JP2010177154A - 電気光学装置、その製造方法、および電子機器 - Google Patents
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Abstract
【課題】発光時における輝度ムラや、発光色ムラの発生を低減すること。
【解決手段】電気光学装置100によれば、発光画素Paの長手方向(Y軸方向)において、画素電極10の開口部の端部から最寄りの凹部Coの端部までの間隙G2が、直径Fの1/2以上の長さ確保されているため、開口部へのコーヒーリングuの重なりを低減することができる。よって、出射光の輝度や、色調を決定付ける画素電極10の開口部と重なる部分の有機EL層15の層厚を均一化することができるため、輝度ムラや、発光色ムラを低減することができる。
【選択図】図1
【解決手段】電気光学装置100によれば、発光画素Paの長手方向(Y軸方向)において、画素電極10の開口部の端部から最寄りの凹部Coの端部までの間隙G2が、直径Fの1/2以上の長さ確保されているため、開口部へのコーヒーリングuの重なりを低減することができる。よって、出射光の輝度や、色調を決定付ける画素電極10の開口部と重なる部分の有機EL層15の層厚を均一化することができるため、輝度ムラや、発光色ムラを低減することができる。
【選択図】図1
Description
本発明は、電気光学装置、その製造方法、および当該電気光学装置を備えた電子機器に関する。
有機EL(Electro Luminescence)材料が拡散または溶解した溶液(以降、「液状体」という)をインクジェット法により隔壁(バンク)に囲まれた凹部に吐出、および乾燥させて、発光画素を形成した電気光学装置が知られている。
例えば、特許文献1には、複数の上記発光画素を表示領域内にマトリックス状に配置するとともに、その周囲にも発光に寄与しないダミー画素を形成したダミー画素領域を備えた有機EL表示装置が開示されている。
例えば、特許文献1には、複数の上記発光画素を表示領域内にマトリックス状に配置するとともに、その周囲にも発光に寄与しないダミー画素を形成したダミー画素領域を備えた有機EL表示装置が開示されている。
図11(a)は従来の発光装置の平面図であり、(b)は断面図である。
図11(a)は、電子写真方式プリンタの露光ヘッドに用いられる従来の電気光学装置としての発光装置500の平面図である。
発光装置500は、特許文献1と同様な画素構造を備えたライン状の発光装置である。発光装置500は、X軸方向に細長い長方形をなしており、ハッチングで示されるように、当該長方形の長手方向に沿って配列された複数の発光画素Paを備えている。発光画素Paは、隔壁20により区画された領域と平面視において重なる領域であり、内部に画素電極10と共通電極23と、画素電極10と共通電極23とに挟まれた有機EL層(電気光学層)15を含む発光素子を備えている。
複数の発光画素Paは、長方形の短辺の略中央において、X軸に沿って所定のピッチで配列(以降、「発光画素行」ともいう)されており、発光画素行の周囲には、二重の同心円で示される複数のダミー画素Pdが形成されている。
発光装置500は、複数の発光画素Paが放射する光を、紙面の奥行き方向(Z軸(+)方向)に出射するボトムエミッション型の発光装置である。
図11(a)は、電子写真方式プリンタの露光ヘッドに用いられる従来の電気光学装置としての発光装置500の平面図である。
発光装置500は、特許文献1と同様な画素構造を備えたライン状の発光装置である。発光装置500は、X軸方向に細長い長方形をなしており、ハッチングで示されるように、当該長方形の長手方向に沿って配列された複数の発光画素Paを備えている。発光画素Paは、隔壁20により区画された領域と平面視において重なる領域であり、内部に画素電極10と共通電極23と、画素電極10と共通電極23とに挟まれた有機EL層(電気光学層)15を含む発光素子を備えている。
複数の発光画素Paは、長方形の短辺の略中央において、X軸に沿って所定のピッチで配列(以降、「発光画素行」ともいう)されており、発光画素行の周囲には、二重の同心円で示される複数のダミー画素Pdが形成されている。
発光装置500は、複数の発光画素Paが放射する光を、紙面の奥行き方向(Z軸(+)方向)に出射するボトムエミッション型の発光装置である。
図11(b)は、図11(a)のq−q断面を示している。
発光装置500は、透明な基板1の上層に、TFT(Thin Film Transistor)を含む素子層6、絶縁層7、画素電極10、隔壁20、有機EL層15、共通電極23などを積層した構成を有している。
有機EL層15は、平面的に円形の画素電極10を囲う台形状の隔壁20によって区画された凹部Coに配置され、インクジェット法で凹部Coに吐出された液状体を乾燥させることによって形成されていた。
また、発光画素行を囲う複数のダミー画素Pdにおいても、隔壁20に囲まれた凹部Coに同一の条件で、液状体を吐出し、有機EL層15を形成していた。
これにより、発光装置500では、複数の発光画素Paにおける液状体の溶媒分子分圧の均一化を図り、発光素子行の端部と中央部とで乾燥速度を均一化することにより、有機EL層15の層厚を均一にすることができるとしている。換言すれば、発光画素行の周囲をダミー画素Pdで囲うことにより、当該画素行を構成する複数の発光画素Pa間における液状体の乾燥速度を均一化し、発光画素Pa間での有機EL層15の層厚の均一化を図っていた。
発光装置500は、透明な基板1の上層に、TFT(Thin Film Transistor)を含む素子層6、絶縁層7、画素電極10、隔壁20、有機EL層15、共通電極23などを積層した構成を有している。
有機EL層15は、平面的に円形の画素電極10を囲う台形状の隔壁20によって区画された凹部Coに配置され、インクジェット法で凹部Coに吐出された液状体を乾燥させることによって形成されていた。
また、発光画素行を囲う複数のダミー画素Pdにおいても、隔壁20に囲まれた凹部Coに同一の条件で、液状体を吐出し、有機EL層15を形成していた。
これにより、発光装置500では、複数の発光画素Paにおける液状体の溶媒分子分圧の均一化を図り、発光素子行の端部と中央部とで乾燥速度を均一化することにより、有機EL層15の層厚を均一にすることができるとしている。換言すれば、発光画素行の周囲をダミー画素Pdで囲うことにより、当該画素行を構成する複数の発光画素Pa間における液状体の乾燥速度を均一化し、発光画素Pa間での有機EL層15の層厚の均一化を図っていた。
図12は、従来の発光画素における有機EL層の層厚を示すグラフであり、横軸は画素電極10の開口部の長さ(直径)Wを示し、縦軸は有機EL層15の層厚tを示している。
従来の発光装置500では、1つの発光画素Pa内における有機EL層15の層厚を均一にすることは困難であった。詳しくは、グラフiに示す通り、画素電極10の開口部を示す直径Fの周縁部と重なる有機EL層15の層厚が、中心部の層厚よりも厚くなっていた。換言すれば、出射光の輝度や、色調を決定することになる、開口部と重なる部分の有機EL層15の層厚にバラつきがあった。
これは、いわゆるコーヒーの染み現象によるものであり、凹部Coに吐出された液滴状の液状体が乾燥する際に、析出物が周縁部に厚く積層(コーヒーリング)される現象に起因している。詳しくは、画素電極10の開口部の端部から、凹部Coの端部までの間隙G1が、開口部の長さF(直径)の半分にも満たないため、開口部にコーヒーリングが重なってしまっていた。
つまり、従来の発光装置500では、画素内(1つの画素電極上)において有機EL層15の層厚を均一にすることは困難であるため、発光時における輝度ムラや、発光色ムラが発生してしまうという課題があった。
