JP2010199313A - コーティング方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】コーティング膜のマスキング作業を無くし、製造方法が容易で歩留りが向上し、かつ電気シールド効果が得られるコーティング方法を提供する。
【解決手段】
導電性の筐体底部14a,筐体側壁部14b,14c,および筐体上蓋部14eからなる筐体14内の筐体底部14a上に電気部品10a,10b,10cを搭載した基板12を配置する工程と、筐体14に開口部24を形成する工程と、開口部24を介して、コーティング膜18aを電気部品10a,10b,10c及び基板12上に形成する工程と、開口部24を導電性のねじ20若しくはピンを用いて封止する工程とを有するコーティング方法。
【選択図】図4
【解決手段】
導電性の筐体底部14a,筐体側壁部14b,14c,および筐体上蓋部14eからなる筐体14内の筐体底部14a上に電気部品10a,10b,10cを搭載した基板12を配置する工程と、筐体14に開口部24を形成する工程と、開口部24を介して、コーティング膜18aを電気部品10a,10b,10c及び基板12上に形成する工程と、開口部24を導電性のねじ20若しくはピンを用いて封止する工程とを有するコーティング方法。
【選択図】図4
Description
本発明は、コーティング方法に関し、特に、化学蒸着法による筐体内部へのコーティング方法に関する。
プリント配線基板(以下基板)は絶縁、防湿、耐薬品など表面保護のためにコーティングをする必要があり、近年このコーティング方法として従来使用されてきた液状コーティングに代わり、化学蒸着(CVD:Chemical Vapor Deposition)法が新たに使用されるようになってきた(例えば、特許文献1参照。)。
このCVD法は、液状コーティングでは困難であった微細な部品や鋭利なエッジ部、複雑に入り組んだ構造(溝、穴)などに均一な膜厚でピンホールのない対象物の形状通りのコーティングをすることが可能である。
しかしながら、図8に示すように、電気シールドのために、筐体底部14a,筐体側壁部14b,14c,および筐体上蓋部14dからなる筐体などで覆われた内部の基板12上に配置された電気部品10a,10b,10cにはコーティングをすることができない。
従来、電気シールドのための筐体などで覆われた内部の電気部品にコーティングをする際には、図9および図10に示すように、筐体上蓋部14dを外して、CVD法によるコーティング膜18の形成を行っていた。
また、内部の電気部品10a,10b,10cにコーティング膜18を形成するために筐体上蓋部14dを外して、CVD法によるコーティングを行うと、筐体側壁部14b,14cの接触面に形成されたコーティング膜により、筐体上蓋部14dを付けたとしても筐体側壁部14b,14cとの導通が取れなくなるため、シールド効果が充分に得られないという問題があった。
このため、コーティング膜によって導通が取れなくなるのを防ぐため、筐体側壁部14b,14cの筐体接触面にマスキングテープ16を形成するなどコーティング膜が付かないようにしていた。さらに、コーティング膜18の形成後、マスキングテープ16を剥がして、同時にマスキングテープ16上に形成されたコーティング膜18も除去した後、図11に示すように、筐体上蓋部14dを付ける必要があった。
しかしながら、CVD法ではマスキングテープ16の上にもコーティング膜18が形成されるため、マスキングテープ16を剥がす際に、マスキングテープ16の周囲のコーティング膜18をカッターなどで切るという作業を行っており、マスキングテープ16を付ける作業・剥がす作業に労力と時間を必要とし、作業性が悪かった。
本発明の目的は、コーティング膜のマスキング作業を無くし、製造方法が容易で歩留りが向上し、かつ電気シールド効果が得られるコーティング方法を提供することにある。
上記目的を達成するための本発明の一態様によれば、導電性の筐体底部,筐体側壁部,および筐体上蓋部からなる筐体内の前記筐体底部上に電気部品を搭載した基板を配置する工程と、前記筐体に開口部を形成する工程と、前記開口部を介して、コーティング膜を前記電気部品及び前記基板上に形成する工程と、前記開口部を導電性のねじ若しくはピンを用いて封止する工程とを有するコーティング方法が提供される。
本発明によれば、コーティング膜のマスキング作業を無くし、製造方法が容易で歩留りが向上し、かつ電気シールド効果が得られるコーティング方法を提供することができる。
