JP2010229090A - 遷移金属錯体の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】収率及び純度に優れる遷移金属錯体の製造方法を提供すること。
【解決手段】アミン化合物の存在下、特定のシクロペンタジエン化合物と有機リチウム化合物とを反応後、続いて特定の遷移金属化合物を反応させて得た反応液に溶媒を添加した後アミン化合物と溶媒とを留去し、最後に濃縮液をろ過してろ液を得ることで下記一般式（３）で表される遷移金属錯体を製造する。

（式中、Ｍは第４族の遷移金属原子を表し、Ｘ¹及びＸ²は、ハロゲン原子を表し、Ａは、第１６族の原子を表し、Ｅは、第１４族の原子を表し、Ｒ¹〜Ｒ⁶は、水素原子、アルキル基等を表し、Ｃｐ²はシクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基を表す。）
【選択図】なし

Description

本発明は、遷移金属錯体の製造方法に関するものである。

ジメチルシリレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド等のハーフメタロセン型遷移金属錯体は、オレフィン重合において高活性で飽和炭化水素溶媒に可溶な錯体として知られている（例えば、特許文献１参照）。特許文献１には、前記遷移金属錯体の製造方法として、反応後に得られた反応混合物を濾過し、濾液から溶媒を留去し、再結晶を行うことにより前記遷移金属錯体を得る方法が記載されている。

特開平９−８７３１３号公報（１９９７年３月３１日公開）

しかしながら、所望の遷移金属錯体の収率及び純度の向上が求められていた。本発明の課題は、収率及び純度に優れる遷移金属錯体の製造方法を提供することにある。

上記の課題を解決するために、本発明は、アミン化合物の存在下、下記一般式（１）で表されるシクロペンタジエン化合物と、有機リチウム化合物とを反応させて得られた生成物と、下記一般式（２）で表される遷移金属化合物とを反応させて反応液を得る工程（工程１）、工程１で得られた反応液に、溶媒を添加し、アミン化合物と、溶媒とを留去して濃縮液を得る工程（工程２）、及び工程２で得られた濃縮液をろ過してろ液を得る工程（工程３）を含む下記一般式（３）で表される遷移金属錯体の製造方法にかかるものである。

（式中、Ａは、元素の周期律表の第１６族の原子を表し、Ｅは、元素の周期律表の第１４族の原子を表し、Ｃｐ^１は、シクロペンタジエン骨格を有する基を表す。Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶は、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、置換基を有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたシリル基、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、置換基を有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、置換基を有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基又は置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換された２置換アミノ基を表し、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶は、互いに同じであっても異なっていてもよい。Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶のうち隣接する２つの基は任意に結合して環を形成していてもよい。Ｒ⁷は、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基又は置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換された３置換シリル基を表す。）

（式中、Ｍは元素の周期律表の第４族の遷移金属原子を表す。Ｘ¹及びＸ²は、ハロゲン原子を表し、Ｘ¹及びＸ²は、互いに同じであっても異なっていてもよい。Ｘ³及びＸ⁴は、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、置換基を有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたシリル基、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、置換基を有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、置換基を有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基又は炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換された２置換アミノ基を表し、Ｘ³及びＸ⁴は、互いに同じであっても異なっていてもよい。）

（式中、Ｍ、Ａ、Ｅ、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｘ¹及びＸ²は、それぞれ前記と同じ意味を表し、Ｃｐ²はシクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基を表す。）

本発明によれば、所望の遷移金属錯体を優れた収率および純度で得ることができる。

以下、本発明の実施の形態について、詳細に説明する。本発明の下記一般式（３）で表される遷移金属錯体の製造方法は、アミン化合物の存在下、下記一般式（１）で表されるシクロペンタジエン化合物と、有機リチウム化合物とを反応させて得られた生成物と、下記一般式（２）で表される遷移金属化合物とを反応させて反応液を得る工程（工程１）、工程１で得られた反応液に、溶媒を添加し、アミン化合物と、溶媒とを留去して濃縮液を得る工程（工程２）、及び工程２で得られた濃縮液をろ過してろ液を得る工程（工程３）を含むものである。

［一般式（１）〜（３）において、Ａは、元素の周期律表の第１６族の原子を表し、Ｅは、元素の周期律表の第１４族の原子を表し、Ｃｐ^１は、シクロペンタジエン骨格を有する基を表し、Ｃｐ²はシクロペンタジエニル骨格を有する基を表す。Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶は、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、置換基を有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたシリル基、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、置換基を有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、置換基を有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基又は置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換された２置換アミノ基を表し、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶は、互いに同じであっても異なっていてもよい。Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶のうち隣接する２つの基は任意に結合して環を形成していてもよい。Ｒ⁷は、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基又は置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換された３置換シリル基を表す。Ｍは、元素の周期律表の第４族の遷移金属原子を表す。Ｘ¹及びＸ²は、ハロゲン原子を表し、Ｘ¹及びＸ²は、互いに同じであっても異なっていてもよい。Ｘ³及びＸ⁴は、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、置換基を有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたシリル基、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、置換基を有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、置換基を有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基又は炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換された２置換アミノ基を表し、Ｘ³及びＸ⁴は、互いに同じであっても異なっていてもよい。］

上記一般式（１）〜（３）において、Ａにおける元素の周期律表（ＩＵＰＡＣ無機化学命名法改定版１９８９）の第１６族の原子としては、例えば、酸素原子、硫黄原子、セレン原子等が挙げられ、好ましくは酸素原子である。

Ｅにおける元素の周期律表の第１４族の原子としては、例えば、炭素原子、ケイ素原子、ゲルマニウム原子、スズ原子、鉛原子等が挙げられ、好ましくは炭素原子又はケイ素原子であり、より好ましくはケイ素原子である。

Ｃｐ¹におけるシクロペンタジエン骨格を有する基としては、例えば、シクロぺンタジエニル基、メチルシクロペンタジエニル基、ジメチルシクロペンタジエニル基、トリメチルシクロペンタジエニル基、テトラメチルシクロペンタジエニル基、エチルシクロぺンタジエニル基、ｎ−プロピルシクロペンタジエニル基、イソプロピルシクロペンタジエニル基、ｎ−ブチルシクロペンタジエニル基、ｓｅｃ−ブチルシクロペンタジエニル基、ｔｅｒｔ−ブチルシクロぺンタジエニル基、ｎ−ペンチルシクロぺンタジエニル基、ネオペンチルシクロぺンタジエニル基、ｎ−ヘキシルシクロぺンタジエニル基、ｎ−オクチルシクロぺンタジエニル基、フェニルシクロぺンタジエニル基、ナフチルシクロぺンタジエニル基、トリメチルシリルシクロぺンタジエニル基、トリエチルシリルシクロぺンタジエニル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルシクロぺンタジエニル基、インデニル基、メチルインデニル基、ジメチルインデニル基、エチルインデニル基、ｎ−プロピルインデニル基、イソプロピルインデニル基、ｎ−ブチルインデニル基、ｓｅｃ−ブチルインデニル基、ｔｅｒｔ−ブチルインデニル基、ｎ−ペンチルインデニル基、ネオペンチルインデニル基、ｎ−ヘキシルインデニル基、ｎ−オクチルインデニル基、ｎ−デシルインデニル基、フェニルインデニル基、メチルフェニルインデニル基、ナフチルインデニル基、トリメチルシリルインデニル基、トリエチルシリルインデニル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルインデニル基、テトラヒドロインデニル基、フルオレニル基、メチルフルオレニル基、ジメチルフルオレニル基、エチルフルオレニル基、ジエチルフルオレニル基、ｎ−プロピルフルオレニル基、ジ−ｎ−プロピルフルオレニル基、イソプロピルフルオレニル基、ジイソプロピルフルオレニル基、ｎ−ブチルフルオレニル基、ｓｅｃ−ブチルフルオレニル基、ｔｅｒｔ−ブチルフルオレニル基、ジ−ｎ−ブチルフルオレニル基、ジ−ｓｅｃ−ブチルフルオレニル基、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフルオレニル基、ｎ−ペンチルフルオレニル基、ネオペンチルフルオレニル基、ｎ−ヘキシルフルオレニル基、ｎ−オクチルフルオレニル基、ｎ−デシルフルオレニル基、ｎ−ドデシルフルオレニル基、フェニルフルオレニル基、ジ−フェニルフルオレニル基、メチルフェニルフルオレニル基、ナフチルフルオレニル基、トリメチルシリルフルオレニル基、ビス−トリメチルシリルフルオレニル基、トリエチルシリルフルオレニル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルフルオレニル基等が挙げられ、好ましくはシクロペンタジエニル基、メチルシクロペンタジエニル基、ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル基、テトラメチルシクロペンタジエニル基、フルオレニル基又はインデニル基である。

