JP2010170767A - 電気光学装置、発光装置、及び電子機器 - Google Patents
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Abstract
【課題】機能膜の厚みのばらつきを抑えることができる電気光学装置、発光装置、及び電子機器を提供する。
【解決手段】ガラス基板上において少なくとも開口部37の長手方向に配列した複数の発光素子(発光領域12)と、複数の発光素子を囲むように設けられた隔壁34と、隔壁34の開口部37内において、平面的に発光素子を避けて設けられた第1凸部40aと、を有し、発光素子を構成する少なくとも1つの膜が液体プロセスを用いて形成され、第1凸部40aは、隔壁34と間隔を開けて設けられている。
【選択図】図2
【解決手段】ガラス基板上において少なくとも開口部37の長手方向に配列した複数の発光素子(発光領域12)と、複数の発光素子を囲むように設けられた隔壁34と、隔壁34の開口部37内において、平面的に発光素子を避けて設けられた第1凸部40aと、を有し、発光素子を構成する少なくとも1つの膜が液体プロセスを用いて形成され、第1凸部40aは、隔壁34と間隔を開けて設けられている。
【選択図】図2
Description
本発明は、液滴吐出法を用いて形成された機能膜を有する電気光学装置、発光装置、及び電子機器に関する。
上記した電気光学装置は、例えば、発光装置としての有機EL装置であり、ラインプリンタ等のプリンタヘッドの光源として用いられる。有機EL装置の製造方法の一つとしては、まず、基板上の発光素子(発光領域)が集まる領域を囲むように隔壁(バンク)を形成する。隔壁に囲まれた領域である開口部の形状は、長辺と短辺とを有する細長状の形状となっている。次に、開口部の中に、例えば、機能膜の材料を含む液体を、液滴吐出法を用いて吐出する。その後、液体を乾燥させて機能膜を形成する。
このような液滴吐出法では、液体の乾燥速度が開口部内で異なると、液体が乾燥速度の速い方へ相対的に移動し、隔壁の中央と端部で膜厚がばらつき、発光ムラを生じるという問題がある。そこで、特許文献1や特許文献2に記載のように、隔壁の壁から発光素子までの距離を長くしたり、画素電極上に凸部を設けて液体の流動を抑えたりしている。また、特許文献3や特許文献4に記載のように、行方向と列方向とに高さの異なる隔壁部(個別隔壁)を設けて、液体の流動を抑えている。
しかしながら、特許文献1や特許文献2では、隔壁が必要以上に大きくなったり、画素電極上において膜厚の均一性が保たれなかったりする。その結果、スペース効率が悪かったり、均一な発光が得られなかったりするという課題がある。また、特許文献3や特許文献4に記載のように、高さの異なる個別隔壁を設ける場合、一定の高さの個別隔壁を形成する場合と比べて、製造方法が複雑となる課題がある。また、液滴吐出法を用いて機能膜を形成する場合、基板の周辺部から乾燥が進むため、基板の周辺部と中央部とでは機能膜材料を含む液体の乾燥速度が異なり、これにより各個別隔壁内に形成される機能膜の膜形状が基板の周辺部と中央部とで異なってしまい、発光ムラが生じるという課題がある。
本発明は、上記課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現することが可能である。
[適用例1]本適用例に係る電気光学装置は、基板上において少なくとも第1方向に配列した複数の電気光学素子を備え、前記複数の電気光学素子の各々の電気光学素子を構成する少なくとも1つの薄膜が液体プロセスを用いて形成された電気光学装置であって、前記複数の電気光学素子を囲むように設けられた隔壁と、前記隔壁の開口部内において、前記第1方向に沿って配列された複数の第1凸部と、を有し、前記第1方向は、前記開口部の長手方向と同一方向であり、前記複数の第1凸部の各々は、前記隔壁及び前記複数の電気光学素子と間隔を開けて設けられており、かつ、前記開口部の短手方向に沿って長辺を有しており、前記複数の第1凸部の隣り合う2つの第1凸部間には、前記複数の電気光学素子のうち1つ又は2つの電気光学素子が配置されていることを特徴とする。
この構成によれば、隔壁及び電気光学素子と間隔を開けて第1凸部が設けられているので、隔壁の開口部の中に電気光学素子を構成する薄膜の液体を充填した際、開口部内の液体の流動を第1凸部によって抑えることができる。更に、第1凸部が設けられていることにより、開口部内の液体を乾燥して膜を形成する際、開口部内の液体の乾燥速度が異なることに起因する、液体の急激な偏りが生ずることを抑えることが可能となる。その結果、開口部内において膜厚がほぼ均一な薄膜を有する電気光学素子を備えることができる。また、隣り合う第1凸部間に1つ又は2つの電気光学素子が配置されているので、第1凸部と電気光学素子とが対称性をもった配置(ミラー配置)であるので、液体の流動ばらつきを抑えることができる。
[適用例2]上記適用例に係る電気光学装置において、前記第1方向に配列された前記複数の電気光学素子からなる発光素子列が、前記開口部の短手方向に隣り合うように2列並んで配置されており、前記開口部の一方の長辺と前記2列の発光素子列のうち前記開口部の一方の長辺側に配置された一方の発光素子列との間、前記開口部の他方の長辺と前記2列の発光素子列のうち前記開口部の他方の長辺側に配置された他方の発光素子列との間、及び前記一方の発光素子列と前記他方の発光素子列との間の各々には、前記開口部の長手方向に沿って、前記隔壁と前記複数の第1凸部と前記複数の電気光学素子と間隔を開けて形成された第2凸部とを更に有することが好ましい。
この構成によれば、第1凸部に加えて第2凸部が設けられているので、液体が開口部内に充填された後に、開口部の長手方向と短手方向の双方において液体の流動を抑えることができる。
[適用例3]上記適用例に係る電気光学装置において、前記第2凸部は、前記開口部の長手方向の側壁に沿って繋がって延びていることが好ましい。
この構成によれば、第2凸部が長手方向の側壁に沿って繋がって延びているので、長手方向の第2凸部で区切られた範囲の集まりを1つの集合体(ユニット)とすれば、その集合体の中で液体の流動を抑えることができる。また、液体を乾燥させる際、開口部内の液体の乾燥速度が異なることに起因する、液体の急激な偏りが生ずることを集合体の中で制限させることができる。
[適用例4]上記適用例に係る電気光学装置において、前記複数の第1凸部のいずれの第1凸部においても、前記第1凸部と前記複数の電気光学素子のうち前記第1凸部に最も近い位置に設けられた電気光学素子との距離が略等しいことが好ましい。
この構成によれば、第1凸部と電気光学素子(発光領域)との距離が略等しいので、隔壁(開口部)の中に液体を吐出した際、電気光学素子の領域の液体の流動が第1凸部の配置位置の相違により、それぞれの領域でばらつくことを抑えることができる。よって、電気光学素子を構成する薄膜の膜厚をほぼ均一に形成することができる。
[適用例5]上記適用例に係る電気光学装置において、前記第1凸部と前記複数の電気光学素子のうち前記第1凸部に最も近い位置に設けられた前記電気光学素子との距離と、前記複数の電気光学素子のうち前記開口部の一方の短辺に最も近い位置に設けられた電気光学素子と前記開口部の前記一方の短辺との距離が略等しいことが好ましい。
この構成によれば、第1凸部と電気光学素子との距離と、電気光学素子と短手方向にある(短辺側の)隔壁との距離が略等しいので、隔壁に近い部分の電気光学素子と隔壁との間に第1凸部を設けなくとも、電気光学素子の領域において液体の流動ばらつきを抑えることができる。よって、電気光学素子を構成する薄膜の膜厚をほぼ均一に形成することができる。
[適用例6]上記適用例に係る電気光学装置において、前記第1凸部は、前記開口部内における位置によって配置された個数が異なることが好ましい。
この構成によれば、開口部内の位置によって電気光学素子間に配置する第1凸部の個数を異ならせるので、液体を乾燥させて薄膜を形成する際、開口部内の液体の乾燥速度が異なることに起因する、液体の急激な偏りを第1凸部の個数で規制することが可能となる。よって、薄膜の厚みをほぼ均一に形成することができる。
