空波長をλ40、上記のように測定される位相変化量をφX40とすると、光検出器53で測定される、マイケルソン干渉計31の光源40の測定干渉信号の変化量X40は、
40=λ40φX40/2π (5)
とも表される。(3)式はnDに等しく、(5)式はna40Dと等しい。ここでna40は、真空波長λ40における空気屈折率である。これらを比較することにより、
λ=λ40φX40/(φa40) (6)
と、光源3の真空波長λを求めることができる。
これにより、本発明に係る屈折率測定装置および屈折率測定方法は、光源3の波長を正確に求め、校正することにより、屈折率分散を介した屈折率の不確かさを明確にすることが可能となる。なお、光源3の波長の不確かさが、屈折率分散を介して屈折率測定に与える大きさが無視できる程度には既知の場合は、光源40によるマイケルソン干渉計を併用せず、光源3のみで屈折率測定を行ってもよい。
また本発明で用いる干渉計については、任意の光(合成波)の光路長の変化を測定し得るものであればよく、上述のようなマッハ・ツェンダー干渉計以外にマイケルソン干渉計も用いることができ、更に通称二光束干渉計と呼ばれる種類の種々のその他の干渉計を用いることができる。
なお、本発明に係る屈折率測定方法では、上述したような光の経路を規定する光学系を形成する工程を含むことができる。
このように、本発明は、干渉計測における光源波長の不確かさの影響を低減させ、かつ光源波長を同時に校正することが可能な、高精度の屈折率の計測を行うことができるようにするために、被測定プリズム1と補償用プリズム2の斜面11、21を近接対向配置してプリズム対を形成し、これをマッハ・ツェンダー干渉計9の中に配置し、マイケルソン干渉計31によって被測定プリズムの移動量を測定可能とする。被測定プリズム1を補償用プリズム2に向かい合っている面内で平行移動させ、干渉計中の被測定プリズム1中の光路長を変化させ、被測定プリズム1中の光路長変化と、マイケルソン干渉計31で測定した、被測定プリズム1で反射された光の光路長変化から求められる被測定プリズム1の移動量との関係から、被測定プリズム1の屈折率を求める。ここで、二つの干渉計に同一光源を用いて波長の絶対値の影響をキャンセルする。さらに、波長既知の別の光源40を、光源3からの光と同軸に導入し、被測定プリズム1の移動量を同時に測定することにより、屈折率測定用の光源3の波長を同時に校正することができる。
これにより、本発明は、光路長変化測定における波長の不確かさの影響をキャンセルして干渉計測の精度を向上させることができ、また、波長を同時に校正することにより波長の不確かさを明確にし、屈折率分散を介した屈折率測定の不確かさも明確にし、屈折率の標準測定装置としても使用可能な、高精度の屈折率の計測を行うことができるようになる。
本発明は上記のように構成したので、光路長変化測定における波長の不確かさの影響をキャンセルし、波長を同時に校正するという課題を、被測定プリズムと補償用プリズムの斜面を近接対向配置してプリズム対を形成し、前記プリズム対を干渉計の中に配置し、前記被測定プリズムを、補償用プリズムに向かい合っている面内で平行移動させて、干渉計中の被測定プリズム中の光路長を変化させ、前記被測定プリズム中光路長変化と、被測定プリズム移動量の測定に同一の光源を用い、被測定プリズム移動量測定用の干渉計に波長既知の別の光源を同軸に入射する屈折率測定方法、及び被測定プリズムと補償用プリズムの斜面を近接対向配置してプリズム対を構成し、前記プリズム対を干渉計の中に配置し、前記被測定プリズムを、補償用プリズムに向かい合っている面内で平行移動させて、干渉計中の被測定プリズム中の光路長を変化させる手段を備え、前記被測定プリズム中光路長変化と、被測定プリズム移動量の測定に同一の光源を用い、被測定プリズム移動量測定用の干渉計に波長既知の別の光源を同軸に入射する屈折率測定装置により実現した。
本発明は上述した各実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。
本発明は、屈折率標準、光学ガラス産業、プラスチック産業等において用いられる精密屈折率計測技術に利用することができる。
1、1’ 被測定プリズム(被測定プリズム)
2 補償用プリズム
3 光源(第1の光源)
4 第1ビームスプリッタ
5 屈折率マッチング液
6 ミラー
7 第2ビームスプリッタ
8 ミラー
9 干渉計(第1光路長変化測定手段)
11、13、21、23 斜面
12、22 底面
30 部分反射鏡
31 干渉計(第2光路長変化測定手段、第3光路長変化測定手段)
40 光源(第2の光源)
41 第3ビームスプリッタ
42 ダイクロイックミラー