従来の発光装置500では、1つの発光画素Pa内における有機EL層15の層厚を均一にすることは困難であった。詳しくは、グラフiに示す通り、画素電極10の開口部を示す直径Fの周縁部と重なる有機EL層15の層厚が、中心部の層厚よりも厚くなっていた。換言すれば、出射光の輝度や、色調を決定することになる、開口部と重なる部分の有機EL層15の層厚にバラつきがあった。
これは、いわゆるコーヒーの染み現象によるものであり、凹部Coに吐出された液滴状の液状体が乾燥する際に、析出物が周縁部に厚く積層(コーヒーリング)される現象に起因している。詳しくは、画素電極10の開口部の端部から、凹部Coの端部までの間隙G1が、開口部の長さF(直径)の半分にも満たないため、開口部にコーヒーリングが重なってしまっていた。
つまり、従来の発光装置500では、画素内(1つの画素電極上)において有機EL層15の層厚を均一にすることは困難であるため、発光時における輝度ムラや、発光色ムラが発生してしまうという課題があった。
本発明は、上記課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の適用例又は形態として実現することが可能である。
(適用例)
第1の方向に配列された複数の発光画素を備えた電気光学装置であって、複数の発光画素は隔壁によって互いに区画されており、複数の発光画素の各々は、画素電極と、共通電極と、画素電極と共通電極との間に配置された電気光学層と、画素電極と電気光学層とが接触する領域を区画する絶縁層と、を有する発光素子を備え、隔壁によって少なくとも一部が規定された凹部は、第1の方向と交差する第2の方向の長さが、第1の方向の長さよりも長く形成されてなり、第2の方向において、凹部の端部から、最寄りの画素電極の開口部までの間隙が、画素電極の開口部の長さの1/2以上確保されていることを特徴とする電気光学装置。
第1の方向に配列された複数の発光画素を備えた電気光学装置であって、複数の発光画素は隔壁によって互いに区画されており、複数の発光画素の各々は、画素電極と、共通電極と、画素電極と共通電極との間に配置された電気光学層と、画素電極と電気光学層とが接触する領域を区画する絶縁層と、を有する発光素子を備え、隔壁によって少なくとも一部が規定された凹部は、第1の方向と交差する第2の方向の長さが、第1の方向の長さよりも長く形成されてなり、第2の方向において、凹部の端部から、最寄りの画素電極の開口部までの間隙が、画素電極の開口部の長さの1/2以上確保されていることを特徴とする電気光学装置。
この電気光学装置によれば、第1の方向と交差する第2の方向の長さが、第1の方向の長さよりも長く、かつ、第2の方向における端部から、最寄りの開口部の端部までの間隙が、開口部の長さの1/2以上確保された凹部に、電気光学層を形成することになる。
ここで、電気光学層として、例えば、液滴吐出法による有機EL層を凹部に形成する場合、凹部の周縁部には、コーヒーの染み現象による厚い部分(コーヒーリング)が形成されることになるが、第2の方向における開口部の位置は、凹部の端部から開口部の長さの1/2以上離れているため、開口部にコーヒーリングが重なることを避けることができる。よって、図11(b)に示される、凹部Coの端部から最寄りの画素電極の開口部の端部までの間隙G1が、開口部の長さの1/2よりも短かったため、コーヒーリングの影響により、有機EL層の層厚にバラつきがあった従来の電気光学装置よりも、有機EL層の層厚を均一にすることができる。
従って、電気光学層の層厚を均一にすることが可能な電気光学装置を提供することができる。さらに、層厚の均一化により、輝度ムラや、発光色ムラを低減することもできる。
ここで、電気光学層として、例えば、液滴吐出法による有機EL層を凹部に形成する場合、凹部の周縁部には、コーヒーの染み現象による厚い部分(コーヒーリング)が形成されることになるが、第2の方向における開口部の位置は、凹部の端部から開口部の長さの1/2以上離れているため、開口部にコーヒーリングが重なることを避けることができる。よって、図11(b)に示される、凹部Coの端部から最寄りの画素電極の開口部の端部までの間隙G1が、開口部の長さの1/2よりも短かったため、コーヒーリングの影響により、有機EL層の層厚にバラつきがあった従来の電気光学装置よりも、有機EL層の層厚を均一にすることができる。
従って、電気光学層の層厚を均一にすることが可能な電気光学装置を提供することができる。さらに、層厚の均一化により、輝度ムラや、発光色ムラを低減することもできる。
また、第1の方向においても、凹部の端部から、最寄りの画素電極の開口部までの間隙が、画素電極の開口部の長さの1/2以上確保されていることが好ましい。
また、第2の方向において、凹部の端部から、最寄りの画素電極の開口部までの間隙が、画素電極の開口部の長さの3倍以上確保されていることが好ましい。
また、第1の方向における複数の発光画素からなる配列の前後には、ダミー画素が形成され、ダミー画素も、隔壁によって区画されており、ダミー画素には電気光学層を構成する層のうち、少なくとも1つの層が形成されることが好ましい。
なお、本発明において、ダミー画素とは、画素において発光素子から出射された発光光が、表示装置の表示またはプリンタヘッドの光源または照明装置の光源等に利用されない画素、または光を発しない画素を指す。これに対して表示画素とは、画素において発光素子から出射された発光光が、表示装置の表示またはプリンタヘッドの光源または照明装置の光源等に利用される画素を指す。
また、第1の方向に配列された複数の発光画素を含む第1画素行と、第1画素行の第2の方向側に配置された第1画素行と同様の配列を有する第2画素行と、を備え、第1の方向における第1画素行の発光画素と、第2画素行の発光画素との位置は、第1画素行における発光画素の配置ピッチの略半ピッチ分シフトしていることが好ましい。
また、第2の方向において、凹部の端部から、最寄りの画素電極の開口部までの間隙が、画素電極の開口部の長さの3倍以上確保されていることが好ましい。
また、第1の方向における複数の発光画素からなる配列の前後には、ダミー画素が形成され、ダミー画素も、隔壁によって区画されており、ダミー画素には電気光学層を構成する層のうち、少なくとも1つの層が形成されることが好ましい。
なお、本発明において、ダミー画素とは、画素において発光素子から出射された発光光が、表示装置の表示またはプリンタヘッドの光源または照明装置の光源等に利用されない画素、または光を発しない画素を指す。これに対して表示画素とは、画素において発光素子から出射された発光光が、表示装置の表示またはプリンタヘッドの光源または照明装置の光源等に利用される画素を指す。
また、第1の方向に配列された複数の発光画素を含む第1画素行と、第1画素行の第2の方向側に配置された第1画素行と同様の配列を有する第2画素行と、を備え、第1の方向における第1画素行の発光画素と、第2画素行の発光画素との位置は、第1画素行における発光画素の配置ピッチの略半ピッチ分シフトしていることが好ましい。
また、画素電極の開口部は、略円形に設けられ、平面視において複数の発光画素の各々の形状は、略同一半径の2つの半円間を直線で結んだトラック形状をなし、2つの半円の中心を結ぶ線分が、第2の方向に沿った線分から傾斜するように、複数の発光画素の各々は隔壁によって区画されていることが好ましい。
また、複数の発光画素の各々には、発光素子が複数配置されるとともに、凹部には複数の発光素子が第2の方向において間隙を持って配置されており、複数の発光画素のうち第1発光画素に形成された複数の発光素子と、複数の発光画素のうち第2発光画素に形成された複数の発光素子とは、第1の方向に沿ってそれぞれ配列をなしていることが好ましい。また、電気光学層は、凹部に液滴吐出法によって塗布した液状体を乾燥させて形成した有機EL層であることが好ましい。
