JP2010176937A - 電気光学装置、発光装置、及び電子機器 - Google Patents

Abstract

【課題】機能膜の厚みのばらつきを抑えることができる電気光学装置、発光装置、及び電子機器を提供する。
【解決手段】ガラス基板上において少なくとも開口部３７の長手方向に配列した複数の発光素子（発光領域１２）と、複数の発光素子を囲むように設けられた隔壁３４と、を有し、発光素子を構成する少なくとも１つの膜が液体プロセスを用いて形成され、隔壁の開口部３７内において、平面的に発光素子を避けて第１凹部３９が設けられている。
【選択図】図２

Description

本発明は、液滴吐出法を用いて形成された機能膜を有する電気光学装置、発光装置、及び電子機器に関する。

上記した電気光学装置は、例えば、発光装置としての有機ＥＬ装置であり、ラインプリンター等のプリンターヘッドの光源として用いられる。有機ＥＬ装置の製造方法の一つとしては、まず、基板上の発光素子（発光領域）が集まる領域を囲むように隔壁（バンク）を形成する。隔壁に囲まれた領域である開口部の形状は、長辺と短辺とを有する細長状の形状となっている。次に、開口部の中に、例えば、機能膜の材料を含む液体を、液滴吐出法を用いて吐出する。その後、液体を乾燥させて機能膜を形成する。

このような液滴吐出法では、液体の乾燥速度が開口部内で異なると、液体が乾燥速度の速い方へ相対的に移動し、隔壁の中央と端部で膜厚がばらつき、発光ムラを生じるという問題がある。そこで、特許文献１や特許文献２に記載のように、隔壁の壁から発光素子までの間隔を長くしたり、画素電極上に凸部を設けて液体の流動を抑えたりしている。また、特許文献３や特許文献４に記載のように、行方向と列方向とに高さの異なる隔壁部（個別隔壁）を設けて、液体の流動を抑えている。

特開２００７−８７６９３号公報 特開２００７−１２３２８２号公報 特開２００７−１８８８６２号公報 特開２００７−２３４２３２号公報

しかしながら、特許文献１や特許文献２では、隔壁が必要以上に大きくなったり、画素電極上において膜厚の均一性が保たれなかったりする。その結果、スペース効率が悪かったり、均一な発光が得られなかったりするという課題がある。また、特許文献３や特許文献４に記載のように、高さの異なる個別隔壁を設ける場合、一定の高さの個別隔壁を形成する場合と比べて、製造方法が複雑となる課題がある。また、液滴吐出法を用いて機能膜を形成する場合、基板の周辺部から乾燥が進むため、基板の周辺部と中央部とでは機能膜材料を含む液体の乾燥速度が異なり、これにより各個別隔壁内に形成される機能膜の膜形状が基板の周辺部と中央部とで異なってしまい、発光ムラが生じるという課題がある。

本発明は、上記課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現することが可能である。

［適用例１］本適用例に係る電気光学装置は、基板上において少なくとも第１方向に配列した複数の電気光学素子を備え、前記複数の電気光学素子の各々の電気光学素子を構成する少なくとも１つの薄膜が液体プロセスを用いて形成された電気光学装置であって、前記複数の電気光学素子を囲むように設けられた隔壁と、前記隔壁の開口部内において、前記第１方向に沿って配列された複数の第１凹部と、を有し、前記第１方向は、前記開口部の長手方向と同一方向であり、前記複数の第１凹部の各々は、前記隔壁及び前記複数の電気光学素子と間隔を開けて設けられており、かつ、前記開口部の短手方向に沿って長辺を有しており、前記複数の第１凹部の隣り合う２つの第１凹部間には、前記複数の電気光学素子のうち１つ又は２つの電気光学素子が配置されていることを特徴とする。

この構成によれば、隔壁及び電気光学素子と間隔を開けて第１凹部が設けられているので、隔壁の開口部の中に電気光学素子を構成する薄膜の液体を充填し、その後液体を乾燥させる際、開口部の底面が平坦である場合に比べて、液体の流動を抑制する（流動の抵抗を変える）ことができる。言い換えれば、開口部内の液体を乾燥して薄膜を形成する際、開口部内の液体の乾燥速度が異なることに起因する、液体の急激な偏りが生ずることを抑えることが可能となる。また、隣り合う第１凹部間に１つ又は２つの電気光学素子が配置されているので、第１凹部と電気光学素子とが対称性をもった配置（ミラー配置）であるので、液体の流動ばらつきを抑えることができる。その結果、開口部内において膜厚がほぼ均一な薄膜を有し、安定した発光特性を有する電気光学素子を備えた電気光学装置を提供することができる。

［適用例２］上記適用例に係る電気光学装置において、前記第１方向に配列された前記複数の電気光学素子からなる発光素子列が、前記開口部の短手方向に隣り合うように２列並んで配置されており、前記開口部の一方の長辺と前記２列の発光素子列のうち前記開口部の一方の長辺側に配置された一方の発光素子列との間、前記開口部の他方の長辺と前記２列の発光素子列のうち前記開口部の他方の長辺側に配置された他方の発光素子列との間、及び前記一方の発光素子列と前記他方の発光素子列との間の各々には、前記開口部の長手方向に沿って、前記隔壁と前記複数の電気光学素子と間隔を開けて形成された第２凹部とを更に有することが好ましい。

この構成によれば、第１凹部に加えて第２凹部が設けられているので、液体が開口部内に充填された後に、開口部の長手方向と短手方向の双方において液体の流動を抑えることができる。

［適用例３］上記適用例に係る電気光学装置において、前記第２凹部は、前記開口部の長手方向に沿って繋がって延びていることが好ましい。

この構成によれば、第２凹部が長手方向に沿って繋がって延びているので、長手方向の第２凹部で区切られた範囲の集まりを１つの集合体（ユニット）とすれば、その集合体の中で液体の流動を抑えることができる。また、液体を乾燥させる際、開口部内の液体の乾燥速度が異なることに起因する、液体の急激な偏りが生ずることを集合体ごとに抑えることができる。

［適用例４］上記適用例に係る電気光学装置において、前記複数の第１凹部のいずれの第１凹部においても、前記第１凹部と前記複数の電気光学素子のうち前記第１凹部に最も近い位置に設けられた電気光学素子との距離が略等しいことが好ましい。

この構成によれば、第１凹部と電気光学素子（発光領域）との距離が略等しいので、開口部内の液体を乾燥させた際、電気光学素子の領域の液体の流動が第１凹部の配置位置の相違により、それぞれの領域でばらつくことを抑えることができる。よって、電気光学素子を構成する薄膜の膜厚をほぼ均一に形成することができる。

［適用例５］上記適用例に係る電気光学装置において、前記第１凹部と前記複数の電気光学素子のうち前記第１凹部に最も近い位置に設けられた前記電気光学素子との距離と、前記複数の電気光学素子のうち前記開口部の一方の短辺に最も近い位置に設けられた電気光学素子と前記開口部の前記一方の短辺との距離が略等しいことが好ましい。

この構成によれば、第１凹部と電気光学素子との距離と、電気光学素子と短手方向にある（短辺側の）隔壁との距離が略等しいので、隔壁に近い部分の電気光学素子と隔壁との間に第１凹部を設けなくとも、開口部内の液体を乾燥させた際の液体の流動ばらつきを抑えることができる。よって、電気光学素子を構成する薄膜の膜厚をほぼ均一に形成することができる。