[適用例7]上記適用例に係る電気光学装置において、前記凸部は、前記隔壁と同じ工程で形成されていることが好ましい。
この構成によれば、凸部が隔壁と同じ工程で形成されているので、容易に凸部を形成することが可能となる。また、製造工程を増やすことなく対応することができる。
[適用例8]上記適用例に係る電気光学装置において、前記凸部は、前記複数の電気光学素子のいずれかを駆動させるために設けられた配線の一部の凸部を基に形成されていることが好ましい。
この構成によれば、配線を利用して凸部(第1凸部、第2凸部)を形成するので、電気光学装置を製造する工程を増やすことなく対応することができる。
[適用例9]上記適用例に係る電気光学装置において、前記凸部は、前記隔壁と略等しい高さであることが好ましい。
この構成によれば、隔壁と凸部の高さが略等しいので、製造過程において膜厚を変える必要がなく、従来の製造方法と同様に製造することが可能となる。
[適用例10]本適用例に係る発光装置において、前記薄膜は発光層であり、前記発光層は第1電極と第2電極との間に挟持されていることを特徴とする。
この構成によれば、凸部(第1凸部、第2凸部)が設けられていることにより、開口部内の液体を乾燥して膜を形成する際、開口部内の液体の乾燥速度が異なることに起因する、液体の急激な偏りが生ずることを抑えることが可能となる。その結果、開口部内において膜厚がほぼ均一な薄膜を有する発光素子を備えることができる。
[適用例11]本適用例に係る電子機器は、上記に記載の電気光学装置又は発光装置を備えることを特徴とする。
この構成によれば、安定した機能を発揮することができる電子機器を得ることができる。
<発光装置の構成>
図1は、電気光学装置としての発光装置(有機EL装置)の構造を示す模式断面図である。以下、発光装置の構造を、図1を参照しながら説明する。なお、図1は、各構成要素の断面的な位置関係を示すものであり、相対関係は度外視されている。
図1は、電気光学装置としての発光装置(有機EL装置)の構造を示す模式断面図である。以下、発光装置の構造を、図1を参照しながら説明する。なお、図1は、各構成要素の断面的な位置関係を示すものであり、相対関係は度外視されている。
図1に示すように、発光装置11は、発光領域12において発光が行われるものであり、基板13と、基板13上に形成された回路素子層14と、回路素子層14上に形成された発光素子層15とを有する。基板13としては、例えば、透光性を有するガラス基板が挙げられる(以下、「ガラス基板13」と称する。)。
回路素子層14には、ガラス基板13上にシリコン酸化膜(SiO2)からなる下地保護膜17が形成され、下地保護膜17上にTFT(Thin Film Transistor)素子18が形成されている。詳しくは、下地保護膜17上に、ポリシリコン膜からなる島状の半導体膜19が形成されている。半導体膜19には、ソース領域21及びドレイン領域22が不純物の導入によって形成されている。そして、不純物が導入されなかった部分がチャネル領域23となっている。
更に、回路素子層14には、下地保護膜17及び半導体膜19を覆うシリコン酸化膜等からなる透明なゲート絶縁膜24が形成されている。ゲート絶縁膜24上には、アルミニウム(Al)、モリブデン(Mo)、タンタル(Ta)、チタン(Ti)、タングステン(W)などからなるゲート電極25(走査線)が形成されている。
ゲート絶縁膜24及びゲート電極25上には、透明な第1層間絶縁膜26及び第2層間絶縁膜27が形成されている。第1層間絶縁膜26及び第2層間絶縁膜27は、例えば、シリコン酸化膜(SiO2)、チタン酸化膜(TiO2)などから構成されている。ゲート電極25は、半導体膜19のチャネル領域23に対応する位置に設けられている。
半導体膜19のソース領域21は、第1層間絶縁膜26及びゲート絶縁膜24を貫通して設けられたコンタクトホール28を介して、第1層間絶縁膜26上に形成された信号線29と電気的に接続されている。一方、ドレイン領域22は、第2層間絶縁膜27、第1層間絶縁膜26、ゲート絶縁膜24を貫通して設けられたコンタクトホール31を介して、第2層間絶縁膜27上に形成された第1電極としての画素電極32と電気的に接続されている。
発光素子層15は、発光素子を具備してガラス基板13上に形成されている。詳述すると、発光素子層15は、画素電極32と、画素電極32上に形成された機能層33と、機能層33を区画する隔壁34と、機能層33及び隔壁34上に形成された第2電極としての陰極(共通電極)16とを主体として構成されている。
画素電極32は、例えば、発光領域12ごとに形成されている。また、画素電極32は、透明のITO(Indium Tin Oxide)膜からなり、発光層33cが発光した光を下方のガラス基板13側に射出させることが可能となっている。また、画素電極32(発光領域)は、例えば、平面的に見て丸形状となっている。なお、回路素子層14には、図示しない保持容量及びスイッチング用のトランジスタが形成されている。また、回路素子層14には、各画素電極32に接続された駆動用のトランジスタが形成されている。機能層33は、例えば、正孔注入層33aと、中間層33bと、発光層33cなどから構成されている。機能層33上及び隔壁34上には、陰極16が配置されている。画素電極32と、機能層33と、陰極16とによって電気光学素子としての発光素子35(発光領域12)が構成されている。
回路素子層14と隔壁34との間には、絶縁層36が形成されている。絶縁層36は、例えば、シリコン酸化膜(SiO2)である。絶縁層36は、隣り合う画素電極32間の絶縁性を確保すると共に、発光領域12の形状を所望の形状(例えば、丸形状)にするために、画素電極32の周縁部上に乗り上げるように形成されている。つまり、画素電極32と絶縁層36とは、平面的に一部が重なるように配置された構造となっている。言い換えれば、絶縁層36は、発光領域12を除いた領域に形成されていることになる。
隔壁34は、複数の発光領域12(発光素子35)が集まる領域を囲むように形成されている。つまり、隔壁34に囲まれた領域が隔壁34の開口部37となる。開口部37は、長辺と短辺とを有する細長状の形状となっている(図2参照)。隔壁34の材質としては、例えば、有機材料が挙げられる。
また、発光領域12(発光素子35)と平面的に重ならないように、絶縁層36上には、機能層33となる前の液体の流動を抑えるための凸部40が形成されている。凸部40は、例えば、隔壁34と同時に形成される。よって、凸部40の材質は、隔壁34と同様に、例えば有機材料である。凸部40の詳細については、後述する。
機能層33は、上記したように、正孔注入層33aと中間層33bと発光層33cとを有して構成されており、隔壁34に囲まれた領域、すなわち開口部37に、液滴吐出法、例えばインクジェット法を用いて順に形成されている。
陰極16は、機能層33及び隔壁34を含む基板上の所定の領域に所定の領域全面を覆うように成膜(ベタ成膜)されている。具体的には、陰極16は、例えば、カルシウム(Ca)及びアルミニウム(Al)の積層体である。陰極16の上には、水や酸素の侵入を防ぐための、樹脂などからなる封止部材(図示せず)が積層されている。なお、画素電極32、発光素子層15及び陰極16によって発光素子35が構成される。
上述した発光層33cは、エレクトロルミネッセンス現象を発現する有機発光物質の層である。画素電極32と陰極16との間に電圧を印加することによって、発光層33cには、正孔注入層33aから正孔が、また、陰極16から電子が注入される。発光層33cにおいて、これらが結合したときに光を発する。
(第1実施形態)
<隔壁の構造>
図2は、発光装置を構成する隔壁の構造を示す模式平面図である。図3は、図2に示す隔壁のA−A’断面に沿う模式断面図である。なお、図2及び図3に示す隔壁34は、上記した機能層33及び陰極16の図示を省略している。
<隔壁の構造>
図2は、発光装置を構成する隔壁の構造を示す模式平面図である。図3は、図2に示す隔壁のA−A’断面に沿う模式断面図である。なお、図2及び図3に示す隔壁34は、上記した機能層33及び陰極16の図示を省略している。