Ｒ¹〜Ｒ⁶及びＸ^１〜Ｘ^４におけるハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。

Ｒ¹〜Ｒ⁶及びＸ^３、Ｘ^４における置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０の炭素原子数１〜２０のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ネオペンチル基、アミル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−ペンタデシル基、ｎ−エイコシル基等が挙げられ、好ましくはメチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基又はアミル基である。

炭素原子数１〜２０のアルキル基の置換基としては、例えば、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基等が挙げられる。ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基等が挙げられる。アリールオキシ基としては、例えば、フェノキシ基等が挙げられる。アラルキルオキシ基としては、例えば、ベンジルオキシ基等が挙げられる。

ハロゲン原子で置換された炭素原子数１〜２０のアルキル基としては、例えば、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、クロロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、ブロモメチル基、ジブロモメチル基、トリブロモメチル基、ヨードメチル基、ジヨードメチル基、トリヨードメチル基、フルオロエチル基、ジフルオロエチル基、トリフルオロエチル基、テトラフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、クロロエチル基、ジクロロエチル基、トリクロロエチル基、テトラクロロエチル基、ペンタクロロエチル基、ブロモエチル基、ジブロモエチル基、トリブロモエチル基、テトラブロモエチル基、ペンタブロモエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロペンチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基、パーフルオロドデシル基、パーフルオロペンタデシル基、パーフルオロエイコシル基、パークロロプロピル基、パークロロブチル基、パークロロペンチル基、パークロロヘキシル基、パークロロクチル基、パークロロドデシル基、パークロロペンタデシル基、パークロロエイコシル基、パーブロモプロピル基、パーブロモブチル基、パーブロモペンチル基、パーブロモヘキシル基、パーブロモオクチル基、パーブロモドデシル基、パーブロモペンタデシル基、パーブロモエイコシル基等が挙げられる。

Ｒ¹〜Ｒ^６及びＸ^３、Ｘ^４における置換基を有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基の炭素原子数７〜２０のアラルキル基としては、例えば、ベンジル基、（２−メチルフェニル）メチル基、（３−メチルフェニル）メチル基、（４−メチルフェニル）メチル基、（２，３−ジメチルフェニル）メチル基、（２，４−ジメチルフェニル）メチル基、（２，５−ジメチルフェニル）メチル基、（２，６−ジメチルフェニル）メチル基、（３，４−ジメチルフェニル）メチル基、（３，５−ジメチルフェニル）メチル基、（２，３，４−トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，５−トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，６−トリメチルフェニル）メチル基、（３，４，５−トリメチルフェニル）メチル基、（２，４，６−トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，４，５−テトラメチルフェニル）メチル基、（２，３，４，６−テトラメチルフェニル）メチル基、（２，３，５，６−テトラメチルフェニル）メチル基、（ペンタメチルフェニル）メチル基、（エチルフェニル）メチル基、（ｎ−プロピルフェニル）メチル基、（イソプロピルフェニル）メチル基、（ｎ−ブチルフェニル）メチル基、（ｓｅｃ−ブチルフェニル）メチル基、（ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）メチル基、（ｎ−ペンチルフェニル）メチル基、（ネオペンチルフェニル）メチル基、（ｎ−ヘキシルフェニル）メチル基、（ｎ−オクチルフェニル）メチル基、（ｎ−デシルフェニル）メチル基、ナフチルメチル基、アントラセニルメチル基等が挙げられ、好ましくはベンジル基である。

炭素原子数７〜２０のアラルキル基の置換基としては、前記炭素原子数１〜２０のアルキル基の置換基として例示したものと同じものを挙げることができる。

Ｒ¹〜Ｒ^６及びＸ^３、Ｘ^４における置換基を有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基の炭素原子数６〜２０のアリール基としては、例えば、フェニル基、２−トリル基、３−トリル基、４−トリル基、２，３−キシリル基、２，４−キシリル基、２，５−キシリル基、２，６−キシリル基、３，４−キシリル基、３，５−キシリル基、２，３，４−トリメチルフェニル基、２，３，５−トリメチルフェニル基、２，３，６−トリメチルフェニル基、２，４，６−トリメチルフェニル基、３，４，５−トリメチルフェニル基、２，３，４，５−テトラメチルフェニル基、２，３，４，６−テトラメチルフェニル基、２，３，５，６−テトラメチルフェニル基、ペンタメチルフェニル基、エチルフェニル基、ｎ−プロピルフェニル基、イソプロピルフェニル基、ｎ−ブチルフェニル基、ｓｅｃ−ブチルフェニル基、ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、ｎ−ペンチルフェニル基、ネオペンチルフェニル基、ｎ−ヘキシルフェニル基、ｎ−オクチルフェニル基、ｎ−デシルフェニル基、ｎ−ドデシルフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等が挙げられ、好ましくはフェニル基である。

炭素原子数６〜２０のアリール基の置換基としては、前記炭素原子数１〜２０のアルキル基の置換基として例示したものと同じものを挙げることができる。

Ｒ¹〜Ｒ^６及びＸ^３、Ｘ^４における置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたシリル基の炭素原子数１〜２０の炭化水素基としては、例えば、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基等が挙げられる。炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基としては、前記に例示したものと同じものを例示することができる。

Ｒ¹〜Ｒ^６及びＸ^３、Ｘ^４における置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたシリル基の炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたシリル基としては、例えば、１つの炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換された１置換シリル基、２つの炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換された２置換シリル基、３つの炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換された３置換シリル基等が挙げられる。１つの炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換された１置換シリル基としては、例えば、メチルシリル基、エチルシリル基、フェニルシリル基等が挙げられる。２つの炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換された２置換シリル基としては、例えば、ジメチルシリル基、ジエチルシリル基、ジフェニルシリル基等が挙げられる。３つの炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換された３置換シリル基としては、例えば、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリ−ｎ−プロピルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリ−ｎ−ブチルシリル基、トリ−ｓｅｃ−ブチルシリル基、トリ−ｔｅｒｔ−ブチルシリル基、トリ−イソブチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチル−ジメチルシリル基、トリ−ｎ−ペンチルシリル基、トリ−ｎ−ヘキシルシリル基、トリシクロヘキシルシリル基、トリフェニルシリル基等が挙げられる。炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたシリル基として、好ましくは３つの炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換された３置換シリル基であり、より好ましくはトリメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基またはトリフェニルシリル基である。

炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたシリル基の炭素原子数１〜２０の炭化水素基の置換基としては、前記炭素原子数１〜２０のアルキル基の置換基として例示したものと同じものを挙げることができる。

Ｒ¹〜Ｒ^６及びＸ^３、Ｘ^４における置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基の炭素原子数１〜２０のアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ペントキシ基、ネオペントキシ基、ｎ−ヘキソキシ基、ｎ−オクトキシ基、ｎ−ドデソキシ基、ｎ−ペンタデソキシ基、ｎ−イコソキシ基等が挙げられ、好ましくはメトキシ基、エトキシ基、ｔ−ブトキシ基である。

炭素原子数１〜２０のアルコキシ基の置換基としては、前記炭素原子数１〜２０のアルキル基の置換基として例示したものと同じものを挙げることができる。

Ｒ¹〜Ｒ^６及びＸ^３、Ｘ^４における置換基を有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基の炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基としては、例えば、ベンジルオキシ基、（２−メチルフェニル）メトキシ基、（３−メチルフェニル）メトキシ基、（４−メチルフェニル）メトキシ基、（２，３−ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，４−ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，５−ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，６−ジメチルフェニル）メトキシ基、（３，４−ジメチルフェニル）メトキシ基、（３，５−ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，４−トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，５−トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，６−トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，４，５−トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，４，６−トリメチルフェニル）メトキシ基、（３，４，５−トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，４，５−テトラメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，４，６−テトラメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，５，６−テトラメチルフェニル）メトキシ基、（ペンタメチルフェニル）メトキシ基、（エチルフェニル）メトキシ基、（ｎ−プロピルフェニル）メトキシ基、（イソプロピルフェニル）メトキシ基、（ｎ−ブチルフェニル）メトキシ基、（ｓｅｃ−ブチルフェニル）メトキシ基、（ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）メトキシ基、（ｎ−ヘキシルフェニル）メトキシ基、（ｎ−オクチルフェニル）メトキシ基、（ｎ−デシルフェニル）メトキシ基、ナフチルメトキシ基、アントラセニルメトキシ基等が挙げられ、好ましくはベンジルオキシ基である。

炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基の置換基としては、前記炭素原子数１〜２０のアルキル基の置換基として例示したものと同じものを挙げることができる。

Ｒ¹〜Ｒ^６及びＸ^３、Ｘ^４における置換基を有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基の炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基としては、例えば、フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、３−メチルフェノキシ基、４−メチルフェノキシ基、２，３−ジメチルフェノキシ基、２，４−ジメチルフェノキシ基、２，５−ジメチルフェノキシ基、２，６−ジメチルフェノキシ基、３，４−ジメチルフェノキシ基、３，５−ジメチルフェノキシ基、２，３，４−トリメチルフェノキシ基、２，３，５−トリメチルフェノキシ基、２，３，６−トリメチルフェノキシ基、２，４，５−トリメチルフェノキシ基、２，４，６−トリメチルフェノキシ基、３，４，５−トリメチルフェノキシ基、２，３，４，５−テトラメチルフェノキシ基、２，３，４，６−テトラメチルフェノキシ基、２，３，５，６−テトラメチルフェノキシ基、ペンタメチルフェノキシ基、エチルフェノキシ基、ｎ−プロピルフェノキシ基、イソプロピルフェノキシ基、ｎ−ブチルフェノキシ基、ｓｅｃ−ブチルフェノキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ基、ｎ−ヘキシルフェノキシ基、ｎ−オクチルフェノキシ基、ｎ−デシルフェノキシ基、ｎ−テトラデシルフェノキシ基、ナフトキシ基、アントラセノキシ基等が挙げられる。

炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基の置換基としては、前記炭素原子数１〜２０のアルキル基の置換基として例示したものと同じものを挙げることができる。

Ｒ¹〜Ｒ^６及びＸ^３、Ｘ^４における置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換された２置換アミノ基の炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換された２置換アミノ基とは、２つの炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたアミノ基である。置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換された２置換アミノ基の炭素原子数１〜２０の炭化水素基としては、前記置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたシリル基の炭素原子数１〜２０の炭化水素基として例示したものと同じものを例示することができる。炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換された２置換アミノ基としては、例えば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ−ｎ−プロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジ−ｎ−ブチルアミノ基、ジ−ｓｅｃ−ブチルアミノ基、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアミノ基、ジ−イソブチルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブチルイソプロピルアミノ基、ジ−ｎ−ヘキシルアミノ基、ジ−ｎ−オクチルアミノ基、ジ−ｎ−デシルアミノ基、ジフェニルアミノ基、ビストリメチルシリルアミノ基、ビス−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルアミノ基等が挙げられ、好ましくはジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基である。

炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換された２置換アミノ基の炭素原子数１〜２０の炭化水素基の置換基としては、前記炭素原子数１〜２０のアルキル基の置換基として例示したものと同じものを挙げることができる。

また、置換基Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６のうち隣接する２つの基は任意に結合して環を形成していてもよい。

Ｒ^７における置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基としては、例えば、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素原子数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、置換基を有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基等が挙げられる。置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、置換基を有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基としては、前記Ｒ¹〜Ｒ^６及びＸ^３、Ｘ^４のところで例示したものと同じものを例示することができる。

置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基として、好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、メトキシメチル基またはメトキシエトキシメチル基である。
置換基を有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基として、好ましくは、ベンジル基、（４−メチルフェニル）メチル基または（２，４，６−トリメチルフェニル）メチル基である。

置換基を有していてもよい炭素原子数２〜２０のアルケニル基の炭素原子数２〜２０のアルケニル基としては、例えば、ビニル基、アリル基、プロペニル基、２−メチル−２−プロペニル基、ホモアリル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基、ノネニル基、デセニル基等が挙げられる。

炭素原子数２〜２０のアルケニル基の置換基としては、前記炭素原子数１〜２０のアルキル基の置換基として例示したものと同じものを挙げることができる。
ハロゲン原子で置換された炭素原子数２〜２０のアルケニル基としては、例えば、２−クロロ−２−プロペニル基等が挙げられる。

Ｒ^７における置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換された３置換シリル基の炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換された３置換シリル基とは、３つの炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたシリル基である。置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換された３置換シリル基の炭素原子数１〜２０の炭化水素基としては、前記置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたシリル基の炭素原子数１〜２０の炭化水素基として例示したものと同じものを例示することができる。炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換された３置換シリル基とは、例えば、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリ−ｎ−プロピルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリ−ｎ−ブチルシリル基、トリ−ｓｅｃ−ブチルシリル基、トリ−ｔｅｒｔ−ブチルシリル基、トリ−イソブチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチル−ジメチルシリル基、トリ−ｎ−ペンチルシリル基、トリ−ｎ−ヘキシルシリル基、トリシクロヘキシルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられ、好ましくは、トリメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、またはトリフェニルシリル基である。

Ｒ^７としては、収率よく上記一般式（３）で表される遷移金属錯体を製造し得る観点から、好ましくは炭素原子数２〜２０のアルケニル基、炭素原子数１〜１０のアルキル基であり、より好ましくはアリル基、メチル基であり、もっとも好ましくはアリル基である。

