JP2010194474A - 洗浄方法、塗布方法、現像方法及び回転処理装置 - Google Patents

Abstract

【課題】基板の裏面洗浄を確実に行うことができる洗浄方法、塗布方法、現像方法及び回転処理装置を提供する。
【解決手段】一方面に基板１を周縁部が突出した状態で保持すると共に、前記一方面３の面内方向で回転される回転部材２１と、前記回転部材２１に設けられて洗浄液１００を前記基板１の前記回転部材２１に保持された保持面２側に供給する洗浄ノズル２６と、前記洗浄ノズル２６に前記洗浄液１００を供給する洗浄液供給部２７と、を具備する回転保持治具２０を用いて、前記基板１を回転させながら前記洗浄ノズル２６から前記基板１の前記保持面２ａに前記洗浄液１００を供給して、前記基板１の前記保持面２ａを洗浄する。
【選択図】 図３

Description

本発明は、基板を洗浄液で洗浄する洗浄方法、基板に塗布液を塗布する塗布方法、基板上で現像を行う現像方法及び基板を回転させながら各種処理を行う回転処理装置に関する。

シリコンウェハーなどの基板の一方面に均一な厚さのレジストを形成する際に、例えば、基板を回転させながら、基板の一方面に塗布液を塗布するスピンコーターが用いられていた。このスピンコーターでは、回転テーブルの回転によってレジスト等の塗布液のミストが発生し、液体が基板の裏面に付着してしまう。このため、チャックによって吸着保持された基板の裏面（保持面）に相対向して、基板の裏面に向かって洗浄液を噴射する裏面洗浄ノズルが設けられたスピンコーター（塗布装置）が提案されている（例えば、特許文献１参照）。

特開平５−７６８１４号公報

しかしながら、基板の保持面側が加工されてデバイスとなっている場合、この保持面のデバイスが設けられた領域を保持することができない。このため、チャックによってデバイスが設けられていない基板の外周側を保持させることで、チャックがデバイスに接触するのを防止することができると共に、チャックによって基板の保持面側のデバイス領域に塗布液等の溶液が付着するのを防止することができるが、チャックによって基板の外周側を保持させたとしても、基板の周縁部は、チャックより外側に突出してしまう。これは、チャックの大きさを、大きさの異なる基板に合わせるには、複数のチャックが必要になると共に、チャックの大きさを基板の大きさに合わせると、基板に塗布した塗布液や現像液などの溶液が、チャックに付着し易く、チャックが溶液によって汚染されてしまうからである。

そして、基板の保持された保持面とは反対側の加工面に塗布液等の溶液を塗布すると、チャックよりも外側に突出した基板の保持面や周縁部（側面）などの余分な領域に、溶液が回り込んでしまうという問題がある。

このように基板の保持面に付着した溶液は、上述した特許文献１の裏面洗浄ノズルを用いて除去することはできない。これは、裏面洗浄ノズルを用いて基板の裏面洗浄を行う場合、裏面洗浄ノズルの開口を基板のチャックよりも突出した保持面に相対向するように設ける必要があるが、このように設けた裏面洗浄ノズルから噴射された洗浄液が、霧状となって処理面側にも回りこんでしまう虞があるからである。

本発明はこのような事情に鑑み、基板の裏面洗浄を確実に行うことができる洗浄方法、塗布方法、現像方法及び回転処理装置を提供することを目的とする。

上記課題を解決する本発明の態様は、一方面に基板を周縁部が突出した状態で保持すると共に、前記一方面の面内方向で回転される回転部材と、前記回転部材に設けられて洗浄液を前記基板の前記回転部材に保持された保持面側に供給する洗浄ノズルと、前記洗浄ノズルに前記洗浄液を供給する洗浄液供給部と、を具備する回転保持治具を用いて、前記基板を回転させながら前記洗浄ノズルから前記基板の前記保持面に前記洗浄液を供給して、前記基板の前記保持面を洗浄することを特徴とする洗浄方法にある。
かかる態様では、洗浄ノズルが回転部材に設けられているため、洗浄液を回転部材の表面を伝わらせて基板の保持面の突出した領域に供給することができる。これにより、洗浄液が霧散するのを抑制して、基板の保持面のみを確実に洗浄することができる。