図2に示すように、隔壁34は、上記したように開口部37を有する。開口部37は、平面的に長辺と短辺とを有する細長状に形成されている。ここで、長辺が延在する方向を長手方向もしくは第1方向、短辺が延在する方向を短手方向もしくは第2方向という。開口部37の大きさは、例えば、長辺側が328mmであり、短辺側が18.2mmである。隔壁34の材質としては、例えば、アクリル樹脂が挙げられる。
開口部37の中には、複数の発光領域12(発光素子35)が開口部37の第1方向としての長手方向に5つ設けられている。そして、隣り合う2つの発光領域12間には、凸部40(40a)が設けられている。また、開口部37の短辺における側壁(隔壁34のうち、開口部37の短辺を規定する側壁)37aと側壁37aと最も近い位置に形成された発光領域12(発光素子35)との間にも凸部40(40a)が設けられている。ここで、各々の凸部40aは短手方向に沿って延在している(短手方向に凸部40aの長辺を有する)。また、発光領域12(発光素子35)の数量は5つに限定されない。詳述すると、凸部40aは、略隔壁34の高さと略等しい高さに形成されている。また、凸部40aの断面形状は、例えば、図3に示すように、細長状の台形形状となっている。
また、凸部40aは、隔壁34と間隔をおいて形成されている。つまり、隔壁34の側壁(37a,37b)と凸部40aとの間に隙間が存在するため、隔壁34の開口部37の中に機能層33となる液体を充填した際、凸部40aで堰き止められずに、開口部37の全体に液体を行き渡らせることができる。更に、液体を乾燥させて機能層33を形成する際、開口部37の真ん中と端で乾燥速度が異なる場合、液体が乾燥の速い方向に移動する。しかしながら、凸部40aが存在するため、液体の流動を抑え、開口部37内の液体の乾燥速度が異なることに起因する、液体の急激な偏りを抑えることが可能となる。その結果、開口部37内において機能層33の膜厚をほぼ均一に形成することができる。
また、凸部40aと発光領域12(発光素子35)との間隔は、全て略等しい距離Wとなっている。これにより、開口部37の中に液体を吐出した際、凸部40aの配置位置によって影響される発光領域12内における液体の流動がそれぞれの領域でばらつくことを抑えることができる。よって、開口部37内の位置により液体の乾燥速度が異なることに起因する、機能層33の膜厚の差を低減し、機能層33をほぼ均一に形成することができる。
<発光装置の製造方法>
図4〜図9は、発光装置の製造方法を工程順に示す模式断面図である。以下、発光装置の製造方法を、図4〜図9を参照しながら説明する。なお、各種配線や電極、駆動用TFT等を形成する製造工程については、周知の工程と同様なので、これ以降の工程について詳しく説明する。
図4〜図9は、発光装置の製造方法を工程順に示す模式断面図である。以下、発光装置の製造方法を、図4〜図9を参照しながら説明する。なお、各種配線や電極、駆動用TFT等を形成する製造工程については、周知の工程と同様なので、これ以降の工程について詳しく説明する。
図4に示す工程では、回路素子層14(図1参照)上に隔壁34を形成すると同時に、隔壁34で囲まれる中(開口部37の中)に液体の流動を規制する凸部40aを形成する。具体的には、まず、絶縁層36及び画素電極32上に隔壁34及び凸部40aとなる有機物を塗布する。有機物としては、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等の耐熱性、耐溶剤性を有する材料が挙げられる。次に、この有機物をフォトリソグラフィ技術等により、隔壁34及び凸部40aの形状にパターンニングする。これにより、開口部37を有する隔壁34及び画素電極32と平面的に重ならない位置であって、隣り合う2つの画素電極32間及び隔壁34の短辺と短辺に最も近い位置にある画素電極32との間に凸部40aが形成される。
なお、例えば、有機物からなる材料で形成された隔壁34や凸部40aに絶縁層36よりも撥液性をもたせるため、この後に撥液処理を施す工程を行っても良い。
図5に示す工程では、正孔注入層33a(図1参照)となる液体を隔壁34の開口部37内に充填する。液体を吐出する方法として、液滴吐出装置、例えばインクジェット装置を用いた液体プロセス法を用いることができる。まず、インクジェット装置を用いて、正孔注入層形成材料を含む液状組成物41(液体)を隔壁34の開口部37内(画素電極32上)に吐出する。より具体的には、インクジェットヘッドに形成された複数のノズル(いずれも図示せず)から液状組成物41を開口部37内に吐出する。
図6に示す工程では、乾燥処理及び熱処理を行い、画素電極32上に正孔注入層33aを形成する。具体的には、液状組成物41(図5参照)を窒素雰囲気中などで真空乾燥させることにより、液状組成物41に含まれる溶媒が蒸発し、画素電極32上に正孔注入層33aが形成される。
液状組成物41は、開口部37内に凸部40aが設けられていることにより、乾燥処理及び熱処理する際、急激な偏り(例えば、乾燥速度が速い方向への移動)が生ずることを抑えることが可能となる。その結果、開口部37内(画素電極32上)における正孔注入層33aの膜厚をほぼ均一に形成することができる。その後、同様にして、中間層33bを形成する。
図7に示す工程では、中間層33b上に発光層33c(図1参照)となる液体を隔壁34の開口部37内に充填する。液体を吐出する方法として、上記したように、インクジェット法を用いることができる。具体的には、まず、発光層形成用の液状組成物42を、隔壁34の開口部37内の中間層33b上に吐出する。吐出された液状組成物42は、中間層33b及び凸部40a上に広がって、隔壁34の開口部37内に満たされる。
図8に示す工程では、乾燥処理及び熱処理を行い、中間層33b上に発光層33cを形成する。具体的には、開口部37内に充填された液状組成物42(図7参照)に、窒素雰囲気中などの真空乾燥処理及び熱処理を施すことにより、液状組成物42に含まれる溶媒が蒸発し、中間層33b上に発光層33cが形成される。発光層33cは、上記したように、凸部40aが設けられていることにより、膜厚をほぼ均一に形成することができる。
図9に示す工程では、隔壁34、発光層33c、及び凸部40aを含むガラス基板13上の所定の領域に陰極16を形成する。具体的には、陰極16は、カルシウム層とアルミニウム層とを順次積層した構成となっている。陰極16の形成方法としては、例えば、蒸着法、スパッタ法、及びCVD(Chemical Vapor Deposition)法等で形成することができる。なお、陰極16上に、酸化防止のためにシリコン酸化膜(SiO2)、シリコン窒化膜(SiN)等の保護層を設けるようにしてもよい。以上により、発光素子35が完成する。
次に、図示しないが、発光素子35が形成された基板と、別途用意した封止基板とを樹脂を介して封止する。具体的には、例えば、熱硬化樹脂または紫外線硬化樹脂からなる封止樹脂を基板の周縁部に塗布し、封止樹脂上に封止基板を配置する。封止には、窒素、アルゴン、ヘリウム等の不活性ガス雰囲気で行うことが好ましい。以上により、発光装置11が完成する。
以上詳述したように、第1実施形態によれば、以下に示す効果が得られる。
(1)第1実施形態によれば、発光素子35(発光領域12)と重ならない領域に、隔壁34と分離された(間隔をおいて配置された)凸部40aが回路素子層14上に設けられているので、隔壁34の開口部37の中に機能層33となる液体(液状組成物41,42)を充填した際、開口部37内の液体の流動を抑えることができる。更に、凸部40aが設けられていることにより、液体を乾燥して各膜(機能層33)を形成する際、開口部37内の液体の乾燥速度が異なることに起因する、液体の急激な偏りが生ずることを抑えることが可能となる。その結果、開口部37内における機能層33の膜厚をほぼ均一に形成することができる。
(2)第1実施形態によれば、凸部40aと発光素子35(発光領域12)との距離Wが略等しい(一定)ので、開口部37の中に液体を吐出した際、液体の流動が凸部40aの配置位置の相違により、それぞれの領域でばらつくことを抑えることができる。よって、機能層33を構成する膜の膜厚を機能層の形成領域に亘ってほぼ均一に形成することができる。
