JP5135264B2 - ホスホン酸類縁体の製造方法、及び触媒 - Google Patents
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Description
α−アミノホスホネート類縁体とα,β−不飽和カルボニル化合物とを反応させて光学活性なプロリンのホスホン酸類縁体を製造する方法であって、
前記反応は下記の一般式[I]で表される化合物と下記の一般式[II]で表される化合物とで構成される物質の存在下で行われる
ことを特徴とする光学活性プロリンホスホン酸類縁体の製造方法によって解決される。
前記反応は下記の一般式[I]で表される化合物と下記の一般式[II]で表される化合物とで構成される錯体の存在下で行われる
ことを特徴とする光学活性プロリンホスホン酸類縁体の製造方法によって解決される。
ことを特徴とする触媒によって解決される。
ことを特徴とする触媒によって解決される。
ことを特徴とする触媒によって解決される。
[一般式[I]中、R1,R2は、ハロゲン、アルキル基、アルケニル基、またはアラルキル基(アルキル基、アルケニル基、アラルキル基は、ヘテロ原子を有する場合と、ヘテロ原子を有さない場合とが有る。)である。R1とR2とは、O,N又はSを介して繋がって環を形成する場合が有る。R1とR2とは、同一の場合と、異なる場合とが有る。R3は、アルキル基、アルケニル基、アリール基またはアラルキル基(アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。)である。全てのR1,R2,R3は、同一の場合と、異なる場合とが有る。]
MX
MX
[一般式[II]中、Mは、Cu又はAgである。Xは陰イオンである。]
NY
[一般式[Z]中、Nは、Li,Na,K,Cs,Mg,Ca,Sr又はBaである。YはH,OR,NR2又はN(SiR3)2(R=炭化水素基)である。]
[一般式[III]中、R4は、アリール基、アルケニル基、またはアラルキル基(アリール基、アルケニル基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。)である。R5は、H、アルキル基、アルケニル基、アラルキル基またはアリール基(アルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アリール基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。)である。R6は、アルキル基、アルケニル基、アラルキル基またはアリール基(アルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アリール基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。)である。R7は、置換基を有するO,置換基を有するN,置換基を有するS、アルキル基、アルケニル基、アラルキル基またはアリール基(アルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アリール基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。)である。全てのR7は、同一の場合と、異なる場合とが有る。]
一般式[I]中、R1,R2は、ハロゲン(F,Cl,Br,I等)、アルキル基、アルケニル基、またはアラルキル基である。好ましいハロゲンはClである。好ましいアルキル基は、炭素数が1〜10のものである。更に好ましいアルキル基は、炭素数が1〜5のものである。好ましいアルケニル基は炭素数が2〜10のものである。更に好ましいアルケニル基は炭素数が2〜5のものである。好ましいアラルキル基(アリールアルキル基)は、その骨格部分(アリール基の部分)の炭素数が4〜14のものである。特に好ましいアラルキル基は、骨格部分(アリール基の部分)がフェニル基やナフチル基である。そして、アラルキル基における好ましいアルキル基は、炭素数が1〜10のものである。更には、炭素数が1〜5のものが好ましい。前記アルキル基やアラルキル基は、ヘテロ原子(例えば、O,N,S)を有する場合と、ヘテロ原子を有さない場合とが有る。R1とR2とは、O,N又はSを介して、繋がる場合が有る。この場合、R1とR2とによって環が構成される。R1とR2とが繋がっている場合(環を構成する場合)は、好ましい。例えば、R1とR2とによって、−W−(CHm)n−W−(但し、WはCHm,O,S、又は置換基を有するN。m,nは1又は2。)が構成された場合は好ましい。R1とR2とによって、−O−(CH2)n−O−(n=1,2)が構成された場合は特に好ましい。尚、R1とR2とは繋がらない場合も有る。R1とR2とは、同一の場合と、異なる場合とが有る。全てのR1,R2は、同一の場合と、異なる場合とが有る。