ここで、前記洗浄液供給部が、前記回転部材に設けられて前記洗浄液を貯留する貯留空間であり、前記回転部材を回転させることで、遠心力によって前記洗浄液を前記洗浄ノズルに供給することが好ましい。これによれば、回転部材の回転に伴い、基板への洗浄液の供給及び停止を制御することができるため、供給ポンプや弁機構などの複雑な構成が不要になると共に制御手段等も不要となり、基板の洗浄を容易に簡略化することができる。

また、前記洗浄ノズルは、前記回転部材の前記基板を保持する一方面側の側面に開口することが好ましい。これによれば、洗浄ノズルを基板が保持された面に近い側面に開口するように設けることで、洗浄液の余分な飛散を低減して、洗浄液を確実に基板の保持面の突出した領域に供給することができる。

本発明の他の態様は、一方面に基板を周縁部が突出した状態で保持すると共に、前記一方面の面内方向で回転される回転部材と、前記回転部材に設けられて洗浄液を前記基板の前記回転部材に保持された保持面側に供給する洗浄ノズルと、前記洗浄ノズルに前記洗浄液を供給する洗浄液供給部と、を具備する回転保持治具を用いて、前記基板を回転させながら前記基板の前記保持部とは反対側の塗布面に塗布液を供給して、当該基板の塗布面に塗布液を塗布する塗布工程と、前記基板を回転させながら前記洗浄ノズルから前記基板の前記保持面に前記洗浄液を供給して、前記基板の前記保持面を洗浄する洗浄工程と、を具備することを特徴とする塗布方法にある。
かかる態様では、洗浄ノズルが回転部材に設けられているため、洗浄液を回転部材の表面を伝わらせて基板の保持面の突出した領域に供給することができる。これにより、洗浄液が霧散するのを抑制して、基板の保持面のみを確実に洗浄することができる。したがって、基板の保持面側に回りこんだ塗布液を確実に除去することができる。

また、本発明の他の態様は、一方面に基板を周縁部が突出した状態で保持すると共に、前記一方面の面内方向で回転される回転部材と、前記回転部材に設けられて洗浄液を前記基板の前記回転部材に保持された保持面側に供給する洗浄ノズルと、前記洗浄ノズルに前記洗浄液を供給する洗浄液供給部と、を具備する回転保持治具を用いて、前記基板を回転させながら前記基板の前記保持部とは反対側の処理面に現像液を供給して、当該基板の前記処理面を現像する現像工程と、前記基板を回転させながら前記洗浄ノズルから前記基板の前記保持面に前記洗浄液を供給して、前記基板の前記保持面を洗浄する洗浄工程と、を具備することを特徴とする現像方法にある。
かかる態様では、洗浄ノズルが回転部材に設けられているため、洗浄液を回転部材の表面を伝わらせて基板の保持面の突出した領域に供給することができる。これにより、洗浄液が霧散するのを抑制して、基板の保持面のみを確実に洗浄することができる。したがって、基板の保持面側に回りこんだ現像液を確実に除去することができる。

さらに、本発明の他の態様は、一方面に基板を周縁部が突出した状態で保持すると共に、前記一方面の面内方向で回転される回転部材と、前記回転部材に設けられて洗浄液を前記基板の前記回転部材に保持された保持面側に供給する洗浄ノズルと、前記洗浄ノズルに前記洗浄液を供給する洗浄液供給部と、を具備する回転処理装置にある。
かかる態様では、洗浄ノズルが回転部材に設けられているため、洗浄液を回転部材の表面を伝わらせて基板の保持面の突出した領域に供給することができる。これにより、洗浄液が霧散するのを抑制して、基板の保持面のみを確実に洗浄することができる。

