JP2010207786A - アルカリ土類金属系触媒、及び反応方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】下記の一般式[I]で表される化合物と下記の一般式[II]で表される化合物とで構成される触媒。一般式[I]
[一般式[I]中、R1,R2,R3は、H、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はアラルキル基である。R1とR2とR3とは、全てが同一でも、異なるものでも良い。R4は、H,F,Cl,Br,I、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、O,S又はN(O,S,Nは、水素原子または置換基を有する。)である。XはO,S又はN(Nの場合は置換基を有する。)である。]一般式[II]MX2[一般式[II]中、Mはアルカリ土類金属である。Xは陰イオンである。]
【選択図】なし
Description
[一般式[I]中、R1,R2,R3は、H、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はアラルキル基(アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。)である。R1とR2とR3とは、全てが同一でも、異なるものでも良い。R4は、H,F,Cl,Br,I、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基(アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。)、O,S又はN(O,S,Nは、水素原子または置換基を有する。)である。XはO,S又はN(Nの場合は置換基を有する。)である。]
MX2
[一般式[II]中、Mはアルカリ土類金属である。Xは陰イオンである。]
[一般式[III]中、R5,R6は、H、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基(アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。)、O,S又はN(O,S,Nは、水素原子または置換基を有する。)である。R7は、H、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基(アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。)、O,S又はN(O,S,Nは、水素原子または置換基を有する。)である。R5とR7、又はR6とR7とは、繋がっている場合も有る。]
[一般式[IV]中、R8,R10は、H、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はアラルキル基(アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。)である。R9は、H、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はアラルキル基(アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。)である。R8とR10、又はR8とR9とは、繋がっている場合も有る。]
[一般式[V]中、R10は、H、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はアラルキル基(アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。)である。R11は、H、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はアラルキル基(アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。)である。R12は、COOR,SO2R又はPOR2(Rはアルキル基、アルケニル基、アリール基、又はアラルキル基)である。]
[一般式[VI]中、R15,R16は、H、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はアラルキル基(アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。)である。R17は、H、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基(アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。)、O,S又はN(O,S,Nは、水素原子または置換基を有する。)である。]
一般式[I]中、R1,R2,R3は、H、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はアラルキル基(アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。)である。好ましいアルキル基は炭素数が1〜10のものである。例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、i−プロピル基、t−ブチル基などの炭素数が1〜5のアルキル基が更に好ましい。中でもi−プロピル基は特に好ましい。好ましいアルケニル基は炭素数が2〜10のものである。例えば、ビニル基や1−プロペニル基などの炭素数が2〜5のアルケニル基が更に好ましい。好ましいアリール基は、骨格部分の炭素数が4〜14のアリール基である。骨格部分がフェニル基やナフチル基は更に好ましいアリール基である。骨格部分がフェニル基は特に好ましいアリール基である。アラルキル基(アリールアルキル基)は、上記アリール基が置換基としてアルキル基を有する場合である。従って、骨格(置換基を持たないアリール基)部分の炭素数が4〜14のアリール基であって、これに置換基として炭素数が1〜10のアルキル基を持つものは好ましいものとして挙げることが出来る。例えば、ベンジル基やアルキルナフチル基を好ましいものとして挙げることが出来る。尚、前記アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基が置換基を持つ場合、置換基としては炭素数が1〜10のアルキル基などの炭化水素基の他に、例えばハロゲン(F,Cl,Br,I)やアルコキシ基(炭素数1〜10)が挙げられる。R1とR2とR3とは、全てが同一でも、異なるものでも良い。
