JP2010190896A - 対象物の表面を光学的に検査するための方法および装置 - Google Patents

対象物の表面を光学的に検査するための方法および装置 Download PDF

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Abstract

【課題】 対象物の表面を光学的に検査するための方法および装置を提供する。
【解決手段】 対象物(26)の表面(32)を光学的に検査するために、第1の周期を有する第1の強度推移を形成する多数のより明るい領域およびより暗い領域を有する第1のパターンが提供される。対象物(26)は、表面(32)と共にパターンに対し位置決めされる。このことは、第1の強度推移が表面(32)に入射するように行われる。次に、第1の強度推移は、規定の移動距離(126)だけ表面(32)に対し移動される。この移動距離(126)に沿って、表面(32)は、第1の強度推移に対し多くの異なる位置を占めることができる。さらに、第1の強度推移を有する表面(32)をそれぞれ異なる位置で示す多数の画像が記録される。これらの画像を用いて、表面(32)の性質が決定される。本発明の一形態によれば、第1のパターンは、規定された原点に対し回転対称を有する。
【選択図】 図12

Description

本発明は、対象物の表面を光学的に検査する方法であって、
−第1の周期を有する第1の強度推移を形成する多数のより明るい領域およびより暗い領域を有する第1のパターンを用意するステップと、
−第1の強度推移が表面に入射するように、対象物を表面と共にパターンに対し位置決めするステップと、
−規定の移動距離だけ第1の強度推移を表面に対し移動させるステップであって、移動距離に沿った表面が第1の強度推移に対し多数の異なる位置を占めるステップと、
−第1の強度推移を有する表面を異なる位置で示す多数の画像を記録するステップと、
−画像に基づき表面の性質を決定するステップと、を含む方法に関する。
さらに、本発明は、対象物の表面を光学的に検査するための装置であって、第1の周期を有する第1の強度推移を形成する多数のより明るい領域およびより暗い領域を有する第1のパターンと、第1の強度推移が表面に入射するように、対象物を表面と共にパターンに対し位置決めするための収容部と、表面に対し第1の強度推移を規定の移動距離だけ移動させるための制御ユニットであって、移動距離に沿った表面が第1の強度推移に対し多くの異なる位置を占める制御ユニットと、第1の強度推移を有する表面を異なる位置で示す多数の画像を記録するための少なくとも1つの画像記録ユニットと、画像に基づき表面の性質を決定するための評価ユニットとを有する装置に関する。
このような方法およびこのような装置が、例えば国際公開第2009/007130A1号パンフレットから公知である。
製品の工業的製造の場合、製品品質はますます重要な役割を果たしている。一方で、高い品質は、適切に設計された安定した製造工程によって達成することができる。他方で、製品の品質パラメータは、品質欠陥を早期に検出するために、可能な限り確実にかつ完全に制御されなければならない。多くの場合、表面の品質は、製品の性質にとって重要な役割を果たしている。この場合、例えば車両の塗装表面のような装飾的な表面を対象とし、あるいは例えば精密加工される金属製のピストンまたは軸受の表面のような技術的な表面を対象とすることができる。
このような表面を自動的に検査するために、すでに多数の提案および構想がある。冒頭に述べた国際公開第2009/007130A1号パンフレットは、検査すべき表面に入射する組み合わせパターンを使用する方法および装置について記載している。組み合わせパターンは、共に表面に入射するそれぞれ平行の縦長の縞を有する少なくとも2つの異なる縞パターンから成り、この場合、各々の縞パターンは、1つの周期を有する強度推移を形成する。縞パターンの強度推移は、互いに横方向に配置される。検査すべき表面は、強度推移に対し移動され、相対移動された強度推移を有する表面の画像が記録される。画像を用いて、表面の性質を自動的に決定することができる。
公知の方法および公知の装置は、いわゆる偏向測定法を根拠としており、少なくとも部分的に反射性の表面におけるまさに迅速かつ再現可能性が優れた検査を約束している。通常、点検すべき表面は、この方法および他の公知の方法の場合、自由にアクセスできる対象物の外側に位置する。しかし、検査すべき対象物が、例えば円筒状の孔部のような内部にある空洞を有する場合が多い。このような空洞は小径を有することが多く、内部にある外被面は大きく湾曲している。公知の方法および装置では、このような外被面をあまり検査できない。湾曲がより大きいと、また空洞がより小さいと、表面の検査は、それだけより高価になりかつより困難になる。検査すべき表面は、この場合、外側から比較的容易にアクセスできるが、同様のことが大きく湾曲した対象物の外側にも当てはまる。
上記の背景の下で、本発明の課題は、比較的大きく湾曲した表面、特に孔部の内部にある外被面等をほぼ自動的に、迅速にかつ確実に検査するために、代わりの方法および装置を提供することである。好ましくは、この方法および装置は、汎用に使用可能であるべきであり、大きな表面や、大きく湾曲していない表面にも適するべきである。
