JP2010192532A - 遮光ユニット、照明光学系、露光装置及びデバイスの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】光源装置12から射出される露光光ELをオプティカルインテグレータ28を介して被照射面Raに照明する照明光学系13に設けられ、被照射面Raに到達する光束の角度方向の光強度分布を調整する遮光ユニット47は、露光光ELの光路におけるオプティカルインテグレータ28よりも被照射面Ra側に配置され、照明光学系13の光軸方向と交差する方向に沿って並列して配置された複数の遮光部材55と、各遮光部材55を露光光ELの光路内で前記光軸方向と交差する方向に変位可能とする変位機構と、を備えている。
【選択図】図1
Description
本発明の遮光ユニットは、光源(12)から射出される光(EL)をオプティカルインテグレータ(28)を介して被照射面(Ra)に照明する照明光学系(13)に設けられ、前記被照射面(Ra)に到達する光束の角度方向の光強度分布を調整する遮光ユニット(47)において、前記光(EL)の光路における前記オプティカルインテグレータ(28)よりも前記被照射面(Ra)側となる位置にて、前記照明光学系(13)の光軸方向と交差する方向に沿って並列して配置された複数の遮光部材(55)と、前記各遮光部材(55)を前記光(EL)の光路内で前記光軸方向と交差する方向に変位可能とする変位機構(58)と、を備えたことを要旨とする。
以下、本発明を具体化した第1の実施形態について図1〜図12に基づき説明する。なお、本実施形態では、後述する投影光学系15の光軸と平行な方向(図1における上下方向)にZ軸方向を、図1における左右方向にY軸方向を、さらに、図1において紙面と直交する方向にX軸方向を、それぞれ設定しているものとする。
図6に示すように、遮光ユニット47は、レチクルブラインド33の開口部34の短手方向となるX軸方向に沿って並列して配置された複数(本実施形態では7つ)の矩形板状の遮光部材55をX軸方向への変位自在に備えている。そして、各遮光部材55は、それらの長手方向がレチクルブラインド33の開口部34の長手方向と平行となるように配置されている。また、これらの遮光部材55は、X軸方向で隣り合う遮光部材55との間の間隙が照明光学系13の光軸AXから離間するに従って次第に大きくなるように配置されている。
図7に示すように、露光装置11における装置全体の駆動状態を制御するための制御装置60は、CPUなどを備えたコントローラ(図示略)と、各装置を駆動させるための駆動回路(図示略)とを主体として構成されている。制御装置60の入力側インターフェース(図示略)には、瞳強度分布計測装置40の検出部43が接続されており、該検出部43からの検出信号を受信するようになっている。また、制御装置60の入力側インターフェースには、入力装置61が接続されており、入力装置61からの入力信号を受信するようになっている。
(1)本実施形態では、遮光ユニット47を構成する各遮光部材55は、光源装置12から射出される露光光ELが各遮光部材55に対して入射する際の入射角に応じて、露光光ELの進行方向での寸法が相違するように、照明光学系13の光軸AXと直交する方向に沿って並列して配置されている。そのため、変位機構58は、露光光ELの光路内での各遮光部材55の配置密度を変更するように各遮光部材55を変位させることによって、各遮光部材55の並列方向での間隙に入射した露光光ELが遮光部材55によって遮光される遮光量の変化量は、該露光光ELが遮光部材55に対して入射する際の入射角に応じて相違する。したがって、変位機構58は、遮光部材55を露光光ELの光路内で変位させることによって、静止露光領域ER2内の各点P2a,P2bに入射する露光光ELに対する遮光部材55の遮光量を独立的に調整することができ、結果として、静止露光領域ER2内の位置毎における瞳強度分布を独立的に調整することができる。
次に、本発明の第2の実施形態を図13〜図17に基づき説明する。なお、第2の実施形態は、遮光ユニットが、照明瞳面の近傍に配置される点が第1の実施形態と異なっている。したがって、以下の説明においては、第1の実施形態と相違する部分について主に説明するものとし、第1の実施形態と同一又は相当する構成には同一符号を付して重複説明を省略するものとする。