一般式[I]中、R4は、H,F,Cl,Br,I、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基(アルキル基、アリール基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。)である。好ましいアルキル基は炭素数が1〜10のものである。例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、i−プロピル基、t−ブチル基などの炭素数が1〜5のアルキル基が更に好ましい。中でもi−プロピル基は特に好ましい。好ましいアルケニル基は炭素数が2〜10のものである。例えば、ビニル基や1−プロペニル基などの炭素数が2〜5のアルケニル基が更に好ましい。好ましいアリール基は、骨格部分の炭素数が4〜14のアリール基である。骨格部分がフェニル基やナフチル基は更に好ましいアリール基である。骨格部分がフェニル基は特に好ましいアリール基である。アラルキル基(アリールアルキル基)は、上記アリール基が置換基としてアルキル基を有する場合である。従って、骨格(置換基を持たないアリール基)部分の炭素数が4〜14のアリール基であって、これに置換基として炭素数が1〜10のアルキル基を持つものは好ましいものとして挙げることが出来る。例えば、ベンジル基やアルキルナフチル基を好ましいものとして挙げることが出来る。尚、前記アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基が置換基を持つ場合、置換基としては炭素数が1〜10のアルキル基などの炭化水素基の他に、例えばハロゲン(F,Cl,Br,I)やアルコキシ基(炭素数1〜10)が挙げられる。R4は、O,S又はN(O,S,Nは、水素原子または置換基を有する。)であっても良い。尚、この場合の置換基としては、炭素数が1〜10のアルキル基などの炭化水素基が好ましいものとして挙げられる。従って、MeO,Me2N,MeS等もR4の好ましい例として挙げられる。
一般式[I]中、XはO,S又はN(Nの場合は置換基を有する。)である。尚、この場合の置換基としては、Me,Et,Bn等の炭化水素基(炭素数1〜10)が好ましいものとして挙げられる。
MX2
一般式[II]中、Mはアルカリ土類金属である。好ましくは、Ca,Sr,Baである。中でもCaである。
一般式[II]中、Xは陰イオンである。好ましくは、ClO4,BF4,PF6,NO3,F,Cl,Br,I,SO4R,OCOR,OR,NR2又はN(SiR3)2(R=炭化水素基)である。この炭化水素基は、フッ素置換基を持つものでも良い。前記炭化水基としてはアルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基が好ましいものとして挙げられる。好ましいアルキル基は炭素数が1〜10のものである。例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、i−プロピル基、t−ブチル基などの炭素数が1〜5のアルキル基が更に好ましい。好ましいアルケニル基は炭素数が2〜10のものである。例えば、ビニル基や1−プロペニル基などの炭素数が2〜5のアルケニル基が更に好ましい。好ましいアリール基は、骨格部分の炭素数が4〜14のアリール基である。骨格部分がフェニル基やナフチル基は更に好ましいアリール基である。骨格部分がフェニル基は特に好ましいアリール基である。アラルキル基(アリールアルキル基)は、上記アリール基が置換基としてアルキル基を有する場合である。従って、骨格(置換基を持たないアリール基)部分の炭素数が4〜14のアリール基(フェニル基やナフチル基)であって、これに置換基として炭素数が1〜10のアルキル基を持つものは好ましいものとして挙げられる。例えば、ベンジル基やアルキルナフチル基は好ましいものとして挙げられる。尚、前記アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基が置換基を持つ場合、置換基としては炭素数が1〜10のアルキル基などの炭化水素基の他に、例えばハロゲン(F,Cl,Br,I)やアルコキシ基(炭素数1〜10)が挙げられる。上記基の中でも、特に好ましいXは、炭素数が1〜10のアルコキシド基である。更には炭素数が3〜10の分岐型のアルキル基(例えば、i−プロピル基とかt−ブチル基)を有するアルコキシド基が好ましい。
一般式[III]中、R5,R6は、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基(アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。)である。好ましいアルキル基は炭素数が1〜10のものである。例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、i−プロピル基、t−ブチル基などの炭素数が1〜5のアルキル基が更に好ましい。中でも、メチル基は好ましいものである。好ましいアルケニル基は炭素数が2〜10のものである。例えば、ビニル基や1−プロペニル基などの炭素数が2〜5のアルケニル基が更に好ましい。好ましいアリール基は、骨格部分の炭素数が4〜14のアリール基である。骨格部分がフェニル基やナフチル基は更に好ましいアリール基である。骨格部分がフェニル基は特に好ましいアリール基である。アラルキル基(アリールアルキル基)は、上記アリール基が置換基としてアルキル基を有する場合である。従って、骨格(置換基を持たないアリール基)部分の炭素数が4〜14のアリール基(フェニル基やナフチル基)であって、これに置換基として炭素数が1〜10のアルキル基を持つものは好ましいものとして挙げられる。例えば、ベンジル基やアルキルナフチル基は好ましいものとして挙げられる。尚、前記アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基が置換基を持つ場合、置換基としては炭素数が1〜10のアルキル基などの炭化水素基の他に、例えばハロゲン(F,Cl,Br,I)やアルコキシ基(炭素数1〜10)が挙げられる。R5,R6としては、O,S又はN(O,S,Nは、水素原子または置換基を有する。)であっても良い。尚、この場合の置換基としては、炭素数が1〜10のアルキル基などの炭化水素基が好ましいものとして挙げられる。従って、例えばMeO(メトキシ基),EtO(エトキシ基),PrO(プロポキシ基),iPrO(イソプロポキシ基),BuO(ブトキシ基),tBuO(ターシャルブトキシ基)等のアルコキシ基、NMe2,NEt2等のアミノ基や、NMeOMe,EtS,MeS等もR5,R6の好ましい例として挙げられる。