［適用例６］上記適用例に係る電気光学装置において、前記第１凹部は、前記開口部内における位置によって配置された個数が異なるようにしてもよい。

この構成によれば、例えば、開口部内の液体の乾燥速度の差による液体の流動性の差に対応して第１凹部の数を異ならせることにより、液体の急激な偏りを規制することが可能となる。よって、薄膜の厚みをほぼ均一に形成することができる。

［適用例７］上記適用例に係る電気光学装置において、前記第１凹部と前記第２凹部とが繋がっていることが好ましい。

この構成によれば、第１凹部と第２凹部とが繋がっている場合でも、第１凹部及び第２凹部と電気光学素子との配置関係が対称性をもった配置（ミラー配置）であるので、薄膜の膜厚ばらつきを抑えることができる。更に、開口部に対する凹部の占有率を高くすることができる。

［適用例８］上記適用例に係る電気光学装置において、前記凹部は、前記複数の電気光学素子のいずれかを駆動させるための駆動回路要素部を基に形成されていることが好ましい。

この構成によれば、凹部を設けるために専用の工程を必要とせず、駆動回路要素部を利用して凹部（第１凹部、第２凹部）を形成するので、高いコストパフォーマンスを有する電気光学装置を提供できる。

［適用例９］上記適用例に係る電気光学装置において、前記駆動回路要素部と略同一形状である第３凹部を有し、前記電気光学素子に対して前記第３凹部と前記駆動回路要素部とが対称となるように配置されていることが好ましい。

この構成によれば、第３凹部を設けることによって、電気光学素子に対して第３凹部と駆動回路要素部との配置関係が対称性をもった配置（ミラー配置）であるので、薄膜の膜厚ばらつきを抑えることができる。

［適用例１０］上記適用例に係る電気光学装置において、前記駆動回路要素部は、コンタクトホールであってもよい。

この構成によれば、コンタクトホールの凹部を利用すると共に、コンタクトホールと略同一形状の凹部を設けることによって、電気光学素子に対して凹部とコンタクトホールとの配置関係が対称性をもった配置（ミラー配置）であるので、薄膜の膜厚ばらつきを抑えることができる。

［適用例１１］上記適用例に係る電気光学装置において、前記駆動回路要素部は、平坦化層又は絶縁層の開口段差であることが好ましい。

この構成によれば、平坦化層又は絶縁層の開口段差を利用すると共に、開口段差と略同一形状の凹部を設けることによって、電気光学素子に対して凹部と開口段差との配置関係が対称性をもった配置（ミラー配置）であるので、薄膜の膜厚ばらつきを抑えることができる。

［適用例１２］上記適用例に係る発光装置において、前記薄膜は発光層であり、前記発光層は第１電極と第２電極との間に挟持されていることを特徴とする。

この構成によれば、凹部（第１凹部、第２凹部）が設けられていることにより、発光素子を構成する薄膜の液体を充填し、その後液体を乾燥させる際、開口部の底面が平坦である場合に比べて、液体の流動を抑制する（流動の抵抗を変える）ことができる。言い換えれば、開口部内の液体を乾燥して薄膜を形成する際、開口部内の液体の乾燥速度が異なることに起因する、液体の急激な偏りが生ずることを抑えることが可能となる。その結果、開口部内において膜厚がほぼ均一な薄膜を有し、安定した発光特性を有する発光素子を備えた発光装置を提供することができる。

［適用例１３］本適用例に係る電子機器は、上記に記載の電気光学装置又は発光装置を備えることを特徴とする。

この構成によれば、安定した機能を発揮することができる電子機器を得ることができる。

＜発光装置の構成＞
図１は、電気光学装置としての発光装置（有機ＥＬ装置）の構造を示す模式断面図である。以下、発光装置の構成を、図１を参照しながら説明する。なお、図１は、各構成要素の断面的な位置関係を示すものであり、明示可能な尺度で表されている。

図１に示すように、発光装置１１は、発光領域１２において発光が行われるものであり、基板１３と、基板１３上に形成された回路素子層１４と、回路素子層１４上に形成された発光素子層１５とを有する。基板１３としては、例えば、透光性を有するガラス基板が挙げられる（以下、「ガラス基板１３」と称する。）。

回路素子層１４には、ガラス基板１３上にシリコン酸化膜（ＳｉＯ₂）からなる下地保護膜１７が形成され、下地保護膜１７上にＴＦＴ（Thin Film Transistor）素子１８が形成されている。詳しくは、下地保護膜１７上に、ポリシリコン膜からなる島状の半導体膜１９が形成されている。半導体膜１９には、ソース領域２１及びドレイン領域２２が不純物の導入によって形成されている。そして、不純物が導入されなかった部分がチャネル領域２３となっている。

更に、回路素子層１４には、下地保護膜１７及び半導体膜１９を覆うシリコン酸化膜等からなる透明なゲート絶縁膜２４が形成されている。ゲート絶縁膜２４上には、アルミニウム（Ａｌ）、モリブデン（Ｍｏ）、タンタル（Ｔａ）、チタン（Ｔｉ）、タングステン（Ｗ）などからなるゲート電極２５（走査線）が形成されている。

ゲート絶縁膜２４及びゲート電極２５上には、透明な第１層間絶縁膜２６及び第２層間絶縁膜２７が形成されている。第１層間絶縁膜２６及び第２層間絶縁膜２７は、例えば、シリコン酸化膜（ＳｉＯ₂）、チタン酸化膜（ＴｉＯ₂）などから構成されている。ゲート電極２５は、半導体膜１９のチャネル領域２３に対応する位置に設けられている。

半導体膜１９のソース領域２１は、第１層間絶縁膜２６及びゲート絶縁膜２４を貫通して設けられたコンタクトホール２８を介して、第１層間絶縁膜２６上に形成された信号線２９と電気的に接続されている。一方、ドレイン領域２２は、第１層間絶縁膜２６〜第３層間絶縁膜３０、ゲート絶縁膜２４を貫通して設けられたコンタクトホール３１を介して、第３層間絶縁膜３０上に形成された第１電極としての画素電極３２と電気的に接続されている。

発光素子層１５は、発光素子を具備してガラス基板１３上に形成されている。詳述すると、発光素子層１５は、画素電極３２と、画素電極３２上に形成された機能層３３と、機能層３３を区画する隔壁３４と、機能層３３及び隔壁３４上に形成された第２電極としての陰極（共通電極）１６とを主体として構成されている。

画素電極３２は、例えば、発光領域１２ごとに形成されている。また、画素電極３２は、透明のＩＴＯ（Indium Tin Oxide）膜からなり、発光層３３ｃが発光した光を下方のガラス基板１３側に射出させることが可能となっている。また、画素電極３２（発光領域）は、例えば、平面的に見て丸形状となっている。なお、回路素子層１４には、図示しない保持容量及びスイッチング用のトランジスターが形成されている。また、回路素子層１４には、各画素電極３２に接続された駆動用のトランジスターが形成されている。機能層３３は、例えば、正孔注入層３３ａと、中間層３３ｂと、発光層３３ｃなどから構成されている。機能層３３上及び隔壁３４上には、陰極１６が配置されている。画素電極３２と、機能層３３と、陰極１６とによって電気光学素子としての発光素子３５（発光領域１２）が構成されている。