本発明の実施形態１に係る処理装置の側面図である。 本発明の実施形態１に係る回転処理装置の要部を示す斜視図である。 本発明の実施形態１に係る回転処理装置の要部を示す断面図である。 本発明の実施形態１に係る回転処理装置の要部を示す断面図である。 本発明の実施形態２に係る回転処理装置の一部断面図である。

以下に本発明を実施形態に基づいて詳細に説明する。
（実施形態１）
図１は、本発明の実施形態１に係る処理装置の側面図であり、図２は、回転処理装置の要部斜視図であり、図３及び図４は、回転処理装置の要部を示す断面図である。図１に示すように、本実施形態の処理装置１０は、基板１の一方面である保持面２を保持すると共に保持面２とは反対側の処理面３の面内方向で基板１を回転させる回転処理装置２０と、基板１の処理面３に塗布液や現像液などの溶液を供給する溶液供給装置５０とを具備する。

処理装置１０を構成する回転処理装置２０は、基板１の処理面３を鉛直方向上側となるように、基板１の保持面２を保持した状態で、基板１を処理面３の面内方向で回転させるものである。

具体的には、回転処理装置２０を構成する回転部材２１は、図２に示すように、円柱形状を有する本体２２と、本体２２の一端部側に設けられて本体２２よりも大きな外径を有する円盤状のチャック部２３とを有する。チャック部２３は、図１及び図３に示すように、基板１の外径よりも小さな外径を有し、基板１はチャック部２３の端面に基板１の周縁部側がチャック部２３よりも外側に突出した状態で保持される。

また、図１に示すように、回転部材２１のチャック部２３とは反対側の端面、すなわち本体２２の端面には、モーター３０の回転軸３１が固定され、回転部材２１はモーター３０の回転軸３１を中心として回転駆動される。

回転部材２１には、図２及び図３に示すように、チャック部２３側の端面に開口する凹形状を有する空間である吸引チャンバー２４が設けられている。また、回転部材２１には、軸方向に亘って貫通して設けられた第１吸引路２５が設けられている。この第１吸引路２５は、一端部が吸引チャンバー２４に連通し、他端部側がモーター３０の回転軸３１の中心に設けられた第２吸引路３２に連通して設けられている。そして、モーター３０の回転軸３１に設けられた第２吸引路３２には、吸引管４１を介して吸引ポンプ４０が接続されている。すなわち、吸引チャンバー２４は、第１吸引路２５、第２吸引路３２及び吸引管４１を介して吸引ポンプ４０に接続されており、吸引ポンプ４０の吸引によって吸引チャンバー２４内の気体が吸引されることで吸引チャンバー２４内を負圧として、回転部材２１の一方の端面（吸引チャンバー２４の開口面）に基板１の保持面２を吸着保持させることができる。

なお、チャック部２３及び吸引チャンバー２４の大きさは、例えば、基板１に複数のデバイスが一体的に形成されている場合には、デバイスが形成されていない周縁部にチャック部２３の端面が当接する大きさで設けることが好ましい。このようにチャック部２３及び吸引チャンバー２４の大きさを規定することで、チャック部２３が基板１に当接することによるデバイス領域へのダメージを防止することができると共に、チャック部２３によって基板１のデバイス領域を覆うことで、デバイス領域に埃や霧散した溶液・洗浄液などが付着するなどの不具合を抑制することができる。

なお、本実施形態では、基板１を回転部材２１に吸引吸着することによって保持させるようにしたが、基板１の保持方法は特にこれに限定されず、例えば、基板１を回転部材２１に静電気力を利用した静電吸着により保持させるようにしてもよい。