上記課題は、本発明の形態に従って、冒頭に述べた種類の方法および装置によって解決され、この場合、第1のパターンは規定された原点に対し回転対称を有する。
新規の方法および新規の装置は、ほぼ点状の源を有するパターンを使用し、当該原点からパターンが複数の方向に半径方向に延びる。いくつかの好ましい形態では、点状の源(原点)はパターンの中心を形成し、この中心の周りにパターンが形成される。好ましい形態では、パターンは、原点を中心に360°にわたって延びる。他の形態では、パターンは、360°未満の角度量を有する扇形、例えば90°または180°の角度量を有する扇形部分を覆うことができる。この場合にも、パターンは、原点から半径方向外側に延びる。
さらに、パターンは、原点に対し回転対称を有する。このことは、原点を中心とする360°未満の回転により、パターンがそれ自体に結像されることができることを意味する。このことは、特に、その回転角度が第1の周期に対応する回転に当てはまる。
回転対称によって、新しいパターンは、大きく湾曲した表面に対する投影に特に優れている。特に、実際にしばしば現れる半球状および円筒状の表面では、表面のより明るい領域およびより暗い領域の均一な分布を達成することができる。均一な分布によって、簡単かつ再現可能性が優れた方法で、表面の性質を決定することができる。驚くべきことに、公知の方法、例えば、冒頭に述べた国際公開第2009/007130A1号パンフレットからの方法のアルゴリズムを、実際に変更することなく、新しいパターンに転用できることが示されている。そのため、湾曲した表面の検査が、非常に簡単にかつ僅かなコストで可能である。
したがって、上述の課題は完全に解決される。
好ましくは、パターンは、検査すべき表面全体に入射するように、湾曲した表面に配置される。このことは、特に円筒状の孔部の場合に可能である。この形態により、少数の測定ステップで表面全体を検出することが可能である。
本発明の好ましい一形態では、第2の周期を有する第2の強度推移を形成する多数のより明るい領域およびより暗い領域を有する第2のパターンが提供され、この場合、第1のパターンおよび第2のパターンは全体パターンに組み合わせられる。
この形態では、好ましくは互いに重畳する少なくとも2つの部分パターンから構成される組み合わせパターンが使用される。パターンが部分的に第1の部分パターンおよび第2の部分パターンから形成され、この結果、パターンが直接重畳せず、互いに並んで位置することも考えられる。部分パターンの各々は、固有の周期および推移方向を有する固有の強度推移を形成する。好ましくは、第1の部分パターンおよび第2の部分パターンの強度推移は互いに横方向に推移するが、この理由は、このことが直角方向の表面の迅速な検査を可能にするからである。有利に、組み合わせパターンの各々の点を通して、複数の様々な強度推移が異なる方向に延びる。強度推移の各々は、他の強度推移とは異なる個々の周期長を有することができ、このことは、表面の光沢度を非常に迅速に決定するために有利である。様々な部分パターンの重畳の場合、このことは、好ましくは加算的にまたは乗算的に行うことができ、これによって、個々の部分パターンのその後の再構成が著しく単純化される。
別の形態では、第1の強度推移および第2の強度推移は互いに垂直に位置する。
この形態により、それぞれ最適な強度推移により2次元の表面を検査することができる。さらに、表面に関して両方の強度推移の1つに対し、全体パターンを垂直に移動することによって、それぞれ1つの次元の独立した検査が可能になる。
本発明の別の形態では、強度推移は、原点から半径方向外側に推移する。
この形態では、パターンは、原点に始まる経路で交互になる明るい領域および暗い領域を有する。この形態により、パターンを非常に簡単に極座標に描くことができ、したがって、非常に迅速にかつ僅かな費用で生成することができる。
別の形態では、強度推移は原点を中心に推移する。
この形態では、強度推移は原点を横断しない。好ましくは、強度推移は、原点を中心とする楕円の、特に円形の経路に延びる。同様に、多角形のまたは原点を中心に配置される他の好ましくは閉じた曲線状の経路が考えられる。同様に、この形態により、極座標のパターンの描写が可能になり、したがって、パターンの簡単かつ迅速な生成が可能になる。例えば半球または円筒のような円形の下部構造を有する表面では、原点は好ましくは表面の対称点と重なり、このことは、表面の非常に迅速な完全な検査を可能にする。
別の形態では、パターンは、原点から半径方向外側に推移する明るい放射線および暗い放射線を有する。
この形態では、パターンは、太陽光線と比較可能であり、すなわち、パターンは太陽光線のように原点から半径方向外側に延び、この場合、太陽は原点に対応する。この形態により、均一に取り囲む強度推移の非常に簡単な実現が可能になる。規則的な構造は、僅かな先験的知識により表面の全面にわたる検査を可能にする。
本発明の別の形態では、パターンは、原点を囲む明るいリングおよび暗いリングを有する。リングは、原点をほぼ同心に囲むことが好ましい。