回路素子層１４と隔壁３４との間には、絶縁層３６が形成されている。絶縁層３６は、例えば、シリコン酸化膜（ＳｉＯ₂）である。絶縁層３６は、隣り合う画素電極３２間の絶縁性を確保すると共に、発光領域１２の形状を所望の形状（例えば、丸形状）にするために、画素電極３２の周縁部上に乗り上げるように形成されている。つまり、画素電極３２と絶縁層３６とは、平面的に一部が重なるように配置された構造となっている。言い換えれば、絶縁層３６は、発光領域１２を除いた領域に形成されていることになる。

隔壁３４は、複数の発光領域１２（発光素子３５）が集まる領域を囲むように形成されている。つまり、隔壁３４に囲まれた領域が隔壁３４の開口部３７となる。開口部３７は、長辺と短辺とを有する細長状の形状となっている（図２参照）。隔壁３４の材質としては、例えば、有機材料が挙げられる。

また、発光領域１２（発光素子３５）と平面的に重ならないように、絶縁層３６上には、凹部３９，４０（３９ａ，４０ａ，３９ｂ，４０ｂ）が形成されている。また、絶縁層３６の凹部３９ｂ，４０ｂの形状に沿って、正孔注入層３３ａと中間層３３ｂとに凹部３９，４０（３９ｃ，４０ｃ，３９ｄ，４０ｄ）が形成されている。凹部３９，４０の詳細については、後述する。

機能層３３は、上記したように、正孔注入層３３ａと中間層３３ｂと発光層３３ｃとを有して構成されており、隔壁３４に囲まれた領域、すなわち開口部３７に、液滴吐出法、例えばインクジェット法を用いて順に形成されている。

陰極１６は、機能層３３及び隔壁３４を含む基板上の所定の領域に所定の領域全面を覆うように成膜（ベタ成膜）されている。具体的には、陰極１６は、例えば、カルシウム（Ｃａ）及びアルミニウム（Ａｌ）の積層体である。陰極１６の上には、水や酸素の侵入を防ぐための、樹脂などからなる封止部材（図示せず）が積層されている。なお、画素電極３２、発光素子層１５及び陰極１６によって発光素子３５が構成される。

上述した発光層３３ｃは、エレクトロルミネッセンス現象を発現する有機発光物質の層である。画素電極３２と陰極１６との間に電圧を印加することによって、発光層３３ｃには、正孔注入層３３ａから正孔が、また、陰極１６から電子が注入される。発光層３３ｃにおいて、これらが結合したときに光を発する。

（第１実施形態）
＜隔壁の構造＞
図２は、発光装置を構成する隔壁の構造を示す模式平面図である。図３は、図２に示す隔壁のＡ−Ａ’断面に沿う模式断面図である。なお、図２及び図３に示す隔壁３４は、上記した機能層３３及び陰極１６の図示を省略している。

図２に示すように、隔壁３４は、上記したように開口部３７を有する。開口部３７は、平面的に長辺と短辺とを有する細長状に形成されている。ここで、長辺が延在する方向を長手方向もしくは第１方向、短辺が延在する方向を短手方向もしくは第２方向という。隔壁３４の材質としては、例えば、アクリル樹脂が挙げられる。

開口部３７の中には、複数の発光領域１２（発光素子３５）が開口部３７の第１方向としての長手方向に５つ設けられている。そして、隣り合う２つの発光領域１２間には、凹部３９（３９ｂ）が設けられている。また、開口部３７の短辺における側壁（隔壁３４のうち、開口部３７の短辺を規定する側壁）３７ａと側壁３７ａと最も近い位置に形成された発光領域１２（発光素子３５）との間にも凹部３９（３９ｂ）が設けられている。ここで、各々の凹部３９ｂは短手方向に沿って延在している（短手方向に凹部３９ｂの長辺を有する）。隔壁３４のうち開口部３７の長辺を規定する側壁を側壁３７ｂとする。また、発光領域１２（発光素子３５）の数量は５つに限定されない。詳述すると、凹部３９（３９ｂ）の深さは、画素電極３２の厚み（例えば、５０ｎｍ）より深く形成されており、例えば、１００ｎｍ以上である。

液体を乾燥させて機能層３３を形成する際、開口部３７の真ん中と端で乾燥速度が異なる場合、乾燥速度が速い方へ液体が移動する。この液体は、凹部３９が存在するため、開口部３７の底面が平坦である場合に比べて、液体の流動を抑えることができる。つまり、開口部３７内の液体の乾燥速度が異なることに起因する、液体の急激な偏りを抑えることが可能となる。その結果、開口部３７内において機能層３３の膜厚をほぼ均一に形成することができる。

また、長手方向における凹部３９と発光領域１２（発光素子３５）との間隔は、全て略等しい幅Ｗとなっている。これにより、開口部３７の中の液体を乾燥させた際、凹部３９の配置位置の影響による膜の膜厚ばらつきを低減することができる。以下、隔壁３４内に機能性材料を含む液状組成物を塗布して、均一な膜厚を有する膜を形成する方法を説明する。

＜発光装置の製造方法＞
図４〜図１０は、発光装置の製造方法を工程順に示す模式断面図である。以下、発光装置の製造方法を、図４〜図１０を参照しながら説明する。なお、各種配線や電極、駆動用ＴＦＴ素子等を形成する製造工程については、周知の工程と同様なので、これ以降の工程について詳しく説明する。

図４に示す工程では、絶縁層３６の画素電極３２上（発光領域１２）を開口すると同時に、絶縁層３６に凹部３９（３９ｂ）を形成する。具体的には、まず、第３層間絶縁膜３０及び画素電極３２上にシリコン酸化膜等からなる絶縁層３６を形成する。次に、例えば、フォトリソグラフィ技術等を用いて、発光領域１２上を開口すると共に、発光領域１２との間隔Ｗがどの領域でも略等しくなるよう凹部３９を形成する。

図５に示す工程では、回路素子層１４（図１参照）上に隔壁３４を形成する。具体的には、まず、絶縁層３６及び画素電極３２上に隔壁３４となる感光性の有機物を塗布する。感光性の有機物としては、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等の耐熱性、耐溶剤性を有する材料が挙げられる。次に、この有機物をフォトリソグラフィ技術等により、隔壁３４の形状にパターンニングする。これにより、開口部３７を有する隔壁３４及び画素電極３２と平面的に重ならない位置であって、隣り合う２つの画素電極３２間及び隔壁３４の短辺と短辺に最も近い位置にある画素電極３２との間に凹部３９ｂが形成される。

図６に示す工程では、正孔注入層３３ａ（図１参照）となる液体を隔壁３４の開口部３７内に充填する。正孔注入層３３ａ形成材料としては、例えば、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳを水系溶媒に溶解させたものが挙げられる。液体を吐出する方法として、液滴吐出装置、例えばインクジェット装置を用いた液体プロセス法を用いることができる。まず、インクジェット装置を用いて、正孔注入層形成材料を含む液状組成物４１（液体）を隔壁３４の開口部３７内に吐出する。より具体的には、インクジェットヘッドに形成された複数のノズル（いずれも図示せず）から液状組成物４１を開口部３７内に吐出する。

図７に示す工程では、乾燥処理及び熱処理を行い、画素電極３２上に正孔注入層３３ａを形成する。具体的には、液状組成物４１（図６参照）を真空乾燥させることにより、液状組成物４１に含まれる溶媒が蒸発し、画素電極３２上及び絶縁層３６上に正孔注入層３３ａが形成される。

液状組成物４１は、開口部３７内に凹部３９が設けられていることにより、乾燥処理及び熱処理する際、急激な偏り（例えば、乾燥速度が速い方向への移動）が生ずることを抑えることができる。その結果、開口部３７内において正孔注入層３３ａの膜厚をほぼ均一に形成することができる。その後、同様にして、中間層３３ｂを形成する。

