JP2010194805A - 成形用金型およびその製造方法 - Google Patents
成形用金型およびその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010194805A JP2010194805A JP2009040870A JP2009040870A JP2010194805A JP 2010194805 A JP2010194805 A JP 2010194805A JP 2009040870 A JP2009040870 A JP 2009040870A JP 2009040870 A JP2009040870 A JP 2009040870A JP 2010194805 A JP2010194805 A JP 2010194805A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- insulating layer
- molding die
- heat insulating
- base material
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
Abstract
【課題】主に、断熱層を高強度とすることによって、高精度な鏡面や微細パターンを転写できる熱制御成形用金型を得ることができるようにし、以て、成形サイクル短縮を実現することができるようにする。
【解決手段】基材1と、基材1の表面側に設けられた転写層2と、基材1と転写層2との間に介在された断熱層3とを有する成形用金型4であって、断熱層3をポーラス材5で形成すると共に、断熱層3と転写層2との間にシート材6を配置するようにしている。
【選択図】図1
【解決手段】基材1と、基材1の表面側に設けられた転写層2と、基材1と転写層2との間に介在された断熱層3とを有する成形用金型4であって、断熱層3をポーラス材5で形成すると共に、断熱層3と転写層2との間にシート材6を配置するようにしている。
【選択図】図1
Description
この発明は、成形用金型およびその製造方法に関するものであり、特に、微細パターンを有する超精密な成形品を成形するための成形用金型およびその製造方法に関する。
光ディスクや光学素子等の微細パターン等を有する超精密な(樹脂)成形品を製造することを目的とした高精度な樹脂成形においては、溶融樹脂を射出充填した瞬間から、(樹脂)成形用金型に接した溶融樹脂の熱は成形用金型に奪われて急冷される。そのため、成形用金型に接した溶融樹脂の表面部にはスキン層が形成されて瞬時に固化してしまう。このようなスキン層が溶融樹脂に形成された場合は、成形用金型の形状が樹脂に転写されず、特に、成形用金型が、表面に微細な形状(高精度な鏡面や微細パターン等)を持つ場合に、転写不良が顕著になってしまう。
このような問題に対処するため、成形用金型の内部に断熱層を設けることが考えられている。このように、成形用金型の内部に断熱層を設けることにより、溶融樹脂から供給される熱量を成形用金型の表面に蓄熱することで、上記したスキン層の形成を阻止し、成形用金型の形状を精度良く転写した(樹脂)成形品を得ることができる。また、成形用金型の温度を低く設定することができるため、成形サイクルの短縮を実現することができる。更に、成形サイクルの短縮により、生産性アップによる成形品のコストダウンや、成形用金型の温度を低く設定することによる熱エネルギーの削減というメリットを得ることができる。
そして、成形用金型の内部に、断熱層またはこれに相当するものを設けたものとしては、従来、フィラーが充填された耐熱性高分子材料であるワニスを用いて断熱層を塗布形成したもの(例えば、特許文献1参照)や、多孔金属板を熱反射層として採用したもの(例えば、特許文献2参照)や、高気孔率の多孔質材を熱反射層として採用したもの(例えば、特許文献3参照)、などが知られている。
しかしながら、上記特許文献1では、断熱層はフィラーが充填された耐熱性高分子材料であるワニスを用いて塗布形成されているが、耐熱性高分子材料を成形用金型の一部に使用した場合、断熱効果を得るために耐熱高分子材料は数10μm以上の厚さを必要とするため、耐熱高分子材料の剛性不足から成形時に変形を生じ、成形用金型の転写面の形状精度が劣化するという問題が生じる。
また、上記特許文献2では、熱反射層として多孔金属板が採用されているが、多孔金属板上に鏡面あるいは微細構造を形成する場合、電鋳や無電解メッキによって金属層を形成するのであるが、多孔金属板の多孔による形状の影響をなくすには非常に厚い金属層を形成する必要があることから、熱反射層、即ち、断熱層の効果を得ることができないという問題が生じる。あるいは、金属層を形成する時に多孔の部分に存在する空気によって、金属層に空隙などの欠陥が残ってしまい、高精度の鏡面あるいは微細構造を形成することができないという問題が生じる。
更に、上記特許文献3では、高気孔率の多孔質材が採用されていることから、上記特許文献2と同様に、高精度の鏡面あるいは微細構造を形成することができないという問題が生じる。
なお、上記した以外にも、本発明に至る過程で新たな問題やその他の問題などが発生することも考えられる。このような新たな問題やその他の問題などについては、この欄で記載する代りに本発明の実施の形態の中で説明するものとする。但し、この欄に記載する必要が生じた場合には、実施の形態の当該記載をこの欄にも加えることができるものとする。また、その場合には、この欄の記載として適した表現に修正することができるものとする。