この形態により、半径方向に推移する強度推移を有するパターンの非常に簡単かつ迅速な実現が可能になる。
半径方向に推移する放射線と同心に推移するリングとの組み合わせを使用することが好ましい。これらの部分パターンを全体パターンに組み合わせることにより、例えば極座標を有する座標系に存在するような格子構造が得られる。この構造は、クモの巣状構造と比較可能である。この組み合わせは、検査された表面を非常に簡単かつ迅速に2次元で検査できる利点を提供する。
別の好ましい形態では、パターンは、原点から半径方向外側に推移する渦巻状に湾曲した縞を有する。
特に好ましいのは、渦巻状に湾曲した第1の縞を有する第1の部分パターンと、渦巻状に湾曲した第2の縞を有する第2の部分パターンとを有する全体パターンである。渦巻状に湾曲した第1の縞および第2の縞は、逆方向の湾曲を有することが好ましい。いくつかの変形例では、渦巻状に湾曲した第1の縞および第2の縞は、異なる勾配を有することができる。
このようなパターンは、パターンと検査すべき表面との間の相対運動を生成するために、機械的な回転に転換されるディスクに非常に簡単かつ廉価に使用することができる。渦巻状の縞は、回転の際に、2次元の相対運動生成し、このことは、包括的な表面検査にとって有利である。
別の好ましい形態では、強度推移は、より明るい領域とより暗い領域との間にほぼ連続的な移行部を有する。
この形態では、強度推移は、少なくともほぼ連続的な明・暗移行部を有する期間を有する。このようにして、その局所的な強度および強度変化を用いて、隣接する点に対して強度推移の各々の点を一義的に識別することができる。このことにより、評価が容易になるが、この理由は、周期内の強度推移の各々の点が一義的な位相位置を有するからである。連続的な移行部として、正弦曲線が使用されることが好ましい。さらに、例えば鋸歯または三角曲線のようなほぼ連続的な他の推移も考えられる。
一般に、ここでは、連続的な移行部としては、それらの技術的置き換えのみに基づき別個の段階を有するが、連続的な曲線、例えば正弦曲線を実質的に示す移行部も理解される。例えば、これには、強度推移の方向に異なる明るさを有する光ダイオードの配置が含まれ、この異なる明るさにより、その間隔に応じて連続的な強度推移が互いに点毎に形成される。
本発明の別の形態では、パターンは多数の明るい点および暗い点から形成され、この場合、様々な点密度により強度推移が形成される。
この形態では、パターンの所定箇所における所望の強度は、強度点を中心とする所定の領域の明るい点および暗い点がいかなる比率にあるかによって規定される。このことは、領域内にある点がより暗く(または明るく)なると、当該箇所における強度はそれだけより暗く(より明るく)なることを意味する。このことは、この箇所における点自体がいかなる強度を有するかということとは無関係に当てはまる。この形態は、特にバイナリ(2色、例えば白黒)表示の場合に、非常に簡単に実現可能である。このことは、例えば白黒画像によってまたは照射された発光ダイオードおよび照射されない発光ダイオードの配置によって達成される。
別の形態では、パターンは原点を含む。
この形態では、パターンは、原点のみによって規定されるのみならず、パターンは原点も含む。これにより、非常に簡単に、精細なパターン構造を有する回転対称のパターンが生成される。さらに、パターンを整列するために原点を非常に有利に使用することができる。
他の形態では、原点を有する領域にはパターンがない。
この形態では、原点はパターンの部分ではない。それにもかかわらず、原点は回転対称の回転点を規定する。この形態は、例えば画像を記録するためのカメラをパターン自身の中心に配置するために有利である。さらに、この形態により、表示および/または評価のために精細でなければならないパターン構造が、検査すべき表面に障害となる反射を発生することを回避することができる。
本発明の別の形態では、強度推移は複数の周波数を有する。
この形態の変形例では、周波数は、強度推移の方向に変化することができる。この形態では、すなわち周期の周期長は、強度推移の方向に変化し、したがって、その逆数、すなわち周波数も変化する。周波数は、強度推移の方向に例えば大きくなることができ、これによって周期長が小さくなり、あるいは周波数は小さくなることができ、これによって周期長が拡大する。例えば、原点から増大する間隔と共に周波数が下がる半径方向の強度推移の場合、原点に対し同心に配置された複数の円を有するパターンが得られるであろう。これらの円は、互いに僅かな間隔を空けて原点の近傍に配置され、相応して狭いリングを形成するであろう。原点からの距離が増大するにつれ、リングの幅ならびにリングの間の間隔が拡大する。それに応じて、周期長が大きくなり、周波数は、原点からの間隔が増大するにつれ小さくなる。他の変形例では、複数の周波数は、フーリエ合成の方法に従って強度推移を形成することができる。この形態は、全体として、様々な周期長/周波数(または具体的には、縞幅)がパターンに含まれ、このため、様々な周期長を有する表面を非常に迅速に検査することができるという利点を有する。このことは、表面の光沢度を決定するために有利に利用することができる。さらに、表面の所定の曲率半径のために最適な縞幅を利用できるために、様々な周期長を非常に有利に使用することができる。