一般式[I]中、R3は、アルキル基、アルケニル基、アリール基またはアラルキル基である。前記アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基は、置換基(好ましい置換基は、炭素数が1〜10のアルキル基などの炭化水素基)を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。好ましいアルキル基は炭素数が1〜10のものである。更に好ましいアルキル基は炭素数が1〜5のものである。好ましいアルケニル基は炭素数が2〜10のものである。更に好ましいアルケニル基は炭素数が2〜5のものである。好ましいアリール基は、骨格部分の炭素数が4〜14のアリール基である。骨格部分がフェニル基やナフチル基は更に好ましいアリール基である。骨格部分がフェニル基は特に好ましいアリール基である。アラルキル基は、上記アリール基が置換基としてアルキル基を有する場合である。従って、骨格(置換基を持たないアリール基)部分の炭素数が4〜14のアリール基であって、これに置換基として炭素数が1〜10のアルキル基を持つものは好ましいものとして挙げることが出来る。特に好ましいR3は、パラ位と2箇所のメタ位に置換基を有するフェニル基である。中でも、パラ位にメトキシ基、2箇所のメタ位にtert−ブチル基を有するフェニル基は好ましい。全てのR3は、同一の場合と、異なる場合とが有る。
一般式[I]中、全てのR1,R2,R3は、同一の場合と、異なる場合とが有る。
MX
一般式[II]中、Mは、Cu又はAgである。特に好ましくはAgである。
一般式[II]中、Xは陰イオンである。例えば、ClO4,BF4,PF6,NO3,F,Cl,Br,I,SO4R,OCOR,OR,NR2又はN(SiR3)2である。前記Rは炭化水素基である。好ましい炭化水素基はアルキル基、アルケニル基、アリール基またはアラルキル基である。好ましいアルキル基は炭素数が1〜10のものである。更に好ましいアルキル基は炭素数が1〜5のものである。好ましいアルケニル基は炭素数が2〜10のものである。更に好ましいアルケニル基は炭素数が2〜5のものである。好ましいアリール基は、骨格部分の炭素数が4〜14のアリール基である。骨格部分がフェニル基やナフチル基は更に好ましいアリール基である。骨格部分がフェニル基は特に好ましいアリール基である。アラルキル基は、上記アリール基が置換基としてアルキル基を有する場合である。従って、骨格(置換基を持たないアリール基)部分の炭素数が4〜14のアリール基であって、これに置換基として炭素数が1〜10のアルキル基を持つものは好ましいものとして挙げることが出来る。前記アルキル基、アリール基またはアラルキル基は、F原子を有する場合と、F原子を有さない場合とが有る。特に好ましいXはOR,NR2又はN(SiR3)2である。中でもN(SiMe3)2は好ましい。
NY
一般式[Z]中、Nは、Li,Na,K,Cs,Mg,Ca,Sr又はBaである。好ましくはKである。
一般式[Z]中、Yは、H,OR,NR2又はN(SiR3)2である。好ましくはN(SiR3)2である。前記Rは炭化水素基である。好ましい炭化水素基はアルキル基、アルケニル基、アリール基またはアラルキル基である。好ましいアルキル基は炭素数が1〜10のものである。更に好ましいアルキル基は炭素数が1〜5のものである。好ましいアルケニル基は炭素数が2〜10のものである。更に好ましいアルケニル基は炭素数が2〜5のものである。好ましいアリール基は、骨格部分の炭素数が4〜14のアリール基である。骨格部分がフェニル基やナフチル基は更に好ましいアリール基である。骨格部分がフェニル基は特に好ましいアリール基である。アラルキル基は、上記アリール基が置換基としてアルキル基を有する場合である。従って、骨格(置換基を持たないアリール基)部分の炭素数が4〜14のアリール基であって、これに置換基として炭素数が1〜10のアルキル基を持つものは好ましいものとして挙げることが出来る。尚、特に好ましいYはN(SiMe3)2である。尚、Nがアルカリ金属の場合、Yの個数は一つであるが、Nがアルカリ土類金属の場合、Yの個数は二つである。