(3)第1実施形態によれば、凸部40aが隔壁34と同じ材料で形成されているので、隔壁34を形成する工程と同じ工程で凸部40aを形成することが可能となる。よって、製造工程を増やすことなく対応することができる。
(第2実施形態)
<隔壁の構造>
図10は、第2実施形態の隔壁の構造を示す模式平面図である。図11は、図10に示す隔壁のA−A’断面に沿う模式断面図である。以下、隔壁の構造を、図10及び図11を参照しながら説明する。なお、第2実施形態の隔壁54は、隔壁54の開口部57内において、長手方向に形成された複数の発光領域12(発光素子35)からなる発光素子列を短手方向に2行並べて配置している部分が、第1実施形態と異なっている。以下、第1実施形態と同じ構成部材には同一符号を付し、ここではそれらの説明を省略又は簡略化する。
<隔壁の構造>
図10は、第2実施形態の隔壁の構造を示す模式平面図である。図11は、図10に示す隔壁のA−A’断面に沿う模式断面図である。以下、隔壁の構造を、図10及び図11を参照しながら説明する。なお、第2実施形態の隔壁54は、隔壁54の開口部57内において、長手方向に形成された複数の発光領域12(発光素子35)からなる発光素子列を短手方向に2行並べて配置している部分が、第1実施形態と異なっている。以下、第1実施形態と同じ構成部材には同一符号を付し、ここではそれらの説明を省略又は簡略化する。
図10に示すように、第2実施形態の隔壁54は、上記したように、隔壁54の開口部57において、長手方向に形成された複数の発光領域12(発光素子35)からなる発光素子列が2行形成されている。
また、開口部57の中には、長手方向において隣り合う2つの発光領域12間、及び開口部57の短辺における側壁57aと側壁57aと最も近い位置に形成された発光領域12(発光素子35)との間に、凸部40(「第1凸部40a」と称す。)が設けられている。各々の第1凸部40aは、短手方向に沿って延在している(短手方向に第1凸部40aの長辺を有する)。更に、上記した2行の発光素子列の行間、及び発光素子列と長辺の側壁57b(隔壁54のうち、開口部57の長辺を規定する側壁)との間には、長手方向に沿って形成された凸部40(「第2凸部40b」と称す。)が設けられている。第2凸部40bは、図10に示すように、長辺の側壁57bに沿って長辺の一端から他端まで繋がって形成されている。また第2凸部40bは、少なくとも発光素子列の両端に位置する発光素子35間の距離よりも長い長さを有する。
また、第1凸部40aは、発光領域12の直径と略等しい長さに延びて形成されている。第2凸部40bは、長手方向に繋がって形成されていると共に、側壁57bと発光素子列との間に1つずつ、発光素子列間に1つ、計3つが形成されている。
第1凸部40aの断面形状は、前述した図3に示す形状と同様に、細長状の台形形状である。第2凸部40bの断面形状は、図11に示すように、第1凸部40aの形状と同様である。第2凸部40bの高さは、隔壁54の高さと略等しい高さに形成されている。
また、第1凸部40a及び第2凸部40bは、隔壁54の側面から間隔をおいて形成されている。更に、第1凸部40aは、第2凸部40bと間隔をおいて形成されている。つまり、隔壁54の中に吐出された液体は、隔壁54と第1凸部40aと第2凸部40bとの間につくられた隙間を通じて液体が行き来できるようになっている。
更に、液体を乾燥させて薄膜を形成する際、開口部57の端と真ん中で乾燥速度が異なる場合、液体が乾燥速度の速い方向に移動しやすいが、隔壁54の開口部57の中に第1凸部40a及び第2凸部40bが形成されているので、液体の急激な流動を抑えることが可能となっている。その結果、開口部57内において、機能層33を構成する膜の膜厚を機能層33の形成領域に亘ってほぼ均一に形成することができる。
また、第1凸部40aは、第1凸部40aと近くに設けられた発光領域12との距離Wが全ての領域において略等しくなるように配置されている。更に、第2凸部40bは、第2凸部40bと近くに設けられた発光領域12との間隔Hが略等しくなるように配置されている。つまり、第1凸部40aと発光領域12、第2凸部40bと発光領域12が、それぞれ位置関係に対称性をもつように配置されている。このように、第1凸部40aと発光領域12との距離が略等しいので、第1凸部40aの配置位置の影響による液体の流動が各発光領域12においてばらつくことを抑えることができる。また、第2凸部40bも同様である。よって、膜の膜厚をほぼ均一に形成することができる。
また、第2凸部40bが長手方向に繋がって形成されているので、第2凸部40bで挟まれた複数の発光領域12の集まりを1つの集合体(ユニット)とすれば、その集合体間で液体の流動を抑えることができる。また、液体を乾燥させる際、液体の乾燥速度が異なることに起因する、液体の急激な偏りが生ずることを集合体の中で制限させることができる。その結果、膜の膜厚をほぼ均一に形成することができる。
なお、第2実施形態の発光装置(隔壁54)の製造方法は、隔壁54の形成と同時に2行分の第1凸部40a及び第2凸部40bを形成する以外、第1実施形態で説明した内容と同様である。
以上詳述したように、第2実施形態によれば、上記した第1実施形態の(1)〜(3)の効果に加えて、以下に示す効果が得られる。
(4)第2実施形態によれば、短手方向に沿って第1凸部40aが設けられているので、長手方向への液体の流動を抑えることが可能となり、第1凸部40aで挟まれた領域の液量の均一性を向上させることができる。更に、長手方向に第2凸部40bが設けられているので、短手方向への液体の流動を抑えることができる。
(5)第2実施形態によれば、第2凸部40bが長辺の側壁57bに沿って長辺の一端から他端まで繋がって延びているので、第2凸部40bで区切られた範囲の集まりを1つの集合体(ユニット)とすれば、その集合体間で液体の流動を抑えることができる。また、液体を乾燥させる際、液体の乾燥速度が異なることに起因する、液体の急激な偏りが生ずることを集合体の中で制限させることができる。
(6)第2実施形態によれば、第2凸部40bと発光素子35(発光領域12)との間の距離(最短距離)がいずれの発光素子35においても略等しいので、開口部57の中に液体を吐出した際、第2凸部40bの配置位置の影響による液体の流動性をそれぞれ同じ条件で保つことができる。よって、機能層33を構成する膜の膜厚をほぼ均一に形成することができる。
(第3実施形態)
<隔壁の構造>
図12は、第3実施形態の隔壁の構造を示す模式平面図である。図13(a)は図12に示す隔壁のA−A’断面に沿う模式断面図であり、図13(b)は図12に示す隔壁のB−B’断面に沿う模式断面図である。以下、隔壁の構造を、図12及び図13を参照しながら説明する。なお、第3実施形態の隔壁64は、隔壁64の開口部67内において発光領域12(発光素子35)が千鳥配列になっている部分が、第2実施形態と異なっている。以下、第2実施形態と同じ構成部材には同一符号を付し、ここではそれらの説明を省略又は簡略化する。
<隔壁の構造>
図12は、第3実施形態の隔壁の構造を示す模式平面図である。図13(a)は図12に示す隔壁のA−A’断面に沿う模式断面図であり、図13(b)は図12に示す隔壁のB−B’断面に沿う模式断面図である。以下、隔壁の構造を、図12及び図13を参照しながら説明する。なお、第3実施形態の隔壁64は、隔壁64の開口部67内において発光領域12(発光素子35)が千鳥配列になっている部分が、第2実施形態と異なっている。以下、第2実施形態と同じ構成部材には同一符号を付し、ここではそれらの説明を省略又は簡略化する。
図12に示すように、第3実施形態の隔壁64は、上記した第2実施形態と同様に、隔壁64の開口部67において、長手方向に形成された複数の発光素子35からなる発光素子列が2行形成されている。第2実施形態と異なる部分として、2行に配列された発光素子35が千鳥配列になっている。第1凸部40a及び第2凸部40bの配置関係及び断面形状は、第2実施形態と同様である。