本発明の別の形態では、周期は、強度推移の方向に対し横方向に変化する周波数を有する。
このことは、例えば、円形の強度推移を有する太陽光のようなパターンの場合に当てはまるが、この理由は、半径が増大するにつれて円軌道の円弧長さが大きくなるからである。この形態により、管の内側外被面全体にわたって均一なパターンを獲得するために、円筒状の管の透視的な先細りを補正できる。したがって、この形態は、深い管状中空体の検査を単純化するために貢献する。
別の形態では、強度推移を表面に対し移動させるために、パターンが原点を中心に回転される。
この形態により、表面に対するパターンの非常に簡単かつ迅速な空間移動が可能になり、この空間移動は、例えば冒頭に述べた国際公開第2009/007130A1号パンフレットに詳細に記載されているように、特に偏向測定の評価に適している。
上述の特徴および以下にさらに説明する特徴が、本発明の範囲から逸脱することなく、それぞれ提示した組み合わせのみならず、他の組み合わせにおいてもまたは単独で利用可能であることが理解される。
本発明の実施例を図面に示し、以下に詳細に説明する。
中空体の内部に位置する外被面を検査するために形成される新規な装置の実施例の単純化した図面である。 原点を中心に推移する強度推移を有するパターンの図面である。 多くの明るい点および暗い点からなるバイナリ表示の図2のパターンの図面である。 原点に対して半径方向に推移する強度推移を有する別のパターンの図面である。 明るい点および暗い点からなるバイナリ表示の図4のパターンの図面である。 渦巻状の縞と原点に渦巻状に推移する強度推移とを有する別のパターンの図面である。 明るい点および暗い点からなるバイナリ表示の図6のパターンの図面である。 図2のパターンと図4の別のパターンとからなる組み合わせパターンの図面である。 明るい点および暗い点からなるバイナリ表示の図8の組み合わせパターンの図面である。 第1の渦巻状の縞および第2の渦巻状の縞からなる別の組み合わせパターンの図面である。 バイナリ表示の図10の別の組み合わせパターンの図面である。 光学的な推移を有する単純化した図面の図1の装置の図面である。 図4のパターンの第1の位置における円筒状の内側外被を有する対象物の平面図である。 図4のパターンの第2の位置を有する図13の対象物の図面である。 図4のパターンの第3の位置における図13の対象物の図面である。 本方法の実施例を説明するためのフローチャートである。
図1に、新規な装置の実施例の全体が参照番号10で示されている。
装置10は、制御ユニット14と結合される収容部12を有する。制御ユニット14により、収容部12を矢印16または18の方向に移動させることが可能である。収容部12は、保持アーム22が配置される第1の収容台20を有する。保持アームは、第2の収容台24を保持する。収容台20に、孔部28の形態の円筒状開口を有する対象物26が配置される。孔部28は縦軸30を備える。縦軸30を中心に円周方向に、孔部28は内側外被32を有する。この内側外被32は検査すべき表面である。第2の収容台24の上に、光学系36を有する画像記録ユニット34が配置される。光学系36は縦軸30に位置し、この結果、画像記録ユニット34により孔部28を通して見ること、および全体の内側外被32を検出することが可能になる。画像記録ユニット34には、画像記録ユニット34によって作成された画像を記憶しかつ評価する評価ユニット38が接続される。この場合、評価ユニット38の課題は、記録された画像を用いて内側外被32の性質を決定することである。これらの性質は、例えば溝、引け巣、細孔または汚れのような欠陥または欠点であり得る。偏向測定法の原理に従って、内側外被32を介して画像記録ユニット34によりパターン発生器39が観察されることによって、判定が有利に行われる。パターン発生器39は、収容部12に対し固定配置される。パターン発生器は、内側外被32の性質を迅速、簡単かつ少ない作業ステップで検出するために適切なパターンを発生する。パターン発生器39は、このパターン自身を可変に生成するかまたは固定的に有することができる。例えば、部分的に照射するか、あるいは照射しないことによってパターンを生成する光ダイオードの配置が考えられる。代わりに、パターン発生器39は、例えば印刷される固定的に配置されたパターンを有することができる。