一般式[III]中、R4は、アリール基またはアルケニル基である。前記アルキル基、アルケニル基は、置換基(好ましい置換基は、炭素数が1〜10のアルキル基などの炭化水素基)を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。好ましいアルキル基は、炭素数が1〜10のものである。更に好ましいアルキル基は、炭素数が1〜5のものである。好ましいアルケニル基は炭素数が2〜10のものである。更に好ましいアルケニル基は炭素数が2〜5のものである。本発明において好ましいR4はフェニル基を有する基である。中でもフェニル基である。
一般式[III]中、R5は、H、アルキル基、アルケニル基、アリール基またはアラルキル基である。前記アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基は、置換基(好ましい置換基は、炭素数が1〜10のアルキル基などの炭化水素基)を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。好ましいアルキル基は炭素数が1〜10のものである。更に好ましいアルキル基は炭素数が1〜5のものである。好ましいアルケニル基は炭素数が2〜10のものである。更に好ましいアルケニル基は炭素数が2〜5のものである。好ましいアリール基は、骨格部分の炭素数が4〜14のアリール基である。骨格部分がフェニル基やナフチル基は更に好ましいアリール基である。骨格部分がフェニル基は特に好ましいアリール基である。アラルキル基は、上記アリール基が置換基としてアルキル基を有する場合である。従って、骨格(置換基を持たないアリール基)部分の炭素数が4〜14のアリール基であって、これに置換基として炭素数が1〜10のアルキル基を持つものは好ましいものとして挙げることが出来る。特に好ましいR5はH又はアルキル基である。中でもHが最も好ましい。
一般式[III]中、R6は、アルキル基、アルケニル基、アリール基またはアラルキル基である。前記アルキル基、アリール基、アラルキル基は、置換基(好ましい置換基は、炭素数が1〜10のアルキル基などの炭化水素基)を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。好ましいアルキル基は炭素数が1〜10のものである。更に好ましいアルキル基は炭素数が1〜5のものである。好ましいアルケニル基は炭素数が2〜10のものである。更に好ましいアルケニル基は炭素数が2〜5のものである。好ましいアリール基は、骨格部分の炭素数が4〜14のアリール基である。骨格部分がフェニル基やナフチル基は更に好ましいアリール基である。骨格部分がフェニル基は特に好ましいアリール基である。アラルキル基は、上記アリール基が置換基としてアルキル基を有する場合である。従って、骨格(置換基を持たないアリール基)部分の炭素数が4〜14のアリール基であって、これに置換基として炭素数が1〜10のアルキル基を持つものは好ましいものとして挙げることが出来る。特に好ましいR6はH又はアルキル基である。中でもHが最も好ましい。
一般式[III]中、R7は、置換基(好ましい置換基は、炭素数が1〜10のアルキル基などの炭化水素基)を有するO,置換基(好ましい置換基は、炭素数が1〜10のアルキル基などの炭化水素基)を有するN,置換基(好ましい置換基は、炭素数が1〜10のアルキル基などの炭化水素基)を有するS、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はアラルキル基である。前記アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基は、置換基(好ましい置換基は、炭素数が1〜10のアルキル基などの炭化水素基)を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。特に好ましいR7はアルコキシ基(炭素数は1〜10)である。更には炭素数が1〜5のアルコキシ基である。中でもエトキシ基は特に好ましい。全てのR7は同一の場合と異なる場合とが有る。