また、回転部材２１には、洗浄液が流出される洗浄ノズル２６が設けられている。本実施形態では、洗浄ノズル２６は、チャック部２３の側面、すなわち、吸引チャンバー２４の開口面とは交差する面に開口するように、チャック部２３の外側の周方向に亘って複数設けられている。洗浄ノズル２６の大きさ及び数は、特に限定されず、洗浄液の流量や、洗浄液の広がり具合等によって適宜決定すればよい。ただし、洗浄液を基板１のチャック部２３よりも突出した保持面２の全面に亘って均一に供給するためには、洗浄ノズル２６を回転部材２１（チャック部２３）の周方向に亘って一定間隔で複数設けるのが好ましい。

また、回転部材２１には、図３に示すように、内部に洗浄液１００が貯留された貯留空間である洗浄液供給部２７が設けられている。

洗浄液供給部２７は、第１吸引路２５の外側に周方向に亘って設けられており、鉛直方向上側（チャック部２３側）で洗浄ノズル２６と連通するように設けられている。

このような洗浄液供給部２７は、洗浄ノズル２６と連通する領域において、回転部材２１の外周側の側面が、鉛直方向下側（モーター３０側）から鉛直方向上側（チャック部２３側）に向かって徐々に外側に向かって反るように湾曲した湾曲面２７ａとなっている。

このような洗浄液供給部２７では、回転部材２１が回転していない状態では、図３に示すように、洗浄液１００は、その自重によって洗浄液供給部２７の鉛直方向下側（モーター３０側）に溜まる。すなわち、洗浄液供給部２７は、回転部材２１が停止している状態では、洗浄液１００を洗浄ノズル２６に供給しない。

これに対して、回転部材２１がモーター３０によって回転駆動されると、図４に示すように、洗浄液供給部２７内に貯留された洗浄液１００が遠心力によって外周側の側面側に移動する。そして、洗浄液供給部２７の外周側の側面側に移動した洗浄液１００は、鉛直方向上側に設けられた湾曲面２７ａに沿って上昇し、洗浄ノズル２６に供給される。このように洗浄ノズル２６に供給された洗浄液１００は、遠心力によって回転部材２１の側面（チャック部２３の側面）に流出し、基板１の保持面２の回転部材２１よりも突出した領域２ａに供給される。このように、洗浄液供給部２７の鉛直方向上側の側面を、外側に向かって湾曲させた湾曲面２７ａとするだけで、回転部材２１の回転に合わせて、洗浄ノズル２６への洗浄液１００の供給及び停止（洗浄ノズル２６から基板１への洗浄液の供給及び停止）を自動的に切り替えることができる。したがって、洗浄液１００を洗浄ノズル２６に向かって送るポンプや弁機構などが不要となり、回転処理装置２０の構造を簡略化することができると共にコストを低減することができる。

なお、洗浄液供給部２７への洗浄液１００の充填は、例えば、回転部材２１が停止している状態で、使用時には閉じている補充孔（図示なし）を介して行うようにすればよい。もちろん、洗浄液供給部２７への洗浄液１００の供給は、これに限定されず、例えば、モーター３０の回転軸３１の外側で、洗浄液供給部２７と外部の洗浄液貯留部とを接続する洗浄液供給路を設け、洗浄液供給路の途中に設けられた供給ポンプを介して洗浄液貯留部の洗浄液を洗浄液供給部２７に供給するようにしてもよい。

一方、処理装置１０を構成する溶液供給装置５０は、回転処理装置２０に保持された基板１の処理面３に相対向して設けられたノズル５１を具備する。本実施形態では、基板１の処理面３が鉛直方向上向きに設けられているため、ノズル５１の開口は、鉛直方向下向きとなるように設けられている。

このノズル５１には、溶液が貯留された貯留部５２が供給管５３を介して接続されている。供給管５３の途中には、供給ポンプ５４が設けられ、供給ポンプ５４によって貯留部５２の溶液はノズル５１に供給される。そして、ノズル５１に供給された溶液は、ノズル５１から基板１の処理面３に供給される。