Ｍは、元素の周期律表の第４族の遷移金属原子であり、例えば、チタン原子、ジルコニウム原子、ハフニウム原子であり、好ましくはチタン原子である。

Ｃｐ²におけるシクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基としては、例えば、η^５−シクロぺンタジエニル基、η^５−メチルシクロペンタジエニル基、η⁵−ジメチルシクロペンタジエニル基、η^５−トリメチルシクロペンタジエニル基、η⁵−テトラメチルシクロペンタジエニル基、η^５−エチルシクロぺンタジエニル基、η^５−ｎ−プロピルシクロペンタジエニル基、η^５−イソプロピルシクロペンタジエニル基、η^５−ｎ−ブチルシクロペンタジエニル基、η^５−ｓｅｃ−ブチルシクロペンタジエニル基、η^５−ｔｅｒｔ−ブチルシクロぺンタジエニル基、η^５−ｎ−ペンチルシクロぺンタジエニル基、η^５−ネオペンチルシクロぺンタジエニル基、η^５−ｎ−ヘキシルシクロぺンタジエニル基、η^５−ｎ−オクチルシクロぺンタジエニル基、η^５−フェニルシクロぺンタジエニル基、η^５−ナフチルシクロぺンタジエニル基、η^５−トリメチルシリルシクロぺンタジエニル基、η^５−トリエチルシリルシクロぺンタジエニル基、η^５−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルシクロぺンタジエニル基、η^５−インデニル基、η^５−メチルインデニル基、η^５−ジメチルインデニル基、η^５−エチルインデニル基、η^５−ｎ−プロピルインデニル基、η^５−イソプロピルインデニル基、η^５−ｎ−ブチルインデニル基、η^５−ｓｅｃ−ブチルインデニル基、η^５−ｔｅｒｔ−ブチルインデニル基、η^５−ｎ−ペンチルインデニル基、η^５−ネオペンチルインデニル基、η^５−ｎ−ヘキシルインデニル基、η^５−ｎ−オクチルインデニル基、η^５−ｎ−デシルインデニル基、η^５−フェニルインデニル基、η^５−メチルフェニルインデニル基、η^５−ナフチルインデニル基、η5−トリメチルシリルインデニル基、η5−トリエチルシリルインデニル基、η^５−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルインデニル基、η^５−テトラヒドロインデニル基、η^５−フルオレニル基、η^５−メチルフルオレニル基、η^５−ジメチルフルオレニル基、η^５−エチルフルオレニル基、η^５−ジエチルフルオレニル基、η^５−ｎ−プロピルフルオレニル基、η^５−ジ−ｎ−プロピルフルオレニル基、η^５−イソプロピルフルオレニル基、η^５−ジイソプロピルフルオレニル基、η5−ｎ−ブチルフルオレニル基、η^５−ｓｅｃ−ブチルフルオレニル基、η^５−ｔｅｒｔ−ブチルフルオレニル基、η^５−ジ−ｎ−ブチルフルオレニル基、η^５−ジ−ｓｅｃ−ブチルフルオレニル基、η^５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフルオレニル基、η^５−ｎ−ペンチルフルオレニル基、η^５−ネオペンチルフルオレニル基、η^５−ｎ−ヘキシルフルオレニル基、η^５−ｎ−オクチルフルオレニル基、η^５−ｎ−デシルフルオレニル基、η^５−ｎ−ドデシルフルオレニル基、η^５−フェニルフルオレニル基、η^５−ジ−フェニルフルオレニル基、η^５−5−メチルフェニルフルオレニル基、η^５−ナフチルフルオレニル基、η^５−トリメチルシリルフルオレニル基、η^５−ビス−トリメチルシリルフルオレニル基、η^５−トリエチルシリルフルオレニル基、η^５−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルフルオレニル基等が挙げられ、好ましくはη^５−シクロペンタジエニル基、η^５−メチルシクロペンタジエニル基、η^５−ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル基、η^５−テトラメチルシクロペンタジエニル基、η^５−インデニル基又はη^５−フルオレニル基である。

上記一般式（１）で表されるシクロペンタジエン化合物は、例えば、特開平９−８７３１３号公報に記載された製造方法によって製造することができる。

上記一般式（１）で表されるシクロペンタジエン化合物としては、例えば、（２−アリロキシフェニル）（シクロペンタジエニル）ジエチルシラン、（２−アリロキシ−３−メチルフェニル）（シクロペンタジエニル）ジエチルシラン、（２−アリロキシ−３，５−ジメチルフェニル）（シクロペンタジエニル）ジエチルシラン、（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（シクロペンタジエニル）ジエチルシラン、（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）（シクロペンタジエニル）ジエチルシラン、（２−アリロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（シクロペンタジエニル）ジエチルシラン、（２−アリロキシ−５−メチル−３−フェニルフェニル）（シクロペンタジエニル）ジエチルシラン、（２−アリロキシ−５−メチル−３−トリメチルシリルフェニル）（シクロペンタジエニル）ジエチルシラン、（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチルフェニル）（シクロペンタジエニル）ジエチルシラン、（２−アリロキシ−３，５−ジアミルフェニル）（シクロペンタジエニル）ジエチルシラン、（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシフェニル）（シクロペンタジエニル）ジエチルシラン、（２−アリロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチル−３−クロロフェニル）（シクロペンタジエニル）ジエチルシラン、（１−アリロキシナフタレン−２−イル）（シクロペンタジエニル）ジエチルシラン、（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシフェニル）（シクロペンタジエニル）ジエチルシラン、

（２−アリロキシフェニル）（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）ジエチルシラン、（２−アリロキシ−３−メチルフェニル）（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）ジエチルシラン、（２−アリロキシ−３，５−ジメチルフェニル）（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）ジエチルシラン、（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）ジエチルシラン、（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）ジエチルシラン、（２−アリロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）ジエチルシラン、（２−アリロキシ−５−メチル−３−フェニルフェニル）（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）ジエチルシラン、（２−アリロキシ−５−メチル−３−トリメチルシリルフェニル）（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）ジエチルシラン、（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチルフェニル）（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）ジエチルシラン、（２−アリロキシ−３，５−ジアミルフェニル）（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）ジエチルシラン、（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシフェニル）（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）ジエチルシラン、（２−アリロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチル−３−クロロフェニル）（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）ジエチルシラン、（１−アリロキシナフタレン−２−イル）（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）ジエチルシラン、（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシフェニル）（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）ジエチルシラン、

（２−アリロキシフェニル）（インデニル）ジエチルシラン、（２−アリロキシ−３−メチルフェニル）（インデニル）ジエチルシラン、（２−アリロキシ−３，５−ジメチルフェニル）（インデニル）ジエチルシラン、（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（インデニル）ジエチルシラン、（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）（インデニル）ジエチルシラン、（２−アリロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（インデニル）ジエチルシラン、（２−アリロキシ−５−メチル−３−フェニルフェニル）（インデニル）ジエチルシラン、（２−アリロキシ−５−メチル−３−トリメチルシリルフェニル）（インデニル）ジエチルシラン、（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチルフェニル）（インデニル）ジエチルシラン、（２−アリロキシ−３，５−ジアミルフェニル）（インデニル）ジエチルシラン、（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシフェニル）（インデニル）ジエチルシラン、（２−アリロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチル−３−クロロフェニル）（インデニル）ジエチルシラン、（１−アリロキシナフタレン−２−イル）（インデニル）ジエチルシラン、（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシフェニル）（インデニル）ジエチルシラン、