図８に示す工程では、中間層３３ｂ上に発光層３３ｃ（図１参照）となる液体を隔壁３４の開口部３７内に充填する。発光層３３ｃ形成材料としては、例えば、高分子ポリマーをキシレン等の有機溶剤に溶解させたものが挙げられる。液体を吐出する方法として、上記したように、インクジェット法を用いることができる。具体的には、まず、発光層形成用の液状組成物４２を、隔壁３４の開口部３７内の中間層３３ｂ上に吐出する。吐出された液状組成物４２は、中間層３３ｂ上に広がって、隔壁３４の開口部３７内に満たされる。

図９に示す工程では、乾燥処理（真空乾燥）及び熱処理（アニール）を行い、ポリマー固形分を残すことにより中間層３３ｂ上に発光層３３ｃを形成する。具体的には、開口部３７内に充填された液状組成物４２（図８参照）に、真空乾燥処理及び熱処理を施すことにより、液状組成物４２に含まれる溶媒が蒸発し、中間層３３ｂ上に発光層３３ｃが形成される。発光層３３ｃは、上記したように、凹部３９（３９ｃ）が設けられていることにより、開口部３７内において膜厚をほぼ均一に形成することができる。

図１０に示す工程では、隔壁３４及び発光層３３ｃを含む基板１３上の所定の領域に陰極１６を形成する。具体的には、陰極１６は、カルシウム層とアルミニウム層とを順次積層した構成となっている。陰極１６の形成方法としては、例えば、蒸着法、スパッタ法、及びＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）法等で形成することができる。なお、陰極１６上に、酸化防止のためにシリコン酸化膜（ＳｉＯ₂）、シリコン窒化膜（ＳｉＮ）等の保護層を設けるようにしてもよい。以上により、発光素子３５が完成する。

次に、図示しないが、発光素子３５が形成された基板と、別途用意した封止基板とを樹脂を介して封止する。具体的には、例えば、熱硬化樹脂または紫外線硬化樹脂からなる封止樹脂を基板の周縁部に塗布し、封止樹脂上に封止基板を配置する。封止には、窒素、アルゴン、ヘリウム等の不活性ガス雰囲気で行うことが好ましい。以上により、発光装置１１が完成する。

以上詳述したように、第１実施形態によれば、以下に示す効果が得られる。

（１）第１実施形態によれば、発光素子３５（発光領域１２）と重ならない領域に、隔壁３４と分離された（間隔をおいて配置された）凹部３９が回路素子層１４上に設けられているので、隔壁３４の開口部３７の中に充填した機能層３３となる液体（液状組成物４１，４２）を乾燥する際、開口部３７の底面が平坦である場合と比較して、液体の流動を抑制する（流動の抵抗を変える）ことができる。つまり、開口部３７内の液体の乾燥速度が異なることに起因する、液体の急激な偏りを抑えることが可能となる。その結果、開口部３７内における機能層３３の膜厚をほぼ均一に形成することができ、安定した発光特性を有する発光素子３５を備えた発光装置１１を提供することができる。

（２）第１実施形態によれば、凹部３９と発光素子３５（発光領域１２）との距離Ｗが略等しいので、開口部３７の中の液体を乾燥する際、凹部３９の配置位置の相違により、それぞれの領域でばらつくことを抑えることができる。

（第２実施形態）
＜隔壁の構造＞
図１１は、第２実施形態の隔壁の構造を示す模式平面図である。図１２は、図１１に示す隔壁のＡ−Ａ’断面に沿う模式断面図である。以下、隔壁の構造を、図１１及び図１２を参照しながら説明する。なお、第２実施形態の隔壁５４は、隔壁５４の開口部５７内において、長手方向に形成された複数の発光領域１２（発光素子３５）からなる発光素子列を短手方向に２行並べて配置している部分が、第１実施形態と異なっている。以下、第１実施形態と同じ構成部材には同一符号を付し、ここではそれらの説明を省略又は簡略化する。

図１１に示すように、第２実施形態の隔壁５４は、上記したように、隔壁５４の開口部５７において、長手方向に形成された複数の発光領域１２（発光素子３５）からなる発光素子列が２行形成されている。

また、開口部５７の中には、長手方向において隣り合う２つの発光領域１２間、及び開口部５７の短辺における側壁５７ａと側壁５７ａと最も近い位置に形成された発光領域１２（発光素子３５）との間に、凹部３９（「第１凹部３９ｂ」と称す。）が設けられている。各々の第１凹部３９ｂは、短手方向に沿って延在している（短手方向に第１凹部３９ｂの長辺を有する）。更に、上記した２行の発光素子列の行間、及び発光素子列と長辺の側壁５７ｂ（隔壁５４のうち、開口部５７の長辺を規定する側壁）との間には、長手方向に沿って形成された凹部４０（「第２凹部４０（４０ｂ）」と称す。）が設けられている。第２凹部４０ｂは、図１１に示すように、長辺の側壁５７ｂに沿って長辺の一端から他端まで繋がって形成されている。また第２凹部４０ｂは、少なくとも発光素子列の両端に位置する発光素子３５間の距離よりも長い長さを有する。

また、第１凹部３９は、発光領域１２の直径と略等しい長さに延びて形成されている。第２凹部４０は、長手方向に繋がって形成されていると共に、側壁５７ｂと発光素子列との間に１つずつ、発光素子列間に１つ、計３つが形成されている。

また、第１凹部３９及び第２凹部４０は、隔壁５４の側面から間隔をおいて形成されている。更に、第１凹部３９は、第２凹部４０と間隔をおいて形成されている。

液体を乾燥させて膜を形成する際、開口部５７の端と真ん中で乾燥速度が異なる場合、液体が乾燥速度の速い方向へ移動しやすいが、隔壁５４の開口部５７の中に第１凹部３９及び第２凹部４０が形成されているので、開口部５７の底面が平坦である場合に比べて、液体の急激な流動を抑えることができる。つまり、開口部５７内の液体の乾燥速度が異なることに起因する、液体の急激な偏りを抑えることが可能となる。その結果、開口部５７内において、機能層３３を構成する膜の膜厚を機能層３３の形成領域に亘ってほぼ均一に形成することができる。

また、第１凹部３９は、第１凹部３９と近くに設けられた発光領域１２との間隔Ｗが全ての領域において略等しくなるように配置されている。更に、第２凹部４０は、第２凹部４０と近くに設けられた発光領域１２との間隔Ｈが略等しくなるように配置されている。つまり、第１凹部３９と発光領域１２、第２凹部４０と発光領域１２が、それぞれ位置関係に対称性をもつように配置されている。このように、第１凹部３９と発光領域１２との間隔が略等しいので、第１凹部３９の配置位置の影響による液体の流動が各発光領域１２においてばらつくことを抑えることができる。また、第２凹部４０も同様である。よって、膜の膜厚をほぼ均一に形成することができる。

また、第２凹部４０が長手方向（第１方向）に繋がって形成されているので、第２凹部４０で挟まれた複数の発光領域１２の集まりを１つの集合体（ユニット）とすれば、その集合体間で液体の流動を抑えることができる。つまり、液体を乾燥させる際、開口部５７内の液体の乾燥速度が異なることに起因する、液体の急激な偏りが生ずることを集合体ごとに抑えることができる。その結果、膜の膜厚をほぼ均一に形成することができる。