なお、特に図示していないが、溶液の供給及び停止は、例えば、供給管５３の途中に設けられた弁機構などによって行うようにしてもよく、また、弁機構を併せ持つ供給ポンプ５４を用いるようにしてもよい。もちろん、溶液の供給及び停止は、供給ポンプ５４の作動・停止等によって制御してもよい。また、ノズル５１は、特に図示していないが、鉛直方向（基板１との距離）や、水平方向（基板１の処理面３の面内方向）に移動可能に設けてもよい。

このような処理装置１０では、溶液供給装置５０によってレジスト等の塗布液や現像液などの溶液を基板１の処理面３に供給し、回転処理装置２０によって基板１を回転させることで、基板１の処理面３に均一な厚さで溶液を塗布することができる（塗布工程又は現像工程）。また、回転処理装置２０による基板１の回転に伴い、上述のように基板１の保持面２のチャック部２３から突出した領域２ａに洗浄液１００を供給して洗浄を行う（洗浄工程）。これにより、基板１の処理面３の溶液が保持面２や側面などの余分な領域に回りこんだとしても、洗浄液１００によって余分な領域に付着した溶液を確実に除去することができる。

また、本実施形態の回転処理装置２０では、基板１を回転させながら、洗浄ノズル２６から洗浄液１００を流出させて、洗浄液１００を、回転部材２１の表面を伝わらせて、基板１の保持面２のチャック部から突出した領域２ａ及び側面に供給するため、洗浄液１００が基板１の処理面３に回りこむのを抑制することができる。ちなみに、例えば、洗浄液１００が噴射される独立した裏面洗浄ノズルを、開口が基板１の保持面２に相対向するように設けると、裏面洗浄ノズルから噴射された洗浄液１００が、霧状となって処理面３側にも回りこんでしまう。すなわち、本実施形態では、回転部材２１に洗浄ノズル２６を設けることで、洗浄液１００を回転部材２１の表面を伝わらせて供給することができるため、洗浄液１００が霧散するのを低減して、洗浄液が基板１の処理面３に付着するのを抑制することができる。

（実施形態２）
図５は、本発明の実施形態２に係る回転処理装置の一部断面図である。なお、上述した実施形態１と同様の部材には同一の符号を付して重複する説明は省略する。

本実施形態の回転処理装置２０Ａの回転部材２１Ａは、本体２２とチャック部２３とを具備し、内部には、チャック部２３の側面に開口する洗浄ノズル２６と、洗浄ノズル２６に連通すると共に、モーター３０側の端面に開口する第１洗浄液供給路２８とを具備する。

また、回転部材２１Ａのモーター３０側の端面には、モーター３０の回転軸３１の外側に摺動部６０が設けられている。摺動部６０は、中空形状を有する環状部材からなり、内部に第２洗浄液供給路６１を有する。摺動部６０は、回転することなく固定されて設けられており、内部に設けられた第２洗浄液供給路６１が回転部材２１Ａの第１洗浄液供給路２８と連通した状態で、回転部材２１Ａのモーター３０側の端面と摺動するように設けられている。ちなみに、回転部材２１Ａと摺動部６０との間にはシール部材（図示しない）が設けられており、シール部材によって、第１洗浄液供給路２８と第２洗浄液供給路６１との間から洗浄液が漏出するのを抑制している。

また、摺動部６０の第２洗浄液供給路６１には、洗浄液供給管６２を介して洗浄液貯留部６３が接続されている。そして、洗浄液供給管６２の途中には、供給ポンプ６４が設けられ、供給ポンプ６４によって洗浄液貯留部６３の洗浄液が、洗浄液供給管６２、第２洗浄液供給路６１及び第１洗浄液供給路２８を介して洗浄ノズル２６に供給される。

すなわち、本実施形態の洗浄ノズル２６に洗浄液を供給する洗浄液供給部は、第１洗浄液供給路２８、第２洗浄液供給路６１、洗浄液供給管６２、洗浄液貯留部６３及び供給ポンプ６４で構成されていることになる。