また、複数の発光画素の各々には、発光素子が複数配置されるとともに、凹部には複数の発光素子が第2の方向において間隙を持って配置されており、複数の発光画素のうち第1発光画素に形成された複数の発光素子と、複数の発光画素のうち第2発光画素に形成された複数の発光素子とは、第1の方向に沿ってそれぞれ配列をなしていることが好ましい。また、電気光学層は、凹部に液滴吐出法によって塗布した液状体を乾燥させて形成した有機EL層であることが好ましい。
上記記載の電気光学装置と、電気光学装置の発光画素が出射する光を所定の位置に集光させる光学部材とを、少なくとも備えたことを特徴とする電子機器。
第1の方向に配列された複数の発光画素を備えた電気光学装置の製造方法であって、複数の発光画素は隔壁によって互いに区画され、複数の発光画素の各々は、画素電極と、共通電極と、画素電極と共通電極との間に配置された電気光学層と、画素電極と電気光学層とが接触する領域を区画する絶縁層と、を有する発光素子を備え、隔壁によって少なくとも一部が規定された凹部は、第1の方向と交差する第2の方向の長さが、第1の方向の長さよりも長く形成されてなり、第2の方向において、凹部の端部から、最寄りの画素電極の開口部までの間隙が、画素電極の開口部の長さの1/2以上確保されてなり、電気光学層を形成する工程は、電気光学層を構成する溶質を溶解または分散した溶液を凹部に液滴吐出法によって塗布する工程と、溶質を乾燥させる工程と、を含むことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
以下、本発明の実施形態について、図面を参照して説明する。なお、以下の各図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならしめてある。
(実施形態1)
「電気光学装置の概要」
図1は、本実施形態に係る電気光学装置の平面図である。図2は、露光ヘッドの概要を示す斜視図である。
まず、本発明の実施形態1に係る電気光学装置としての発光装置100の概要について説明する。なお、図11で説明した従来の発光装置500と同一の部位については、同一の番号を附して説明する。
発光装置100は、電子写真方式プリンタの露光ヘッドの光源として用いられる発光装置であり、図2に示すように、円柱状の感光ドラム71におけるX軸方向(円柱の高さ方向)の側面に沿って配置された露光ヘッド200に搭載される。
発光装置100は、ボトムエミション型の発光装置であり、複数の発光画素Paから図1における紙面の奥行き方向(Z軸(+)方向)に光を出射する。詳しくは、発光画素Paにおいて画素電極10のハッチングで示された円形の領域と平面的に重なる位置から光を出射する。
図2の露光ヘッド200は、発光装置100、レンズアレイ180などから構成されており、発光装置100から出射される光の焦点をレンズアレイ180によって感光ドラム71の感光体からなる表面(感光面)に合せ、感光面をライン状に照射する。
「電気光学装置の概要」
図1は、本実施形態に係る電気光学装置の平面図である。図2は、露光ヘッドの概要を示す斜視図である。
まず、本発明の実施形態1に係る電気光学装置としての発光装置100の概要について説明する。なお、図11で説明した従来の発光装置500と同一の部位については、同一の番号を附して説明する。
発光装置100は、電子写真方式プリンタの露光ヘッドの光源として用いられる発光装置であり、図2に示すように、円柱状の感光ドラム71におけるX軸方向(円柱の高さ方向)の側面に沿って配置された露光ヘッド200に搭載される。
発光装置100は、ボトムエミション型の発光装置であり、複数の発光画素Paから図1における紙面の奥行き方向(Z軸(+)方向)に光を出射する。詳しくは、発光画素Paにおいて画素電極10のハッチングで示された円形の領域と平面的に重なる位置から光を出射する。
図2の露光ヘッド200は、発光装置100、レンズアレイ180などから構成されており、発光装置100から出射される光の焦点をレンズアレイ180によって感光ドラム71の感光体からなる表面(感光面)に合せ、感光面をライン状に照射する。
ここで、感光ドラム71は、回転軸79を中心にして矢印方向に回転するため、発光装置100は、当該回転に同期して、画像信号に応じた輝度で各発光画素を点灯させることにより、感光ドラム71の感光面を順次露光する。
また、以降の説明において、発光装置100から捕らえて、感光ドラム71の回転方向に相当するY軸方向のことを「副走査方向」とも表現する。また、副走査方向と交差する方向(X軸方向)のことを「主走査方向」ともいう。なお、このような露光ヘッド200や感光ドラム71を備えた電子機器としてのプリンタの詳細については後述する。
また、以降の説明において、発光装置100から捕らえて、感光ドラム71の回転方向に相当するY軸方向のことを「副走査方向」とも表現する。また、副走査方向と交差する方向(X軸方向)のことを「主走査方向」ともいう。なお、このような露光ヘッド200や感光ドラム71を備えた電子機器としてのプリンタの詳細については後述する。
図1に戻る。
発光装置100は、細長い長方形をなしており、その長手方向(X軸方向)沿って複数の発光画素Paが配列されている。なお、X軸方向が第1の方向に相当し、Y軸方向(短手方向)が第2の方向に相当している。また、複数の発光画素Paからなる発光画素行のX軸方向における前後には、ダミー画素Pdが1つずつ形成されている。なお、ダミー画素Pdの数は、前後にそれぞれ1つ以上形成されていれば良い。また、Y軸方向に細長いトラック形状をなした発光画素Paの中央には、ハッチングで示すように、画素電極10が配置されている。
なお、図1は、発光装置100を光の出射面の反対側から見た平面図であるため、本来、画素電極10は観察されないが、説明を容易にするために、図1では、透過図として画素電極10の発光領域と平面的に重なる部分、換言すると画素電極10と有機EL層15とが接触する領域(以後、画素電極の開口部ともいう)を図示している。
図1において、発光画素Paおよびダミー画素Pdの形状は、略同一半径の2つの半円間を直線で結んだ形状、換言すれば、Y軸方向に細長いトラック形状に示されている。この形状は、各画素を区画する隔壁の輪郭(平面形状)を示しており、発光画素Paから出射される光は、画素電極10の開口部と平面的に重なる領域から出射されることになる。
また、発光画素Paおよびダミー画素Pdは、X軸方向に等間隔に配置されている。詳しくは、画素ピッチmで配列されている。画素ピッチmは、例えば、約0.042mmに設定されている。
発光装置100は、細長い長方形をなしており、その長手方向(X軸方向)沿って複数の発光画素Paが配列されている。なお、X軸方向が第1の方向に相当し、Y軸方向(短手方向)が第2の方向に相当している。また、複数の発光画素Paからなる発光画素行のX軸方向における前後には、ダミー画素Pdが1つずつ形成されている。なお、ダミー画素Pdの数は、前後にそれぞれ1つ以上形成されていれば良い。また、Y軸方向に細長いトラック形状をなした発光画素Paの中央には、ハッチングで示すように、画素電極10が配置されている。
なお、図1は、発光装置100を光の出射面の反対側から見た平面図であるため、本来、画素電極10は観察されないが、説明を容易にするために、図1では、透過図として画素電極10の発光領域と平面的に重なる部分、換言すると画素電極10と有機EL層15とが接触する領域(以後、画素電極の開口部ともいう)を図示している。
図1において、発光画素Paおよびダミー画素Pdの形状は、略同一半径の2つの半円間を直線で結んだ形状、換言すれば、Y軸方向に細長いトラック形状に示されている。この形状は、各画素を区画する隔壁の輪郭(平面形状)を示しており、発光画素Paから出射される光は、画素電極10の開口部と平面的に重なる領域から出射されることになる。
また、発光画素Paおよびダミー画素Pdは、X軸方向に等間隔に配置されている。詳しくは、画素ピッチmで配列されている。画素ピッチmは、例えば、約0.042mmに設定されている。
「画素回路」