図2は、パターン発生器39と共に使用するために適切な第1のパターン40を示している。パターン40は、交互に角度オフセットして互いに配置されたより明るい放射線42とより暗い放射線44とからなる。より明るい放射線42からより暗い放射線44への移行部46は、正弦曲線の形態で連続的に行われる。正弦曲線は、図2に平面図で示されている。放射線42と44の配置に基づき、円周方向に交互に順次配置されるより明るい領域48およびより暗い領域50が得られる。放射線42と44は、パターン40の内部の中心に配置される原点52で出会う。パターン40の強度推移54は、放射線42、44に対し垂直に得られる。したがって、パターン40は、原点52に対し同心に位置する円形の強度推移を形成する。強度推移54は、例示的に円によって示されている。強度推移54に沿って、周期56を有する正弦曲線が得られる。周期は、例えば、最も明るい点から次の最も明るい点への、または最も暗い点から強度推移54の方向に続く最も暗い点への強度推移54の部分に対応する。周期56は、ここでは周期長によって明らかにされる周波数58を有する。周波数58は、強度推移54の方向に不変であり、これに対し、周期は、原点52に対し半径方向に変化する。この変化は、原点52の近傍に高い周波数58が存在し、これに対し、原点52の半径方向距離に、より低い周波数58が存在するように行われる。
図3は、パターン40’としてのバイナリの白黒の変形例におけるパターン40を示している。このことは、パターンの各々の点が1つだけ黒色であるか、または白色であるという状態を取ることができることを意味する。所望の連続的な推移は、点密度60によって近似される。点密度60は、それぞれ複数の点62からなる。パターン40’を全体として観察すると、各々の箇所は、黒色または白色の値のみならず、中間値を有する。この中間値は、箇所の周りに配置された黒色の点および白色の点62の間の比率から得られる。
図2と図3を参照して簡単に理解できるように、パターン40、40’は、原点52、52’に対し回転対称を有する。パターン40、40’を原点52、52’を中心に周期長58だけ回転した場合、同一のパターン40、40’が再び得られる。言い換えれば、パターン40、40’は、原点52、52’を中心に回転することによってそれ自体の上に結像される。
図4は、より明るい縞状のリング66とより暗い縞状のリング68とからなる第2のパターン64を示しており、これらのリングは、原点52を中心に同心に配置されかつ原点52から半径方向に観察して交互になる。リング66と68との間に、半径方向の連続的な移行部70が得られる。このようにして、より明るいリング66およびより暗いリング68は、より明るい領域72とより暗い領域74とを形成する。第2のパターン64の強度推移76は、原点52を出発点として半径方向に延びる。この強度推移76に沿って、強度に関する正弦曲線が生じる。この正弦曲線、したがって強度推移76は、ここでは、例示的に、最も明るい箇所から次のリング66の最も明るい箇所に延びる周期78を有する。周期78は、再び周期長によって明らかにされる周波数80を有する。周波数80は、強度推移76の半径方向にならびに広範囲の方向に不変である。
図5は、パターン64’の形態の図4のパターン64のバイナリの白黒の変形例を示している。パターン64’は、個々の黒色の点または白色の点62からなる点密度60によって当該パターンの強度推移76’を生成する。パターン64’の各々の箇所における強度に関する性質は、図3のパターン40’と同様に得られる。
パターン64、64’も、原点52、52’に対し既述の回転対称を有する。この場合、原点52、52’を中心とする各々の任意の回転により、パターン64、64’の同一の結像がそれ自体に得られる。
図6は、より明るい放射線84とより暗い放射線86とを有する第3のパターン82を示している。放射線84と86は、原点52を中心に互いに角度オフセットして配置され、この場合、放射線84と86は、それぞれ1つの均一に湾曲した渦巻状の曲線を有する。より明るい放射線84とより暗い放射線86との間の移行部は、連続的である。このようにして、より明るい放射線84およびより暗い放射線86は、より明るい領域90とより暗い領域92とを形成する。パターン82は、原点52から時計回り方向に渦巻状に推移する強度推移94を有する。この強度推移94に沿って、放射線84と86との間の移行部88は正弦波状であり、周期96を有する。周期96は、周期長を用いて示される周波数98を有する。
図7は、パターン82’としてのパターン82のバイナリの白黒の変形例を示している。図3のパターン40’および図5のパターン64’のように、このパターン82’は、点62を有する点密度60からなる。パターン82’の白黒の実施形態に基づく当該パターンの性質は、図3のパターン40’の性質と同様に得られる。
パターン82、82’も、図6と図7の説明を参照して簡単に理解できるように、原点52、52’に対し既述の回転対称を有する。
図8は、図2のパターン40と図4のパターン64との組み合わせである第4のパターン100を示している。ここで、パターン40は第1の部分パターンを形成し、パターン64は第2の部分パターンを形成する。両方の部分パターン40と64は互いに重畳され、この場合、両方の部分パターン40と64は、原点52に対し同心に位置する。したがって、パターン100が、前後に垂直に位置する2つの強度推移54と76を有することが達成される。重畳は、原則として、個々の部分パターン40と64の加算または乗算によって互いに行うことができる。ここでは、部分パターンは加算的に重畳される。この重畳に基づき、個々の部分パターン40と64に対し異なる配置のより明るい領域102およびより暗い領域104が生じる。領域102と104はここでは斑点状に出現する。