なお、特に図示していないが、洗浄液の供給及び停止は、例えば、洗浄液供給管６２の途中に設けられた弁機構などによって行うようにしてもよく、また、弁機構を併せ持つ供給ポンプ６４を用いるようにしてもよい。もちろん、洗浄液の供給及び停止は、供給ポンプ６４の作動・停止等によって制御してもよい。また、洗浄ノズル２６の開口近傍に、回転部材２１Ａの回転による遠心力によって開閉する弁機構を設けるようにしてもよい。ちなみに、回転部材２１Ａの回転による遠心力によって開閉する弁機構は、上述した実施形態１の回転部材２１にも設けることができる。

このような回転処理装置２０Ａによれば、上述した実施形態１と同様に、基板１を回転させながら、洗浄ノズル２６から洗浄液を流出させて、洗浄液１００を、回転部材２１Ａの表面を伝わらせて、基板１の保持面２のチャック部２３から突出した領域２ａに供給するため、洗浄液が基板１の処理面３に回りこむのを抑制することができる。

また、回転処理装置２０Ａは、上述した実施形態１と同様に、基板１の裏面（保持面２）を洗浄する洗浄、基板１の処理面３に溶液を塗布する塗布、基板１の処理面３に露光液を供給して露光する露光などに用いることができる。

なお、本実施形態の回転処理装置２０Ａでは、回転部材２１Ａの回転の連動することなく、洗浄ノズル２６から洗浄液の流出の開始・停止を制御できるため、塗布液や現像液など溶液を塗布する塗布工程（現像工程）と、洗浄液１００によって洗浄する洗浄工程とを別工程で容易に行うこともできる。もちろん、上述した実施形態１においても、洗浄液供給部２７内の洗浄液１００を空にした状態で回転させれば、塗布工程（現像工程）のみを行うことができるため、塗布工程（現像工程）と洗浄工程とを別工程で行うことができる。

（他の実施形態）
以上、本発明の各実施形態について説明したが、本発明の基本的構成は上述したものに限定されるものではない。例えば、上述した実施形態１及び２では、回転処理装置２０、２０Ａは、基板１の処理面３を鉛直方向上側に向かって保持した状態で、保持面２の洗浄を行うようにしたが、特にこれに限定されず、例えば、回転処理装置２０、２０Ａは、基板１の処理面３を鉛直方向下側に向かって保持した状態で、保持面２の洗浄を行うようにしてもよい。すなわち、塗布工程（現像工程）では、回転処理装置２０、２０Ａが、基板１の処理面３を鉛直方向上側に向かって保持し、洗浄工程では回転処理装置２０、２０Ａの上下を反転させることで基板１の処理面３を鉛直方向下側に向かって保持させるようにしてもよい。もちろん、塗布工程（現像工程）においても、溶液を基板１の処理面３に付着させた後であれば、基板１の処理面３を鉛直方向下側に向かって保持した状態で、基板１を回転させて、溶液の厚さを均一にさせるようにしてもよい。また、基板１を保持した際の処理面３の方向は、鉛直方向上下に限定されず、水平方向であってもよい。

また、上述した実施形態１及び２では、洗浄液１００が基板１の保持面２の突出された領域２ａに供給されると説明したが、基板１は回転部材２１、２１Ａによって回転されているため、実際には、保持面２の突出した領域２ａに供給された洗浄液１００は、基板１の処理面３と保持面２との間の側面にも供給される。これにより、基板１の側面に付着した溶液を洗浄液によって除去することができ、ハンドリング時や後工程などで、側面に付着した溶液による汚染を抑制することができる。