これによれば、液体を乾燥させて膜を形成する際、開口部67の端と真ん中で乾燥速度が異なる場合、液体が乾燥速度の速い方向に移動するが、隔壁64の開口部67の中に第1凸部40a及び第2凸部40bが形成されているので、液体の急激な流動を抑えることが可能となっている。
また、第1凸部40aは、上記したように、第1凸部40aと発光領域12との距離Wが略等しくなるように配置されている。更に、第2凸部40bは、第2凸部40bと発光領域12との間隔Hが略等しくなるように配置されている。よって、第1凸部40aの配置位置の影響による液体の流動が各発光領域12でばらつくことを抑えることができる。また、第2凸部40bによる影響も同様である。
また、第2凸部40bが長手方向に繋がって形成されているので、第2凸部40bで挟まれた複数の発光領域12の集まりを1つの集合体(ユニット)とすれば、その集合体間の液体の流動を抑えることができる。また、液体を乾燥させる際、液体の乾燥速度が異なることに起因する、液体の急激な偏りが生ずることを集合体の中で制限させることができる。
なお、第3実施形態の発光装置(隔壁64)の製造方法は、発光領域12を千鳥配列に形成する以外、第1実施形態及び第2実施形態で説明した内容と同様である。
以上詳述したように、第3実施形態によれば、上記した(1)〜(6)の効果に加えて、以下に示す効果が得られる。
(7)第3実施形態によれば、発光素子35(発光領域12)が千鳥配列に形成した場合でも、上記したように、開口部67の中に第1凸部40aと第2凸部40bを所定の規則性を守って配列しているので、液体を乾燥して各膜(機能層33)を形成する際、開口部67内の液体の乾燥速度が異なることに起因する、液体の急激な偏りが生ずることを抑えることが可能となる。その結果、開口部67内における膜の膜厚をほぼ均一に形成することができる。
(第4実施形態)
<隔壁の構造>
図14は、第4実施形態の隔壁の構造を示す模式平面図である。図15は、図14に示す隔壁のA−A’断面に沿う模式断面図である。以下、隔壁の構造を、図14及び図15を参照しながら説明する。なお、第4実施形態の隔壁74は、発光素子35を駆動させるための配線の一部を利用して第2実施形態における第1凸部40aに相当する第1凸部70a及び第2実施形態における第2凸部40bに相当する第2凸部70bを形成している部分と、発光素子列の行数とが、第2実施形態と異なっている。以下、第2実施形態と同じ構成部材には同一符号を付し、ここではそれらの説明を省略又は簡略化する。
<隔壁の構造>
図14は、第4実施形態の隔壁の構造を示す模式平面図である。図15は、図14に示す隔壁のA−A’断面に沿う模式断面図である。以下、隔壁の構造を、図14及び図15を参照しながら説明する。なお、第4実施形態の隔壁74は、発光素子35を駆動させるための配線の一部を利用して第2実施形態における第1凸部40aに相当する第1凸部70a及び第2実施形態における第2凸部40bに相当する第2凸部70bを形成している部分と、発光素子列の行数とが、第2実施形態と異なっている。以下、第2実施形態と同じ構成部材には同一符号を付し、ここではそれらの説明を省略又は簡略化する。
図14に示すように、第4実施形態の隔壁74は、隔壁74の開口部77において、例えば、長手方向に形成された複数の発光領域12が3行形成されている。第1凸部70a及び第2凸部70bの平面的な配置は、3行であることを除いて上記した第2実施形態の隔壁54と同様である。
第1凸部70a及び第2凸部70bは、第1実施形態〜第3実施形態のように、隔壁34,54,64の形成と同時に形成するのではなく、発光素子35を駆動させるための配線を利用して形成する。詳述すると、配線としては、例えば、陰極16の抵抗を緩和させるための補助配線75や、TFT素子18を構成する信号線(ソース線)29、走査線(図示せず)等が挙げられる。
第1凸部70a及び第2凸部70bは、例えば、補助配線75を形成した後、その上層にあるパッシベーション膜71や絶縁膜72(画素分離膜)にその形状を反映させることによりつくられる。また、利用する配線としては、平坦化膜がある場合、平坦化膜より上層にある膜で形成することが好ましい。また、形成する第1凸部70a、第2凸部70bの高さは、上記した第1実施形態〜第3実施形態のような隔壁34,54,64と同じ高さである必要がなく、液体の流動が規制できる高さであればよい。
このように、配線(例えば、補助配線75)を利用して第1凸部70a及び第2凸部70bを形成するので、第1実施形態〜第3実施形態のように、隔壁と同時に凸部を形成する場合と同様に、新たに工程を増やすことなく対応することができる。
なお、第4実施形態の発光装置(隔壁74)の製造方法は、まず、図15に示すように、第2層間絶縁膜27(図1参照)上にアルミニウム(Al)や銀(Ag)などからなる画素電極32及び補助配線75を形成する。なお、補助配線75は、画素電極32より高く形成するために、画素電極32と比べて厚く形成することが好ましい。
次に、ガラス基板13上の全面にシリコン酸化膜(SiO2)などからなる絶縁層(71,72)を形成する。それから、補助配線75上及び画素電極32上の絶縁層(71,72)をパターンニングして除去する。その後は、第1実施形態の図5以降の説明と同様に形成する。
以上詳述したように、第4実施形態によれば、上記した(1)、(2)、(4)〜(6)の効果が得られる。
(第5実施形態)
<隔壁の構造>
図16は、第5実施形態の隔壁の構造を示す模式平面図である。図17は、図16に示す隔壁のA−A’断面に沿う模式断面図である。以下、隔壁の構造を、図16及び図17を参照しながら説明する。
<隔壁の構造>
図16は、第5実施形態の隔壁の構造を示す模式平面図である。図17は、図16に示す隔壁のA−A’断面に沿う模式断面図である。以下、隔壁の構造を、図16及び図17を参照しながら説明する。
なお、第5実施形態の隔壁84は、隔壁84の開口部87の位置によって発光領域12間に設ける第1凸部40aの数を異ならせて配置している部分と、発光素子列の行数とが、第2実施形態と異なっている。以下、第2実施形態と同じ構成部材には同一符号を付し、ここではそれらの説明を省略又は簡略化する。
図16に示すように、隔壁84の開口部87において、長手方向に配置された複数の発光素子35からなる発光素子列が3行設けられている。第1凸部40aは、開口部87における長手方向の一端側と他端側における隣り合う発光領域12間に、例えば、2つ設けられている。開口部87の中央付近に形成された隣り合う発光領域12間には、第1凸部40aが1つ設けられている。開口部87における長辺の側壁87bと平行に形成された第2凸部40bは、第2実施形態と同様に、隣り合う発光素子列間及び発光素子列と側壁87bとの間に設けられている。
このように、開口部87の位置によって発光領域12間に設ける第1凸部40aの数量を変えることにより、例えば、開口部87内に吐出された液体が、乾燥過程で開口部87の中央側に流れることを、数量の多い第1凸部40aで抑えることができる。
なお、第5実施形態の発光装置(隔壁84)の製造方法は、開口部87における長手方向の一端側と他端側における隣り合う発光領域12間に2つの第1凸部40aを形成する以外、第2実施形態で説明した内容と同様である。
以上詳述したように、第5実施形態によれば、上記した(1)、(3)〜(6)の効果に加えて、以下に示す効果が得られる。
(8)第5実施形態によれば、開口部87内の位置によって隣り合う発光素子35(発光領域12)間に配置する第1凸部40aの個数を異ならせるので、液体を乾燥させて膜を形成する際、液体の移動量が多い位置の隣り合う発光素子35間において第1凸部40aを多く配置することで液体の急激な偏りをより抑えることが可能となる。よって、膜の厚みをほぼ均一に形成することができる。
(第6実施形態)
図18は、発光装置(有機EL装置)が組み込まれた光書き込みヘッドモジュールを示す斜視図である。以下、発光装置を備えた光書き込みヘッドモジュールの構成を、図18を参照しながら説明する。