（２−アリロキシフェニル）（２，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフルオレン−９−イル）ジエチルシラン、（２−アリロキシ−３−メチルフェニル）（２，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフルオレン−９−イル）ジエチルシラン、（２−アリロキシ−３，５−ジメチルフェニル）（２，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフルオレン−９−イル）ジエチルシラン、（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（２，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフルオレン−９−イル）ジエチルシラン、（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）（２，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフルオレン−９−イル）ジエチルシラン、（２−アリロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（２，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフルオレン−９−イル）ジエチルシラン、（２−アリロキシ−５−メチル−３−フェニルフェニル）（２，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフルオレン−９−イル）ジエチルシラン、（２−アリロキシ−５−メチル−３−トリメチルシリルフェニル）（２，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフルオレン−９−イル）ジエチルシラン、（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチルフェニル）（２，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフルオレン−９−イル）ジエチルシラン、（２−アリロキシ−３，５−ジアミルフェニル）（２，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフルオレン−９−イル）ジエチルシラン、（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシフェニル）（２，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフルオレン−９−イル）ジエチルシラン、（２−アリロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチル−３−クロロフェニル）（２，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフルオレン−９−イル）ジエチルシラン、（１−アリロキシナフタレン−２−イル）（２，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフルオレン−９−イル）ジエチルシラン、（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシフェニル）（２，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフルオレン−９−イル）ジエチルシラン、

（２−アリロキシフェニル）（３，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフルオレン−９−イル）ジエチルシラン、（２−アリロキシ−３−メチルフェニル）（３，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフルオレン−９−イル）ジエチルシラン、（２−アリロキシ−３，５−ジメチルフェニル）（３，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフルオレン−９−イル）ジエチルシラン、（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフルオレン−９−イル）ジエチルシラン、（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）（３，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフルオレン−９−イル）ジエチルシラン、（２−アリロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフルオレン−９−イル）ジエチルシラン、（２−アリロキシ−５−メチル−３−フェニルフェニル）（３，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフルオレン−９−イル）ジエチルシラン、（２−アリロキシ−５−メチル−３−トリメチルシリルフェニル）（３，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフルオレン−９−イル）ジエチルシラン、（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチルフェニル）（３，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフルオレン−９−イル）ジエチルシラン、（２−アリロキシ−３，５−ジアミルフェニル）（３，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフルオレン−９−イル）ジエチルシラン、（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシフェニル）（３，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフルオレン−９−イル）ジエチルシラン、（２−アリロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチル−３−クロロフェニル）（３，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフルオレン−９−イル）ジエチルシラン、（１−アリロキシナフタレン−２−イル）（３，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフルオレン−９−イル）ジエチルシラン、（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシフェニル）（３，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフルオレン−９−イル）ジエチルシラン等が挙げられる。また、上記各化合物のジエチルシランをジメチルシラン、ジフェニルシラン、エチルメチルシラン、メチルフェニルシラン、ジメチルメタン、ジエチルメタンに変更した化合物等も挙げられる。

また、上記一般式（１）で表されるシクロペンタジエン化合物には、その置換基Ｃｐ¹ におけるシクロペンタジエン骨格の置換基の位置や二重結合の位置の相違に由来する複数の異性体が存在することもあるが、本発明においては、これら全ての異性体を用いることができる。

上記一般式（１）で表されるシクロペンタジエン化合物として、好ましくは、（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）ジメチルシラン、（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）ジエチルシラン、（２−メトキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）ジメチルシラン、（２−メトキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）ジエチルシラン、もっとも好ましくは、（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）ジエチルシランである。

一般式（２）で示される遷移金属化合物において置換基Ｘ^３、Ｘ^４は、好ましくはハロゲン原子である。

上記一般式（２）で表される遷移金属化合物のうち、例えば、ハロゲン化チタン、アミドチタン、アルコキシチタン等が挙げられる。ハロゲン化チタンとしては、例えば、四塩化チタン、四臭化チタン、四ヨウ化チタン等が挙げられる。アミドチタンとしては、例えば、ジクロロビス（ジメチルアミノ）チタン、トリクロロ（ジメチルアミノ）チタン、ジクロロビス（ジエチルアミノ）チタン、トリクロロ（ジエチルアミノ）チタン等が挙げられる。アルコキシチタンとしては、例えば、ジクロロジイソプロポキシチタン、ジクロロジ（ｎ−ブトキシ）チタン、トリクロロ（ｎ−ブトキシ）チタン等が挙げられる。また、上記各化合物のチタンをジルコニウム、ハフニウムに変更した化合物等が挙げられる。

上記一般式（３）で表される遷移金属錯体のうち、Ｅが炭素原子である場合、例えば、メチレン（シクロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（シクロペンタジエニル）（３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（シクロペンタジエニル）（３−トリメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、

メチレン（メチルシクロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（メチルシクロペンタジエニル）（３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（メチルシクロペンタジエニル）（３−トリメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、

メチレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−トリメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、

メチレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−トリメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、

メチレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−トリメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、

メチレン（フルオレニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（フルオレニル）（３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（フルオレニル）（３−トリメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、

イソプロピリデン（シクロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（シクロペンタジエニル）（３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（シクロペンタジエニル）（３−トリメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、

イソプロピリデン（メチルシクロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（メチルシクロペンタジエニル）（３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（メチルシクロペンタジエニル）（３−トリメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、

イソプロピリデン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−トリメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、

イソプロピリデン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−トリメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、

イソプロピリデン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−トリメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、

イソプロピリデン（フルオレニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（フルオレニル）（３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（フルオレニル）（３−トリメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、

ジフェニルメチレン（シクロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（シクロペンタジエニル）（３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（シクロペンタジエニル）（３−トリメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、

ジフェニルメチレン（メチルシクロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（メチルシクロペンタジエニル）（３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（メチルシクロペンタジエニル）（３−トリメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、

ジフェニルメチレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−トリメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、

ジフェニルメチレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−トリメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、

ジフェニルメチレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−トリメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、

ジフェニルメチレン（フルオレニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（フルオレニル）（３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（フルオレニル）（３−トリメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド等が挙げられる。また、これらの化合物のチタニウムをジルコニウム、ハフニウムに変更した化合物、クロライドをブロミド、アイオダイド、ジメチルアミド、ジエチルアミド、ｎ−ブトキシド、イソプロポキシドに変更した化合物、（シクロペンタジエニル）を（ジメチルシクロペンタジエニル）、（トリメチルシクロペンタジエニル）、（ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）、（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルシクロペンタジエニル）、（インデニル）に変更した化合物、３，５−ジメチル−２−フェノキシを２−フェノキシ、３−メチル−２−フェノキシ、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ、３−フェニル−５−メチル−２−フェノキシ、３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−２−フェノキシ、３−トリメチルシリル−２−フェノキシに変更した化合物、メチレンをジエチルメチレンに変更した化合物等も挙げられる。

上記一般式（３）で表される遷移金属錯体のうち、Ｅがケイ素原子である場合、例えば、ジエチルシリレン（シクロペンタジエニル）（２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（シクロペンタジエニル）（３−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（シクロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（シクロペンタジエニル）（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（シクロペンタジエニル）（５−メチル−３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（シクロペンタジエニル）（５−メチル−３−トリメチルシリル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（シクロペンタジエニル）（３，５−ジアミル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、

ジエチルシリレン（メチルシクロペンタジエニル）（２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（メチルシクロペンタジエニル）（３−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（メチルシクロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（メチルシクロペンタジエニル）（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（メチルシクロペンタジエニル）（５−メチル−３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（メチルシクロペンタジエニル）（５−メチル−３−トリメチルシリル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（メチルシクロペンタジエニル）（３，５−ジアミル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、