図3は、画素回路、および駆動回路を示す回路図である。
ここでは、発光装置100の画素回路、および駆動回路の概要について説明する。
図1の発光画素Paの各々には、図3の画素回路4が形成されている。
画素回路4は、画素を選択するためのスイッチング素子TR1と、有機EL層15に電流を流すための駆動用のスイッチング素子TR2と、保持容量Cなどから構成されている。また、スイッチング素子TR1、および駆動用のスイッチング素子TR2は、TFTとして構成されている。
スイッチング素子TR1のゲート端子には、走査線駆動回路17からの走査線SLが接続されており、ソース端子には、データ線駆動回路18からのデータ線DLが接続されている。スイッチング素子TR1のドレイン端子には、駆動用のスイッチング素子TR2のゲート端子と、保持容量Cの一端が接続されている。
駆動用のスイッチング素子TR2のソース端子と、保持容量Cの他端とは、高電源電位が供給されているVDDラインに接続されている。そして、駆動用のスイッチング素子TR2のドレイン端子は、画素電極10に接続されている。
また、画素電極10と、共通電極23との間には、有機EL層15が配置されている。また、共通電極23は、陰極線(グラウンドレベル)に接続されている。
図3は、画素回路、および駆動回路を示す回路図である。
ここでは、発光装置100の画素回路、および駆動回路の概要について説明する。
図1の発光画素Paの各々には、図3の画素回路4が形成されている。
画素回路4は、画素を選択するためのスイッチング素子TR1と、有機EL層15に電流を流すための駆動用のスイッチング素子TR2と、保持容量Cなどから構成されている。また、スイッチング素子TR1、および駆動用のスイッチング素子TR2は、TFTとして構成されている。
スイッチング素子TR1のゲート端子には、走査線駆動回路17からの走査線SLが接続されており、ソース端子には、データ線駆動回路18からのデータ線DLが接続されている。スイッチング素子TR1のドレイン端子には、駆動用のスイッチング素子TR2のゲート端子と、保持容量Cの一端が接続されている。
駆動用のスイッチング素子TR2のソース端子と、保持容量Cの他端とは、高電源電位が供給されているVDDラインに接続されている。そして、駆動用のスイッチング素子TR2のドレイン端子は、画素電極10に接続されている。
また、画素電極10と、共通電極23との間には、有機EL層15が配置されている。また、共通電極23は、陰極線(グラウンドレベル)に接続されている。
走査線駆動回路17、およびデータ線駆動回路18には、外部機器(図示せず)から画像信号に基づいたタイミング信号、および画像内容を規定したデータ信号が供給される。
走査線駆動回路17は、シフトレジスタや出力バッファ(いずれも図示せず)を含んで構成され、外部機器からのタイミング信号に基づき、走査線SLに走査信号を供給する。なお、タイミング信号は、感光ドラム71の回転と同期している。
また、ここでは、画素行が1行の構成となっているが、Y軸方向に複数の画素行が並んで形成される構成であっても良く、この場合は、複数の走査線SLに順次走査信号が供給されることになる。
データ線駆動回路18は、シフトレジスタやラッチ回路(いずれも図示せず)を含んで構成され、外部機器からのタイミング信号、およびデータ信号に基づき、複数のデータ線DLに画像信号に規定された輝度に応じたデータ信号を供給する。
走査線駆動回路17は、シフトレジスタや出力バッファ(いずれも図示せず)を含んで構成され、外部機器からのタイミング信号に基づき、走査線SLに走査信号を供給する。なお、タイミング信号は、感光ドラム71の回転と同期している。
また、ここでは、画素行が1行の構成となっているが、Y軸方向に複数の画素行が並んで形成される構成であっても良く、この場合は、複数の走査線SLに順次走査信号が供給されることになる。
データ線駆動回路18は、シフトレジスタやラッチ回路(いずれも図示せず)を含んで構成され、外部機器からのタイミング信号、およびデータ信号に基づき、複数のデータ線DLに画像信号に規定された輝度に応じたデータ信号を供給する。
このような画素回路4において、走査信号によってスイッチング素子TR1が選択されると、当該TFTはオンし、データ信号が駆動用のスイッチング素子TR2に供給される。これにより、駆動用のスイッチング素子TR2がオンし、VDDラインから有機EL層15にデータ信号の電圧に応じた電流が流れ、発光層から光が放射される。
また、駆動用のスイッチング素子TR2がオンするのと並行して、保持容量Cにデータ信号が保持されるため、保持容量Cの容量に応じた時間、発光が維持される。
なお、上述の画素回路は、有機EL層15を発光させるための最も基本的な回路構成の一例であり、この回路構成に限定するものではなく、有機EL層15を効率的に発光させることが可能な回路構成であれば、適宜、変更を加えた回路構成を用いることであっても良い。
また、駆動用のスイッチング素子TR2がオンするのと並行して、保持容量Cにデータ信号が保持されるため、保持容量Cの容量に応じた時間、発光が維持される。
なお、上述の画素回路は、有機EL層15を発光させるための最も基本的な回路構成の一例であり、この回路構成に限定するものではなく、有機EL層15を効率的に発光させることが可能な回路構成であれば、適宜、変更を加えた回路構成を用いることであっても良い。
「発光装置の構成」
図4(a)は図1のs−s断面を示す断面図であり、(b)は図1のu−u断面を示す断面図である。
ここでは、発光装置100のより詳細な構成について説明する。
発光装置100は、基板1、素子層6、絶縁層7、画素電極10、隔壁20、有機EL層15、共通電極23などから構成されている。
本実施形態では、断面方向において発光装置100の光の出射側を下側、その反対側を上側として説明する。
基板1は、ガラス、石英、樹脂(プラスチック、プラスチックフィルム)などの透明な材質から構成されている。
素子層6には、図3で説明した画素回路4が形成されており、ゲート絶縁膜2、絶縁層3、配線層5などを含んで構成されている。詳しくは、基板1上に、非晶質シリコンや、多結晶シリコンなどからなる半導体層が形成され、その上に、ゲート絶縁膜2、および絶縁層3が積層されている。また、絶縁層3の上層には、走査線SLおよびデータ線DLなどの各種配線が形成された配線層5が形成されている。
また、図4(a)に示すように、スイッチング素子TR1や、駆動用のスイッチング素子TR2は、隔壁20に重なるように配置されており、素子層6において画素電極10の開口部と重なる部分は、透明に形成されている。
図4(a)は図1のs−s断面を示す断面図であり、(b)は図1のu−u断面を示す断面図である。
ここでは、発光装置100のより詳細な構成について説明する。
発光装置100は、基板1、素子層6、絶縁層7、画素電極10、隔壁20、有機EL層15、共通電極23などから構成されている。
本実施形態では、断面方向において発光装置100の光の出射側を下側、その反対側を上側として説明する。
基板1は、ガラス、石英、樹脂(プラスチック、プラスチックフィルム)などの透明な材質から構成されている。
素子層6には、図3で説明した画素回路4が形成されており、ゲート絶縁膜2、絶縁層3、配線層5などを含んで構成されている。詳しくは、基板1上に、非晶質シリコンや、多結晶シリコンなどからなる半導体層が形成され、その上に、ゲート絶縁膜2、および絶縁層3が積層されている。また、絶縁層3の上層には、走査線SLおよびデータ線DLなどの各種配線が形成された配線層5が形成されている。
また、図4(a)に示すように、スイッチング素子TR1や、駆動用のスイッチング素子TR2は、隔壁20に重なるように配置されており、素子層6において画素電極10の開口部と重なる部分は、透明に形成されている。