図9は、パターン100’として図8のパターン100のバイナリの白黒の変形例を示している。パターン100’は、パターン40’と64’と同様に、個々の点62から構成される点密度60からなる。白黒の変形例の性質は、図3のパターン40’の性質と同様に得られる。
図10は、第1の渦巻状に湾曲した縞および第2の渦巻状に湾曲した縞を有する別の組み合わせパターン106を示している。時計回り方向と反対に曲がった明るい渦巻状の縞110、および時計回り方向に曲がった暗い渦巻状の縞108が認識され、この場合、重畳によって、さらに市松模様状の全体パターンが生じる。さらに、ここでは、縞の曲率半径もしくはその勾配は異なる。明るい渦巻縞は、暗い渦巻縞よりも大きな曲率を有する。
図11は、パターン106’として図10のパターン106のバイナリの白黒の変形例を示している。パターン106’は、点62を有する点密度60からなる。
図8〜図11に示した組み合わせパターンは、全体として原点52、52’に対し回転対称である。さらに、組み合わせパターンの各々の部分パターンは、それ自体で見て同様に回転対称である。
図12は、図1の装置を単純化して示している。第1の光学的経路112が、パターン発生器39を出発点として孔部28の縁部114に推移する。この縁部114で、第1の光学的経路112が反射して、光学系36に案内される。第2の光学的経路116が、パターン発生器39を出発点として光学系36に同様に推移する。第1の光学的経路112と反対に、第2の光学的経路116は縦軸30の近くで始まる。第2の光学的経路116は、縁部118で反射され、同様に光学系36内に案内される。両方の光学的経路112と116は、内側外被32に沿って反射領域120を囲む。したがって、両方の光路は反射領域の境界を形成し、このことは、画像記録ユニット34を出発点として反射領域120を介してパターン発生器39で観察することができる。反射領域120を介して画像記録ユニット34によって観察可能なパターン発生器39の部分は、パターン領域122を特徴とする。パターン発生器39は、図2〜図11に示したパターンの1つを有することが好ましい。この場合、対応するパターンの原点52は、縦軸30に配置される。さらに、パターンは対象物26を指し、この結果、図12は対応するパターンの側面を示している。縦軸30を中心とするパターンのない領域124では、パターンは、ここでは円形にあけたままにされる。パターン発生器39は位置Pに示されている。パターン発生器39を移動距離126だけ移動させることによって、パターン発生器39は位置Pに達する。パターン発生器39’を移動距離126’だけさらに移動させることによって、パターン発生器39”は位置Pに移動される。異なる位置P、PとPに基づき、一定の光学的経路112と116によって様々なパターン領域122、122’と122”が得られる。理解できるように、一方で、移動距離126と126’にわたるパターン領域122の延長、ならびにパターン発生器39の上のパターン領域122の位置が変化する。ここで、このことは、移動距離126の拡大が、縦軸30からのパターン領域122のさらなる離間をもたらすように行われる。この特性に基づき、第2の光学的経路116と縦軸30との交点に変曲点128が得られる。パターン発生器39が対応するパターンと共に対象物26に向かって移動され、この場合、パターン発生器39が変曲点128を横断すると、パターン領域122が縦軸30を交差する。
代わりにまたは補完的に、縦軸30を中心とする回転運動によっても、パターンを表面32に対し移動させることができる。さらに、本発明の他の実施例では、LED、OLED、LCDまたは他の表示技術を用いてパターンを生成し、次に表面に向かってある程度「電子的に」パターンを移動させることができる。
図13は、正面図の図12の対象物26を示している。この正面図は、画像記録ユニット34を有する外観を示している。孔部28の全体の内側外被32は、リングとして認識可能である。リングの内部に、対象物26の後方に存在するパターン64の強度推移76が形成される(この場合、図4)。パターン64は、パターン発生器39と共に位置Pにある。このことから、孔部28の内部の2つのより暗い縞68を検出できることが達成される。分かりやすさの理由から、孔部の導通開口部のパターン64は図13に図示されていない。
図14は、図13からパターン64を位置Pの上に移動させることによって得られる。パターン64のパターン領域122を変更することによって、内側外被32の内部に、今や1つのみの個々のより暗い縞68を認識できることが達成される。
図15は、図14からパターン発生器39’を位置Pの上に移動させることによって得られる。孔部28の後部領域に、より暗い縞68が新たに結像されることを認識できる。同時に、図14のより暗い縞68がさらに前方に動かされる。
図13〜図15に示した内側外被32の結像は、単純化して、ここでは例示的にのみ示されている。実用的な用途では、例えば、多数の暗い縞68を内側外被32の内部に結像することができる。