一般式[III]中、R7は、H、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基(アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。)である。好ましいアルキル基は炭素数が1〜10のものである。例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、i−プロピル基などの炭素数が1〜5のアルキル基が更に好ましい。中でも、メチル基は好ましいものである。好ましいアルケニル基は炭素数が2〜10のものである。例えば、ビニル基や1−プロペニル基などの炭素数が2〜5のアルケニル基が更に好ましい。好ましいアリール基は、骨格部分の炭素数が4〜14のアリール基である。骨格部分がフェニル基やナフチル基は更に好ましいアリール基である。骨格部分がフェニル基は特に好ましいアリール基である。アラルキル基(アリールアルキル基)は、上記アリール基が置換基としてアルキル基を有する場合である。従って、骨格(置換基を持たないアリール基)部分の炭素数が4〜14のアリール基(フェニル基やナフチル基)であって、これに置換基として炭素数が1〜10のアルキル基を持つものは好ましいものとして挙げられる。例えば、ベンジル基は好ましいものとして挙げられる。尚、前記アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基が置換基を持つ場合、置換基としては炭素数が1〜10のアルキル基などの炭化水素基の他に、例えばハロゲン(F,Cl,Br,I)やアルコキシ基(炭素数1〜10)が挙げられる。R7としては、O,S又はN(O,S,Nは、水素原子または置換基を有する。)であっても良い。尚、この場合の置換基としては、炭素数が1〜10のアルキル基などの炭化水素基が好ましいものとして挙げられる。従って、例えば、MeO,EtO,PrO,BuO,t−BuO等のアルコキシ基、NMe2,NEt2等のアミノ基や、NMeOMe,EtS,MeS等もR7の好ましい例として挙げられる。
一般式[III]中、R5とR7、又はR6とR7とは、繋がっている場合も有る。
一般式[IV]中、R8,R9,R10は、H、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はアラルキル基(アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。)である。好ましいアルキル基は炭素数が1〜10のものである。例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、i−プロピル基、t−ブチル基などの炭素数が1〜5のアルキル基が更に好ましい。中でも、メチル基は好ましいものである。好ましいアルケニル基は炭素数が2〜10のものである。例えば、ビニル基や1−プロペニル基などの炭素数が2〜5のアルケニル基が更に好ましい。好ましいアリール基は、骨格部分の炭素数が4〜14のアリール基である。骨格部分がフェニル基やナフチル基は更に好ましいアリール基である。骨格部分がフェニル基は特に好ましいアリール基である。アラルキル基(アリールアルキル基)は、上記アリール基が置換基としてアルキル基を有する場合である。従って、骨格(置換基を持たないアリール基)部分の炭素数が4〜14のアリール基(フェニル基やナフチル基)であって、これに置換基として炭素数が1〜10のアルキル基を持つものは好ましいものとして挙げられる。例えば、ベンジル基は好ましいものとして挙げられる。尚、前記アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基が置換基を持つ場合、置換基としては炭素数が1〜10のアルキル基などの炭化水素基の他に、例えばハロゲン(F,Cl,Br,I)やアルコキシ基(炭素数1〜10)が挙げられる。
一般式[IV]中、R8とR10、又はR8とR9とは、繋がっている場合も有る。
一般式[V]中、R10は、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はアラルキル基(アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。)である。好ましいアルキル基は炭素数が1〜10のものである。例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、i−プロピル基、t−ブチル基などの炭素数が1〜5のアルキル基が更に好ましい。中でも、i−プロピル基やt−ブチル基は好ましいものである。好ましいアルケニル基は炭素数が2〜10のものである。例えば、ビニル基や1−プロペニル基などの炭素数が2〜5のアルケニル基が更に好ましい。好ましいアリール基は、骨格部分の炭素数が4〜14のアリール基である。骨格部分がフェニル基やナフチル基は更に好ましいアリール基である。骨格部分がフェニル基は特に好ましいアリール基である。アラルキル基(アリールアルキル基)は、上記アリール基が置換基としてアルキル基を有する場合である。従って、骨格(置換基を持たないアリール基)部分の炭素数が4〜14のアリール基(フェニル基やナフチル基)であって、これに置換基として炭素数が1〜10のアルキル基を持つものは好ましいものとして挙げられる。例えば、ベンジル基は好ましいものとして挙げられる。尚、前記アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基が置換基を持つ場合、置換基としては炭素数が1〜10のアルキル基などの炭化水素基の他に、例えばハロゲン(F,Cl,Br,I)やアルコキシ基(炭素数1〜10)が挙げられる。
一般式[V]中、R11は、H、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はアラルキル基(アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。)である。好ましいアルキル基は炭素数が1〜10のものである。例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、i−プロピル基、t−ブチル基などの炭素数が1〜5のアルキル基が更に好ましい。中でも、i−プロピル基やt−ブチル基は好ましいものである。好ましいアルケニル基は炭素数が2〜10のものである。例えば、ビニル基や1−プロペニル基などの炭素数が2〜5のアルケニル基が更に好ましい。好ましいアリール基は、骨格部分の炭素数が4〜14のアリール基である。骨格部分がフェニル基やナフチル基は更に好ましいアリール基である。骨格部分がフェニル基は特に好ましいアリール基である。アラルキル基(アリールアルキル基)は、上記アリール基が置換基としてアルキル基を有する場合である。従って、骨格(置換基を持たないアリール基)部分の炭素数が4〜14のアリール基(フェニル基やナフチル基)であって、これに置換基として炭素数が1〜10のアルキル基を持つものは好ましいものとして挙げられる。例えば、ベンジル基は好ましいものとして挙げられる。尚、前記アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基が置換基を持つ場合、置換基としては炭素数が1〜10のアルキル基などの炭化水素基の他に、例えばハロゲン(F,Cl,Br,I)やアルコキシ基(炭素数1〜10)が挙げられる。
一般式[V]中、R12は、COOR,SO2R又はPOR2(Rはアルキル基、アルケニル基、アリール基、又はアラルキル基)である。好ましいアルキル基は炭素数が1〜10のものである。例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、i−プロピル基、t−ブチル基などの炭素数が1〜5のアルキル基が更に好ましい。中でも、i−プロピル基やt−ブチル基は好ましいものである。好ましいアルケニル基は炭素数が2〜10のものである。例えば、ビニル基や1−プロペニル基などの炭素数が2〜5のアルケニル基が更に好ましい。好ましいアリール基は、骨格部分の炭素数が4〜14のアリール基である。骨格部分がフェニル基やナフチル基は更に好ましいアリール基である。骨格部分がフェニル基は特に好ましいアリール基である。アラルキル基(アリールアルキル基)は、上記アリール基が置換基としてアルキル基を有する場合である。従って、骨格(置換基を持たないアリール基)部分の炭素数が4〜14のアリール基(フェニル基やナフチル基)であって、これに置換基として炭素数が1〜10のアルキル基を持つものは好ましいものとして挙げられる。例えば、ベンジル基は好ましいものとして挙げられる。