絶縁層7は、シリコン酸化物、シリコン窒化物、シリコン酸窒化物などの透明な絶縁材料から構成されている。なお、前述のゲート絶縁膜2や、絶縁層3も同様な材質から構成されており、絶縁層3のことを「第1層間絶縁膜」、絶縁層7のことを「第2層間絶縁膜」ともいう。
絶縁層7の上には、画素電極10が形成されている。画素電極10と駆動用のスイッチング素子TR2のドレイン端子との間には、絶縁層3,7を貫通するコンタクトホールを介して、当該間を電気的に接続するための配線が形成されている。
画素電極10は、ITO(Indium Tin Oxide)や、ZnOなどの透明電極から構成された透明電極である。
また、画素電極10の開口部を除く上層には、例えば、SiO2からなる絶縁層8が形成されており、有機EL層15に電位を印加可能な有効画素領域を規定している。換言すれば、絶縁層8は、画素電極10と有機EL層15とが接触する領域(画素電極の開口部)を区画している。
また、画素電極10の開口部は、図1に示すように略円形となっており、寸法は、直径Fに設定されている。直径Fは、例えば、約25μmに設定されている。なお、開口部の形状は、円形に限定するものではなく、例えば、正方形や、長方形であっても良い。
絶縁層7の上には、画素電極10が形成されている。画素電極10と駆動用のスイッチング素子TR2のドレイン端子との間には、絶縁層3,7を貫通するコンタクトホールを介して、当該間を電気的に接続するための配線が形成されている。
画素電極10は、ITO(Indium Tin Oxide)や、ZnOなどの透明電極から構成された透明電極である。
また、画素電極10の開口部を除く上層には、例えば、SiO2からなる絶縁層8が形成されており、有機EL層15に電位を印加可能な有効画素領域を規定している。換言すれば、絶縁層8は、画素電極10と有機EL層15とが接触する領域(画素電極の開口部)を区画している。
また、画素電極10の開口部は、図1に示すように略円形となっており、寸法は、直径Fに設定されている。直径Fは、例えば、約25μmに設定されている。なお、開口部の形状は、円形に限定するものではなく、例えば、正方形や、長方形であっても良い。
隔壁20は、黒色の樹脂などの絶縁材料からなる断面が台形状のバンクであり、各画素を区画している。材料としては、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、フッ素系樹脂などを用いることができ、光硬化性であることが好ましい。
隔壁20は、1μm程度の高さ(厚さ)に形成され、その表面は液状体に対する撥液性を有している。なお、撥液性は、隔壁20の材質自体が撥液性を有していることであっても良いし、後加工によって、撥液性を付与することであっても良い。また、隔壁20は、光学的には、ブラックマトリックスの機能を有している。
発光画素Paの平面形状は、図1で説明した通り、隔壁20によって、Y軸方向に長く、X軸方向に短いトラック形状に区画されている。
隔壁20は、1μm程度の高さ(厚さ)に形成され、その表面は液状体に対する撥液性を有している。なお、撥液性は、隔壁20の材質自体が撥液性を有していることであっても良いし、後加工によって、撥液性を付与することであっても良い。また、隔壁20は、光学的には、ブラックマトリックスの機能を有している。
発光画素Paの平面形状は、図1で説明した通り、隔壁20によって、Y軸方向に長く、X軸方向に短いトラック形状に区画されている。
ここで、平面的に隔壁20に囲まれた(規定された)凹形状の部分を凹部Coと定義している。凹部Coとは、図4(a)断面において、画素電極10が形成された面を底面として、両端の隔壁20の傾斜面を側面とし、両端の隔壁20の天面を結ぶ線分によって囲まれた台形部を指している。また、凹部Coのサイズは、当該台形の底面におけるX軸、およびY軸方向の寸法を用いて表す。また凹部Coの端部とは、凹部Coの底面の端部を指すものとする。
凹部Coの長手方向(Y軸方向)の長さLaは、画素電極10の開口部の直径Fよりも長く設定されている。詳しくは、長さLaは、直径Fの約4倍の長さに設定されている。なお、長さLaは、画素電極10の開口部の端部から最寄りの凹部Coの端部までの間隙G2が、直径Fの半分(W/2)以上確保される長さであれば良い。ちなみに、図4(a)の場合、間隙G2は直径Fの1.5倍の長さ確保されている。
つまり、長さLaは、直径Fの4倍に限定するものではなく、2倍以上(間隙G2がW/2以上)の長さであれば良く、好適には、7倍以上(間隙G2がWの3倍以上)であることが好ましい。
凹部Coの長手方向(Y軸方向)の長さLaは、画素電極10の開口部の直径Fよりも長く設定されている。詳しくは、長さLaは、直径Fの約4倍の長さに設定されている。なお、長さLaは、画素電極10の開口部の端部から最寄りの凹部Coの端部までの間隙G2が、直径Fの半分(W/2)以上確保される長さであれば良い。ちなみに、図4(a)の場合、間隙G2は直径Fの1.5倍の長さ確保されている。
つまり、長さLaは、直径Fの4倍に限定するものではなく、2倍以上(間隙G2がW/2以上)の長さであれば良く、好適には、7倍以上(間隙G2がWの3倍以上)であることが好ましい。
また、図4(b)に示すように、凹部Coの短手方向(X軸方向)の幅Lbも、画素電極10の開口部の直径Fよりも長く設定されている。詳しくは、幅Lbは、直径Fの約2倍の長さに設定されている。
なお、幅Lbは、画素電極10の開口部の端部から最寄りの凹部Coの端部までの間隙G3が、直径Fの半分(W/2)以上確保される長さ、つまり、直径Fの2倍以上であることが好ましいが、1.5倍以上の長さであれば良い。
また、ここまでの説明では、画素電極10の開口部の位置が、発光画素Paの略中央部に配置されているものとして説明したが、これに限定するものではない。間隙G2および間隙G3が上述したいずれかの寸法を満たしていれば、画素電極10の開口部の位置が発光画素Pa内において平面的に偏心していても良い。
なお、幅Lbは、画素電極10の開口部の端部から最寄りの凹部Coの端部までの間隙G3が、直径Fの半分(W/2)以上確保される長さ、つまり、直径Fの2倍以上であることが好ましいが、1.5倍以上の長さであれば良い。
また、ここまでの説明では、画素電極10の開口部の位置が、発光画素Paの略中央部に配置されているものとして説明したが、これに限定するものではない。間隙G2および間隙G3が上述したいずれかの寸法を満たしていれば、画素電極10の開口部の位置が発光画素Pa内において平面的に偏心していても良い。
有機EL層15は、正孔注入層や、発光層などを含む複数層から形成された有機EL発光層である。なお、有機EL層15の形成方法については、後述する。
共通電極23は、Mg−Ag合金(例えば重量比10:1)などの導電性および反射性を兼ね備えた仕事関数の低い材料から構成された反射層、兼電極であり、有機EL層15および隔壁20を覆って形成されている。
また、共通電極23の上層を熱硬化型のエポキシ樹脂で充填し、封止しても良い。有機EL層15は、水分を嫌うため、封止することによって、信頼性を向上させることができる。また、エポキシ樹脂を接着剤として、ガラスや金属などからなる封止基板をさらに備える構成であっても良い。この構成によれば、より防湿性を高めることができる。
このような構成の発光装置100において、有機EL層15に駆動電流が流れると、有機EL層15は発光し、光を放射する。有機EL層15から放射される光のうち、画素電極10側に進む光は、画素電極10を透過して、図4(a)の白矢印で示されるように、基板1からZ軸(+)方向に出射される。また、共通電極23側に進む光は、共通電極23で反射され、有機EL層15を介して、画素電極10を透過し、白矢印で示される光に合成されて、基板1からZ軸(+)方向に出射される。
共通電極23は、Mg−Ag合金(例えば重量比10:1)などの導電性および反射性を兼ね備えた仕事関数の低い材料から構成された反射層、兼電極であり、有機EL層15および隔壁20を覆って形成されている。