ジエチルシリレン（ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）（２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）（５−メチル−３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）（５−メチル−３−トリメチルシリル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）（３，５−ジアミル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、

ジエチルシリレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（５−メチル−３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（５−メチル−３−トリメチルシリル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３，５−ジアミル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、

ジエチルシリレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（５−メチル−３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（５−メチル−３−トリメチルシリル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３，５−ジアミル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、

ジエチルシリレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（５−メチル−３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（５−メチル−３−トリメチルシリル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３，５−ジアミル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、

ジエチルシリレン（インデニル）（２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（インデニル）（３−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（インデニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（インデニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（インデニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（インデニル）（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（インデニル）（５−メチル−３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（インデニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（インデニル）（５−メチル−３−トリメチルシリル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（インデニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（インデニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（インデニル）（３，５−ジアミル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、

ジエチルシリレン（フルオレニル）（２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（フルオレニル）（３−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（フルオレニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（フルオレニル）（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（フルオレニル）（５−メチル−３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（フルオレニル）（５−メチル−３−トリメチルシリル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（フルオレニル）（３，５−ジアミル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジエチルシリレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（１−ナフトキシ−２−イル）チタンジクロライドなどや、これらの化合物の（シクロペンタジエニル）を（ジメチルシクロペンタジエニル）、（トリメチルシクロペンタジエニル）、（エチルシクロペンタジエニル）、（ｎ−プロピルシクロペンタジエニル）、（イソプロピルシクロペンタジエニル）、（ｓｅｃ−ブチルシクロペンタジエニル）、（イソブチルシクロペンタジエニル）、（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルシクロペンタジエニル）、（フェニルシクロペンタジエニル）、（メチルインデニル）、（フェニルインデニル）に変更した化合物等が挙げられる。また、これらの化合物の２−フェノキシを３−フェニル２−フェノキシ、３−トリメチルシリル−２−フェノキシ、３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−２−フェノキシに変更した化合物、ジエチルシリレンをジメチルシリル、ジフェニルシリレン、ジメトキシシリルに変更した化合物、チタニウムをジルコニウム、ハフニウムに変更した化合物、クロライドをブロミド、アイオダイド、ジメチルアミド、ジエチルアミド、ｎ−ブトキシド、イソプロポキシドに変更した化合物等も挙げられる。

アミン化合物としては、例えば、第１級アミン化合物、第２級アミン化合物、第３級アミン化合物等が挙げられる。第１級アミン化合物としては、例えば、メチルアミン、エチルアミン、ｎ−プロピルアミン、イソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、ｔｅｒｔ−ブチルアミン、ｎ−オクチルアミン、ｎ−デシルアミン、アニリン、エチレンジアミン等が挙げられる。第２級アミン化合物としては、例えば、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジ−ｎ−プロピルアミン、ジ−ｎ−プロピルアミン、ジ−ｎ−ブチルアミン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアミン、ジ−ｎ−オクチルアミン、ジ−ｎ−デシルアミン、ピロリジン、ヘキサメチルジシラザン、ジフェニルアミン等が挙げられる。第３級アミン化合物としては、例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリ−ｎ−オクチルアミン、トリ−ｎ−デシルアミン、トリフェニルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミン、Ｎ−メチルピロリジン、４−ジメチルアミノピリジン等が挙げられる。これらのアミン化合物は、１種単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。アミン化合物として、好ましくは、第３級アミン化合物であり、特に好ましくは、トリエチルアミンである。

有機リチウム化合物としては、例えば、メチルリチウム、エチルリチウム、ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウム、リチウムトリメチルシリルアセチリド、リチウムアセチリド、トリメチルシリルメチルリチウム、ビニルリチウム、フェニルリチウム、アリルリチウム等が挙げられる。これらの有機リチウム化合物は、１種単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。

本発明の上記一般式（３）で表される遷移金属錯体の製造方法は、上記工程１、上記工程２、並びに上記工程３を含むものである。

１）工程１
工程１は、アミン化合物の存在下、下記一般式（１）で表されるシクロペンタジエン化合物と、有機リチウム化合物とを反応させて得られた生成物と、下記一般式（２）で表される遷移金属化合物とを反応させて反応液を得る工程である。

反応は反応溶媒を用いて行うのが好ましい。かかる反応溶媒としては、例えば、脂肪族炭化水素系溶媒、芳香族炭化水素系溶媒、エーテル系溶媒、アミド系溶媒、ニトリル系溶媒、ケトン系溶媒、ハロゲン系溶媒等が挙げられる。脂肪族炭化水素系溶媒としては、例えば、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等が挙げられる。芳香族炭化水素系溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン等が挙げられる。エーテル系溶媒としては、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等が挙げられる。アミド系溶媒としては、例えば、ヘキサメチルホスホリックアミド、ジメチルホルムアミド等が挙げられる。ニトリル系溶媒としては、例えば、アセトニトリル、プロピオニトリル等が挙げられる。ケトン系溶媒としては、例えば、アセトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等が挙げられる。ハロゲン系溶媒としては、例えば、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等が挙げられる。これらの溶媒は、１種単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。溶媒として、好ましくは、脂肪族炭化水素系および芳香族炭化水素系溶媒であり、例えば、ヘプタン、トルエンであり、もっとも好ましくはヘプタンである。かかる反応溶媒は、１種単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。反応溶媒の使用量は、上記一般式（１）で表されるシクロペンタジエン化合物１重量部に対して、好ましくは、１〜２００重量部であり、より好ましくは３〜５０重量部、更に好ましくは２１〜５０重量部である。

上記一般式（１）で表されるシクロペンタジエン化合物と、有機リチウム化合物とを反応させる際の反応温度は、通常、−１００℃以上溶媒の沸点以下であり、好ましくは、−８０〜１００℃である。

有機リチウム化合物の使用量は、上記一般式（１）で表されるシクロペンタジエン化合物１モルに対して、通常１〜１０モルであり、好ましくは、１．５〜５モルである。

上記一般式（２）で表される遷移金属化合物の使用量は、上記一般式（１）で表されるシクロペンタジエン化合物１モルに対して、通常１〜６モルであり、好ましくは、１〜３．５モルである。

上記一般式（１）で表されるシクロペンタジエン化合物と、有機リチウム化合物とを反応させた後、続いて上記一般式（２）で表される遷移金属化合物を反応させる際の反応温度は、通常、−１００℃以上溶媒の沸点以下であり、好ましくは、−８０〜１００℃である。

有機リチウム化合物、及び上記一般式（２）で表される遷移金属化合物は脂肪族及び芳香族炭化水素溶媒と混合させておいた溶液を用いることが好ましい。

アミン化合物の使用量は、上記一般式（１）で表されるシクロペンタジエン化合物１重量部に対して、０．３重量部以上であり、好ましくは、０．３〜１２重量部であり、より好ましくは、１〜３重量部であり、更に好ましくは、２〜２．４重量部である。

２）工程２
工程２は、工程１で得られた反応液に、溶媒を添加し、アミン化合物及び溶媒を留去して濃縮液を得る工程である。工程１で用いる上記一般式（１）で表されるシクロペンタジエン化合物１重量部に対して、工程２で添加する溶媒、及び必要に応じて工程１で用いる反応溶媒の合計の重量が、２１重量部以上を用いた場合、工程２が、工程１で用いる上記一般式（１）で表されるシクロペンタジエン化合物１重量部に対して、好ましくは、濃縮液の全重量が、２０重量部以下になるまで留去する工程であり、より好ましくは、濃縮液の全重量が、３〜２０重量部になるまで留去する工程であり、更に好ましくは、濃縮液の全重量が、１０〜１５重量部になるまで留去する工程である。