請求項1に記載された発明は、基材と、該基材の表面側に設けられた転写層と、前記基材と転写層との間に介在された断熱層とを有する成形用金型であって、前記断熱層をポーラス材で形成すると共に、前記断熱層と転写層との間にシート材を配置したことを特徴としている。
請求項2に記載された発明は、上記において、前記シート材が、耐熱性樹脂材で構成されたことを特徴としている。
請求項3に記載された発明は、上記において、前記シート材が、金属材で構成されたことを特徴としている。
請求項4に記載された発明は、上記において、前記断熱層が、基材と同じ材料からなるポーラス材で構成されたことを特徴としている。
請求項5に記載された発明は、上記において、前記断熱層が、基材よりも熱伝導率が小さいセラミックス材料からなるポーラス材で構成されたことを特徴としている。
請求項6に記載された発明は、上記において、前記転写層が、無電解ニッケル材で構成されたことを特徴としている。
請求項7に記載された発明は、上記において、前記基材と断熱層との界面に、基材と断熱層とを形成するそれぞれの材料からなる傾斜組成を持つ傾斜材を配置するか、または、前記断熱層とシート材との界面に、断熱層と転写層とを形成するそれぞれの材料からなる傾斜組成を持つ傾斜材を配置するかの、少なくともどちらか一方または両方を備えたことを特徴としている。
請求項8に記載された発明は、上記成形用金型の製造方法において、前記断熱層を、焼結法により形成することを特徴としている。
請求項9に記載された発明は、上記において、前記焼結法を、放電プラズマ焼結法とすることを特徴としている。
請求項1の発明によれば、上記構成により、以下のような作用効果を得ることができる。即ち、断熱層をポーラス材で形成することによって、断熱効果を実現することができる。また、ポーラス材の表面に(緻密な)シート材を配置することによって、ポーラス材の内部に含まれる空気を表面に露出しないようにすることができるので、転写層を緻密なものとすることができる。
請求項2の発明によれば、上記構成により、以下のような作用効果を得ることができる。即ち、耐熱性樹脂材で構成されたシート材は、弾性変形や塑性変形がし易く、また、シート材をフレキシブルな形状とすることができるため、曲面等の複雑な面に対応することができる。
請求項3の発明によれば、上記構成により、以下のような作用効果を得ることができる。即ち、金属材で構成されたシート材は、弾性変形や塑性変形がし易く、また、フレキシブルな形状とすることができるため、曲面等の複雑な面に対応することができる。且つ、金属材で構成されたシート材は、耐熱性が高く、転写層を構成する材料(金属材)に対して(金属材同士であることから)、高い密着性を得ることができる。
請求項4の発明によれば、上記構成により、以下のような作用効果を得ることができる。即ち、基材と同じ材料からなるポーラス材の断熱層は、基材と熱膨張係数や弾性率が同じであるため、熱応力の発生を防ぐことができる。
請求項5の発明によれば、上記構成により、以下のような作用効果を得ることができる。即ち、セラミックス材料からなるポーラス材の断熱層は、基材よりも熱伝導率が小さいため、高い断熱効果を得ることができる。
請求項6の発明によれば、上記構成により、以下のような作用効果を得ることができる。即ち、無電解ニッケル材で構成された転写層は、成形実績があり、また、超精密加工が可能な材料であるため、所望の転写面を得ることができる。
請求項7の発明によれば、上記構成により、以下のような作用効果を得ることができる。即ち、基材と断熱層との界面に、基材と断熱層とを形成するそれぞれの材料からなる傾斜組成を持つ傾斜材を配置することにより、上記界面近傍における熱膨張やヤング率の違いによって生じる応力を緩和することができるので、高強度な成形用金型を得ることができる。また、断熱層とシート材との界面に、断熱層と転写層とを形成するそれぞれの材料からなる傾斜組成を持つ傾斜材を配置することにより、上記界面近傍における熱膨張やヤング率の違いによって生じる応力を緩和することができるので、高強度な成形用金型を得ることができる。
請求項8の発明によれば、上記構成により、以下のような作用効果を得ることができる。即ち、断熱層を、焼結法によって形成することにより、粒子状の材料の粒径や焼結時の圧力や温度によってポーラス材の空隙率を制御することができ、熱伝導率や強度を制御することが可能となる。
請求項9の発明によれば、上記構成により、以下のような作用効果を得ることができる。即ち、焼結法を、放電プラズマ焼結法とすることにより、粒子同士の接触部のみを結合することができるので、簡易にポーラス材を形成することが可能となる。
本発明は、主に、断熱層を高強度にすることによって、高精度な鏡面や微細パターンを転写できる熱制御成形用金型を得ることができるようにし、以て、成形サイクル短縮を実現することができるようにすることを目的としている。
以下、本発明を具体化した実施例について、図示例と共に説明する。
<構成>まず、構成について説明する。必要に応じて、図1〜図9を参照する。
(1)先ず、図1(または図4、図6)に示すように、基材1と、この基材1の表面側に設けられた転写層2と、これら基材1と転写層2との間に介在された断熱層3とを有する成形用金型4を構成する。そして、このような構成の成形用金型4に対し、断熱層3をポーラス材5で形成する。更に、このポーラス材5とされた断熱層3と、転写層2との間に、シート材6を配置する。