また、共通電極23の上層を熱硬化型のエポキシ樹脂で充填し、封止しても良い。有機EL層15は、水分を嫌うため、封止することによって、信頼性を向上させることができる。また、エポキシ樹脂を接着剤として、ガラスや金属などからなる封止基板をさらに備える構成であっても良い。この構成によれば、より防湿性を高めることができる。
このような構成の発光装置100において、有機EL層15に駆動電流が流れると、有機EL層15は発光し、光を放射する。有機EL層15から放射される光のうち、画素電極10側に進む光は、画素電極10を透過して、図4(a)の白矢印で示されるように、基板1からZ軸(+)方向に出射される。また、共通電極23側に進む光は、共通電極23で反射され、有機EL層15を介して、画素電極10を透過し、白矢印で示される光に合成されて、基板1からZ軸(+)方向に出射される。
「有機EL層の形成方法」
図5(a)は液状体の塗布工程の一態様を示す断面図であり、(b)は乾燥工程後の有機EL層を示す断面図である。図5(a),(b)ともに、図4(a)に対応している。
ここでは、有機EL層の形成方法について説明する。
有機EL層15は、正孔注入層11、中間層12、発光層13を含む複数の有機膜層からなり、画素電極10側からこの順に積層されている。
これらの有機膜層は液滴吐出法(インクジェット法)を用いて成膜されており、この成膜工程は、「塗布工程」と「乾燥工程」とに大別される。
図5(a)は液状体の塗布工程の一態様を示す断面図であり、(b)は乾燥工程後の有機EL層を示す断面図である。図5(a),(b)ともに、図4(a)に対応している。
ここでは、有機EL層の形成方法について説明する。
有機EL層15は、正孔注入層11、中間層12、発光層13を含む複数の有機膜層からなり、画素電極10側からこの順に積層されている。
これらの有機膜層は液滴吐出法(インクジェット法)を用いて成膜されており、この成膜工程は、「塗布工程」と「乾燥工程」とに大別される。
まず、「塗布工程」では、発光画素Paおよびダミー画素Pdに対して液状体が塗布される。詳しくは、図1の左端のダミー画素Pdから、発光画素行の各発光画素Pa、そして右端のダミー画素Pdまで、順番に液状体が塗布される。また、液状体の吐出量は、液滴吐出装置によって、全ての発光画素Paにおいて、略一定になるように制御されている。
図5(a)は、正孔注入層11を形成するための液状体dを1つの発光画素Paの凹部Coに塗布した状態を示している。
液滴吐出装置(図示せず)の吐出ヘッド300から吐出された液状体dの液滴は、凹部Coに着弾し、図5(a)に示すように、凹部Coにおいて凸状に充填(塗布)される。なお、液状体dが凸状となるのは、隔壁20が液状体に対して撥液性を有しているためであり、液状体dは、その表面張力によって水滴状の膨らみを持って凹部Coに満たされることになる。
このようにして、発光装置100の発光画素Paおよびダミー画素Pdに液状体が塗布されると「乾燥工程」が行われる。なお、液状体の塗布は、インクジェット法に限定するものではなく、凹部Coに液状体を塗布可能な方法であれば良い。例えば、ジェットディスペンサ法や、ニードルディスペンサ法などのディスペンサ法、またはスピンコート法を用いることもできる。
図5(a)は、正孔注入層11を形成するための液状体dを1つの発光画素Paの凹部Coに塗布した状態を示している。
液滴吐出装置(図示せず)の吐出ヘッド300から吐出された液状体dの液滴は、凹部Coに着弾し、図5(a)に示すように、凹部Coにおいて凸状に充填(塗布)される。なお、液状体dが凸状となるのは、隔壁20が液状体に対して撥液性を有しているためであり、液状体dは、その表面張力によって水滴状の膨らみを持って凹部Coに満たされることになる。
このようにして、発光装置100の発光画素Paおよびダミー画素Pdに液状体が塗布されると「乾燥工程」が行われる。なお、液状体の塗布は、インクジェット法に限定するものではなく、凹部Coに液状体を塗布可能な方法であれば良い。例えば、ジェットディスペンサ法や、ニードルディスペンサ法などのディスペンサ法、またはスピンコート法を用いることもできる。
「乾燥工程」では、塗布された液状体の溶媒成分を除去し、乾燥した有機膜層を形成する。詳しくは、液状体が塗布された状態の発光装置100を加熱し、溶媒成分を蒸発させることにより液状体を乾燥させて、有機膜層を形成する。
加熱方法は、各画素を均一に加熱可能な加熱方法であれば良く、発光装置100をホットプレート上に載せて加熱する方法や、発光装置100の上方から赤外線ランプを照射する方法などを採用することができる。また、これらの方法を組み合せても良い。または、減圧環境や、真空環境において乾燥を行っても良い。このような方法によれば、より効率的に乾燥を行うことができる。
加熱方法は、各画素を均一に加熱可能な加熱方法であれば良く、発光装置100をホットプレート上に載せて加熱する方法や、発光装置100の上方から赤外線ランプを照射する方法などを採用することができる。また、これらの方法を組み合せても良い。または、減圧環境や、真空環境において乾燥を行っても良い。このような方法によれば、より効率的に乾燥を行うことができる。
このようにして、図5(b)に示すような正孔注入層11が成膜される。
続いて、成膜された正孔注入層11の上層に、中間層12の液状体を用いて、同様に「塗布工程」および「乾燥工程」を行い、中間層12を成膜する。
最後に、成膜された中間層12の上層に、発光層13の液状体を用いて、同様に「塗布工程」および「乾燥工程」を行い、発光層13を成膜する。
この状態が、図5(b)に示されており、正孔注入層11、中間層12、発光層13の3層構造からなる有機EL層15が形成されている。なお、中間層12は、正孔注入層11と発光層13との間に設けられ、発光層13に対する正孔の輸送性(注入性)を向上させると共に、発光層から正孔注入層に電子が浸入することを抑制するために設けられている。つまり、発光層13における正孔と電子との結合による発光の効率を改善するものである。また、これらの積層構造に限定するものではなく、正孔注入層11と発光層13との2層構造であっても良い。あるいは、正孔注入層11と、発光層13と、LiF(フッ化リチウム)などからなる電子注入層との3層構造であっても良い。
続いて、成膜された正孔注入層11の上層に、中間層12の液状体を用いて、同様に「塗布工程」および「乾燥工程」を行い、中間層12を成膜する。
最後に、成膜された中間層12の上層に、発光層13の液状体を用いて、同様に「塗布工程」および「乾燥工程」を行い、発光層13を成膜する。
この状態が、図5(b)に示されており、正孔注入層11、中間層12、発光層13の3層構造からなる有機EL層15が形成されている。なお、中間層12は、正孔注入層11と発光層13との間に設けられ、発光層13に対する正孔の輸送性(注入性)を向上させると共に、発光層から正孔注入層に電子が浸入することを抑制するために設けられている。つまり、発光層13における正孔と電子との結合による発光の効率を改善するものである。また、これらの積層構造に限定するものではなく、正孔注入層11と発光層13との2層構造であっても良い。あるいは、正孔注入層11と、発光層13と、LiF(フッ化リチウム)などからなる電子注入層との3層構造であっても良い。
上述した「塗布工程」で用いられる液状体は、溶剤などの溶媒に、それぞれの有機膜層の材料(溶質)を溶解または分散した溶液であり、以下に、好適な各有機膜層の材料を挙げる。
正孔注入層11の材料としては、例えば、ポリエチレンジオキシチオフェン(PEDOT)等のポリチオフェン誘導体にドーパントとしてのポリスチレンスルホン酸(PSS)を加えた混合物(PEDOT/PSS)や、ポリスチレン、ポリピロール、ポリアニリン、ポリアセチレンやその誘導体を用いてもよい。
中間層12の材料としては、例えば、正孔輸送性が良好なトリフェニルアミン系ポリマーを含んだものが挙げられる。
