JP2010228075A - 研磨パッド - Google Patents
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- 238000005498 polishing Methods 0.000 title claims abstract description 112
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 claims abstract description 71
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 claims abstract description 40
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 24
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 18
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 claims abstract description 7
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 45
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 45
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 19
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 12
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 11
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 230000001112 coagulating effect Effects 0.000 claims description 7
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 22
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 abstract 1
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 abstract 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 39
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 31
- 239000010408 film Substances 0.000 description 27
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 25
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 21
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 13
- 238000005345 coagulation Methods 0.000 description 12
- 230000015271 coagulation Effects 0.000 description 12
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 7
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 7
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 7
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 7
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 6
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 6
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 4
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 4
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 238000007730 finishing process Methods 0.000 description 3
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 3
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 3
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- 239000002759 woven fabric Substances 0.000 description 3
- UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Diphenylmethane Diisocyanate Chemical compound C1=CC(N=C=O)=CC=C1CC1=CC=C(N=C=O)C=C1 UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 2
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 238000004807 desolvation Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 238000007781 pre-processing Methods 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 1
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- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Abstract
【解決手段】研磨パッド10は、湿式成膜法によりポリウレタン樹脂で形成されたウレタンシート2を有している。ウレタンシート2には、研磨面P側の表面に、緻密な微小気泡6が形成された表面層4が2.0μm以上にわたり形成されている。表面層4より厚さ方向の内側に連続して配された多孔層7では微小気泡6より大きい気泡径のセル3が厚さ方向と交差する方向に連続状に形成されている。ウレタンシート2の研磨面Pの反対側に両面テープ5bが張り合わされている。研磨加工時に表面層4の2.0μm以上の厚さ分で摩耗が許容される。
【選択図】図1
Description
前記研磨面からの厚さが2.0μm以上にわたり微小気泡が形成された表面層と、前記表面層より厚さ方向の内側に連続して配され、前記表面層に形成された微小気泡より大きな気泡径のセルが前記厚さ方向と交差する方向に連続状に形成された多孔層と、を有することを特徴とする。
図1に示すように、本実施形態の研磨パッド10は、被研磨物を研磨加工するための研磨面Pを有する樹脂シートとしてのウレタンシート2を備えている。
研磨パッド10は、図2に示すように、ポリウレタン樹脂を溶解させた樹脂溶液を準備する準備工程、樹脂溶液を成膜基材に連続的に塗布する塗布工程、加熱雰囲気下で有機溶媒の一部を気化させる気化工程、水系凝固液中で樹脂溶液を凝固させる凝固工程、凝固により再生したポリウレタン樹脂を洗浄・乾燥させる洗浄・乾燥工程、ポリウレタン樹脂と両面テープとを貼り合わせるラミネート加工工程を経て作製される。以下、工程順に説明する。
次に、本実施形態の研磨パッド10の作用等について説明する。
実施例1では、ウレタンシート2の作製にポリウレタン樹脂として、ポリエステルMDI(ジフェニルメタンジイソシアネート)ポリウレタン樹脂を用いた。このポリウレタン樹脂を溶解させた30重量%の溶液100部に対して、溶媒のDMFの45部、顔料としてカーボンブラックの30重量%を含むDMF分散液の40部を添加し混合してポリウレタン樹脂溶液を調製した。ポリウレタン樹脂溶液の粘度は100cPであった。得られたポリウレタン樹脂溶液を成膜基材に塗布した後、60℃の雰囲気下で20分間熱処理を施し、凝固液中でシート状のポリウレタン樹脂溶液を凝固再生させた。洗浄・乾燥させた後、両面テープ5bを貼り合わせ、実施例1の研磨パッド10を製造した。
比較例1では、凝固再生前に熱処理を施さないこと以外は実施例1と同様にして比較例1の研磨パッドを製造した。すなわち、従来の研磨パッドである。
比較例2では、凝固再生前に、90℃の雰囲気下で5分間熱処理を施し、凝固液中でシート状のポリウレタン樹脂溶液を凝固再生させた。それ以外は実施例1と同様にして比較例2の研磨パッドを製造した。
実施例1、比較例1及び比較例2について、湿式成膜後のウレタンシートの断面を電子顕微鏡にて観察することにより、表面層の厚さを測定した。
また、実施例1、比較例1及び比較例2の研磨パッドを用いて、研磨機に研磨パッドを貼り付け、ドレッサーを用いて研磨パッドの表面の平坦化を行った。以下の研磨条件でアルミニウム基板の研磨加工を行い、うねりにより研磨性能を評価した。うねりの測定では、研磨加工後の被研磨物について単位面積当たりの表面像のうねり量をオングストローム(Å)単位で求めた。うねりの試験評価機としては、New View 5022(Zygo社製)を用いた。また、研磨後のアルミニウム基板について、目視でアルミニウム基板の表面に対するキズ発生の有無を外観評価した。表面層の厚さ及びうねりの評価結果を下表1に示す。
(研磨条件)
使用研磨機:スピードファム社製、9B−5Pポリッシングマシン
研磨速度(回転数):30rpm
加工圧力:90g/cm2
スラリ:コロイダルシリカスラリ(平均粒子径:0.8μm)
スラリ供給量:100cc/min
被研磨物:95mmφハードディスク用アルミニウム基板
研磨時間:300秒
3 セル
4 表面層
6 微小気泡
7 多孔層
10 研磨パッド
Claims (6)
- 湿式成膜法により作製され被研磨物を研磨加工するための研磨面を有する樹脂シートを備えた研磨パッドにおいて、前記樹脂シートは、
前記研磨面からの厚さが2.0μm以上にわたり微小気泡が形成された表面層と、
前記表面層より厚さ方向の内側に連続して配され、前記表面層に形成された微小気泡より大きな気泡径のセルが前記厚さ方向と交差する方向に連続状に形成された多孔層と、
を有することを特徴とする研磨パッド。 - 前記樹脂シートは、有機溶媒に樹脂を溶解させた樹脂溶液の少なくとも表層に含まれる前記有機溶媒の一部が気化され、水を主成分とする凝固液中で凝固されたものであることを特徴とする請求項1に記載の研磨パッド。
- 前記樹脂シートは、前記有機溶媒の一部が50℃〜80℃の範囲の雰囲気下で気化されたことを特徴とする請求項2に記載の研磨パッド。
- 前記樹脂シートは、厚さが0.4mm〜1.0mmの範囲であることを特徴とする請求項1に記載の研磨パッド。
- 前記樹脂シートは、前記多孔層に形成されたセルの平均気泡径が100μm〜200μmの範囲であることを特徴とする請求項4に記載の研磨パッド。
- 前記樹脂シートはポリウレタン樹脂製であることを特徴とする請求項5に記載の研磨パッド。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009080988A JP5534694B2 (ja) | 2009-03-30 | 2009-03-30 | 研磨パッドおよび研磨パッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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---|---|---|---|
JP2009080988A JP5534694B2 (ja) | 2009-03-30 | 2009-03-30 | 研磨パッドおよび研磨パッドの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010228075A true JP2010228075A (ja) | 2010-10-14 |
JP5534694B2 JP5534694B2 (ja) | 2014-07-02 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP (1) | JP5534694B2 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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