次に、図面を参照して、本発明の実施の形態を説明する。以下において、同じブロックまたは要素には同じ符号を付して説明の重複を避け、説明を簡略にする。図面は模式的なものであり、現実のものとは異なることに留意すべきである。また、図面相互間においても互いの寸法の関係や比率が異なる部分が含まれていることはもちろんである。
以下に示す実施の形態は、この発明の技術的思想を具体化するための装置や方法を例示するものであって、この発明の実施の形態は、各構成部品の配置などを下記のものに特定するものでない。この発明の実施の形態は、特許請求の範囲において、種々の変更を加えることができる。
[第1の実施の形態]
本発明の第1の実施の形態に係るコーティング方法の一工程を説明する模式的断面構造は、図1〜図5に示すように表される。第1の実施の形態に係るコーティング方法を、図1〜図5を用いて説明する。
本発明の第1の実施の形態に係るコーティング方法の一工程を説明する模式的断面構造は、図1〜図5に示すように表される。第1の実施の形態に係るコーティング方法を、図1〜図5を用いて説明する。
第1の実施の形態に係るコーティング方法は、図1〜図5に示すように、導電性の筐体底部14a,筐体側壁部14b,14c,および筐体上蓋部14eからなる筐体14内の筐体底部14a上に電気部品10a,10b,10cを搭載した基板12を配置する工程(図1)と、筐体14に開口部24を形成する工程(図1)と、開口部24を介して、コーティング膜18aを電気部品10a,10b,10c及び基板12上に形成する工程(
図2)と、開口部24を導電性のねじ20若しくはピンを用いて封止する工程(図3〜図5)とを有する。
図2)と、開口部24を導電性のねじ20若しくはピンを用いて封止する工程(図3〜図5)とを有する。
コーティング膜18aは、CVD法により形成される。ここで、コーティング膜18aとしては、例えば、シリコン酸化膜、或いはパラキシレンによるパリレンコーティング膜などを適用することができる。なお、図2に示すように、開口部24を介して、コーティング膜18aを電気部品10a,10b,10c及び基板12上に形成する工程において、筐体上蓋部14eの上面にもコーティング膜18bが形成される。また、筐体側壁部14b,14cの外壁面上にもコーティング膜18bが形成される可能性があるが、図2〜図5では図示を省略している。
開口部24は、筐体上蓋部14eに形成される。開口部24の配置はランダムであっても良い。また、開口部24の形状は、円形、矩形、楕円形など様々な形状が適用可能である。
或いは、図5に示すように、開口部24は、筐体側壁部14b,14cにも形成されていても良い。開口穴24の寸法は、例えば、約2〜3mm程度である。また、開口部24は、筐体側壁部14b,14cのみに形成されていても良い。また、筐体側壁部14b,14cの高さは、例えば、約10mm程度である。
筐体14は、例えば、アルミニウム合金などを用いて形成することができる。
筐体(電気シールド)に2〜3mm程度の開口穴24を空けておくことで筐体14内部の電気部品10a,10b,10cにもコーティング膜18aを形成することができる。
コーティング膜18aの形成後、その開口穴24に付着したコーティング膜18bを削り落としながら挿入するようなネジ20(もしくはピン)などを挿入し、開口穴24を塞ぐことでシールド効果を十分に得られるようにすることが可能となる。
図2若しくは図3において、開口穴24近傍の模式的断面構造は、図6に示すように表される。さらに、図4若しくは図5において、ねじ20を挿入した状態の開口穴24近傍の模式的断面構造は、図7に示すように表される。
開口部24を導電性のねじ20若しくはピンを用いて封止する工程は、開口部24の開口穴側壁部22に付着したコーティング膜18bを削り、導電性のねじ20若しくはピンと筐体14を導通する工程を有する。すなわち、筐体14に開口穴24を空けておき、コーティング膜18aを形成後にネジ20やピンで、開口部24の開口穴側壁部22に形成されたコーティング膜18bを剥がしながら、開口穴24を封止する。
なお、コーティング膜18aの形成においては、CVD法の例が示されたが、CVD法の他に、スパッタリング法、真空蒸着法などを適用することもできる。
また、開口部24の形状は、円形、矩形、楕円形など様々な形状が適用可能である。
第1の実施の形態に係るコーティング方法によれば、コーティング膜のマスキング作業を無くし、製造方法が容易で歩留りが向上し、かつ電気シールド効果が得られるコーティング方法を提供することができる。