なお、第２実施形態の発光装置（隔壁５４）の製造方法は、絶縁層３６において画素電極３２上に発光領域１２を形成すると同時に２行分の第１凹部３９及び第２凹部４０を形成する以外、第１実施形態で説明した内容と同様である。

以上詳述したように、第２実施形態によれば、上記した第１実施形態の（１）、（２）の効果に加えて、以下に示す効果が得られる。

（３）第２実施形態によれば、隔壁５４の開口部５７の短手方向に沿って第１凹部３９が設けられているので、液体を乾燥する際の長手方向への液体の流動を抑えることが可能となり、第１凹部３９で挟まれた領域の液量の均一性を向上させることができる。更に、長手方向に沿って第２凹部４０が設けられているので、短手方向への液体の流動を抑えることができる。

（４）第２実施形態によれば、第２凹部４０が長辺の側壁５７ｂに沿って長辺の一端から他端まで繋がって延びているので、第２凹部４０で区切られた範囲の集まりを１つの集合体（ユニット）とすれば、液体を乾燥させる際、液体の乾燥速度が異なることに起因する、液体の急激な偏りが生ずることを集合体間で制限させることができる。

（５）第２実施形態によれば、第２凹部４０と発光素子３５（発光領域１２）との間の距離（最短距離）がいずれの発光素子３５においても略等しいので、開口部５７の中の液体を乾燥する際、第２凹部４０の配置位置の影響による液体の流動がそれぞれの領域でばらつくことを抑えることができる。よって、機能層３３を構成する膜の膜厚をほぼ均一に形成することができる。

（第３実施形態）
＜隔壁の構造＞
図１３は、第３実施形態の隔壁の構造を示す模式平面図である。図１４（ａ）は図１３に示す隔壁のＡ−Ａ’断面に沿う模式断面図であり、図１４（ｂ）は図１３に示す隔壁のＢ−Ｂ’断面に沿う模式断面図である。以下、隔壁の構造を、図１３及び図１４を参照しながら説明する。なお、第３実施形態の隔壁６４は、隔壁６４の開口部６７内において発光領域１２（発光素子３５）が千鳥配列になっている部分が、第２実施形態と異なっている。以下、第２実施形態と同じ構成部材には同一符号を付し、ここではそれらの説明を省略又は簡略化する。

図１３に示すように、第３実施形態の隔壁６４は、上記した第２実施形態と同様に、隔壁６４の開口部６７において、長手方向に形成された複数の発光素子３５からなる発光素子列が２行形成されている。第２実施形態と異なる部分として、２行に配列された発光素子３５が千鳥配列になっている。第１凹部３９及び第２凹部４０の発光領域１２との配置関係は、第２実施形態と同様である。

これによれば、液体を乾燥させて膜を形成する際、開口部６７の端と真ん中で乾燥速度が異なる場合、液体が乾燥速度の速い方向に移動するが、隔壁６４の開口部６７の中に第１凹部３９及び第２凹部４０が形成されているので、液体の急激な流動を抑えることが可能となっている。

また、第１凹部３９は、上記したように、第１凹部３９と発光領域１２との間隔Ｗが略等しくなるように配置されている。更に、第２凹部４０は、第２凹部４０と発光領域１２との間隔Ｈが略等しくなるように配置されている。よって、第１凹部３９の配置位置の影響による液体の流動が各発光領域１２でばらつくことを抑えることができる。また、第２凹部４０による影響も同様である。

また、第２凹部４０が長手方向に繋がって形成されているので、第２凹部４０で挟まれた複数の発光領域１２の集まりを１つの集合体（ユニット）とすれば、液体を乾燥させる際、液体の乾燥速度が異なることに起因する、液体の急激な偏りが生ずることを集合体間で制限させることができる。

なお、第３実施形態の発光装置（隔壁６４）の製造方法は、発光領域１２を千鳥配列に形成する以外、第１実施形態及び第２実施形態で説明した内容と同様である。

以上詳述したように、第３実施形態によれば、上記した（１）〜（５）の効果に加えて、以下に示す効果が得られる。

（６）第３実施形態によれば、発光素子３５（発光領域１２）を千鳥配列に形成した場合でも、上記したように、開口部６７の中に第１凹部３９と第２凹部４０とを所定の規則性を守って配列しているので、液体を乾燥して各膜（機能層３３）を形成する際、開口部６７内の液体の乾燥速度が異なることに起因する、液体の急激な偏りが生ずることを抑えることが可能となる。その結果、開口部６７内における膜の膜厚をほぼ均一に形成することができる。

（第４実施形態）
＜隔壁の構造＞
図１５は、第４実施形態の隔壁の構造を示す模式平面図である。図１６は、図１５に示す隔壁のＡ−Ａ’断面に沿う模式断面図である。以下、隔壁の構造を、図１５及び図１６を参照しながら説明する。なお、第４実施形態の隔壁７４は、発光素子３５を駆動させるためのコンタクトホール３１ａを利用して第２実施形態における第１凹部３９に相当する第１凹部７０を形成している部分と、発光素子列の行数とが、第１実施形態と異なっている。以下、第１実施形態と同じ構成部材には同一符号を付し、ここではそれらの説明を省略又は簡略化する。

図１５及び図１６に示すように、第４実施形態の隔壁７４は、隔壁７４の開口部７７において、例えば、長手方向に形成された複数の発光領域１２が３行形成されている。画素電極３２は、例えば、第３層間絶縁膜３０に形成されたコンタクトホール３１ａを介して、配線４３と電気的に接続されている。配線４３は、例えば、ＴＦＴ素子１８のドレイン領域２２と電気的に接続されている。

また、コンタクトホール３１ａを基に形成された第１凹部７０と発光領域１２との配置関係に対称性をもたせるために、画素電極３２のない部分にダミーとして用いられる第１凹部７０と略等しい形状の第３凹部８０を設けている。それ以外の第１凹部７０の平面的な配置は、３行であることを除いて上記した第１実施形態の隔壁３４と同様である。

このように、コンタクトホール３１ａを利用して第１凹部７０を形成するので、発光装置（隔壁７４）を形成する工程を増やすことなく対応することができる。

第４実施形態の発光装置（隔壁７４）の製造方法は、まず、図１６に示すように、例えば、第２層間絶縁膜２７上にドレイン領域２２とコンタクトホール３１（図１参照）を介して接続される配線４３を、フォトリソグラフィ技術等によって形成する。次に、第３層間絶縁膜３０を基板上の全面に形成し、フォトリソグラフィ技術等によって、配線上の一部を開口してコンタクトホール３１ａを形成する。

次に、基板上の全面にＩＴＯ膜を成膜し、配線と接続された領域から発光領域１２となる領域までを残して、エッチング除去する。その後は、第１実施形態の図５以降の説明と同様に形成する。

以上詳述したように、第４実施形態によれば、上記した（１）、（２）の効果に加えて、以下に示す効果が得られる。

（７）第４実施形態によれば、コンタクトホール３１ａを利用して第１凹部７０を形成するので、第１凹部７０を形成するために新たな工程を追加することなく発光装置１１を製造することができる。また、第３凹部８０を設けることによって、第１凹部７０と発光領域１２との配置関係が対称性をもった配置（ミラー配置）になるので、全ての発光領域１２において膜の膜厚ばらつきを低減することができる。加えて、コンタクトホール３１ａを用いるので、第１凹部７０を設けるためのスペースを効率化できる。