ここで、基材1は、成形用金型4の主要部(金型本体)を構成するものであり、金属材によって構成されている。基材1には、例えば、(マルテンサイト系)ステンレス鋼などの金属材を採用することができる。転写層2は、この成形用金型4によって成形される(樹脂)成形品7(図3、図5、図7など参照)への形状転写のための形状(転写用形状部)を、その表面に形成したものである。この転写用形状部は、例えば、球面や非球面や自由曲面あるいは回折格子やサブ波長構造などの微細パターンや高精度な鏡面等とすることができる。断熱層3としてのポーラス材5については後述する。シート材6は、緻密なものとすることが望ましい。
(2)そして、図1(または図6)に示すように、シート材6が、耐熱性樹脂材11で構成されるようにする。
ここで、シート材6を構成する耐熱性樹脂材11には、例えば、ポリアミドイミド、フッ素系樹脂であるポリテトラフルオロエチレン、パーフロロアルコキシ樹脂、ポリビニリデンフルオライド、あるいは、ポリイミドなどを採用することができる。
(3)或いは、図4に示すように、シート材6が、金属材12で構成されるようにする。
ここで、シート材6を構成する金属材12には、例えば、ニッケルなどを採用することができる。
(4)また、図4に示すように、断熱層3が、基材1と同じ材料13からなるポーラス材5で構成されるようにする。
(5)或いは、図1(または図6)に示すように、断熱層3が、基材1よりも熱伝導率が小さいセラミックス材料14からなるポーラス材5で構成されるようにする。
ここで、断熱層3として、基材1よりも熱伝導率が小さいセラミックス材料14には、例えば、ジルコニア、アルミナ、チタニアなどを採用することができる。
(6)更に、図1(または図4、図6)に示すように、転写層2が、無電解ニッケル材15で構成されるようにする。
(7)加えて、必要に応じて、図1(または図6)に示すように、基材1と断熱層3との界面に、基材1と断熱層3とを形成するそれぞれの材料からなる傾斜組成を持つ(第一の)傾斜材16を配置する。また、必要に応じて、図1に示すように、断熱層3とシート材6との界面に、断熱層3と転写層2とを形成するそれぞれの材料からなる傾斜組成を持つ(第二の)傾斜材17を配置する。これら(第一の)傾斜材16と(第二の)傾斜材17とは、少なくともどちらか一方または両方を備えるようにすることができる。
ここで、(第一の)傾斜材16は、基材1と断熱層3とが異種材料によって構成される場合に設けることができる。また、(第二の)傾斜材17は、断熱層3と転写層2とが異種材料によって構成される場合に設けることができる。
(8)そして、上記した(ポーラス材5によって構成された)断熱層3を、焼結法により形成する。
ここで、焼結法は、元となる粒子状の材料を加熱焼成して焼結するものである。
(9)更に、上記焼結法として、放電プラズマ焼結法を採用する。
ここで、放電プラズマ焼結法の原理は、圧粉体粒子間隙に低電圧でパルス状の大電流を投入し、火花放電現象により瞬時に発生する放電プラズマの高エネルギーを熱伝導・電界拡散などヘ効果的に応用したものである。
この放電プラズマ焼結法には、例えば、図2に示すような、超硬合金製のダイ21と、上下のパンチ22,23とを備えた放電プラズマ焼結装置24が用いられる。上下のパンチ22,23間には、低電圧でパルス状の大電流を投入するための電源装置25が接続される。この場合、ダイ21は、(円)筒状とされると共に、上下のパンチ22,23は、(円)筒状のダイ21に摺接嵌合可能な(円)柱状とされている。但し、放電プラズマ焼結装置24の構成や、ダイ21および上下のパンチ22,23の形状等については、これに限るものではない。
そして、この放電プラズマ焼結装置24によって、低温から2000℃以上の高温域において、従来法に比べ200〜500℃ほど低い温度域で、昇温・保持時間を含め、概ね20分以下の短時間で焼結が完了されるようになっている。
このような、放電プラズマ焼結法においては、短時間で焼結を完了するため、焼結が粒子と粒子との界面でのみ進行させることができるので、ポーラス材5を形成するのが容易であるという特徴を有している。放電プラズマ焼結法は、通電焼結法、プラズマ活性化焼結法とも言われており、本発明では、上記原理に基づく焼結法であれば、採用することが可能である。
<作用>次に、この実施例の作用について説明する。
断熱層3として第一の候補となるものは樹脂材料である。しかし、樹脂材料は剛性が小さいため変形し易く、成形用金型4の断熱層3としては不向きである。そこで、成形用金型4として使用可能な剛性を持つステンレス鋼やセラミックスのポーラス材5を断熱層3として使用する。これにより、成形用金型4の変形を抑えることが可能となる。例えばステンレスの剛性(ヤング率)は200GPaであり、耐熱性樹脂材11であるポリアミドイミドの40倍程度である。ステンレス鋼のポーラス材5はポロシティの割合を30%とした場合でも、その剛性は150GPa程度であり、ポリアミドイミドに対して30倍ほどの剛性値を得ることができる。