一般式[IV]中、R8,R9,R10は、H、アルキル基、アルケニル基、アリール基またはアラルキル基である。前記アルキル基、アリール基、アラルキル基は、置換基(好ましい置換基は、炭素数が1〜10のアルキル基などの炭化水素基)を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。好ましいアルキル基は炭素数が1〜10のものである。更に好ましいアルキル基は炭素数が1〜5のものである。好ましいアルケニル基は炭素数が2〜10のものである。更に好ましいアルケニル基は炭素数が2〜5のものである。好ましいアリール基は、骨格部分の炭素数が4〜14のアリール基である。骨格部分がフェニル基やナフチル基は更に好ましいアリール基である。骨格部分がフェニル基は特に好ましいアリール基である。アラルキル基は、上記アリール基が置換基としてアルキル基を有する場合である。従って、骨格(置換基を持たないアリール基)部分の炭素数が4〜14のアリール基であって、これに置換基として炭素数が1〜10のアルキル基を持つものは好ましいものとして挙げることが出来る。R8,R9,R10は、置換基を有するO,置換基を有するN、又は置換基を有するSであっても良い。R8とR9とR10は、同一の場合と、異なる場合とが有る。特に好ましいR8はH、アルキル基、エステル基、又はアミド基である。中でもHは特に好ましい。特に好ましいR9はH又はアルキル基である。中でもHは特に好ましい。特に好ましいR10はH又はアルキル基である。中でもHは特に好ましい。
一般式[IV]中、R11は、炭化水素基、置換基(好ましい置換基は、炭素数が1〜10のアルキル基などの炭化水素基)を有するO,置換基(好ましい置換基は、炭素数が1〜10のアルキル基などの炭化水素基)を有するN、又は置換基(好ましい置換基は、炭素数が1〜10のアルキル基などの炭化水素基)を有するSである。前記炭化水素基は、置換基(好ましい置換基は、炭素数が1〜10のアルキル基などの炭化水素基)を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。好ましいR10は、炭素数が1〜10のアルキル基を有するO、又は炭素数が1〜10のアルキル基を有するNである。中でも炭素数が1〜10のアルコキシ基は好ましい。特に、炭素数が1〜5のアルコキシ基は好ましい。例えば、ターシャルブトキシ基は好ましい。
又、一般式[III](R4=Ph,R5=R6=H,R7=OEt)と一般式[IV](R8=H,R9=COOtBu,R10=H,R11=OtBu)との反応に、上記実施例の触媒(AgOTfと(R)−DTBM−SEGPHOSとKHMDSとの錯体)を用いて同様に行った処、同様な結果が得られた。
Claims (11)
- 下記一般式[III]で表される化合物とα,β−不飽和カルボニル化合物とを反応させて光学活性なプロリンのホスホン酸エステルを製造する方法であって、
前記反応は、下記の一般式[I]で表される化合物と下記の一般式[II]で表される化合物とで構成される物質の存在下で行われる
ことを特徴とする光学活性プロリンホスホン酸エステルの製造方法。
一般式[I]
[一般式[I]中、R1,R2は、R 1 とR 2 とによって、−O−(CH 2 ) n −O−(n=1,2)が構成される基である。R3は、アルキル基、アルケニル基、アリール基またはアラルキル基である。]
一般式[II]
MX
[一般式[II]中、Mは、Cu又はAgである。Xは陰イオンである。]
一般式[III]
[一般式[III]中、R 4 はアリール基、アルケニル基またはアラルキル基である。R 5 ,R 6 はH、アルキル基、アルケニル基、アラルキル基またはアリール基である。R 7 はアルコキシ基である。] - 下記一般式[III]で表される化合物とα,β−不飽和カルボニル化合物とを反応させて光学活性なプロリンのホスホン酸エステルを製造する方法であって、
前記反応は、下記の一般式[I]で表される化合物と下記の一般式[II]で表される化合物と下記の一般式[Z]で表される化合物とで構成される物質の存在下で行われる
ことを特徴とする光学活性プロリンホスホン酸エステルの製造方法。