一般式[VI]中、R15,R16は、H、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はアラルキル基(アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。)である。好ましいアルキル基は炭素数が1〜10のものである。例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、i−プロピル基、t−ブチル基などの炭素数が1〜5のアルキル基が更に好ましい。中でも、メチル基は好ましいものである。好ましいアルケニル基は炭素数が2〜10のものである。例えば、ビニル基や1−プロペニル基などの炭素数が2〜5のアルケニル基が更に好ましい。好ましいアリール基は、骨格部分の炭素数が4〜14のアリール基である。骨格部分がフェニル基やナフチル基は更に好ましいアリール基である。骨格部分がフェニル基は特に好ましいアリール基である。アラルキル基(アリールアルキル基)は、上記アリール基が置換基としてアルキル基を有する場合である。従って、骨格(置換基を持たないアリール基)部分の炭素数が4〜14のアリール基(フェニル基やナフチル基)であって、これに置換基として炭素数が1〜10のアルキル基を持つものは好ましいものとして挙げられる。例えば、ベンジル基は好ましいものとして挙げられる。尚、前記アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基が置換基を持つ場合、置換基としては炭素数が1〜10のアルキル基などの炭化水素基の他に、例えばハロゲン(F,Cl,Br,I)やアルコキシ基(炭素数1〜10)が挙げられる。
一般式[VI]中、R17は、H、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はアラルキル基(アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。)である。好ましいアルキル基は炭素数が1〜10のものである。例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、i−プロピル基、t−ブチル基などの炭素数が1〜5のアルキル基が更に好ましい。中でも、メチル基は好ましいものである。好ましいアルケニル基は炭素数が2〜10のものである。例えば、ビニル基や1−プロペニル基などの炭素数が2〜5のアルケニル基が更に好ましい。好ましいアリール基は、骨格部分の炭素数が4〜14のアリール基である。骨格部分がフェニル基やナフチル基は更に好ましいアリール基である。骨格部分がフェニル基は特に好ましいアリール基である。アラルキル基(アリールアルキル基)は、上記アリール基が置換基としてアルキル基を有する場合である。従って、骨格(置換基を持たないアリール基)部分の炭素数が4〜14のアリール基(フェニル基やナフチル基)であって、これに置換基として炭素数が1〜10のアルキル基を持つものは好ましいものとして挙げられる。例えば、ベンジル基は好ましいものとして挙げられる。尚、前記アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基が置換基を持つ場合、置換基としては炭素数が1〜10のアルキル基などの炭化水素基の他に、例えばハロゲン(F,Cl,Br,I)やアルコキシ基(炭素数1〜10)が挙げられる。R17としては、O,S又はN(O,S,Nは、水素原子または置換基を有する。)であっても良い。尚、この場合の置換基としては、炭素数が1〜10のアルキル基などの炭化水素基が好ましいものとして挙げられる。特に、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、i−プロピル基、ブチル基、t−ブチル基などの炭素数が1〜5のアルキル基が好ましいものとして挙げられる。
一般式[VII]中、R13,R14は、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はアラルキル基(アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。)である。好ましいアルキル基は炭素数が1〜10のものである。例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、i−プロピル基、t−ブチル基などの炭素数が1〜5のアルキル基が更に好ましい。中でも、メチル基は好ましいものである。好ましいアルケニル基は炭素数が2〜10のものである。例えば、ビニル基や1−プロペニル基などの炭素数が2〜5のアルケニル基が更に好ましい。好ましいアリール基は、骨格部分の炭素数が4〜14のアリール基である。骨格部分がフェニル基やナフチル基は更に好ましいアリール基である。骨格部分がフェニル基は特に好ましいアリール基である。アラルキル基(アリールアルキル基)は、上記アリール基が置換基としてアルキル基を有する場合である。従って、骨格(置換基を持たないアリール基)部分の炭素数が4〜14のアリール基(フェニル基やナフチル基)であって、これに置換基として炭素数が1〜10のアルキル基を持つものは好ましいものとして挙げられる。例えば、ベンジル基は好ましいものとして挙げられる。尚、前記アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基が置換基を持つ場合、置換基としては炭素数が1〜10のアルキル基などの炭化水素基の他に、例えばハロゲン(F,Cl,Br,I)やアルコキシ基(炭素数1〜10)が挙げられる。
本実施例では、trans-ニトロスチレンとジメチルマロン酸エステルとの反応について述べる。