一方、ステンレス鋼やセラミックスのポーラス材5を使用することで成形用金型4としての強度を得ることができるが、ポーラス材5の上に転写層2を形成する時に、ポーラス材5の表面形状あるいは表面粗さの影響が表面に出てきてしまう。転写層2を形成するために、例えば、メッキを施すとポーラス材5からのガスの発生(空気の放出)により、メッキ層にポア(空孔)が発生してしまうため、光学素子などのような高精度な成形品7を形成するための緻密な表面を得ることができない。また、転写層2形成のためにPVD法やCVD法によるコーティングを施す場合でも、ポーラス材5のポアの影響を避けることはできず、転写層2にはポアが残存してしまう。このようなポーラス材5の表面形状あるいは表面粗さの影響をなくすために、シート材6を、ポーラス材5の転写層2を形成する表面に配置し、ポーラス材5の表面のポアを覆ってから転写層2を形成することで、ポアの影響を無くすことができ、転写層2にポアが発生しない状態にすることができる。具体例として、図8にてシートあり時のメッキ後の表面形状を示す。また、比較例として、図9にてシートなしの時のメッキ後の表面形状を示す。図8および図9によって、図8のものは図9と比べて、ポアの影響の無い、緻密な表面が得られることが、実際に確認された。
本発明による効果は、後述する実施例に記載しているように、先ず、断熱層3を持つ構造とした成形用金型4によって、従来の成形に対して成形時間の短縮が可能となることである。次に、従来例にある断熱層を持つ成形用金型に対しては、緻密な表面を得ることができるので、光学素子などのような高精度な成形品7を形成することが可能となるということである。
このように、この発明によれば、以下のような作用効果を得ることができる。
(1)基材1と、基材1の表面側に設けられた転写層2と、基材1と転写層2との間に介在された断熱層3とを有する成形用金型4であって、断熱層3をポーラス材5で形成すると共に、断熱層3と転写層2との間にシート材6を配置したことにより、以下のような作用効果を得ることができる。
即ち、断熱層3をポーラス材5で形成することによって、断熱効果を実現することができる。
このように、断熱層3をポーラス材5で形成することにより、断熱層3として、耐熱高分子材料を使用した従来の成形用金型4が有する問題、即ち、耐熱高分子材料の剛性不足から成形時に変形を生じ、成形用金型4の転写面の形状精度が劣化するという問題を解決することができる。このことは特に、微細パターンを有する超精密な成形品7を成形する時に、非常に重要なポイントとなる。
また、このような成形用金型4を製作する時には、断熱層3を形成するポーラス材5の表面に樹脂ヘの形状転写のための形状(転写用形状部)を加工することは非常に困難であるので、転写層2として緻密な材料を形成することが必須となる。この転写層2の厚さは、成形用金型4が断熱効果を持つためには大きくても数百μmとする必要があり、必要以上に厚くすることができない。ポーラス材5に直接転写層2を形成すると、上述したように、転写層2に空隙などの欠陥が残留してしまう。
この発明では、ポーラス材5の表面に(緻密な)シート材6を配置することによって、ポーラス材5の内部に含まれる空気を表面に露出しないようにすることができるので、即ち、ポーラス材5の空気の影響をなくすことができるので、転写層2を緻密なものとすることができる。
これに対し、断熱層3をポーラス材5で形成していない場合には、上記とは反対に、剛性不足を生じることなどが考えられる。また、ポーラス材5の表面に(緻密な)シート材6を配置していない場合には、上記とは反対に、ポーラス材5の空気の影響により、転写層2を緻密にできないことなどが考えられる。
(2)シート材6が、耐熱性樹脂材11で構成されたことにより、以下のような作用効果を得ることができる。即ち、耐熱性樹脂材11で構成されたシート材6は、弾性変形や塑性変形がし易く、また、シート材6をフレキシブルな形状とすることができるため、曲面等の複雑な面に対応することができる。
これに対し、シート材6が、耐熱性樹脂材11で構成されていない場合には、上記とは反対に、曲面等の複雑な面に対応させられないことなどが考えられる。
(3)シート材6が、金属材12で構成されたことにより、以下のような作用効果を得ることができる。即ち、金属材12で構成されたシート材6は、弾性変形や塑性変形がし易く、また、フレキシブルな形状とすることができるため、曲面等の複雑な面に対応することができる。且つ、金属材12で構成されたシート材6は、耐熱性が高く、転写層2を構成する材料(金属材)に対して(金属材同士であることから)、高い密着性を得ることができる。
これに対し、シート材6が、金属材12で構成されていない場合には、上記とは反対に、曲面等の複雑な面に対応させられないことなどが考えられる。また、耐熱性や、転写層2に対する密着性が十分に得られないことなどが考えられる。
(4)断熱層3が、基材1と同じ材料13からなるポーラス材5で構成されるようにしたことにより、以下のような作用効果を得ることができる。即ち、基材1と同じ材料13からなるポーラス材5の断熱層3は、基材1と熱膨張係数や弾性率が同じであるため、熱応力の発生を防ぐことができる。
これに対し、断熱層3が、基材1と同じ材料13からなるポーラス材5で構成されていない場合には、上記とは反対に、熱応力の発生を防ぐことができないことなどが考えられる。
(5)断熱層3が、基材1よりも熱伝導率が小さいセラミックス材料14からなるポーラス材5で構成されたことにより、以下のような作用効果を得ることができる。即ち、セラミックス材料14からなるポーラス材5の断熱層3は、基材1よりも熱伝導率が小さいため、高い断熱効果を得ることができる。