[その他の実施の形態]
上記のように、本発明は第1の実施の形態によって記載したが、この開示の一部をなす論述および図面は例示的なものであり、この発明を限定するものであると理解すべきではない。この開示から当業者には様々な代替実施の形態、実施例および運用技術が明らかとなろう。
上記のように、本発明は第1の実施の形態によって記載したが、この開示の一部をなす論述および図面は例示的なものであり、この発明を限定するものであると理解すべきではない。この開示から当業者には様々な代替実施の形態、実施例および運用技術が明らかとなろう。
このように、本発明はここでは記載していない様々な実施の形態などを含む。
本発明のコーティング方法は、内部整合型電力増幅素子、電力MMIC(Monolithic Microwave Integrated Circuit)、マイクロ波電力増幅器、ミリ波電力増幅器、高周波MEMS素子などの電気部品に適用可能であり、幅広い分野に適用可能である。
10a,10b,10c…電気部品
12…基板
14…筐体
14a…筐体底部
14b,14c…筐体側壁部
14d,14e…筐体上蓋部
16…マスキングテープ
18,18a,18b…コーティング膜
20…ねじ
22…開口穴側壁部
24…開口穴
12…基板
14…筐体
14a…筐体底部
14b,14c…筐体側壁部
14d,14e…筐体上蓋部
16…マスキングテープ
18,18a,18b…コーティング膜
20…ねじ
22…開口穴側壁部
24…開口穴
Claims (6)
- 導電性の筐体底部,筐体側壁部,および筐体上蓋部からなる筐体内の前記筐体底部上に電気部品を搭載した基板を配置する工程と、
前記筐体に開口部を形成する工程と、
前記開口部を介して、コーティング膜を前記電気部品及び前記基板上に形成する工程と、
前記開口部を導電性のねじ若しくはピンを用いて封止する工程と
を有することを特徴とするコーティング方法。 - 前記コーティング膜は、化学蒸着法により形成されることを特徴とする請求項1に記載のコーティング方法。
- 前記開口部は、前記筐体上蓋部に形成されることを特徴とする請求項1または2に記載のコーティング方法。
- 前記開口部は、前記筐体側壁部に形成されることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のコーティング方法。
- 前記開口部を導電性のねじ若しくはピンを用いて封止する工程は、前記開口部に付着したコーティング膜を削り、前記導電性のねじ若しくはピンと前記筐体を導通する工程を有することを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載のコーティング方法。
- 前記開口部は、ランダムに配置されることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載のコーティング方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009042765A JP2010199313A (ja) | 2009-02-25 | 2009-02-25 | コーティング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009042765A JP2010199313A (ja) | 2009-02-25 | 2009-02-25 | コーティング方法 |
Publications (1)
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---|---|
JP2010199313A true JP2010199313A (ja) | 2010-09-09 |
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JP2009042765A Pending JP2010199313A (ja) | 2009-02-25 | 2009-02-25 | コーティング方法 |
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2009
- 2009-02-25 JP JP2009042765A patent/JP2010199313A/ja active Pending
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