加熱乾燥された10mlの反応容器内がアルゴン置換された。この反応容器がグローブボックス中に持ち込まれた。そして、Ca(OiPr)2(0.03mmol),p−methoxyphenol(0.03mmol)、モレキュラーシーブ(MS4A;100mg)が秤量され、反応容器内に入れられた。この後で、0.5mlの無水テトラヒドロフランが反応容器内に入れられた。この後、グローブボックスから反応容器が取り出された。そして、室温下で30分間に亘って反応溶液が攪拌された。この後、室温下で反応容器内が減圧され、揮発性物質が取り除かれた。反応容器が再びグローブボックス中に持ち込まれた。そして、秤量されたanti−Ph2−Pybox(0.03mmol)が反応容器内に入れられた。又、無水トルエン(0.5ml)が入れられた。この後、グローブボックスから反応容器が取り出された。そして、50℃で2時間に亘って反応溶液が攪拌された。この後、−20℃に冷却が行われた。そして、マロン酸ジメチル(0.30mmol)が滴下された。この後、trans−ニトロスチレン(0.36mmol)の無水トルエン(1.0ml)溶液が加えられた。そして、このままの温度で24時間に亘って攪拌が行われた。そして、飽和塩化アンモニウム(10ml)が添加され、反応が停止した。反応停止後、塩化メチレン(10ml)が加えられ、分液が行われた。そして、塩化メチレン(15ml)を用いての抽出が2回行われた。有機層が併せられ、無水硫酸ナトリウムによる乾燥が行われた。得られた粗生成物が濾過、減圧濃縮された。この後、シリカゲル薄層クロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=4/1)にて精製され、下記に示される特性の目的物(Methyl2−methoxycarbonyl−4−nitro−3−phenylbutylate)が得られた。この1,4−付加体の収率は80%であった。そして、エナンチオ選択性は96%eeであった。尚、エナンチオ選択性はHPLCで決定された。
本実施例では、イミンとジメチルマロン酸エステルとの反応について述べる。
アルゴン雰囲気下で、乾燥された反応容器内に、Ca(OiPr)2(0.02mmol)と上記リガンド1a(0.03mmol)が入れられた。更に、無水トルエン(0.5ml)が入れられた。この後、80℃で2時間の攪拌が行われた。この後、Dimethylmalonate(0.028mL 0.24mmol)が添加された。そして、30分間に亘って攪拌が行われた。この後、−20℃に冷却が行われた。そして、N−Boc imine(41mg 0.2mmol)の無水トルエン溶液(0.5ml)が添加された。そして、−20℃にて2時間の攪拌が行われた。この後、飽和塩化アンモニウム水溶液(2ml)が添加され、反応が停止した。反応停止後、塩化メチレン(10ml)を用いての抽出が3回行われた。有機層が併せられ、無水硫酸ナトリウムによる乾燥が行われた。得られた粗生成物が濾過、減圧濃縮された。この後、シリカゲル薄層クロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=4/1)にて精製され、下記に示される特性の目的物(2−(tert−Butoxycarbonylamino−phenyl−methyl)−malonic acid dimethyl ester;Mannich付加体)が得られた。この付加体の収率は99%であった。そして、光学収率は55%eeであった。尚、光学収率は光学活性カラムを備えたHPLCで決定された。
本実施例では、アクリル酸メチルとアズラクトンとの反応について述べる。
減圧下で加熱乾燥された反応容器内がアルゴン置換された。この反応容器がグローブボックス中に持ち込まれた。そして、iPr−Pybox(0.030mmol),Ca(OiPr)2(0.03mmol),MS4A(モレキュラーシーブ;100mg)が秤量され、反応容器内に入れられた。そして、グローブボックスから反応容器が取り出された。反応容器内にTHF(0.5ml)が加えられた後、室温下で2時間に亘る撹拌が行われた。攪拌後、室温下で反応容器内が30分間掛けて減圧された。これにより、揮発性物質が取り除かれた。この後、0.5mlのトルエンが添加された。そして、室温下で30分間に亘って撹拌が行われた。この後、反応容器内が−20℃に冷却された。冷却後、アズラクトン(0.03mmol)のトルエン溶液(0.5ml)と、アクリル酸メチル(0.36mol)のトルエン溶液(0.5ml)とが、順次、加えられた。この温度下で24時間の撹拌が行われた。この後、飽和塩化アンモニウム溶液(10ml)が添加された。これにより、反応が停止した。反応停止後、塩化メチレン(15ml)を用いての抽出が3回行われた。有機層が併せられ、無水硫酸ナトリウムによる乾燥が行われた。得られた粗生成物が濾過、減圧濃縮された。この後、シリカゲル薄層クロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=4/1)にて精製され、下記に示される特性の目的物(1,4−付加体)が得られた。この付加体の収率は66%であった。そして、エナンチオ選択性は76%eeであった。尚、エナンチオ選択性はHPLCで決定された。
Claims (25)
- 下記の一般式[I]で表される化合物と、
下記の一般式[II]で表される化合物
とで構成されることを特徴とする触媒。
一般式[I]
[一般式[I]中、R1,R2,R3は、H、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はアラルキル基(アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。)である。R1とR2とR3とは、全てが同一でも、異なるものでも良い。R4は、H,F,Cl,Br,I、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基(アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。)、O,S又はN(O,S,Nは、水素原子または置換基を有する。)である。XはO,S又はN(Nの場合は置換基を有する。)である。]
一般式[II]
MX2
[一般式[II]中、Mはアルカリ土類金属である。Xは陰イオンである。] - 一般式[I]で表される化合物と一般式[II]で表される化合物との錯体である
ことを特徴とする請求項1の触媒。 - 一般式[I]で表される化合物が光学活性三座配位子である
ことを特徴とする請求項1又は請求項2の触媒。 - 一般式[II]のMがCa,Sr又はBaであり、
一般式[II]のXがClO4,BF4,PF6,NO3,F,Cl,Br,I,SO4R,OCOR,OR,NR2又はN(SiR3)2(R=炭化水素基)である
ことを特徴とする請求項1又は請求項2の触媒。 - カルボニル化合物類縁体とニトロオレフィン化合物類縁体との反応に際して用いられる触媒である
ことを特徴とする請求項1〜請求項4いずれかの触媒。 - カルボニル化合物類縁体が下記の一般式[III]で表されるβ−ジカルボニル化合物であり、
ニトロオレフィン化合物類縁体が下記の一般式[IV]で表される化合物である
ことを特徴とする請求項5の触媒。
一般式[III]
[一般式[III]中、R5,R6は、H、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基(アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。)、O,S又はN(O,S,Nは、水素原子または置換基を有する。)である。R7は、H、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基(アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。)、O,S又はN(O,S,Nは、水素原子または置換基を有する。)である。R5とR7、又はR6とR7とは、繋がっている場合も有る。]
一般式[IV]