これに対し、断熱層3が、基材1よりも熱伝導率が小さいセラミックス材料14からなるポーラス材5で構成されていない場合には、上記とは反対に、高い断熱効果が得られないことなどが考えられる。
(6)転写層2が、無電解ニッケル材15で構成されたことにより、以下のような作用効果を得ることができる。即ち、無電解ニッケル材15で構成された転写層2は、これまで十分な成形実績があり、また、超精密加工が可能な材料であるため、所望の転写面を得ることができる。
これに対し、転写層2が、無電解ニッケル材15で構成されていない場合には、上記とは反対に、所望の転写面を得られないことなどが考えられる。
(7)基材1と断熱層3との界面に、基材1と断熱層3とを形成するそれぞれの材料からなる傾斜組成を持つ傾斜材16を配置するか、または、断熱層3とシート材6との界面に、断熱層3と転写層2とを形成するそれぞれの材料からなる傾斜組成を持つ傾斜材17を配置するかの、少なくともどちらか一方または両方を備えたことにより、以下のような作用効果を得ることができる。
即ち、基材1と断熱層3との界面に、基材1と断熱層3とを形成するそれぞれの材料からなる傾斜組成を持つ傾斜材16を配置することにより、上記界面近傍における熱膨張やヤング率の違いによって生じる応力を緩和することができるので、高強度な成形用金型4を得ることができる。また、断熱層3とシート材6との界面に、断熱層3と転写層2とを形成するそれぞれの材料からなる傾斜組成を持つ傾斜材17を配置することにより、上記界面近傍における熱膨張やヤング率の違いによって生じる応力を緩和することができるので、高強度な成形用金型4を得ることができる。
これに対し、上記傾斜材16,17の少なくとも一方または両方を備えていない場合には、上記とは反対に、界面近傍における熱膨張やヤング率の違いによって生じる応力により、高強度な成形用金型4を得られないことなどが考えられる。
(8)上記した断熱層3を、焼結法により形成することにより、以下のような作用効果を得ることができる。即ち、断熱層3を、焼結法により形成することにより、粒子状の材料の粒径や焼結時の圧力や温度によってポーラス材5の空隙率を制御することができ、熱伝導率や強度を制御することが可能となる。
これに対し、断熱層3を、焼結法以外で形成した場合には、上記とは反対に、ポーラス材5の空隙率の制御や、熱伝導率や強度の制御ができないことなどが考えられる。
(9)焼結法を、放電プラズマ焼結法としたことにより、以下のような作用効果を得ることができる。即ち、焼結法を、放電プラズマ焼結法とすることにより、粒子同士の接触部のみを結合することができるので、簡易にポーラス材5を形成することが可能となる。
これに対し、焼結法を、放電プラズマ焼結法以外とした場合には、上記とは反対に、粒子同士の接触部のみを結合することができないことにより、簡易にポーラス材5を形成できないことなどが考えられる。
図1〜図3は、この発明の具体的な実施例1を示すものである。
図1は、この実施例の成形用金型4の構成を示すものである。
まず、成形用金型4の基材1を、マルテンサイト系ステンレス鋼によって製作する。そして、この基材1を、図2に示すように、超硬合金製のダイ21と、上下のパンチ22,23とからなる放電プラズマ焼結装置24の型内(真空チャンバ)に配置する。この際、ダイ21とパンチ22,23とは、所望形状の成形用金型4を形成し得るように、予め加工しておく。
そして、基材1の表面側に対し、以下のようにして、第一の傾斜材16を形成し得るようにする。即ち、基材1であるマルテンサイト系ステンレス鋼の上に、ジルコニアの粒子とステンレス鋼の粒子とを1:4の体積比に混合したものを配置してパンチ22,23で加圧する。パンチ22を抜いてから、更に、その上に2:3の体積比に混合したものを配置してパンチ22,23で加圧する。同様に、体積比が3:2のもの、4:1のものを順次配置してパンチ22,23で加圧する。
次に、第一の傾斜材16の表面側に対し、以下のようにして断熱層3を形成し得るようにする。即ち、上記した第一の傾斜材16の表面側に、セラミックス材料14としてのジルコニアの粒子を配置してパンチ22,23で加圧する。
更に、断熱層3の表面側に対し、以下のようにして第二の傾斜材17を形成し得るようにする。即ち、上記した断熱層3の表面側に、ニッケルの粒子とジルコニアの粒子とを1:4の体積比に混合したものを配置してパンチ22,23で加圧する。パンチ22を抜いてから、更に、その上に2:3の体積比に混合したものを配置してパンチ22,23で加圧する。同様に、体積比が3:2のもの、4:1のものを順次配置してパンチ22,23で加圧する。
そして、放電プラズマ焼結装置24の真空チャンバ内の真空引きを行ない、その後、電源装置25により上下のパンチ22,23に通電し、パルス電圧を印加する。焼結温度はダイ21の温度で1100℃、2分保持、加圧は25MPaである。その後、30分間冷却を行ない、放電プラズマ焼結用の型から焼結体を取出すことにより、基材1の表面側に、第一の傾斜材16と、断熱層3と、第二の傾斜材17とを順に有する焼結体を備えた金型構造物を形成する。
更に、この金型構造物の焼結した表面に、耐熱性樹脂材11であるポリアミドイミドのシート材6を接着する。接着は溶剤を用いてシート材6表面を溶かしながら行なうようにする。