正孔注入層11の材料としては、例えば、ポリエチレンジオキシチオフェン(PEDOT)等のポリチオフェン誘導体にドーパントとしてのポリスチレンスルホン酸(PSS)を加えた混合物(PEDOT/PSS)や、ポリスチレン、ポリピロール、ポリアニリン、ポリアセチレンやその誘導体を用いてもよい。
中間層12の材料としては、例えば、正孔輸送性が良好なトリフェニルアミン系ポリマーを含んだものが挙げられる。
発光層13の材料としては、蛍光または燐光を発光する発光材料を用いることが好ましい。例えば、ポリフルオレン誘導体(PF)、ポリパラフェニレンビニレン誘導体(PPV)、ポリフェニレン誘導体(PP)、ポリパラフェニレン誘導体(PPP)、ポリビニルカルバゾール(PVK)等のポリチオフェニレン誘導体、ポリメチルフェニレンシラン(PMPS)等を用いることができる。また、これらの高分子材料に、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素等の高分子材料や、ルブレン、ペリレン、9,10−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン6、キナクドリン等低分子材料をドープしてもよい。
また、本実施形態では、好適な事例として、上記材料の中から発光波長帯域が赤色に対応した材料を用いて発光層13を構成している。つまり、各発光画素Paからは、赤色光が出射される構成となっている。また、赤色に限定されず、単色であれば良く、例えば、青色や、緑色に対応した材料を用いることもできる。
特に、赤色に対応した材料を用いた場合には、他の色調に比べて発光寿命が長いことが知られている。
また、発光層13が赤色に対応している場合、図2の感光ドラム71の表面(感光面)には、赤色の波長領域を感知する感光体が塗布、または貼り付けられている。
また、本実施形態では、好適な事例として、上記材料の中から発光波長帯域が赤色に対応した材料を用いて発光層13を構成している。つまり、各発光画素Paからは、赤色光が出射される構成となっている。また、赤色に限定されず、単色であれば良く、例えば、青色や、緑色に対応した材料を用いることもできる。
特に、赤色に対応した材料を用いた場合には、他の色調に比べて発光寿命が長いことが知られている。
また、発光層13が赤色に対応している場合、図2の感光ドラム71の表面(感光面)には、赤色の波長領域を感知する感光体が塗布、または貼り付けられている。
「有機EL層の層厚分布」
図6(a),(b)は発光画素における有機EL層の層厚を示すグラフであり、図12に対応している。
ここでは、上記成膜工程によって形成された有機EL層15の層厚分布について説明する。
図6(a)のグラフjは、図4(a)(図5(b))における有機EL層15の層厚分布を示しており、横軸は凹部Coの長さLaを示し、縦軸は有機EL層15の層厚tを示している。
グラフjにおいて、長さLaの両端外側における層厚tの立上がりは、隔壁20の形状を示している。また、隔壁20の内側における凸形状は、乾燥工程において形成されたコーヒーリングuを示している。
図6(a),(b)は発光画素における有機EL層の層厚を示すグラフであり、図12に対応している。
ここでは、上記成膜工程によって形成された有機EL層15の層厚分布について説明する。
図6(a)のグラフjは、図4(a)(図5(b))における有機EL層15の層厚分布を示しており、横軸は凹部Coの長さLaを示し、縦軸は有機EL層15の層厚tを示している。
グラフjにおいて、長さLaの両端外側における層厚tの立上がりは、隔壁20の形状を示している。また、隔壁20の内側における凸形状は、乾燥工程において形成されたコーヒーリングuを示している。
コーヒーリングuは、いわゆるコーヒーの染み現象に起因したものであり、液状体の乾燥にともない、凹部Coの周縁部(隔壁20の内周縁)に析出物が厚く堆積されて形成されたものである。
なお、コーヒーの染み現象とは、液体乾燥時の溶質の自発的な輸送現象である。詳しくは、液滴の乾燥にともない、液体の中心から外側に向かう微小な対流が生じ、溶質が外側に向かって移動し、周縁部に厚く堆積される現象を指す。
また、乾燥工程における乾燥が、発光装置100全体においては基板1(図1)の外周に近い部分から始まり、また、発光画素Paにおいては画素の周縁部から始まることも、上記対流を助長させているものと考察される。
ここで、図6(a)に示すように、画素電極10の開口部を示す直径Fは、両端のコーヒーリングu間における平坦で一定の層厚となっている領域に位置している。つまり、発光画素Paの長手方向(Y軸方向)において、画素電極10に重なる有機EL層15の厚さは略平坦となっている。
なお、コーヒーの染み現象とは、液体乾燥時の溶質の自発的な輸送現象である。詳しくは、液滴の乾燥にともない、液体の中心から外側に向かう微小な対流が生じ、溶質が外側に向かって移動し、周縁部に厚く堆積される現象を指す。
また、乾燥工程における乾燥が、発光装置100全体においては基板1(図1)の外周に近い部分から始まり、また、発光画素Paにおいては画素の周縁部から始まることも、上記対流を助長させているものと考察される。
ここで、図6(a)に示すように、画素電極10の開口部を示す直径Fは、両端のコーヒーリングu間における平坦で一定の層厚となっている領域に位置している。つまり、発光画素Paの長手方向(Y軸方向)において、画素電極10に重なる有機EL層15の厚さは略平坦となっている。
図6(b)のグラフkは、図4(b)における有機EL層15の層厚分布を示しており、横軸は凹部Coの幅Lbを示し、縦軸は有機EL層15の層厚tを示している。
グラフkにおいて、幅Lbの両端外側における層厚tの立上がりは、隔壁20の形状を示している。また、隔壁20の内側における凸形状は、乾燥工程において形成されたコーヒーリングuを示している。
ここで、図6(b)に示すように、画素電極10の開口部を示す直径Fは、両端のコーヒーリングu間における平坦で略一定の層厚となっている領域に位置している。つまり、発光画素Paの短手方向(X軸方向)において、画素電極10に重なる有機EL層15の厚さは略平坦となっている。
グラフkにおいて、幅Lbの両端外側における層厚tの立上がりは、隔壁20の形状を示している。また、隔壁20の内側における凸形状は、乾燥工程において形成されたコーヒーリングuを示している。
ここで、図6(b)に示すように、画素電極10の開口部を示す直径Fは、両端のコーヒーリングu間における平坦で略一定の層厚となっている領域に位置している。つまり、発光画素Paの短手方向(X軸方向)において、画素電極10に重なる有機EL層15の厚さは略平坦となっている。
上述した通り、本実施形態に係る発光装置100によれば、以下の効果を得ることができる。
発光装置100によれば、発光画素Paの長手方向(Y軸方向)において、画素電極10の開口部の端部から最寄りの凹部Coの端部までの間隙G2が、直径Fの1/2以上の長さ確保されているため、開口部へのコーヒーリングuの重なりを低減することができる。
特に、間隙G2を直径F以上の長さ確保した場合、コーヒーリングuの重なりを略回避することが可能となり、間隙G2を直径Fの1.5倍以上の長さ確保した場合には、図6(a)で説明した通り、平坦で一定の層厚の有機EL層15領域に開口部を形成することができる。
よって、出射光の輝度や、色調を決定付ける画素電極10の開口部と重なる部分の有機EL層15の層厚を均一化することができる。
従って、有機EL層15の層厚を均一にすることが可能な発光装置100を提供することができる。さらに、層厚の均一化により、輝度ムラや、発光色ムラを低減することもできる。
発光装置100によれば、発光画素Paの長手方向(Y軸方向)において、画素電極10の開口部の端部から最寄りの凹部Coの端部までの間隙G2が、直径Fの1/2以上の長さ確保されているため、開口部へのコーヒーリングuの重なりを低減することができる。