縦軸30に沿ったパターン64の移動により、内側外被32における強度推移の対応する反射を移動させることが可能になる。パターンに存在する強度推移は、外被面32に対し移動される。各々の移動位置について、パターンまたは強度推移を有する内側外被の画像が記録される。好ましくは、内側外被の各々の表面点は、少なくとも4回記録され、この場合、各々の画像の強度推移は他の相対位置を有する。4つの画像は、冒頭に述べた国際公開第2009/007130A1号パンフレットに詳細に記載されているように、いわゆる4−Bucket法に従って評価され、当該文献は、ここでその限りにおいて全面的に関連付けられ、それに応じて本明細書の部分として見なされる。
縦軸30に対し平行のパターン発生器39の移動は、リングパターンが図4または図5に従って使用される場合、有利である。これに対し、図2または図3に対応する放射パターンでは、あるいは図6または図7に対応する渦巻パターンでは、表面とパターンとの相対的移動を達成するために、縦軸を中心とするパターンの回転が有利である。図8〜図11に対応する組み合わせパターンでは、いくつかの実施例ではつる巻線に沿った送り運動をもたらす回転と移動との組み合わせ運動が有利に使用される。
図16は、フローチャートを用いて対応する方法の実施例を示している。ステップ130に従って、検査すべき表面の初期位置Xが最初に決定される。
ステップ132に従って、計算変数i=0が設定される。ステップ134で、計算変数がi増分される。ステップ136で、検査すべき表面の画像が画像記録ユニット34で記録される。次に、ステップ138に従って、パターン発生器39が移動距離126だけ移動される。
ステップ140に従って、移動距離126を完全に通過したかどうかが点検される。そうでない場合、本方法は、ループ142に従ってステップ134に分かれて戻る。そこで計算変数iが増分され、ステップ90で別の画像が記録される。この場合、mは画像シーケンス用の画像の数である。
必要な数の画像が記録されると、内側外被32の表面点のために画像データを十分に利用できる。ステップ144に従って、最初に、様々な縞または放射線によって形成される強度推移が分離される。このことは、好ましい実施例では、画像データのデジタルフィルタを含む。このことは、様々な部分パターンのために異なる周波数が使用される場合、特に有効である。異なる周波数を使用する場合、それぞれ求める周波数を特に含む比較信号との相関関係によって、部分パターンを分離することができる。
別の実施例では、様々な部分パターンをスペクトル的に異なって形成することができ、それに応じて分光フィルタを用いて分離することができる。
ステップ146に従って、観察された表面点の局所的な表面傾斜が決定される。このことは、選択した1つの強度推移を用いて、または別個に評価される複数の強度推移を用いて行うことができる。
ステップ148に従って、次に、局所的な表面傾斜を用いて表面欠陥、例えば引っかき傷、へこみ、引け巣等が決定される。
ステップ150に従って、ステップ148で決定された表面欠陥および/または検査された表面の品質を表す出力信号が生成される。
10 装置
12 収容部
14 制御ユニット
16、18 矢印
20 第1の収容台
22 保持アーム
24 第2の収容台
26 対象物
28 孔部
30 縦軸
32 内側外被
34 画像記録ユニット
36 光学系
38 評価ユニット
39、39’、39” パターン発生器
40、40’ パターン
42 より明るい放射線
44 より暗い放射線
46 移行部
48 より明るい領域
50 より暗い領域
52、52’ 原点
54 強度推移
56 周期
58 周波数、周期長
60 点密度
62 黒色の点および白色の点
64、64’ パターン
66 より明るい縞状のリング
68 より暗い縞状のリング
70 移行部
72 より明るい領域
74 より暗い領域
76、76’ 強度推移
78 周期
80 周波数
82、82’ パターン
84 より明るい放射線
86 より暗い放射線
88 移行部
90 より明るい領域
92 より暗い領域
94 強度推移
96 周期
98 周波数
100、100’ パターン
102 より明るい領域
104 より暗い領域
106、106’ パターン
108 縞
110 縞
112 第1の光学的経路
114 縁部
116 第2の光学的経路
118 縁部
120 反射領域
122、122’、122” パターン領域
124 パターンのない領域
126、126’ 移動距離
128 変曲点
i 計算変数
m 画像の数
位置
位置
位置
X 検査すべき表面の初期位置

Claims (17)

  1. 対象物(26)の表面(32)を光学的に検査するための方法であって、
    第1の周期(56、78、96)を有する第1の強度推移(54、76、94)を形成する多数のより明るい領域およびより暗い領域(48、72、90;50、74、92)を有する第1のパターン(40、64、82)を用意するステップと、
    第1の強度推移(54、76、94)が表面(32)に入射するように、対象物(26)を表面(32)と共にパターン(40、64、82)に対し位置決めするステップと、