更にまた、このシート材6の表面に対して、転写層2として、無電解ニッケルメッキを施す。
そして、このように形成された成形用金型4の表面に、転写用形状部として、切削加工によって回折パターンを形成し、所望の外形寸法に仕上げ加工を行なって、成形用金型4を完成する。
ここで、粒子(ジルコニアの粒子とステンレス鋼の粒子)を焼結した部分は、ポーラスな状態となっており(ポーラス材5)、緻密な焼結体ではないので、熱伝導率が小さくなり、断熱効果を得ることができる。更に、本実施例で断熱層3として採用したジルコニアなどのセラミックス材料14は、成形用金型4の基材1であるマルテンサイト系ステンレス鋼よりも、熱伝導率が小さいので、より断熱効果が優れている。ちなみに、マルテンサイト系ステンレス鋼(SUS420J2)の熱伝導率は25.2W/mKで、ジルコニアの熱伝導率は3W/mKである。
また、基材1と断熱層3との界面には、基材1(ステンレス鋼)と断熱層3(ジルコニア)とを形成する材料からなる傾斜組成を持つ(第一の)傾斜材16が配置され、また、断熱層3とシート材6との界面には、断熱層3(ジルコニア)と転写層2(ニッケル)とを形成する材料からなる傾斜組成を持つ(第二の)傾斜材17が、それぞれ配置されている。これら傾斜材16,17によって、基材1と断熱層3との間、および、断熱層3と転写層2との間における成形用金型4の製造時や成形使用時での熱応力の緩和効果を得ることができる。
本実施例の成形用金型4を使用し、成形品7として、図3に示すような、回折レンズを成形すると、成形時の型温を135℃から40℃まで下げることできたため、従来120秒であった成形サイクルを、50秒まで短縮することができた。また、成形時に成形用金型4の変形も抑えられ、回折パターンの転写も良好であった。
ここで、断熱層3には、基材1よりも熱伝導率が小さい材料(セラミックス材料14)を採用しているが、同様の材料として、アルミナ、チタニアも採用することができる。
図4、図5は、この発明の具体的な実施例2を示すものである。
図4は、この実施例の成形用金型4の構成を示すものである。
まず、成形用金型4の基材1を、マルテンサイト系ステンレス鋼によって製作する。
また、断熱層3として、基材1と同じ材料13であるマルテンサイト系ステンレス鋼の粒子を圧縮して圧粉体を形成する。圧粉体の形成時には、焼結後にポーラスな状態になるように低荷重にて加圧を行なうようにする。この圧粉体を900℃で1時間程度加熱処理してポーラスな焼結体を形成する(ポーラス材5)。
そして、成形用金型4の基材1と焼結体の間に銀ロウを配置して、650℃で5分間、真空中で加熱処理することによって両者を接合する。
更に、この焼結体の表面側に、ニッケル製のシート材6を同じく銀ロウを使用して接着する。
更に、ニッケル製のシート材6の接着後に、無電解ニッケルによって転写層2を形成する。
そして、このように形成された成形用金型4の表面に、転写用形状部として、切削加工によってサブ波長レベルの微細パターンを形成し、所望の外形寸法に仕上げ加工を行なって、成形用金型4を完成する。サブ波長レベルの微細パターンはドライエッチング技術によって形成しても良い。
本実施例の成形用金型4を使用し、成形品7として、図5に示すような、表面にサブ波長レベルの微細パターンを持つレンズを成形すると、成形時の型温を135℃から60℃まで下げることができたため、従来180秒であった成形サイクルを、100秒まで短縮することができた。サブ波長レベルの微細パターンは図5に示すような配列で、このレンズが対象とする可視光に対するサブ波長、即ち、200nm程度のピッチや深さのV溝により形成されたもので、成形時に成形用金型4の変形も抑えられ、転写も良好であった。
図6、図7は、この発明の具体的な実施例3を示すものである。
図6は、この実施例の成形用金型4の構成を示すものである。
まず、成形用金型4の基材1を、マルテンサイト系ステンレス鋼によって製作する。そして、この基材1を、グラファイト製のダイ21と上下のパンチ22,23とからなる放電プラズマ焼結装置24の型内(真空チャンバ)に配置する(図2参照)。この際、実施例1の場合と同様に、ダイ21とパンチ22,23とは所望形状の成形用金型4を形成し得るように、予め加工しておく。
そして、基材1の表面側に対し、以下のようにして、第一の傾斜材16を形成し得るようにする。即ち、基材1であるマルテンサイト系ステンレス鋼の上に、ジルコニアの粒子とステンレス鋼の粒子とを1:4の体積比に混合したものを配置してパンチ22,23で加圧する。パンチ22を抜いてから、更に、その上に2:3の体積比に混合したものを配置してパンチ22,23で加圧する。同様に、体積比が3:2のもの、4:1のものを順次配置してパンチ22,23で加圧する。
次に、第一の傾斜材16の表面側に対し、以下のようにして断熱層3を形成し得るようにする。即ち、上記した第一の傾斜材16の表面側に、セラミックス材料14としてのジルコニアの粒子を配置してパンチ22,23で加圧する。
更に、この場合には、図示されていないが、必要に応じて、断熱層3の表面側に対し、以下のようにして第二の傾斜材17を形成し得るようにしても良い。即ち、上記した断熱層3の表面側に、ニッケルの粒子とジルコニアの粒子とを1:4の体積比に混合したものを配置してパンチ22,23で加圧する。パンチ22を抜いてから、更に、その上に2:3の体積比に混合したものを配置してパンチ22,23で加圧する。同様に、体積比が3:2のもの、4:1のものを順次配置してパンチ22,23で加圧する。なお、第二の傾斜材17は、必要がない場合には、設けないようにすることもできる。
