JP2010199607A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010199607A5 JP2010199607A5 JP2010101431A JP2010101431A JP2010199607A5 JP 2010199607 A5 JP2010199607 A5 JP 2010199607A5 JP 2010101431 A JP2010101431 A JP 2010101431A JP 2010101431 A JP2010101431 A JP 2010101431A JP 2010199607 A5 JP2010199607 A5 JP 2010199607A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid
- substrate
- exposure apparatus
- functional
- liquid supply
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010101431A JP5299347B2 (ja) | 2010-04-26 | 2010-04-26 | 露光装置、液体供給方法、及びデバイス製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010101431A JP5299347B2 (ja) | 2010-04-26 | 2010-04-26 | 露光装置、液体供給方法、及びデバイス製造方法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004226583A Division JP4534651B2 (ja) | 2004-08-03 | 2004-08-03 | 露光装置、デバイス製造方法及び液体回収方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010199607A JP2010199607A (ja) | 2010-09-09 |
JP2010199607A5 true JP2010199607A5 (fr) | 2011-08-18 |
JP5299347B2 JP5299347B2 (ja) | 2013-09-25 |
Family
ID=42823933
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010101431A Expired - Fee Related JP5299347B2 (ja) | 2010-04-26 | 2010-04-26 | 露光装置、液体供給方法、及びデバイス製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5299347B2 (fr) |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1999049504A1 (fr) * | 1998-03-26 | 1999-09-30 | Nikon Corporation | Procede et systeme d'exposition par projection |
KR101139266B1 (ko) * | 2002-12-03 | 2012-05-15 | 가부시키가이샤 니콘 | 오염 물질 제거 방법 및 장치, 그리고 노광 방법 및 장치 |
CN101424883B (zh) * | 2002-12-10 | 2013-05-15 | 株式会社尼康 | 曝光设备和器件制造法 |
JP4029064B2 (ja) * | 2003-06-23 | 2008-01-09 | 松下電器産業株式会社 | パターン形成方法 |
US20050231695A1 (en) * | 2004-04-15 | 2005-10-20 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Method and system for immersion lithography using high PH immersion fluid |
JP2006005122A (ja) * | 2004-06-17 | 2006-01-05 | Sony Corp | 露光方法および露光装置 |
-
2010
- 2010-04-26 JP JP2010101431A patent/JP5299347B2/ja not_active Expired - Fee Related
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2010109391A5 (fr) | ||
JP2012138624A5 (ja) | 液浸リソグラフィ装置、及び洗浄方法 | |
JP2012248902A5 (ja) | 洗浄方法、液浸露光装置、及びデバイス製造方法 | |
JP2012134512A5 (ja) | 露光装置、露光装置のメンテナンス方法、露光方法、及びデバイス製造方法 | |
JP2016053721A5 (fr) | ||
JP2017027088A5 (fr) | ||
JP2014197716A5 (fr) | ||
JP2010093302A5 (fr) | ||
JP2011171757A5 (ja) | 露光装置、及び液体除去方法 | |
JP2010093298A5 (fr) | ||
JP2012164992A5 (fr) | ||
JP2010103579A5 (fr) | ||
ATE467902T1 (de) | Belichtungsvorrichtung, belichtungsverfahren und bauelementeherstellungsverfahren | |
JP2012164996A5 (ja) | 露光装置、デバイス製造方法、及びクリーニング方法 | |
JP2010087531A5 (fr) | ||
JP2010103576A5 (ja) | 露光装置、及び液体検出方法 | |
JP2012156539A5 (ja) | 露光装置、デバイス製造方法、及びクリーニング方法 | |
JP2005085789A5 (fr) | ||
JP2010183109A5 (fr) | ||
JP2012142605A5 (ja) | 液浸部材、液浸露光装置、及びデバイス製造方法。 | |
JP2011023764A5 (ja) | 流路形成部材、露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 | |
JP2012142604A5 (fr) | ||
JP2005197384A5 (fr) | ||
JP2010118680A5 (fr) | ||
JP2012134553A5 (ja) | 露光装置、液体検出方法、及びデバイス製造方法 |