添加する溶媒は、例えば、脂肪族炭化水素系溶媒、芳香族炭化水素系溶媒、エーテル系溶媒、アミド系溶媒、ニトリル系溶媒、ケトン系溶媒、ハロゲン系溶媒等が挙げられる。脂肪族炭化水素系溶媒としては、例えば、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等が挙げられる。芳香族炭化水素系溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン等が挙げられる。エーテル系溶媒としては、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等が挙げられる。アミド系溶媒としては、例えば、ヘキサメチルホスホリックアミド、ジメチルホルムアミド等が挙げられる。ニトリル系溶媒としては、例えば、アセトニトリル、プロピオニトリル等が挙げられる。ケトン系溶媒としては、例えば、アセトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等が挙げられる。ハロゲン系溶媒としては、例えば、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等が挙げられる。これらの溶媒は、１種単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。溶媒として、好ましくは、脂肪族炭化水素系溶媒または芳香族炭化水素系溶媒であり、より好ましくは、ヘプタン、トルエンであり、更に好ましくはヘプタンである。

添加する溶媒は、反応溶媒と同じでも異なっていてもよい。

工程１で得られた反応液に添加する溶媒の使用量は、工程１で用いる上記一般式（１）で表されるシクロペンタジエン化合物１重量部に対して、好ましくは、０．１〜５０重量部であり、より好ましくは、１〜２５重量部であり、更に好ましくは、１０〜２０重量部である。

工程１で得られた反応液を留去する方法としては、例えば、減圧下、又は常圧下で前記反応液中の溶媒の一部を留去する方法等が挙げられる。この留去温度は０℃から使用溶媒の沸点以下であれば特に制限はない。また、工程１で用いるアミン化合物の使用量が前記一般式（１）で表されるシクロペンタジエン化合物１重量部に対して、０．３重量部以上である場合、工程２で得られる濃縮液に残存するアミン化合物の残存量が、工程１で用いる一般式（１）で表されるシクロペンタジエン化合物１重量部に対して、好ましくは、０．２重量部以下であり、より好ましくは、０．０５〜０．１重量部である。

３）工程３
工程３は、工程２で得られた濃縮液をろ過してろ液を得る工程である。

本発明の製造方法においては、工程３で得られたろ液を晶析するのが好ましい。晶析する方法としては、例えば、工程３で得られたろ液中の溶媒の一部を留去した後、攪拌しながら冷却することにより、上記一般式（３）で表される遷移金属錯体を析出させる方法等が挙げられる。

上記一般式（３）で表される遷移金属錯体を析出させる方法としては、析出開始時に加温し、上記一般式（３）で表される遷移金属錯体を溶解させてから、攪拌しながら冷却して析出させてもよい。析出開始温度は、使用溶媒の沸点以下であれば特に制限はない。冷却速度は、通常、１℃／ｈ〜３０℃／ｈであり、好ましくは、１℃／ｈ〜１０℃／ｈである。生成した結晶を濾過することにより、上記一般式（３）で表される遷移金属錯体を得ることができる。

以下、本発明を実施例によりさらに詳しく説明する。

純度測定は次の方法で行った。
（１）プロトン核磁気共鳴スペクトル（１Ｈ−ＮＭＲ）
装置：日本電子社製 ＥＸ２７０、又は、Ｂｒｕｋｅｒ社製 ＤＰＸ−３００
試料セル：５ｍｍφチューブ
測定溶媒：トルエン−ｄ_８
試料濃度：３０ｍｇ／１ｍＬ（トルエン−ｄ_８）
測定温度：室温（約２５℃）
測定パラメータ：５ｍｍφプローブ、ＭＥＮＵＦ ＮＯＮ、ＯＢＮＵＣ 1Ｈ、積算回数１６回
パルス角度：４５度
繰り返し時間：ＡＣＱＴＭ ３秒、ＰＤ ４秒
内部標準物質：ＢｒＣＨ_２ＣＨ_２Ｂｒ（２．７９ｐｐｍ）

実施例に記載のジエチルシリレン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライドの純度は、純度１００％の標準品および内部標準物質としてジブロモエタン用いるＮＭＲ法（ＮＭＲ−ＩＳ法）により決定した。

実施例に記載のジエチルシリレン（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライドの純度は以下のように測定した。 ＮＭＲ測定装置には日本電子（ＪＥＯＬ）ＡＬ−２７０使用し、測定モードは１Ｈ−ＮＭＲとする。標準品となるジエチルシリレン（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド３０ｍｇと内部標準物質であるジブロモエタン１０ｍｇを１ｍｌのトルエン−ｄ_８に溶解させて１Ｈ−ＮＭＲ測定する。次いで測定試料を上記と同様の操作で１Ｈ−ＮＭＲ測定する。測定後、ジエチルシリレン（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライドの２．１９ｐｐｍの積分値と、ジブロモエタンの２．７９ｐｐｍの積分値の比を標準品および測定試料でそれぞれ求め、その比から純度を計算した。

〔実施例１〕
ジエチルシリレン（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライドの製造
トリエチルアミン（１２．４ｇ、１２３ｍｍｏｌ）、（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）ジエチルシラン（５．６２ｇ、１３．７ｍｍｏｌ、純度４８．１％）のヘプタン（１６０ｇ）溶液を−１５℃に冷却し、１５．１重量％ヘキサン溶液のｎ−ブチルリチウム（２６．２ｇ、６１．６ｍｍｏｌ）を滴下漏斗にて滴下した。滴下漏斗に付着したｎ−ブチルリチウムを洗い込むため、ヘプタン６．９ｇを用いて洗浄した。３５℃に昇温した後、さらに３時間攪拌を続けた。この反応液を−１５℃に冷却し、四塩化チタン（７．７９ｇ、４９．６ｍｍｏｌ）のヘプタン２２．５ｇ溶液を滴下漏斗にて滴下した。滴下漏斗に付着した四塩化チタンを洗い込むため、ヘプタン３．２ｇを用いて洗浄した。この反応液を９０℃に昇温し、さらに２時間攪拌を続けた。６０℃に冷却後、へプタン８２．７ｇを追加し、反応混合物を２６５ｇ留去した。このとき、濃縮液のトリエチルアミンの残存量が反応で用いた２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）ジエチルシラン１重量部に対して、０．０８２重量部であった。ヘプタン１６２ｇおよびラヂオライト＃９００（２８．８ｇ）を追加し、８０℃に昇温後、反応混合物をろ過し、固形物をヘプタン１１５ｇで洗浄した。得られたろ液と洗液を合わせた後、溶媒の一部を留去し、攪拌しながら２０℃まで冷却させることにより、ジエチルシリレン（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライドを橙色固体として得た（２．５２ｇ、収率３２．６％）。^１Ｈ−ＮＭＲ分析法より、８６％の純度であった。