[一般式[IV]中、R8,R10は、H、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はアラルキル基(アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。)である。R9は、H、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はアラルキル基(アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。)である。R8とR10、又はR8とR9とは、繋がっている場合も有る。] - カルボニル化合物類縁体とイミン類縁体との反応に際して用いられる触媒である
ことを特徴とする請求項1〜請求項4いずれかの触媒。 - カルボニル化合物類縁体が下記の一般式[III]で表されるβ−ジカルボニル化合物であり、
イミン類縁体が下記の一般式[V]で表される化合物である
ことを特徴とする請求項7の触媒。
一般式[III]
[一般式[III]中、R5,R6は、H、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基(アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。)、O,S又はN(O,S,Nは、水素原子または置換基を有する。)である。R7は、H、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基(アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。)、O,S又はN(O,S,Nは、水素原子または置換基を有する。)である。R5とR7、又はR6とR7とは、繋がっている場合も有る。]
一般式[V]
[一般式[V]中、R10は、H、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はアラルキル基(アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。)である。R11は、H、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はアラルキル基(アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。)である。R12は、COOR,SO2R又はPOR2(Rはアルキル基、アルケニル基、アリール基、又はアラルキル基)である。] - カルボニル化合物類縁体とアズラクトン類縁体との反応に際して用いられる触媒である
ことを特徴とする請求項1〜請求項4いずれかの触媒。 - カルボニル化合物類縁体が下記の一般式[VI]で表されるα,β−不飽和カルボニル化合物であり、
アズラクトン類縁体が下記の一般式[VII]で表される化合物である
ことを特徴とする請求項9の触媒。
一般式[VI]
[一般式[VI]中、R15,R16は、H、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はアラルキル基(アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。)である。R17は、H、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基(アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。)、O,S又はN(O,S,Nは、水素原子または置換基を有する。)である。]
一般式[VII]
[一般式[VII]中、R13,R14は、H、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はアラルキル基(アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。)である。] - 下記の一般式[I]で表される化合物と下記の一般式[II]で表される化合物とで構成される触媒の存在下で、カルボニル化合物類縁体とニトロオレフィン化合物類縁体とを反応させる
ことを特徴とする反応方法。
一般式[I]
[一般式[I]中、R1,R2,R3は、H、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はアラルキル基(アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。)である。R1とR2とR3とは、全てが同一でも、異なるものでも良い。R4は、H,F,Cl,Br,I、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基(アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。)、O,S又はN(O,S,Nは、水素原子または置換基を有する。)である。XはO,S又はN(Nの場合は置換基を有する。)である。]
一般式[II]
MX2
[一般式[II]中、Mはアルカリ土類金属である。Xは陰イオンである。] - 触媒が一般式[I]で表される化合物と一般式[II]で表される化合物との錯体である
ことを特徴とする請求項11の反応方法。 - 一般式[I]で表される化合物が光学活性三座配位子である
ことを特徴とする請求項11又は請求項12の反応方法。 - 一般式[II]のMがCa,Sr又はBaであり、
一般式[II]のXがClO4,BF4,PF6,NO3,F,Cl,Br,I,SO4R,OCOR,OR,NR2又はN(SiR3)2(R=炭化水素基)である
ことを特徴とする請求項11又は請求項12の反応方法。 - カルボニル化合物類縁体が下記の一般式[III]で表されるβ−ジカルボニル化合物であり、
ニトロオレフィン化合物類縁体が下記の一般式[IV]で表される化合物である
ことを特徴とする請求項11〜請求項14いずれかの反応方法。
一般式[III]
[一般式[III]中、R5,R6は、H、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基(アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。)、O,S又はN(O,S,Nは、水素原子または置換基を有する。)である。R7は、H、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基(アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。)、O,S又はN(O,S,Nは、水素原子または置換基を有する。)である。R5とR7、又はR6とR7とは、繋がっている場合も有る。]
一般式[IV]