図18は、発光装置(有機EL装置)が組み込まれた光書き込みヘッドモジュールを示す斜視図である。以下、発光装置を備えた光書き込みヘッドモジュールの構成を、図18を参照しながら説明する。
図18に示すように、光書き込みヘッドモジュール201Kは、円柱状の感光体ドラム171Kと平行に、これと対向した状態で用いられる。光書き込みヘッドモジュール201Kは、感光体ドラム171Kと平行な方向に配設された箱体177と、箱体177と感光体ドラム171Kとの間に位置するように箱体177に取り付けられた光学部材178とを備えている。箱体177は、感光体ドラム171K側に開口部を有しており、その開口部に向かって光が射出されるように発光装置11(有機EL装置)が固定されている。光学部材178は、内部にセルフォック(登録商標)レンズアレイを備えており、発光装置11の発光素子35から射出され、一端に入射した光を、他端側から射出して感光体ドラム171Kの表面で集光、照射(描画)する。
図19は、上記した発光装置を有する光書き込みヘッドモジュールを備えた電子機器の一例として画像形成装置を示す模式断面図である。以下、発光装置を有する光書き込みヘッドモジュールを備えた画像形成装置の構造を、図19を参照しながら説明する。
図19に示すように、画像形成装置180は、発光装置11が組み込まれた光書き込みヘッドモジュール201K,201C,201M,201Yを備えており、これらに対応して4個の感光体ドラム(像担持体)171K,171C,171M,171Yが配置されたタンデム方式として構成されたものである。
この画像形成装置180は、駆動ローラ191と従動ローラ192とテンションローラ193とを備え、これら各ローラに中間転写ベルト190を、図19中矢印方向(反時計方向)に循環駆動するよう張架したものである。この中間転写ベルト190に対して、感光体ドラム171K,171C,171M,171Yが所定間隔で配置されている。これら感光体ドラム171K,171C,171M,171Yは、その外周面が像担持体としての感光層となっている。
ここで、上記符号中のK、C、M、Yは、それぞれ黒、シアン、マゼンタ、イエローを意味し、それぞれ黒、シアン、マゼンタ、イエロー用の感光体であることを示している。なお、これら符号(K、C、M、Y)の意味は、他の部材についても同様である。感光体ドラム171K,171C,171M,171Yは、中間転写ベルト190の駆動と同期して、図19中矢印方向(時計方向)に回転駆動するようになっている。
各感光体ドラム171(K、C、M、Y)の周囲には、それぞれ感光体ドラム171(K、C、M、Y)の外周面を一様に帯電させる帯電手段(コロナ帯電器)172(K、C、M、Y)と、この帯電手段172(K、C、M、Y)によって一様に帯電させられた外周面を感光体ドラム171(K、C、M、Y)の回転に同期して順次ライン走査する光書き込みヘッドモジュール201(K、C、M、Y)とが設けられている。
また、光書き込みヘッドモジュール201(K、C、M、Y)で形成された静電潜像に現像剤であるトナーを付与して可視像(トナー像)とする現像装置174(K、C、M、Y)と、現像装置174(K、C、M、Y)で現像されたトナー像を一次転写対象である中間転写ベルト190に順次転写する転写手段としての一次転写ローラ175(K、C、M、Y)とが設けられている。また、転写された後に感光体ドラム171(K、C、M、Y)の表面に残留しているトナーを除去するクリーニング手段としてのクリーニング装置176(K、C、M、Y)が設けられている。
各光書き込みヘッドモジュール201(K、C、M、Y)は、各発光装置11のアレイ方向(発光素子35の整列方向)が感光体ドラム171(K、C、M、Y)の回転軸に平行となるように設置されている。そして、各光書き込みヘッドモジュール201(K、C、M、Y)の主発光波長と、感光体ドラム171(K、C、M、Y)の感度ピーク波長とが略一致するように設定されている。
現像装置174(K、C、M、Y)は、例えば、現像剤として非磁性一成分トナーを用いる。そして、その一成分現像剤を例えば供給ローラで現像ローラへ搬送し、現像ローラ表面に付着した現像剤の膜厚を規制ブレードで規制し、その現像ローラを感光体ドラム171(K、C、M、Y)に接触させあるいは押圧せしめることにより、感光体ドラム171(K、C、M、Y)の電位レベルに応じて現像剤を付着させ、トナー像として現像するものである。
このような4色の単色トナー像形成ステーションにより形成された黒、シアン、マゼンタ、イエローの各トナー像は、一次転写ローラ175(K、C、M、Y)に印加される一次転写バイアスによって中間転写ベルト190上に順次一次転写される。そして、中間転写ベルト190上で順次重ね合わされてフルカラーとなったトナー像は、二次転写ローラ166において用紙等の記録媒体Pに二次転写され、更に、定着部である定着ローラ対161を通ることで記録媒体P上に定着される。その後、排紙ローラ対162によって装置上部に形成された排紙トレイ168上に排出される。
なお、図19中の符号163は多数枚の記録媒体Pが積層保持されている給紙カセット、164は給紙カセット163から記録媒体Pを一枚ずつ給送するピックアップローラ、165は二次転写ローラ166の二次転写部への記録媒体Pの供給タイミングを規定するゲートローラ対、166は中間転写ベルト190との間で二次転写部を形成する二次転写手段としての二次転写ローラ、167は二次転写後に中間転写ベルト190の表面に残留しているトナーを除去するクリーニング手段としてのクリーニングブレードである。
この画像形成装置180は、上記した発光装置11を有する光書き込みヘッドモジュール201(K、C、M、Y)が露光手段として備えられている。このため、画像形成装置180は、感光体ドラム171(K、C、M、Y)に対して均一な発光光を射出することが可能となり、高品位な画像を形成することができる。
以上詳述したように、第6実施形態によれば、以下に示す効果が得られる。
(9)第6実施形態によれば、上記した第1実施形態〜第5実施形態の発光装置11を備えているので、高品位な画像を形成することができる。
なお、実施形態は上記に限定されず、以下のような形態で実施することもできる。
(変形例1)
上記した第1実施形態では、開口部37の短手方向の側壁37aと発光領域12との間に第1凸部40aを配置したが、側壁37aと発光領域12との距離が同じ距離Wにあればよく、図20に示すように、側壁37aと発光領域12との間に第1凸部40aを設けなくてもよい。これによれば、第1凸部40aを設けなくとも、発光領域12において液体の流動ばらつきを抑えることができる。
上記した第1実施形態では、開口部37の短手方向の側壁37aと発光領域12との間に第1凸部40aを配置したが、側壁37aと発光領域12との距離が同じ距離Wにあればよく、図20に示すように、側壁37aと発光領域12との間に第1凸部40aを設けなくてもよい。これによれば、第1凸部40aを設けなくとも、発光領域12において液体の流動ばらつきを抑えることができる。
(変形例2)
上記した第1実施形態では、発光領域12間毎に第1凸部40aを配置したが、図21に示すように、第1凸部40aを2つの発光領域12おきに配置するようにしてもよい。これによれば、各発光領域12において、第1凸部40aと発光領域12との配置関係が対称性をもった配置(ミラー配置)であるので、発光領域12において液体の流動ばらつきを抑えることができる。
上記した第1実施形態では、発光領域12間毎に第1凸部40aを配置したが、図21に示すように、第1凸部40aを2つの発光領域12おきに配置するようにしてもよい。これによれば、各発光領域12において、第1凸部40aと発光領域12との配置関係が対称性をもった配置(ミラー配置)であるので、発光領域12において液体の流動ばらつきを抑えることができる。
(変形例3)
上記した第2実施形態では、行方向に形成された複数の発光領域12が2行設けられているが、これに限定されず、例えば、3行以上設けるようにしてもよい。
上記した第2実施形態では、行方向に形成された複数の発光領域12が2行設けられているが、これに限定されず、例えば、3行以上設けるようにしてもよい。