そして、放電プラズマ焼結装置24の真空チャンバ内の真空引きを行ない、その後、電源装置25により上下のパンチ22,23に通電し、パルス電圧を印加する。焼結温度はダイ21の温度で1200℃、2分保持、加圧は20MPaである。その後、35分間冷却を行ない、放電プラズマ焼結用の型から焼結体を取出すことにより、基材1の表面側に、第一の傾斜材16と、断熱層3と(、第二の傾斜材17と)を順に有する焼結体を備えた金型構造物を形成する。
更に、この金型構造物の焼結した表面に、シート材6として、耐熱性樹脂材11であるポリアミドイミドをNMP(N−メチル−2−ピロリドン)溶媒に溶解させたワニスを塗布した後、乾燥固化させてシート状にする。
更にまた、このシート材6の表面に対して、真空蒸着法やスパッタリング法などのPVD法で、ニッケル膜を形成する。更にその上に、転写層2として、無電解ニッケルメッキを施す。
そして、このように形成された成形用金型4の表面に、転写用形状部として、切削加工によって回折パタ−ンおよびサブ波長レべルの微細パターンを形成し、所望の外形寸法に仕上げ加工を行なって、成形用金型4を完成する。
少なくとも、基材1と断熱層3との界面には、基材1(ステンレス鋼)と断熱層3(ジルコニア)とを形成する材料からなる傾斜組成を持つ傾斜材16が配置されている。この傾斜材16によって、基材1と断熱層3との間における、成形用金型4の製造時や成形使用時での熱応力の緩和効果を得ることができる。
本実施例の成形用金型4を使用し、成形品7として、図7に示すような、回折レンズを成形すると、成形時の型温を135℃から50℃まで下げることできたため、従来150秒であった成形サイクルを、80秒まで短縮することができた。この回折レンズは、約3μmの段差からなる回折面上にサブ波長サイズの微細パターンを形成したものである。また、成形時に成形用金型4の変形も抑えられ、転写も良好であった。
ここで、シート材6を構成する耐熱性樹脂材11として、ポリアミドイミドを採用した例をあげたが、フッ素系樹脂であるポリテトラフルオロエチレン、パーフロロアルコキシ樹脂、ポリビニリデンフルオライドあるいは、ポリイミドとしても良い。
以上、この発明の実施例を図面により詳述してきたが、実施例はこの発明の例示にしか過ぎないものであるため、この発明は実施例の構成にのみ限定されるものではなく、この発明の要旨を逸脱しない範囲の設計の変更等があってもこの発明に含まれることは勿論である。また、例えば、各実施例に複数の構成が含まれている場合には、特に記載がなくとも、これらの構成の可能な組合せが含まれることは勿論である。また、複数の実施例や変形例が示されている場合には、特に記載がなくとも、これらに跨がった構成の組合せのうちの可能なものが含まれることは勿論である。また、図面に描かれている構成については、特に記載がなくとも、含まれることは勿論である。更に、「等」の用語がある場合には、同等のものを含むという意味で用いられている。また、「ほぼ」「約」「程度」などの用語がある場合には、常識的に認められる範囲や精度のものを含むという意味で用いられている。
本発明によれば、断熱層を高強度にすることによって、高精度な鏡面や微細パターンを転写できる熱制御成形用金型を得ることができるようになり、以て、成形サイクル短縮を実現することができるようになる。
1 基材
2 転写層
3 断熱層
4 成形用金型
5 ポーラス材
6 シート材
11 耐熱性樹脂材
12 金属材
13 基材と同じ材料
14 セラミックス材料
15 無電解ニッケル材
16 傾斜材
17 傾斜材
24 放電プラズマ焼結装置
2 転写層
3 断熱層
4 成形用金型
5 ポーラス材
6 シート材
11 耐熱性樹脂材
12 金属材
13 基材と同じ材料
14 セラミックス材料
15 無電解ニッケル材
16 傾斜材
17 傾斜材
24 放電プラズマ焼結装置
Claims (9)
- 基材と、該基材の表面側に設けられた転写層と、前記基材と転写層との間に介在された断熱層とを有する成形用金型であって、
前記断熱層をポーラス材で形成すると共に、
前記断熱層と転写層との間にシート材を配置したことを特徴とする成形用金型。 - 前記シート材が、耐熱性樹脂材で構成されたことを特徴とする請求項1記載の成形用金型。
- 前記シート材が、金属材で構成されたことを特徴とする請求項1記載の成形用金型。
- 前記断熱層が、基材と同じ材料からなるポーラス材で構成されたことを特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれか1項に記載の成形用金型。
- 前記断熱層が、基材よりも熱伝導率が小さいセラミックス材料からなるポーラス材で構成されたことを特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれか1項に記載の成形用金型。
- 前記転写層が、無電解ニッケル材で構成されたことを特徴とする請求項1ないし請求項5のいずれか1項に記載の成形用金型。
- 前記基材と断熱層との界面に、基材と断熱層とを形成するそれぞれの材料からなる傾斜組成を持つ傾斜材を配置するか、