    規定の移動距離(126)だけ第1の強度推移(54、76、94)を表面(32)に対し移動させるステップであって、移動距離(126)に沿った表面(32)が第1の強度推移(54、76、94)に対し多数の異なる位置を占めるステップと、
    第1の強度推移(54、76、94)を有する表面(32)を異なる位置で示す多数の画像を記録するステップと、
    画像に基づき表面(32)の性質を決定するステップと、を含む方法において、
    第1のパターン(40、64、82)が、規定された原点(52)に対し回転対称を有することを特徴とする方法。
  2. 第2の周期(56、78、96)を有する第2の強度推移(54、76、94)を形成する多数のより明るい領域およびより暗い領域(48、72、90;50、74、92)を有する第2のパターン(40、64、82)が提供され、第1のパターンおよび第2のパターンが全体パターン(100、106)に組み合わせられることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
  3. 第1の強度推移および第2の強度推移(54;76、94)が互いに垂直に位置することを特徴とする、請求項2に記載の方法。
  4. 強度推移(76)が原点(52)から半径方向外側に推移することを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一項に記載の方法。
  5. 強度推移(54、94)が原点(52)を中心に推移することを特徴とする、請求項1〜4のいずれか一項に記載の方法。
  6. パターン(40)が、原点(52)から半径方向外側に推移する明るい放射線および暗い放射線(42;44)を有することを特徴とする、請求項1〜5のいずれか一項に記載の方法。
  7. パターン(64)が、原点(52)を囲む明るいリングおよび暗いリング(66;68)を有することを特徴とする、請求項1〜6のいずれか一項に記載の方法。
  8. パターンが、原点(52)から半径方向外側に推移する渦巻状に湾曲した縞を有することを特徴とする、請求項1〜7のいずれか一項に記載の方法。
  9. 強度推移(54、76、94)が、より明るい領域およびより暗い領域(48、72、90、102、108;50、74、92、104、110)の間にほぼ連続的な移行部(46、70、88)を有することを特徴とする、請求項1〜8のいずれか一項に記載の方法。
  10. パターン(40’、64’、82’、100’、106’)が、多数の明るい点および暗い点(62)から形成され、様々な点密度(60)が強度推移(54’、76’、94’)を形成することを特徴とする、請求項1〜9のいずれか一項に記載の方法。
  11. パターン(40、64、82、100、106)が原点(52)を含むことを特徴とする、請求項1〜10のいずれか一項に記載の方法。
  12. 原点(52)を有する領域(124)にパターンがないことを特徴とする、請求項1〜11のいずれか一項に記載の方法。
  13. 強度推移が複数の周波数を有することを特徴とする、請求項1〜12のいずれか一項に記載の方法。
  14. 周期(56、96)が、強度推移(54、94)の方向に対し横方向に変化する周波数(58、98)を有することを特徴とする、請求項1〜13のいずれか一項に記載の方法。
  15. 原点(52)を中心にパターン(40、82、100、106)を回転して、強度推移(54、94)を表面(32)に対し移動させることを特徴とする、請求項1〜14のいずれか一項に記載の方法。
  16. 対象物(26)の表面(32)を光学的に検査するための装置であって、
    第1の周期(56、78、96)を有する第1の強度推移(54、76、94)を形成する多数のより明るい領域およびより暗い領域(48、72、90、102、108;50、74、92、104、110)を有する第1のパターン(40、64、82、100、106)と、
    第1の強度推移(54、76、94)が表面(32)に入射するように、対象物(26)を表面(32)と共にパターン(40、64、82、100、106)に対し位置決めするための収容部(12)と、
    表面(32)に対し第1の強度推移(54、76、94)を規定の移動距離(126)だけ移動させるための制御ユニット(14)であって、移動距離(126)に沿った表面(32)が第1の強度推移(54、76、94)に対し多くの異なる位置を占める制御ユニットと、
    第1の強度推移(54、76、94)を有する表面(32)を異なる位置で示す多数の画像を記録するための少なくとも1つの画像記録ユニット(34)と、
    画像に基づき表面(32)の性質を決定するための評価ユニット(38)と、を有する装置において、
    第1のパターン(40、64、82、100、106)が、規定された原点(52)に対し回転対称を有することを特徴とする装置。
  17. データ媒体に記憶され、かつプログラムコードがコンピュータで実施される場合に請求項1〜14のいずれか一項に記載の方法を実施するために形成されるプログラムコードを有するコンピュータプログラム。
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