(3)本実施形態では、変位機構58は、照明瞳面29上に形成される二次光源30の各面光源50a〜50dから射出される露光光ELの光路内での配置密度を変更するように各遮光部材55を変位させる。この場合、各遮光部材55は、照明瞳面29上に形成される二次光源30の各面光源50a〜50dから射出される露光光ELのうち、レチクルブラインド33の開口部34の中心点P1に向けて照明光学系13の光軸AXと略平行に射出される露光光ELに対する遮光量の変化量と、レチクルブラインド33の開口部34の周辺点P2に向けて照明光学系13の光軸AXに対して傾斜するように射出される露光光ELに対する遮光量の変化量とが互いに異なる。すなわち、変位機構58は、照明瞳面29上に形成される二次光源30から射出される露光光ELの光路内で各遮光部材55を変位させることにより、静止露光領域ER2内の位置毎における角度方向の光強度分布を独立的に調整することができる。
・上記第1の実施形態において、遮光ユニット47は、レチクルブラインド33の開口部34の長手方向となるZ軸方向に沿って各遮光部材55を並列して配置してもよい。
・上記各実施形態において、遮光ユニット47は、隣り合う遮光部材55間の間隙が、照明光学系13の光軸AXから離間するに従って次第に小さくなるように各遮光部材55を配置してもよい。すなわち、遮光ユニット47は、各遮光部材55の配置密度が該遮光部材55の並列方向で変化する配置構成であれば、任意の配置構成であってもよい。
ステップS111(酸化ステップ)おいては、基板の表面を酸化させる。ステップS112(CVDステップ)においては、基板表面に絶縁膜を形成する。ステップS113(電極形成ステップ)においては、基板上に電極を蒸着によって形成する。ステップS114(イオン打込みステップ)においては、基板にイオンを打ち込む。以上のステップS111〜ステップS114のそれぞれは、基板処理の各段階の前処理工程を構成しており、各段階において必要な処理に応じて選択されて実行される。
Claims (8)
- 光源から射出される光をオプティカルインテグレータを介して被照射面に照明する照明光学系に設けられ、前記被照射面に到達する光束の角度方向の光強度分布を調整する遮光ユニットにおいて、
前記光の光路における前記オプティカルインテグレータよりも前記被照射面側となる位置にて、前記照明光学系の光軸方向と交差する方向に沿って並列して配置された複数の遮光部材と、
前記各遮光部材を前記光の光路内で前記光軸方向と交差する方向に変位可能とする変位機構と、を備えたことを特徴とする遮光ユニット。 - 請求項1に記載の遮光ユニットにおいて、
前記変位機構は、前記各遮光部材の前記光軸方向と交差する方向での間隔を前記光軸方向と交差する方向での位置毎に異ならせるように、前記各遮光部材を変位可能に構成されていることを特徴とする遮光ユニット。 - 請求項2に記載の遮光ユニットにおいて、
前記変位機構は、前記各遮光部材を個別に変位可能に構成されていることを特徴とする遮光ユニット。 - 請求項1〜請求項3のうち何れか一項に記載の遮光ユニットにおいて、
前記遮光部材は、前記オプティカルインテグレータの射出面近傍または該射出面と光学的に共役な位置の近傍に配置されていることを特徴とする遮光ユニット。 - 請求項1〜請求項3のうち何れか一項に記載の遮光ユニットにおいて、
前記遮光部材は、前記被照射面近傍または該被照射面と光学的に共役な位置の近傍に配置されることを特徴とする遮光ユニット。 - 光源から射出された光に基づいて被照射面を照明する照明光学系であって、
前記光の光路途中に配置された光学素子と、
請求項1〜請求項5のうち何れか一項に記載の遮光ユニットと、を備えたことを特徴とする照明光学系。 - 請求項6に記載の照明光学系と、
所定のパターンの像を前記被照射面に投影可能な投影光学系と、を備えたことを特徴とする露光装置。 - デバイスの製造方法において、
請求項7に記載の露光装置を用いて所定のパターンを感光性基板に露光する工程と、
前記露光された基板を現像し、前記のパターンに対応する形状のマスク層を前記感光性基板の表面に形成する工程と、
前記マスク層を介して前記感光性基板の表面を加工する工程と、を含むことを特徴とするデバイスの製造方法。
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