または、前記断熱層とシート材との界面に、断熱層と転写層とを形成するそれぞれの材料からなる傾斜組成を持つ傾斜材を配置するかの、
少なくともどちらか一方または両方を備えたことを特徴とする請求項1ないし請求項6のいずれか1項に記載の成形用金型。 - 請求項1ないし請求項7のいずれか1項に記載の成形用金型の製造方法において、前記断熱層を、焼結法により形成することを特徴とする成形用金型の製造方法。
- 前記焼結法を、放電プラズマ焼結法とすることを特徴とする請求項8記載の成形用金型の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009040870A JP2010194805A (ja) | 2009-02-24 | 2009-02-24 | 成形用金型およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009040870A JP2010194805A (ja) | 2009-02-24 | 2009-02-24 | 成形用金型およびその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010194805A true JP2010194805A (ja) | 2010-09-09 |
Family
ID=42820061
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009040870A Pending JP2010194805A (ja) | 2009-02-24 | 2009-02-24 | 成形用金型およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2010194805A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012072746A (ja) * | 2010-09-30 | 2012-04-12 | Mazda Motor Corp | 断熱構造体 |
JP2014056639A (ja) * | 2013-11-12 | 2014-03-27 | Asahi Glass Co Ltd | 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
-
2009
- 2009-02-24 JP JP2009040870A patent/JP2010194805A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012072746A (ja) * | 2010-09-30 | 2012-04-12 | Mazda Motor Corp | 断熱構造体 |
JP2014056639A (ja) * | 2013-11-12 | 2014-03-27 | Asahi Glass Co Ltd | 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100763327B1 (ko) | 단열 스탬퍼 구조 | |
JP2006044247A (ja) | 射出成形用金型及び射出成形方法 | |
JP4815897B2 (ja) | 射出成形用金型及び射出成形方法 | |
JP2010194805A (ja) | 成形用金型およびその製造方法 | |
TW202005920A (zh) | 複合構件及成形用模具、複合構件之製造方法及玻璃材料之成形方法以及光學元件、光學系統、及攝像裝置 | |
TWI458635B (zh) | 光學元件成型用金屬模和製造光學元件成型用金屬模的方法 | |
JP2009018467A (ja) | 射出成形金型 | |
JP2008168646A (ja) | 光学素子の成形方法 | |
JP4151745B2 (ja) | 光学素子成形用金型の製造方法 | |
JP2009113423A (ja) | 射出成形用金型 | |
JP4750681B2 (ja) | 断熱金型、金型部品、成形機及び断熱金型の製造方法 | |
JP2011246313A (ja) | ガラス基板の製造方法 | |
JP2008036964A (ja) | 断熱スタンパとその製造方法 | |
JP6124023B2 (ja) | 成形用金型及びその製造方法 | |
JP5081666B2 (ja) | 微細パターン成形用金型及びその製造方法 | |
JP4373257B2 (ja) | 光学素子成形用金型及びその製造方法並びに光学素子 | |
JP5964783B2 (ja) | 通電焼結用型 | |
JP2015020326A (ja) | 錐体状突起成形型製造用金型及びその製造方法並びに錐体状突起成形型の製造方法 | |
JP4887041B2 (ja) | 高耐久性を有する断熱金型 | |
JP5081418B2 (ja) | Ledパッケージ | |
JP3665772B2 (ja) | 複合電鋳金属型の製造方法 | |
JP2004210550A (ja) | モールド成形金型 | |
JP2019064239A (ja) | 非平面金型、非平面金型の製造方法、及び、樹脂成形品の製造方法 | |
TWI388515B (zh) | 模造光學鏡片之模仁 | |
JP2005272224A (ja) | 光学素子成形用型とその製造方法および光学素子の製造方法 |