(変形例4)
上記した第2実施形態では、発光領域12と発光領域12との間に第2凸部40bを設けていたが、図22に示すように、発光領域12間に第2凸部40bを設けないようにしてもよい。また、図23に示すように、発光領域12間に設けられた第2凸部40bを残し、長手方向の側壁57bに沿って形成された2つの第2凸部40bを除くようにしてもよい。これらによれば、各発光領域12において、第1凸部40a及び第2凸部40bと発光領域12との配置関係が対称性をもった配置(ミラー配置)であるので、発光領域12において液体の流動ばらつきを抑えることができる。なお、図23に示す隔壁54では、第2凸部40bと発光領域12との距離と、発光領域12と開口部57の側壁57bとの距離が略等しいことが好ましい。
上記した第2実施形態では、発光領域12と発光領域12との間に第2凸部40bを設けていたが、図22に示すように、発光領域12間に第2凸部40bを設けないようにしてもよい。また、図23に示すように、発光領域12間に設けられた第2凸部40bを残し、長手方向の側壁57bに沿って形成された2つの第2凸部40bを除くようにしてもよい。これらによれば、各発光領域12において、第1凸部40a及び第2凸部40bと発光領域12との配置関係が対称性をもった配置(ミラー配置)であるので、発光領域12において液体の流動ばらつきを抑えることができる。なお、図23に示す隔壁54では、第2凸部40bと発光領域12との距離と、発光領域12と開口部57の側壁57bとの距離が略等しいことが好ましい。
(変形例5)
上記した第2実施形態では、第2凸部40bが長手方向の側壁57bに沿って一端側から他端側まで繋がって形成されていたが、図24に示すように、各発光領域12の領域毎に区切って第2凸部40cを形成するようにしてもよい。これによれば、各発光領域12において、第1凸部40a及び第2凸部40cと発光領域12との配置関係が対称性をもった配置であるので、発光領域12において液体の流動ばらつきを抑えることができる。また、このような第2凸部40cの配置は、第3実施形態〜第5実施形態においても適用可能である。
上記した第2実施形態では、第2凸部40bが長手方向の側壁57bに沿って一端側から他端側まで繋がって形成されていたが、図24に示すように、各発光領域12の領域毎に区切って第2凸部40cを形成するようにしてもよい。これによれば、各発光領域12において、第1凸部40a及び第2凸部40cと発光領域12との配置関係が対称性をもった配置であるので、発光領域12において液体の流動ばらつきを抑えることができる。また、このような第2凸部40cの配置は、第3実施形態〜第5実施形態においても適用可能である。
(変形例6)
上記した第2実施形態では、開口部57における短手方向の側壁57aと平行に配置された第1凸部40aが発光領域12毎に区切られていたが、図25に示すように、第2凸部40bを第2凸部40cのように発光領域12毎に区切り、第1凸部40aを発光領域12の2個分の長さの第1凸部40dにして形成するようにしてもよい。これによれば、各発光領域12において、第1凸部40d及び第2凸部40cと発光領域12との配置関係が対称性をもった配置であるので、発光領域12において液体の流動ばらつきを抑えることができる。
上記した第2実施形態では、開口部57における短手方向の側壁57aと平行に配置された第1凸部40aが発光領域12毎に区切られていたが、図25に示すように、第2凸部40bを第2凸部40cのように発光領域12毎に区切り、第1凸部40aを発光領域12の2個分の長さの第1凸部40dにして形成するようにしてもよい。これによれば、各発光領域12において、第1凸部40d及び第2凸部40cと発光領域12との配置関係が対称性をもった配置であるので、発光領域12において液体の流動ばらつきを抑えることができる。
(変形例7)
上記した第3実施形態では、第1凸部40aを開口部67の短手方向の側壁67aと平行に形成したが、図26に示すように、短手方向の側壁67aに対して角度をつけた第1凸部40eとして形成してもよい。この場合、角度をもった第1凸部40eは、全て略等しい角度で配置されている。これによれば、各発光領域12と第1凸部40eとの配置関係が略等しいので、発光領域12において液体の流動ばらつきを抑えることができる。
上記した第3実施形態では、第1凸部40aを開口部67の短手方向の側壁67aと平行に形成したが、図26に示すように、短手方向の側壁67aに対して角度をつけた第1凸部40eとして形成してもよい。この場合、角度をもった第1凸部40eは、全て略等しい角度で配置されている。これによれば、各発光領域12と第1凸部40eとの配置関係が略等しいので、発光領域12において液体の流動ばらつきを抑えることができる。
(変形例8)
上記した変形例4では、第1凸部40a及び第2凸部40bがそれぞれ1つの凸形状となっていたが、これに限定されず、例えば、図27に示すように、細かく分離された凸部40fを配置するようにしてもよい。これによれば、凸部40fと隣の凸部40fとの間に隙間が設けられているので、隔壁54の開口部57の中に液体を充填した際、開口部57の全体に液体を行き渡らせることができる。更に、凸部40fが設けられていることにより、液体を乾燥させて機能層33を形成する際、開口部57内の液体の乾燥速度が異なることに起因する、液体の急激な偏りを抑えることができる。
上記した変形例4では、第1凸部40a及び第2凸部40bがそれぞれ1つの凸形状となっていたが、これに限定されず、例えば、図27に示すように、細かく分離された凸部40fを配置するようにしてもよい。これによれば、凸部40fと隣の凸部40fとの間に隙間が設けられているので、隔壁54の開口部57の中に液体を充填した際、開口部57の全体に液体を行き渡らせることができる。更に、凸部40fが設けられていることにより、液体を乾燥させて機能層33を形成する際、開口部57内の液体の乾燥速度が異なることに起因する、液体の急激な偏りを抑えることができる。
(変形例9)
上記した第5実施形態では、開口部87における長手方向の一端側と他端側との発光領域12間に2つの第1凸部40aを配置したが、乾燥工程において、液体が開口部87の真ん中から端に移動する場合には、真ん中にある発光領域12間に2つの第1凸部40aを配置し、端の発光領域12間に1つの第1凸部40aを配置するようにしてもよい。また、発光領域12間に配置する第1凸部40aは、2つに限定されず、例えば、3つ配置するようにしてもよい。
上記した第5実施形態では、開口部87における長手方向の一端側と他端側との発光領域12間に2つの第1凸部40aを配置したが、乾燥工程において、液体が開口部87の真ん中から端に移動する場合には、真ん中にある発光領域12間に2つの第1凸部40aを配置し、端の発光領域12間に1つの第1凸部40aを配置するようにしてもよい。また、発光領域12間に配置する第1凸部40aは、2つに限定されず、例えば、3つ配置するようにしてもよい。
(変形例10)
上記した第1実施形態〜第5実施形態の隔壁34,54,64,74,84は、第1凸部40aや第2凸部40bを共通隔壁に適用してきたが、個別隔壁に適用するようにしてもよい。
上記した第1実施形態〜第5実施形態の隔壁34,54,64,74,84は、第1凸部40aや第2凸部40bを共通隔壁に適用してきたが、個別隔壁に適用するようにしてもよい。
(変形例11)
上記した第1凸部40aや第2凸部40bの配置形態は、上記した実施形態や変形例の内容に限定されず、例えば、それぞれの形態を部分的に組み合わせて配置するようにしてもよい。
上記した第1凸部40aや第2凸部40bの配置形態は、上記した実施形態や変形例の内容に限定されず、例えば、それぞれの形態を部分的に組み合わせて配置するようにしてもよい。
(変形例12)
上記したように、発光装置11の構造はボトムエミッションであることに限定されず、例えば、トップエミッションの構造でも可能である。
上記したように、発光装置11の構造はボトムエミッションであることに限定されず、例えば、トップエミッションの構造でも可能である。