（第５実施形態）
＜隔壁の構造＞
図１７は、第５実施形態の隔壁の構造を示す模式平面図である。図１８は、図１７に示す隔壁のＡ−Ａ’断面に沿う模式断面図である。以下、隔壁の構造を、図１７及び図１８を参照しながら説明する。なお、第５実施形態の隔壁８４は、隔壁８４の開口部８７内の位置によって発光領域１２間に設ける第１凹部３９の数を異ならせて配置している部分と、発光素子列の行数とが、第１実施形態と異なっている。以下、第１実施形態と同じ構成部材には同一符号を付し、ここではそれらの説明を省略又は簡略化する。

図１７に示すように、隔壁８４の開口部８７において、長手方向に配置された複数の発光素子３５からなる発光素子列が３行設けられている。第１凹部３９（３９ｂ）は、開口部８７における長手方向の一端側と他端側における隣り合う発光領域１２間に、例えば、２つ設けられている。

開口部８７の中央付近に形成された隣り合う発光領域１２間には、第１凹部８１が１つ設けられている。なお、第１凹部８１は、発光領域１２との間隔を全ての領域において一定にするために、幅が広く形成されている。開口部８７における長辺の側壁８７ｂと平行に形成された第２凹部４０（４０ｂ）は、第２実施形態と同様に、隣り合う発光素子列間及び発光素子列と側壁８７ｂとの間に設けられている。

このように、開口部８７の位置によって発光領域１２間に設ける第１凹部３９の数量を変えることにより、例えば、開口部８７内に吐出された液体が、乾燥過程で開口部８７の中央側に流れることを、数量の多い第１凹部３９で抑えることができる。

なお、第５実施形態の発光装置（隔壁８４）の製造方法は、開口部８７における長手方向の一端側と他端側における隣り合う発光領域１２間に２つの第１凹部３９を、及び、開口部８７の中央の発光領域１２間に幅が広い第１凹部８１を形成する以外、第１実施形態で説明した内容と同様である。

以上詳述したように、第５実施形態によれば、上記した（１）〜（５）の効果に加えて、以下に示す効果が得られる。

（８）第５実施形態によれば、開口部８７内の位置によって隣り合う発光素子３５（発光領域１２）間に配置する第１凹部３９の個数を異ならせるので、液体を乾燥させて膜を形成する際、隣り合う発光領域１２間において第１凹部３９を多く配置することで液体の急激な偏りをより抑えることが可能となる。よって、膜の厚みをほぼ均一に形成することができる。

（第６実施形態）
図１９は、発光装置（有機ＥＬ装置）が組み込まれた光書き込みヘッドモジュールを示す斜視図である。以下、発光装置を備えた光書き込みヘッドモジュールの構成を、図１９を参照しながら説明する。

図１９に示すように、光書き込みヘッドモジュール２０１Ｋは、円柱状の感光体ドラム１７１Ｋと平行に、これと対向した状態で用いられる。光書き込みヘッドモジュール２０１Ｋは、感光体ドラム１７１Ｋと平行な方向に配設された箱体１７７と、箱体１７７と感光体ドラム１７１Ｋとの間に位置するように箱体１７７に取り付けられた光学部材１７８とを備えている。箱体１７７は、感光体ドラム１７１Ｋ側に開口部を有しており、その開口部に向かって光が射出されるように発光装置１１（有機ＥＬ装置）が固定されている。光学部材１７８は、内部にセルフォック（登録商標）レンズアレイを備えており、発光装置１１の発光素子３５から射出され、一端に入射した光を、他端側から射出して感光体ドラム１７１Ｋの表面で集光させ、照射（描画）する。

図２０は、上記した発光装置を有する光書き込みヘッドモジュールを備えた電子機器の一例として画像形成装置を示す模式断面図である。以下、発光装置を有する光書き込みヘッドモジュールを備えた画像形成装置の構造を、図２０を参照しながら説明する。

図２０に示すように、画像形成装置１８０は、発光装置１１が組み込まれた光書き込みヘッドモジュール２０１Ｋ，２０１Ｃ，２０１Ｍ，２０１Ｙを備えており、これらに対応して４個の感光体ドラム（像担持体）１７１Ｋ，１７１Ｃ，１７１Ｍ，１７１Ｙが配置されたタンデム方式として構成されたものである。

この画像形成装置１８０は、駆動ローラー１９１と従動ローラー１９２とテンションローラー１９３とを備え、これら各ローラーに中間転写ベルト１９０を、図２０中矢印方向（反時計方向）に循環駆動するよう張架したものである。この中間転写ベルト１９０に対して、感光体ドラム１７１Ｋ，１７１Ｃ，１７１Ｍ，１７１Ｙが所定間隔で配置されている。これら感光体ドラム１７１Ｋ，１７１Ｃ，１７１Ｍ，１７１Ｙは、その外周面が像担持体としての感光層となっている。

ここで、上記符号中のＫ、Ｃ、Ｍ、Ｙは、それぞれ黒、シアン、マゼンタ、イエローを意味し、それぞれ黒、シアン、マゼンタ、イエロー用の感光体であることを示している。なお、これら符号（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の意味は、他の部材についても同様である。感光体ドラム１７１Ｋ，１７１Ｃ，１７１Ｍ，１７１Ｙは、中間転写ベルト１９０の駆動と同期して、図２０中矢印方向（時計方向）に回転駆動するようになっている。

各感光体ドラム１７１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の周囲には、それぞれ感光体ドラム１７１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の外周面を一様に帯電させる帯電手段（コロナ帯電器）１７２（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）と、この帯電手段１７２（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）によって一様に帯電させられた外周面を感光体ドラム１７１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の回転に同期して順次ライン走査する光書き込みヘッドモジュール２０１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）とが設けられている。

また、光書き込みヘッドモジュール２０１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）で形成された静電潜像に現像剤であるトナーを付与して可視像（トナー像）とする現像装置１７４（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）と、現像装置１７４（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）で現像されたトナー像を一次転写対象である中間転写ベルト１９０に順次転写する転写手段としての一次転写ローラー１７５（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）とが設けられている。また、転写された後に感光体ドラム１７１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の表面に残留しているトナーを除去するクリーニング手段としてのクリーニング装置１７６（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）が設けられている。

各光書き込みヘッドモジュール２０１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）は、各発光装置１１のアレイ方向（発光素子３５の整列方向）が感光体ドラム１７１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の回転軸に平行となるように設置されている。そして、各光書き込みヘッドモジュール２０１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の主発光波長と、感光体ドラム１７１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の感度ピーク波長とが略一致するように設定されている。

現像装置１７４（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）は、例えば、現像剤として非磁性一成分トナーを用いる。そして、その一成分現像剤を例えば供給ローラーで現像ローラーへ搬送し、現像ローラー表面に付着した現像剤の膜厚を規制ブレードで規制し、その現像ローラーを感光体ドラム１７１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）に接触させあるいは押圧せしめることにより、感光体ドラム１７１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の電位レベルに応じて現像剤を付着させ、トナー像として現像するものである。

このような４色の単色トナー像形成ステーションにより形成された黒、シアン、マゼンタ、イエローの各トナー像は、一次転写ローラー１７５（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）に印加される一次転写バイアスによって中間転写ベルト１９０上に順次一次転写される。そして、中間転写ベルト１９０上で順次重ね合わされてフルカラーとなったトナー像は、二次転写ローラー１６６において用紙等の記録媒体Ｐに二次転写され、更に、定着部である定着ローラー対１６１を通ることで記録媒体Ｐ上に定着される。その後、排紙ローラー対１６２によって装置上部に形成された排紙トレイ１６８上に排出される。