〔実施例２〕
ジエチルシリレン（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライドの製造
トリエチルアミン（２４．９ｇ、２４６ｍｍｏｌ）、（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）ジエチルシラン（１１．３ｇ、２７．４ｍｍｏｌ、純度４８．１％）のヘプタン（３２０ｇ）溶液を−１５℃に冷却し、１５．１重量％ヘキサン溶液のｎ−ブチルリチウム（５２．２ｇ、１２３ｍｍｏｌ）を滴下漏斗にて滴下した。滴下漏斗に付着したｎ−ブチルリチウムを洗い込むため、ヘプタン１３．７ｇを用いて洗浄した。３５℃に昇温した後、さらに３時間攪拌を続けた。この反応液を−１５℃に冷却し、四塩化チタン（１５．６ｇ、８２．１ｍｍｏｌ）のヘプタン４５．０ｇ溶液を滴下漏斗にて滴下した。滴下漏斗に付着した四塩化チタンを洗い込むため、ヘプタン６．４ｇを用いて洗浄した。この反応液を９０℃に昇温し、さらに２時間攪拌を続けた。６０℃に冷却後、へプタン１６５ｇを追加し、反応混合物を２６５ｇ留去した。このとき、濃縮液のトリエチルアミンの残存が反応で用いた２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）ジエチルシラン１重量部に対して、０．０８２重量部であった。ヘプタン３２３ｇおよびラヂオライト＃９００（５６．２ｇ）を追加し、８０℃に昇温後、反応混合物をろ過し、固形物をヘプタン２１４ｇで洗浄した。得られたろ液と洗液を合わせた後の重量が６９３ｇとなった。このろ洗液の一部３２０ｇを別途容器に移し、溶媒の一部を留去し、攪拌しながら０℃まで冷却させることにより、ジエチルシリレン（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライドを橙色固体として得た（２．８７ｇ、収率４１．５％）。^１Ｈ−ＮＭＲ分析法より、８７％の純度であった。

〔実施例３〕
ジエチルシリレン（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライドの製造
トリエチルアミン（１６４ｇ、１６２０ｍｍｏｌ）、（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）ジエチルシラン（７４．０ｇ、１８０ｍｍｏｌ、純度５１．０％）のヘプタン（２１１０ｇ）溶液を−１５℃に冷却し、１５．１重量％ヘキサン溶液のｎ−ブチルリチウム（３４３ｇ、８１１ｍｍｏｌ）を滴下漏斗にて滴下した。滴下漏斗に付着したｎ−ブチルリチウムを洗い込むため、ヘプタン９０．３ｇを用いて洗浄した。３５℃に昇温した後、さらに３時間攪拌を続けた。この反応液を−１５℃に冷却し、四塩化チタン（１０３ｇ、５４１ｍｍｏｌ）のヘプタン２９６ｇ溶液を滴下漏斗にて滴下した。滴下漏斗に付着した四塩化チタンを洗い込むため、ヘプタン４２．０ｇを用いて洗浄した。この反応液を９０℃に昇温し、さらに２時間攪拌を続けた。６０℃に冷却後、へプタン１０９０ｇを追加し、３３７０ｇ留去した。このとき、濃縮液のトリエチルアミンの残存が反応で用いた２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）ジエチルシラン１重量部に対して、０．１０重量部であった。ヘプタン２１２０ｇおよびラヂオライト＃９００（１８５ｇ）を追加し、８０℃に昇温後、反応混合物をろ過し、固形物をヘプタン１４１０ｇで洗浄し、ろ洗液が３４６０ｇ得られた。もう１バッチ上記と同様に合成し、ろ洗液が３９４０ｇ得られた。２バッチ分のろ洗液を合わせた後、溶媒の一部を留去し、攪拌しながら０℃まで冷却させることにより、ジエチルシリレン（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライドを橙色固体として得た（９７．０ｇ、収率５１．２％）。^１Ｈ−ＮＭＲ分析法より、９２％の純度であった。

〔比較例１〕
ジエチルシリレン（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライドの製造
トリエチルアミン（１３．４ｇ、１３２ｍｍｏｌ）、（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）ジエチルシラン（６．０３ｇ、１４．７ｍｍｏｌ、純度４８．１％）のヘプタン（１８１ｇ）溶液を−１５℃に冷却し、１．６３ｍｏｌ／Ｌ ヘキサン溶液のｎ−ブチルリチウム（４０．５ｍＬ、６６．１ｍｍｏｌ）を滴下漏斗にて滴下した。滴下漏斗に付着したｎ−ブチルリチウムを洗い込むため、ヘプタン７．３ｇを用いて洗浄した。３５℃に昇温した後、さらに３時間攪拌を続けた。この反応液を−１５℃に冷却し、四塩化チタン（８．３６ｇ、４４．１ｍｍｏｌ）のヘプタン２４．２ｇ溶液を滴下漏斗にて滴下した。滴下漏斗に付着した四塩化チタンを洗い込むため、ヘプタン３．４ｇを用いて洗浄した。この反応液を９０℃に昇温し、さらに２時間攪拌を続けた。ろ過前に濃縮による溶媒の留去を実施せず、ラヂオライト＃９００（３０．２ｇ）を追加し、６０℃に昇温後、反応混合物をろ過し、固形物をヘプタン９６．５ｇで洗浄した。得られたろ液と洗液を合わせた後、溶媒の一部を留去し、攪拌しながら２０℃まで冷却させることにより、ジエチルシリレン（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライドを暗赤色固体として得た（１．６８ｇ、収率１６．９％）。^１Ｈ−ＮＭＲ分析法より、７２％の純度であった。

Claims (5)

1. アミン化合物の存在下、下記一般式（１）で表されるシクロペンタジエン化合物と、有機リチウム化合物とを反応させて得られた生成物と、下記一般式（２）で表される遷移金属化合物とを反応させて反応液を得る工程（工程１）、工程１で得られた反応液に、溶媒を添加し、アミン化合物と、溶媒とを留去して濃縮液を得る工程（工程２）、及び工程２で得られた濃縮液をろ過してろ液を得る工程（工程３）を含む下記一般式（３）で表される遷移金属錯体の製造方法。
   
   

   

   
   （式中、Ａは、元素の周期律表の第１６族の原子を表し、Ｅは、元素の周期律表の第１４族の原子を表し、Ｃｐ^１は、シクロペンタジエン骨格を有する基を表す。Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶は、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、置換基を有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたシリル基、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、置換基を有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、置換基を有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基又は置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換された２置換アミノ基を表し、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶は、互いに同じであっても異なっていてもよい。Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶のうち隣接する２つの基は任意に結合して環を形成していてもよい。Ｒ⁷は、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基又は置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換された３置換シリル基を表す。）
   

   

   
   （式中、Ｍは元素の周期律表の第４族の遷移金属原子を表す。Ｘ¹及びＸ²は、ハロゲン原子を表し、Ｘ¹及びＸ²は、互いに同じであっても異なっていてもよい。Ｘ³及びＸ⁴は、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、置換基を有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたシリル基、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、置換基を有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、置換基を有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基又は炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換された２置換アミノ基を表し、Ｘ³及びＸ⁴は、互いに同じであっても異なっていてもよい。）
   
   

   

   （式中、Ｍ、Ａ、Ｅ、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｘ¹及びＸ²は、それぞれ前記と同じ意味を表し、Ｃｐ²はシクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基を表す。）
2. アミン化合物が第三級アミン化合物である請求項１に記載の製造方法。
3. 第三級アミン化合物がトリエチルアミンである請求項２に記載の製造方法。
4. アミン化合物の使用量が一般式（１）で表されるシクロペンタジエン化合物１重量部に対して、０．３重量部以上である請求項１〜３のいずれかに記載の製造方法。
5. 工程２で得られる濃縮液に残存するアミン化合物の残存量が、工程１で用いる一般式（１）で表されるシクロペンタジエン化合物１重量部に対して、０．２重量部以下である請求項４に記載の製造方法。