[一般式[IV]中、R8,R10は、H、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はアラルキル基(アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。)である。R9は、H、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はアラルキル基(アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。)である。R8とR10、又はR8とR9とは、繋がっている場合も有る。] - 下記の一般式[I]で表される化合物と下記の一般式[II]で表される化合物とで構成される触媒の存在下で、カルボニル化合物類縁体とイミン類縁体とを反応させる
ことを特徴とする反応方法。
一般式[I]
[一般式[I]中、R1,R2,R3は、H、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はアラルキル基(アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。)である。R1とR2とR3とは、全てが同一でも、異なるものでも良い。R4は、H,F,Cl,Br,I、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基(アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。)、O,S又はN(O,S,Nは、水素原子または置換基を有する。)である。XはO,S又はN(Nの場合は置換基を有する。)である。]
一般式[II]
MX2
[一般式[II]中、Mはアルカリ土類金属である。Xは陰イオンである。] - 触媒が一般式[I]で表される化合物と一般式[II]で表される化合物との錯体である
ことを特徴とする請求項16の反応方法。 - 一般式[I]で表される化合物が光学活性三座配位子である
ことを特徴とする請求項16又は請求項17の反応方法。 - 一般式[II]のMがCa,Sr又はBaであり、
一般式[II]のXがClO4,BF4,PF6,NO3,F,Cl,Br,I,SO4R,OCOR,OR,NR2又はN(SiR3)2(R=炭化水素基)である
ことを特徴とする請求項16又は請求項17の反応方法。 - カルボニル化合物類縁体が下記の一般式[III]で表されるβ−ジカルボニル化合物であり、
イミン類縁体が下記の一般式[V]で表される化合物である
ことを特徴とする請求項16〜請求項19いずれかの反応方法。
一般式[III]
[一般式[III]中、R5,R6は、H、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基(アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。)、O,S又はN(O,S,Nは、水素原子または置換基を有する。)である。R7は、H、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基(アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。)、O,S又はN(O,S,Nは、水素原子または置換基を有する。)である。R5とR7、又はR6とR7とは、繋がっている場合も有る。]
一般式[V]
[一般式[V]中、R10は、H、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はアラルキル基(アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。)である。R11は、H、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はアラルキル基(アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。)である。R12は、COOR,SO2R又はPOR2(Rはアルキル基、アルケニル基、アリール基、又はアラルキル基)である。] - 下記の一般式[I]で表される化合物と下記の一般式[II]で表される化合物とで構成される触媒の存在下で、カルボニル化合物類縁体とアズラクトン類縁体とを反応させる
ことを特徴とする反応方法。
一般式[I]
[一般式[I]中、R1,R2,R3は、H、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はアラルキル基(アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。)である。R1とR2とR3とは、全てが同一でも、異なるものでも良い。R4は、H,F,Cl,Br,I、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基(アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。)、O,S又はN(O,S,Nは、水素原子または置換基を有する。)である。XはO,S又はN(Nの場合は置換基を有する。)である。]
一般式[II]
MX2
[一般式[II]中、Mはアルカリ土類金属である。Xは陰イオンである。] - 触媒が一般式[I]で表される化合物と一般式[II]で表される化合物との錯体である
ことを特徴とする請求項21の反応方法。 - 一般式[I]で表される化合物が光学活性三座配位子である
ことを特徴とする請求項21又は請求項22の反応方法。 - 一般式[II]のMがCa,Sr又はBaであり、
一般式[II]のXがClO4,BF4,PF6,NO3,F,Cl,Br,I,SO4R,OCOR,OR,NR2又はN(SiR3)2(R=炭化水素基)である
ことを特徴とする請求項21又は請求項22の反応方法。 - カルボニル化合物類縁体が下記の一般式[VI]で表されるα,β−不飽和カルボニル化合物であり、
アズラクトン類縁体が下記の一般式[VII]で表される化合物である
ことを特徴とする請求項21〜請求項24いずれかの反応方法。
一般式[VI]
[一般式[VI]中、R15,R16は、H、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はアラルキル基(アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。)である。R17は、H、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基(アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。)、O,S又はN(O,S,Nは、水素原子または置換基を有する。)である。]
一般式[VII]
[一般式[VII]中、R13,R14は、H、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はアラルキル基(アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。)である。]
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011183343A (ja) * | 2010-03-10 | 2011-09-22 | Japan Science & Technology Agency | 触媒および反応方法 |