なお、図２０中の符号１６３は多数枚の記録媒体Ｐが積層保持されている給紙カセット、１６４は給紙カセット１６３から記録媒体Ｐを一枚ずつ給送するピックアップローラー、１６５は二次転写ローラー１６６の二次転写部への記録媒体Ｐの供給タイミングを規定するゲートローラー対、１６６は上述したように中間転写ベルト１９０との間で二次転写部を形成する二次転写手段としての二次転写ローラー、１６７は二次転写後に中間転写ベルト１９０の表面に残留しているトナーを除去するクリーニング手段としてのクリーニングブレードである。

この画像形成装置１８０は、上記した発光装置１１を有する光書き込みヘッドモジュール２０１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）が露光手段として備えられている。このため、画像形成装置１８０は、感光体ドラム１７１Ｋに対して均一な発光光を射出することが可能となり、高品位な画像を形成することができる。

以上詳述したように、第６実施形態によれば、以下に示す効果が得られる。

（９）第６実施形態によれば、上記した第１実施形態〜第５実施形態の発光装置１１を備えているので、安定した機能を発揮することができる（例えば、高品位な画像を形成することができる）。

なお、実施形態は上記に限定されず、以下のような形態で実施することもできる。

（変形例１）
上記した第１実施形態では、発光領域１２間毎に第１凹部３９を配置したが、図２１に示すように、第１凹部３９を２つの発光領域１２おきに配置するようにしてもよい。これによれば、各発光領域１２において、第１凹部３９と発光領域１２との配置関係が対称性をもった配置（ミラー配置）であるので、全ての発光領域１２において液体の流動ばらつきを抑えることができる。

（変形例２）
上記した第２実施形態では、長手方向に形成された複数の発光領域１２が２行設けられているが、これに限定されず、例えば、３行以上設けるようにしてもよい。

（変形例３）
上記した第２実施形態では、発光領域１２と発光領域１２との間に第２凹部４０を設けていたが、図２２に示すように、発光領域１２間に第２凹部４０を設けないようにしてもよい。また、図２３に示すように、発光領域１２間に設けられた第２凹部４０を残し、長手方向の側壁５７ｂに沿って形成された２つの第２凹部４０を除くようにしてもよい。これらによれば、各発光領域１２において、第１凹部３９及び第２凹部４０と発光領域１２との配置関係が対称性をもった配置（ミラー配置）であるので、全ての発光領域１２において膜の膜厚ばらつきを低減することができる。

（変形例４）
上記した第２実施形態では、第２凹部４０が長手方向の側壁５７ｂに沿って一端側から他端側まで繋がって形成されていたが、図２４に示すように、各発光領域１２の領域毎に区切って第２凹部５０を形成するようにしてもよい。これによれば、各発光領域１２において、第１凹部３９及び第２凹部５０と発光領域１２との配置関係が対称性をもった配置であるので、発光領域１２において膜の膜厚ばらつきを低減することができる。また、このような第２凹部５０の配置は、第３実施形態〜第５実施形態においても適用可能である。

（変形例５）
上記した第２実施形態では、開口部５７における短手方向の側壁５７ａと平行に配置された第１凹部３９が発光領域１２毎に区切られていたが、図２５に示すように、第２凹部４０を第２凹部５０のように発光領域１２毎に区切り、第１凹部３９を発光領域１２の２個分の長さの第１凹部５１にして形成するようにしてもよい。これによれば、各発光領域１２において、第１凹部５１及び第２凹部５０と発光領域１２との配置関係が対称性をもった配置であるので、全ての発光領域１２において膜の膜厚ばらつきを低減することができる。

（変形例６）
上記した第３実施形態では、第１凹部３９を開口部６７の短手方向の側壁６７ａと平行に形成したが、図２６に示すように、短手方向の側壁６７ａに対して角度をつけた第１凹部５２として形成してもよい。この場合、角度をもった第１凹部５２は、全て略等しい角度で配置されている。これによれば、各発光領域１２と第１凹部５２との配置関係が略等しいので、全ての発光領域１２において膜の膜厚ばらつきを低減することができる。

（変形例７）
上記した変形例３では、第１凹部３９及び第２凹部４０がそれぞれ１つの凹形状となっていたが、これに限定されず、例えば、図２７に示すように、細かく分離された凹部５３を配置するようにしてもよい。これによれば、各発光領域１２において、凹部５３と発光領域１２との配置関係が対称性をもった配置であるので、液体を乾燥させて機能層３３を形成する際、開口部５７内の液体の乾燥速度が異なることに起因する、液体の急激な偏りを抑えることができる。

（変形例８）
上記した第２実施形態では、第１凹部３９と第２凹部４０とがそれぞれ分離されていたが、これに限定されず、例えば、図２８に示すように、第１凹部３９と第２凹部４０とが全て繋がった凹部５５で配置するようにしてもよい。これによれば、液体の流動性を最低限維持できると共に、凹部と発光領域１２との配置関係が対称性をもった配置であるので、液体を乾燥させて機能層３３を形成する際、開口部５７内の液体の乾燥速度が異なることに起因する、液体の急激な偏りを抑えることができる。更に、開口部５７に対する凹部の占有率を高くすることができる。なお、このような変形例８の形態は、第２実施形態に限定されず、全ての実施形態において適用可能である。

（変形例９）
上記した第５実施形態では、開口部８７における長手方向の一端側と他端側との発光領域１２間に２つの第１凹部３９を配置したが、乾燥工程において、液体が開口部８７の真ん中から端に移動する場合には、真ん中にある発光領域１２間に２つの第１凹部３９を配置し、端の発光領域１２間に１つの第１凹部３９を配置するようにしてもよい。また、発光領域１２間に配置する第１凹部３９は、２つに限定されず、例えば、３つ配置するようにしてもよい。また、乾燥する液体（膜）の状態から判断して、第１凹部３９と第１凹部８１を入れ替えてもよいし、発光領域１２間の全てに２つの第１凹部３９を設けるようにしてもよい。

（変形例１０）
上記した第４実施形態では、第１凹部７０を形成するのにコンタクトホール３１ａを利用していたが、これに限定されず、例えば、平坦化層や絶縁層（例えば、第１層間絶縁膜２６、第２層間絶縁膜２７など）の開口段差を利用して形成するようにしてもよい。

（変形例１１）
上記した第１実施形態〜第５実施形態の隔壁３４，５４，６４，７４，８４は、第１凹部３９や第２凹部４０を共通隔壁に適用してきたが、個々の発光素子を囲むように隔壁を形成する個別隔壁に適用するようにしてもよい。

（変形例１２）
上記した第１凹部３９や第２凹部４０の配置形態は、上記した実施形態や変形例の内容に限定されず、例えば、それぞれの形態を部分的に組み合わせて配置するようにしてもよい。

（変形例１３）
上記したように、第１凹部３９や第２凹部４０を形成するために第３層間絶縁膜３０や絶縁層３６に凹部を形成したが、これに限定されず、例えば、絶縁層３６のみに凹部を形成するようにしてもよい。

（変形例１４）
上記したように、発光装置１１の構造はボトムエミッションであることに限定されず、例えば、トップエミッションの構造でも可能である。

（変形例１５）
上記したように、発光装置１１は、光書き込みヘッドモジュールを備えた画像形成装置に適用することに限定されず、例えば、露光装置や、照明機器等の表示装置として適用することもできる。