(変形例13)
上記したように、発光装置11は、光書き込みヘッドモジュールを備えた画像形成装置に適用することに限定されず、例えば、露光装置や、照明機器等の表示装置として適用することもできる。
上記したように、発光装置11は、光書き込みヘッドモジュールを備えた画像形成装置に適用することに限定されず、例えば、露光装置や、照明機器等の表示装置として適用することもできる。
(変形例14)
上記したように、電気光学素子は発光素子35に限定されず、例えば、受光素子として用いるようにしてもよい。受光素子を備えた電気光学装置としては、例えば、読み取り装置を挙げることができる。
上記したように、電気光学素子は発光素子35に限定されず、例えば、受光素子として用いるようにしてもよい。受光素子を備えた電気光学装置としては、例えば、読み取り装置を挙げることができる。
11…発光装置、12…発光領域、13…基板、14…回路素子層、15…発光素子層、16…第2電極としての陰極、17…下地保護膜、18…TFT素子、19…半導体膜、21…ソース領域、22…ドレイン領域、23…チャネル領域、24…ゲート絶縁膜、25…ゲート電極、26…第1層間絶縁膜、27…第2層間絶縁膜、28…コンタクトホール、29…信号線、31…コンタクトホール、32…第1電極としての画素電極、33…機能層、33a…正孔注入層、33b…中間層、33c…発光層、34,54,64,74,84…隔壁(バンク)、35…電気光学素子としての発光素子、36…絶縁層、37,67,77,87…開口部、40…凸部、40a,70a…第1凸部、40b,70b…第2凸部、41,42…液状組成物、57…開口部、57a…側壁、57b…側壁、71…パッシベーション膜、72…絶縁膜、75…補助配線、77…開口部、180…電子機器としての画像形成装置。
Claims (11)
- 基板上において少なくとも第1方向に配列した複数の電気光学素子を備え、前記複数の電気光学素子の各々の電気光学素子を構成する少なくとも1つの薄膜が液体プロセスを用いて形成された電気光学装置であって、
前記複数の電気光学素子を囲むように設けられた隔壁と、
前記隔壁の開口部内において、前記第1方向に沿って配列された複数の第1凸部と、
を有し、
前記第1方向は、前記開口部の長手方向と同一方向であり、
前記複数の第1凸部の各々は、前記隔壁及び前記複数の電気光学素子と間隔を開けて設けられており、かつ、前記開口部の短手方向に沿って長辺を有しており、
前記複数の第1凸部の隣り合う2つの第1凸部間には、前記複数の電気光学素子のうち1つ又は2つの電気光学素子が配置されていることを特徴とする電気光学装置。 - 請求項1に記載の電気光学装置であって、
前記第1方向に配列された前記複数の電気光学素子からなる発光素子列が、前記開口部の短手方向に隣り合うように2列並んで配置されており、
前記開口部の一方の長辺と前記2列の発光素子列のうち前記開口部の一方の長辺側に配置された一方の発光素子列との間、前記開口部の他方の長辺と前記2列の発光素子列のうち前記開口部の他方の長辺側に配置された他方の発光素子列との間、及び前記一方の発光素子列と前記他方の発光素子列との間の各々には、前記開口部の長手方向に沿って、前記隔壁と前記複数の第1凸部と前記複数の電気光学素子と間隔を開けて形成された第2凸部とを更に有することを特徴する電気光学装置。 - 請求項2に記載の電気光学装置であって、
前記第2凸部は、前記開口部の長手方向の側壁に沿って繋がって延びていることを特徴とする電気光学装置。 - 請求項1乃至請求項3のいずれか一項に記載の電気光学装置であって、
前記複数の第1凸部のいずれの第1凸部においても、前記第1凸部と前記複数の電気光学素子のうち前記第1凸部に最も近い位置に設けられた電気光学素子との距離が略等しいことを特徴とする電気光学装置。 - 請求項1乃至請求項4のいずれか一項に記載の電気光学装置であって、
前記第1凸部と前記複数の電気光学素子のうち前記第1凸部に最も近い位置に設けられた前記電気光学素子との距離と、前記複数の電気光学素子のうち前記開口部の一方の短辺に最も近い位置に設けられた電気光学素子と前記開口部の前記一方の短辺との距離が略等しいことを特徴とする電気光学装置。 - 請求項1乃至請求項5のいずれか一項に記載の電気光学装置であって、
前記第1凸部は、前記開口部内における位置によって配置された個数が異なることを特徴とする電気光学装置。 - 請求項1乃至請求項6のいずれか一項に記載の電気光学装置であって、
前記凸部は、前記隔壁と同じ工程で形成されていることを特徴とする電気光学装置。 - 請求項1乃至請求項7のいずれか一項に記載の電気光学装置であって、
前記凸部は、前記複数の電気光学素子のいずれかを駆動させるために設けられた配線の一部の凸部を基に形成されていることを特徴とする電気光学装置。 - 請求項1乃至請求項8のいずれか一項に記載の電気光学装置であって、
前記凸部は、前記隔壁と略等しい高さであることを特徴とする電気光学装置。 - 請求項1乃至請求項9のいずれか一項に記載の電気光学装置であって、
前記薄膜は発光層であり、前記発光層は第1電極と第2電極との間に挟持されていることを特徴とする発光装置。 - 請求項1乃至請求項10のいずれか一項に記載の電気光学装置又は発光装置を備えることを特徴とする電子機器。
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011049225A1 (ja) * | 2009-10-22 | 2011-04-28 | 住友化学株式会社 | 有機el装置用基板およびそれを用いた有機el装置の製造方法 |
WO2012095962A1 (ja) * | 2011-01-12 | 2012-07-19 | パイオニア株式会社 | 有機el装置及びその製造方法 |
KR20200079958A (ko) * | 2018-12-26 | 2020-07-06 | 엘지디스플레이 주식회사 | 전계발광 표시장치 |
WO2023206205A1 (zh) * | 2022-04-28 | 2023-11-02 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示基板及其制备方法、显示装置 |
-
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Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011049225A1 (ja) * | 2009-10-22 | 2011-04-28 | 住友化学株式会社 | 有機el装置用基板およびそれを用いた有機el装置の製造方法 |
JP2011090910A (ja) * | 2009-10-22 | 2011-05-06 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 有機el装置用基板およびそれを用いた有機el装置の製造方法 |
CN102577617A (zh) * | 2009-10-22 | 2012-07-11 | 住友化学株式会社 | 有机el装置用基板以及使用了其的有机el装置的制造方法 |
WO2012095962A1 (ja) * | 2011-01-12 | 2012-07-19 | パイオニア株式会社 | 有機el装置及びその製造方法 |
KR20200079958A (ko) * | 2018-12-26 | 2020-07-06 | 엘지디스플레이 주식회사 | 전계발광 표시장치 |
KR102623202B1 (ko) | 2018-12-26 | 2024-01-09 | 엘지디스플레이 주식회사 | 전계발광 표시장치 |
WO2023206205A1 (zh) * | 2022-04-28 | 2023-11-02 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示基板及其制备方法、显示装置 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20120403 |