WO2012002203A1 (ja) * | 2010-07-01 | 2012-01-05 | 国立大学法人名古屋大学 | β-アミノカルボニル化合物の製法 |
EP2431819A2 (en) | 2010-09-16 | 2012-03-21 | Ricoh Company, Ltd. | Image forming apparatus, image forming method, and program |
JP2013185150A (ja) * | 2012-03-08 | 2013-09-19 | Tokyo Kasei Kogyo Kk | ポリスチレン担持ピリジンビスオキサゾリン誘導体−カルシウム触媒 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001252570A (ja) * | 2000-03-10 | 2001-09-18 | Japan Science & Technology Corp | キラル希土類金属触媒と不斉アルドール反応方法 |
JP2004196710A (ja) * | 2002-12-18 | 2004-07-15 | Univ Waseda | 配位子及び不斉触媒 |
WO2004076391A1 (ja) * | 2003-02-28 | 2004-09-10 | Japan Science And Technology Agency | 光学活性化合物の製造方法 |
JP2006036729A (ja) * | 2004-07-30 | 2006-02-09 | Nippon Soda Co Ltd | 光学活性アルコール誘導体の製造方法 |
JP2008222621A (ja) * | 2007-03-10 | 2008-09-25 | Japan Science & Technology Agency | β位に不斉点を有するカルボン酸の製造及び求核剤 |
JP2008253987A (ja) * | 2007-03-09 | 2008-10-23 | Japan Science & Technology Agency | 金属触媒、及び光学活性α−アミノ酸誘導体の製造方法 |
JP2009215214A (ja) * | 2008-03-10 | 2009-09-24 | Japan Science & Technology Agency | α−アミノホスホン酸エステル誘導体の製造方法 |
-
2009
- 2009-03-12 JP JP2009060118A patent/JP5089634B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001252570A (ja) * | 2000-03-10 | 2001-09-18 | Japan Science & Technology Corp | キラル希土類金属触媒と不斉アルドール反応方法 |
JP2004196710A (ja) * | 2002-12-18 | 2004-07-15 | Univ Waseda | 配位子及び不斉触媒 |
WO2004076391A1 (ja) * | 2003-02-28 | 2004-09-10 | Japan Science And Technology Agency | 光学活性化合物の製造方法 |
JP2006036729A (ja) * | 2004-07-30 | 2006-02-09 | Nippon Soda Co Ltd | 光学活性アルコール誘導体の製造方法 |
JP2008253987A (ja) * | 2007-03-09 | 2008-10-23 | Japan Science & Technology Agency | 金属触媒、及び光学活性α−アミノ酸誘導体の製造方法 |
JP2008222621A (ja) * | 2007-03-10 | 2008-09-25 | Japan Science & Technology Agency | β位に不斉点を有するカルボン酸の製造及び求核剤 |
JP2009215214A (ja) * | 2008-03-10 | 2009-09-24 | Japan Science & Technology Agency | α−アミノホスホン酸エステル誘導体の製造方法 |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011183343A (ja) * | 2010-03-10 | 2011-09-22 | Japan Science & Technology Agency | 触媒および反応方法 |
WO2012002203A1 (ja) * | 2010-07-01 | 2012-01-05 | 国立大学法人名古屋大学 | β-アミノカルボニル化合物の製法 |
CN102958910A (zh) * | 2010-07-01 | 2013-03-06 | 国立大学法人名古屋大学 | β-氨基羰基化合物的制法 |
JP5246903B2 (ja) * | 2010-07-01 | 2013-07-24 | 国立大学法人名古屋大学 | β−アミノカルボニル化合物の製法 |
US8507715B2 (en) | 2010-07-01 | 2013-08-13 | National University Corporation Nagoya University | Method for producing β-aminocarbonyl compound |
CN102958910B (zh) * | 2010-07-01 | 2014-03-12 | 国立大学法人名古屋大学 | β-氨基羰基化合物的制法 |
EP2431819A2 (en) | 2010-09-16 | 2012-03-21 | Ricoh Company, Ltd. | Image forming apparatus, image forming method, and program |
JP2013185150A (ja) * | 2012-03-08 | 2013-09-19 | Tokyo Kasei Kogyo Kk | ポリスチレン担持ピリジンビスオキサゾリン誘導体−カルシウム触媒 |
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Maruoka | 1.03 Organoaluminum Reagents K Maruoka, Kyoto University, Sakyo, Kyoto, Japan Y Naganawa, Nagoya University, Nagoya, Japan 2014 Elsevier Ltd. All rights reserved. This chapter is a revision of the previous edition chapter by James R. Hauske, Vol. 1, pp 77-106,© 1991, Elsevier Ltd. | |
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