（変形例１６）
上記したように、電気光学素子は発光素子３５に限定されず、例えば、受光素子として用いるようにしてもよい。受光素子を備えた電気光学装置としては、例えば、読み取り装置を挙げることができる。

電気光学装置としての発光装置の構造を示す模式断面図。 第１実施形態の発光装置を構成する隔壁の構造を示す模式平面図。 図２に示す隔壁のＡ−Ａ’断面に沿う模式断面図。 発光装置の製造方法を工程順に示す模式断面図。 発光装置の製造方法を工程順に示す模式断面図。 発光装置の製造方法を工程順に示す模式断面図。 発光装置の製造方法を工程順に示す模式断面図。 発光装置の製造方法を工程順に示す模式断面図。 発光装置の製造方法を工程順に示す模式断面図。 発光装置の製造方法を工程順に示す模式断面図。 第２実施形態の隔壁の構造を示す模式平面図。 図１１に示す隔壁のＡ−Ａ’断面に沿う模式断面図。 第３実施形態の隔壁の構造を示す模式平面図。 （ａ）は図１３に示す隔壁のＡ−Ａ’断面に沿う模式断面図、（ｂ）は図１３に示す隔壁のＢ−Ｂ’断面に沿う模式断面図。 第４実施形態の隔壁の構造を示す模式平面図。 図１５に示す隔壁のＡ−Ａ’断面に沿う模式断面図。 第５実施形態の隔壁の構造を示す模式平面図。 図１７に示す隔壁のＡ−Ａ’断面に沿う模式断面図。 有機ＥＬ装置が組み込まれた光書き込みヘッドモジュールを示す斜視図。 有機ＥＬ装置を有する光書き込みヘッドモジュールを備えた電子機器の一例として画像形成装置を示す模式断面図。 隔壁の変形例を示す模式平面図。 隔壁の変形例を示す模式平面図。 隔壁の変形例を示す模式平面図。 隔壁の変形例を示す模式平面図。 隔壁の変形例を示す模式平面図。 隔壁の変形例を示す模式平面図。 隔壁の変形例を示す模式平面図。 隔壁の変形例を示す模式平面図。

１１…発光装置、１２…発光領域、１３…基板（ガラス基板）、１４…回路素子層、１５…発光素子層、１６…第２電極としての陰極、１７…下地保護膜、１８…ＴＦＴ素子、１９…半導体膜、２１…ソース領域、２２…ドレイン領域、２３…チャネル領域、２４…ゲート絶縁膜、２５…ゲート電極、２６…第１層間絶縁膜、２７…第２層間絶縁膜、２８…コンタクトホール、２９…信号線、３０…第３層間絶縁膜、３１，３１ａ…コンタクトホール、３２…第１電極としての画素電極、３３…機能層、３３ａ…正孔注入層、３３ｂ…中間層、３３ｃ…発光層、３４，５４，６４，７４，８４…隔壁、３５…電気光学素子としての発光素子、３６…絶縁層、３７，５７，６７，７７，８７…開口部、３７ａ，３７ｂ，５７ａ，５７ｂ，６７ａ，８７ａ，８７ｂ…側壁、３９，３９ａ，３９ｂ，３９ｃ，５１，５２，７０，８１…第１凹部、４０，４０ａ，４０ｂ，４０ｃ，５０…第２凹部、４１，４２…液状組成物、４３…配線、５３，５５…凹部、８０…第３凹部、１８０…電子機器としての画像形成装置。

Claims (13)

1. 基板上において少なくとも第１方向に配列した複数の電気光学素子を備え、前記複数の電気光学素子の各々の電気光学素子を構成する少なくとも１つの薄膜が液体プロセスを用いて形成された電気光学装置であって、
   前記複数の電気光学素子を囲むように設けられた隔壁と、
   前記隔壁の開口部内において、前記第１方向に沿って配列された複数の第１凹部と、
   を有し、
   前記第１方向は、前記開口部の長手方向と同一方向であり、
   前記複数の第１凹部の各々は、前記隔壁及び前記複数の電気光学素子と間隔を開けて設けられており、かつ、前記開口部の短手方向に沿って長辺を有しており、
   前記複数の第１凹部の隣り合う２つの第１凹部間には、前記複数の電気光学素子のうち１つ又は２つの電気光学素子が配置されていることを特徴とする電気光学装置。
2. 請求項１に記載の電気光学装置であって、
   前記第１方向に配列された前記複数の電気光学素子からなる発光素子列が、前記開口部の短手方向に隣り合うように２列並んで配置されており、
   前記開口部の一方の長辺と前記２列の発光素子列のうち前記開口部の一方の長辺側に配置された一方の発光素子列との間、前記開口部の他方の長辺と前記２列の発光素子列のうち前記開口部の他方の長辺側に配置された他方の発光素子列との間、及び前記一方の発光素子列と前記他方の発光素子列との間の各々には、前記開口部の長手方向に沿って、前記隔壁と前記複数の電気光学素子と間隔を開けて形成された第２凹部とを更に有することを特徴する電気光学装置。
3. 請求項２に記載の電気光学装置であって、
   前記第２凹部は、前記開口部の長手方向に沿って繋がって延びていることを特徴とする電気光学装置。
4. 請求項２又は請求項３に記載の電気光学装置であって、
   前記複数の第１凹部のいずれの第１凹部においても、前記第１凹部と前記複数の電気光学素子のうち前記第１凹部に最も近い位置に設けられた電気光学素子との距離が略等しいことを特徴とする電気光学装置。
5. 請求項４に記載の電気光学装置であって、
   前記第１凹部と前記複数の電気光学素子のうち前記第１凹部に最も近い位置に設けられた前記電気光学素子との距離と、前記複数の電気光学素子のうち前記開口部の一方の短辺に最も近い位置に設けられた電気光学素子と前記開口部の前記一方の短辺との距離が略等しいことを特徴とする電気光学装置。
6. 請求項１乃至請求項５のいずれか一項に記載の電気光学装置であって、
   前記第１凹部は、前記開口部内における位置によって配置された個数が異なることを特徴とする電気光学装置。
7. 請求項２乃至請求項６のいずれか一項に記載の電気光学装置であって、
   前記第１凹部と前記第２凹部とが繋がっていることを特徴とする電気光学装置。
8. 請求項１乃至請求項７のいずれか一項に記載の電気光学装置であって、
   前記凹部は、前記複数の電気光学素子のいずれかを駆動させるための駆動回路要素部を基に形成されていることを特徴とする電気光学装置。
9. 請求項８に記載の電気光学装置であって、
   前記駆動回路要素部と略同一形状である第３凹部を有し、前記電気光学素子に対して前記第３凹部と前記駆動回路要素部とが対称となるように配置されていることを特徴とする電気光学装置。
10. 請求項８又は請求項９に記載の電気光学装置であって、
    前記駆動回路要素部は、コンタクトホールであることを特徴とする電気光学装置。
11. 請求項８又は請求項９に記載の電気光学装置であって、
    前記駆動回路要素部は、平坦化層又は絶縁層の開口段差であることを特徴とする電気光学装置。
12. 請求項１乃至請求項１１のいずれか一項に記載の電気光学装置であって、
    前記薄膜は発光層であり、前記発光層は第１電極と第２電極との間に挟持されていることを特徴とする発光装置。
13. 請求項１乃至請求項１２のいずれか一項に記載の電気光学装置又は発光装置を備えることを特徴とする電子機器。

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