51、52、53 光検出器
100、110 屈折率測定装置

Claims (8)

  1. 干渉計を用いて被測定プリズムの屈折率を測定する屈折率測定方法であって、
    上記干渉計内に配置した上記被測定プリズムを特定方向に移動させて、第1の光源から出射して上記被測定プリズムを通過する第1の光の光路長と、同じ上記第1の光源から出射して上記被測定プリズムによって反射される第2の光の光路長とをそれぞれ変化させ、それらの変化を測定し、
    測定した、上記第1の光の光路長の変化と上記第2の光の光路長の変化との関係に基づいて、上記被測定プリズムの屈折率を算出することを特徴とする屈折率測定方法。
  2. 上記被測定プリズムおよび補償用プリズムの斜面同士を対向させてなるプリズム対が上記干渉計内に配置されており、
    上記特定方向は、上記被測定プリズムの上記斜面の面内方向であることを特徴とする請求項1に記載の屈折率測定方法。
  3. 上記第1の光と、上記第1の光源から出射して上記被測定プリズムを通過しない第3の光との干渉を検出することにより上記第1の光の光路長の変化を測定するとともに、上記第2の光と、上記第1の光源から出射して上記被測定プリズムによって反射されない第4の光との干渉を検出することにより上記第2の光の光路長の変化を測定することを特徴とする請求項1または2に記載の屈折率測定方法。
  4. 上記被測定プリズムを上記特定方向に移動させたときの、特定の波長の光を出射する第2の光源から出射して、上記第2の光と同じ位置かつ同じ反射角で上記被測定プリズムによって反射される第5の光の光路長の変化をさらに測定し、
    測定した、上記第2の光の光路長の変化と上記第5の光の光路長の変化との関係に基づいて、上記第1の光源が出射する光の波長を算出することを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の屈折率測定方法。
  5. 内部に配置された被測定プリズムの屈折率を測定する屈折率測定装置であって、
    第1の光源と、
    上記第1の光源から出射する光の経路を規定する光学系と、
    上記被測定プリズムを特定方向に移動させて、上記第1の光源から出射して上記被測定プリズムを通過する第1の光の光路長と、同じ上記第1の光源から出射して上記被測定プリズムによって反射される第2の光の光路長とをそれぞれ変化させる被測定プリズム移動手段と、
    上記被測定プリズム移動手段が上記被測定プリズムを移動させたときの上記第1の光の光路長の変化を測定する第1光路長変化測定手段と、
    上記被測定プリズム移動手段が上記被測定プリズムを移動させたときの上記第2の光の光路長の変化を測定する第2光路長変化測定手段とを備えており、
    上記第1光路長変化測定手段が測定した上記第1の光の光路長の変化と、上記第2光路長変化測定手段が測定した上記第2の光の光路長の変化との関係に基づいて、上記被測定プリズムの屈折率を算出することを特徴とする屈折率測定装置。
  6. 上記被測定プリズムおよび補償用プリズムの斜面同士を対向させてなるプリズム対が上記屈折率測定装置内に配置されており、
    上記特定方向は、上記被測定プリズムの上記斜面の面内方向であることを特徴とする請求項5に記載の屈折率測定装置。
  7. 上記光学系は、上記第1の光と、上記第1の光源から出射して上記被測定プリズムを通過しない第3の光とを干渉させるとともに、上記第2の光と、上記第1の光源から出射して上記被測定プリズムによって反射されない第4の光とを干渉させ、
    上記第1光路長変化測定手段は、上記第1の光と上記第3の光との上記干渉を検出することにより上記第1の光の光路長の変化を測定し、
    上記第2光路長変化測定手段は、上記第2の光と上記第4の光との上記干渉を検出することにより上記第2の光の光路長の変化を測定することを特徴とする請求項5または6に記載の屈折率測定装置。
  8. 上記被測定プリズムを上記特定方向に移動させたときの、特定の波長の光を出射する第2の光源から出射して、上記第2の光と同じ位置かつ同じ反射角で上記被測定プリズムによって反射される第5の光の光路長の変化を測定する第3光路長変化測定手段をさらに備え、
    上記第2光路長変化測定手段が測定した上記第2の光の光路長の変化と、上記第3光路長変化測定手段が測定した上記第5の光の光路長の変化との関係に基づいて、上記第1の光源が出射する光の波長を算出することを特徴とする請求項5から7のいずれか1項に記載の屈折率測定装置。
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