一般式[I]
[一般式[I]中、R1,R2は、R 1 とR 2 とによって、−O−(CH 2 ) n −O−(n=1,2)が構成される基である。R3は、アルキル基、アルケニル基、アリール基またはアラルキル基である。]
一般式[II]
MX
[一般式[II]中、MはCu又はAgである。Xは陰イオンである。]
一般式[Z]
NY
[一般式[Z]中、NはLi,Na,K,Cs,Mg,Ca,Sr又はBaである。YはH,OR,NR2又はN(SiR3)2(R=炭化水素基)である。]
一般式[III]
[一般式[III]中、R 4 はアリール基、アルケニル基またはアラルキル基である。R 5 ,R 6 はH、アルキル基、アルケニル基、アラルキル基またはアリール基である。R 7 はアルコキシ基である。] - 一般式[II]のXがClO4,BF4,PF6,NO3,F,Cl,Br,I,SO4R,OCOR,OR,NR2又はN(SiR3)2(R=炭化水素基)である
ことを特徴とする請求項1又は請求項2の光学活性プロリンホスホン酸エステルの製造方法。 - 一般式[III]のR 4 はフェニル基を有する基、R 5 ,R 6 はH又は炭素数が1〜10のアルキル基、R 7 は炭素数が1〜10のアルコキシ基である
ことを特徴とする請求項1〜請求項3いずれかの光学活性プロリンホスホン酸エステルの製造方法。 - 一般式で表される化合物により構成される錯体の存在下で反応が行われる
ことを特徴とする請求項1〜請求項5いずれかの光学活性プロリンホスホン酸エステルの製造方法。 - 下記一般式[III]で表される化合物とα,β−不飽和カルボニル化合物とを反応させて光学活性なプロリンのホスホン酸エステルを製造するに際して用いられる触媒であって、
下記の一般式[I]で表される化合物と下記の一般式[II]で表される化合物とで構成される
ことを特徴とする触媒。
一般式[I]
[一般式[I]中、R1,R2は、R 1 とR 2 とによって、−O−(CH 2 ) n −O−(n=1,2)が構成される基である。R3は、アルキル基、アルケニル基、アリール基またはアラルキル基である。]
一般式[II]
MX
[一般式[II]中、Mは、Cu又はAgである。Xは陰イオンである。]
一般式[III]
[一般式[III]中、R 4 はアリール基、アルケニル基またはアラルキル基である。R 5 ,R 6 はH、アルキル基、アルケニル基、アラルキル基またはアリール基である。R 7 はアルコキシ基である。] - 下記一般式[III]で表される化合物とα,β−不飽和カルボニル化合物とを反応させて光学活性なプロリンのホスホン酸エステルを製造するに際して用いられる触媒であって、
下記の一般式[I]で表される化合物と下記の一般式[II]で表される化合物と下記の一般式[Z]で表される化合物とで構成される
ことを特徴とする触媒。
一般式[I]
[一般式[I]中、R1,R2は、R 1 とR 2 とによって、−O−(CH 2 ) n −O−(n=1,2)が構成される基である。R3は、アルキル基、アルケニル基、アリール基またはアラルキル基である。]
一般式[II]
MX
[一般式[II]中、MはCu又はAgである。Xは陰イオンである。]
一般式[Z]
NY
[一般式[Z]中、NはLi,Na,K,Cs,Mg,Ca,Sr又はBaである。YはH,OR,NR2又はN(SiR3)2(R=炭化水素基)である。]
一般式[III]
[一般式[III]中、R 4 はアリール基、アルケニル基またはアラルキル基である。R 5 ,R 6 はH、アルキル基、アルケニル基、アラルキル基またはアリール基である。R 7 はアルコキシ基である。] - 一般式[II]のXがClO4,BF4,PF6,NO3,F,Cl,Br,I,SO4R,OCOR,OR,NR2又はN(SiR3)2(R=炭化水素基)である
ことを特徴とする請求項7又は請求項8の触媒。 - 一般式[III]のR 4 はフェニル基を有する基、R 5 ,R 6 はH又は炭素数が1〜10のアルキル基、R 7 は炭素数が1〜10のアルコキシ基である
ことを特徴とする請求項7〜請求項9いずれかの触媒。 - 錯体であることを特徴とする請求項7〜請求項10いずれかの触媒。
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