また、上述した実施形態１及び２では、洗浄ノズル２６が、回転部材２１、２１Ａ（チャック部２３）の側面に開口するようにしたが、特にこれに限定されず、例えば、洗浄ノズルがチャック部２３のモーター３０側の面に開口してもよく、また、回転部材２１、２１Ａに基板１側に向かう面があれば、その面に開口してもよい。何れの場合であっても、洗浄ノズル２６を回転部材２１、２１Ａに設けることで、洗浄液１００を回転部材２１、２１Ａの表面を伝わらせて基板１に供給することができる。ただし、上述した実施形態１及び２のように、洗浄ノズル２６を、基板１を保持した面（吸引チャンバー２４が開口する面）に近い側面に開口するように設けることで、洗浄液１００の余分な飛散を低減して、洗浄液１００を確実に基板１の保持面２の突出した領域２ａに供給することができる。

１ 基板、 ２ 保持面、 ３ 処理面、 １０ 処理装置、 ２０、２０Ａ 回転処理装置、 ２１、２１Ａ 回転部材、 ２６ 洗浄ノズル、 ２７ 洗浄液供給部、 ３０ モーター、 ４０ 吸引ポンプ、 ５０ 溶液供給装置、 ５４、６４ 供給ポンプ、 １００ 洗浄液

Claims (6)

1. 一方面に基板を周縁部が突出した状態で保持すると共に、前記一方面の面内方向で回転される回転部材と、
   前記回転部材に設けられて洗浄液を前記基板の前記回転部材に保持された保持面側に供給する洗浄ノズルと、
   前記洗浄ノズルに前記洗浄液を供給する洗浄液供給部と、
   を具備する回転保持治具を用いて、
   前記基板を回転させながら前記洗浄ノズルから前記基板の前記保持面に前記洗浄液を供給して、前記基板の前記保持面を洗浄することを特徴とする洗浄方法。
2. 前記洗浄液供給部が、前記回転部材に設けられて前記洗浄液を貯留する貯留空間であり、前記回転部材を回転させることで、遠心力によって前記洗浄液を前記洗浄ノズルに供給することを特徴とする請求項１記載の洗浄方法。
3. 前記洗浄ノズルは、前記回転部材の前記基板を保持する一方面側の側面に開口することを特徴とする請求項１又は２記載の洗浄方法。
4. 一方面に基板を周縁部が突出した状態で保持すると共に、前記一方面の面内方向で回転される回転部材と、
   前記回転部材に設けられて洗浄液を前記基板の前記回転部材に保持された保持面側に供給する洗浄ノズルと、
   前記洗浄ノズルに前記洗浄液を供給する洗浄液供給部と、
   を具備する回転保持治具を用いて、
   前記基板を回転させながら前記基板の前記保持部とは反対側の塗布面に塗布液を供給して、当該基板の塗布面に塗布液を塗布する塗布工程と、
   前記基板を回転させながら前記洗浄ノズルから前記基板の前記保持面に前記洗浄液を供給して、前記基板の前記保持面を洗浄する洗浄工程と、を具備することを特徴とする塗布方法。
5. 一方面に基板を周縁部が突出した状態で保持すると共に、前記一方面の面内方向で回転される回転部材と、
   前記回転部材に設けられて洗浄液を前記基板の前記回転部材に保持された保持面側に供給する洗浄ノズルと、
   前記洗浄ノズルに前記洗浄液を供給する洗浄液供給部と、
   を具備する回転保持治具を用いて、
   前記基板を回転させながら前記基板の前記保持部とは反対側の処理面に現像液を供給して、当該基板の前記処理面を現像する現像工程と、
   前記基板を回転させながら前記洗浄ノズルから前記基板の前記保持面に前記洗浄液を供給して、前記基板の前記保持面を洗浄する洗浄工程と、を具備することを特徴とする現像方法。
6. 一方面に基板を周縁部が突出した状態で保持すると共に、前記一方面の面内方向で回転される回転部材と、
   前記回転部材に設けられて洗浄液を前記基板の前記回転部材に保持された保持面側に供給する洗浄ノズルと、
   前記洗浄ノズルに前記洗浄液を供給する洗浄液供給部と、
   を具備する回転処理装置。

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