特に、間隙G2を直径F以上の長さ確保した場合、コーヒーリングuの重なりを略回避することが可能となり、間隙G2を直径Fの1.5倍以上の長さ確保した場合には、図6(a)で説明した通り、平坦で一定の層厚の有機EL層15領域に開口部を形成することができる。
よって、出射光の輝度や、色調を決定付ける画素電極10の開口部と重なる部分の有機EL層15の層厚を均一化することができる。
従って、有機EL層15の層厚を均一にすることが可能な発光装置100を提供することができる。さらに、層厚の均一化により、輝度ムラや、発光色ムラを低減することもできる。
さらに、発光画素Paの短手方向(X軸方向)においても、画素電極10の開口部の端部から最寄りの凹部Coの端部までの間隙G3が、直径Fの1/2以上の長さ確保されているため、開口部へのコーヒーリングuの重なりを低減することができる。
また、間隙G3の長さを、図11(b)の従来の電気光学装置における間隙G1の長さよりも長く確保しているため、発光装置100によれば、従来の電気光学装置よりも、有機EL層15の層厚を均一にすることができる。
また、間隙G3の長さを、図11(b)の従来の電気光学装置における間隙G1の長さよりも長く確保しているため、発光装置100によれば、従来の電気光学装置よりも、有機EL層15の層厚を均一にすることができる。
X軸方向においては、複数の発光画素Paからなる発光画素行の前後に、ダミー画素Pdが1つずつ形成されている。また、Y軸方向においては、当該方向を長手方向としたトラック状の発光画素Paの中央部に画素電極10の開口部が形成されている。
これらの構成によれば、乾燥工程において、複数の発光画素Paにおける液状体の溶媒分子分圧が均一化されるため、乾燥速度が均一化され、発光画素Pa間における有機EL層15の層厚を均一にすることができる。詳しくは、X軸方向においては、発光画素行の周囲がダミー画素Pdで囲まれており、Y軸方向においては、画素電極10の開口部がトラック状の発光画素Paの間隙部(図4(a)の間隙G2部)に囲まれているため、各開口部における液状体の溶媒分子分圧が均一化される。
これらの構成によれば、乾燥工程において、複数の発光画素Paにおける液状体の溶媒分子分圧が均一化されるため、乾燥速度が均一化され、発光画素Pa間における有機EL層15の層厚を均一にすることができる。詳しくは、X軸方向においては、発光画素行の周囲がダミー画素Pdで囲まれており、Y軸方向においては、画素電極10の開口部がトラック状の発光画素Paの間隙部(図4(a)の間隙G2部)に囲まれているため、各開口部における液状体の溶媒分子分圧が均一化される。
(実施形態2)
図7は、実施形態2に係る発光装置の平面図であり、図1に対応している。
以下、本発明の実施形態2に係る電気光学装置としての発光装置110について説明する。
本実施形態における発光装置110は、副走査方向(Y軸方向)に画素行を2段(行)備えていることが、実施形態1の発光装置100と異なる。
ここでは、実施形態1における説明と重複する部分は省略し、相違点を中心に説明する。また、同一の構成部位については同一の番号を附している。
図7は、実施形態2に係る発光装置の平面図であり、図1に対応している。
以下、本発明の実施形態2に係る電気光学装置としての発光装置110について説明する。
本実施形態における発光装置110は、副走査方向(Y軸方向)に画素行を2段(行)備えていることが、実施形態1の発光装置100と異なる。
ここでは、実施形態1における説明と重複する部分は省略し、相違点を中心に説明する。また、同一の構成部位については同一の番号を附している。
発光装置110は、図7に示すように、Y軸方向の上段(Y軸(+)側)に、実施形態1の発光装置100と同様の画素行(第1画素行)を備えている。詳しくは、発光画素行および発光画素行の前後に配置されたダミー画素Pdを含む第1画素行を備えている。
また、第1画素行の各画素は、基準線111を起点として、発光装置100と同じ画素ピッチmでX軸方向に配列している。なお、画素ピッチmは、例えば、約0.042mmに設定されている。なお、基準線111は、図7において、第1画素行において最も左側(X軸(−)側)に位置し、発光画素行の始点となる発光画素Paの中心を通り、Y軸と平行な線分である。
また、第1画素行の各画素は、基準線111を起点として、発光装置100と同じ画素ピッチmでX軸方向に配列している。なお、画素ピッチmは、例えば、約0.042mmに設定されている。なお、基準線111は、図7において、第1画素行において最も左側(X軸(−)側)に位置し、発光画素行の始点となる発光画素Paの中心を通り、Y軸と平行な線分である。
また、第1画素行の下段(Y軸(−)側)にも、同様の画素行(第2画素行)が配置されている。
第2画素行は、基準線111から画素ピッチmの約半分(m/2)、X軸(+)方向にシフトした基準線112を起点として、画素ピッチmでX軸方向に配列している。換言すれば、主走査方向における第1画素行の発光画素と、第2画素行の発光画素との位置は、画素ピッチmの約半分、主走査方向にシフトして配置されている。
また、発光装置110では、画素行を2段備えているため、それに伴い、基板1のサイズが大きくなっている。
また、図3の画素回路においては、第1画素行と同じ画素回路が、第2画素行にも形成されている。発光装置110を点灯駆動する場合には、走査線駆動回路17によって、第1画素行、第2画素行の順番に走査信号が供給され、感光ドラム71の回転に同期して、交互に点灯駆動される。
第2画素行は、基準線111から画素ピッチmの約半分(m/2)、X軸(+)方向にシフトした基準線112を起点として、画素ピッチmでX軸方向に配列している。換言すれば、主走査方向における第1画素行の発光画素と、第2画素行の発光画素との位置は、画素ピッチmの約半分、主走査方向にシフトして配置されている。
また、発光装置110では、画素行を2段備えているため、それに伴い、基板1のサイズが大きくなっている。
また、図3の画素回路においては、第1画素行と同じ画素回路が、第2画素行にも形成されている。発光装置110を点灯駆動する場合には、走査線駆動回路17によって、第1画素行、第2画素行の順番に走査信号が供給され、感光ドラム71の回転に同期して、交互に点灯駆動される。
上述した通り、本実施形態に係る発光装置110によれば、実施形態1の効果に加えて、以下の効果を得ることができる。
図2で説明した通り、発光装置110は、感光ドラム71の回転に同期して、点灯駆動されるため、感光ドラム71の水平方向(X軸方向)における1つの感光行に対して、第1画素行により光を照射した後、感光ドラム71を1画素行分回転させて、第2画素行による照射を行えば、1つの感光行に対して2倍の解像度による露光を行うことができる。
例えば、画素ピッチmが、約0.042mmである場合には、1つの画素行における水平解像度は、約600dpiであるが、主走査方向に画素ピッチが半分シフトしてレイアウトされた第1画素行と第2画素行とで、時系列に照射することにより、約1200dpiの水平解像度による露光を行うことができる。
従って、高解像度の発光装置110を提供することができる。
図2で説明した通り、発光装置110は、感光ドラム71の回転に同期して、点灯駆動されるため、感光ドラム71の水平方向(X軸方向)における1つの感光行に対して、第1画素行により光を照射した後、感光ドラム71を1画素行分回転させて、第2画素行による照射を行えば、1つの感光行に対して2倍の解像度による露光を行うことができる。
例えば、画素ピッチmが、約0.042mmである場合には、1つの画素行における水平解像度は、約600dpiであるが、主走査方向に画素ピッチが半分シフトしてレイアウトされた第1画素行と第2画素行とで、時系列に照射することにより、約1200dpiの水平解像度による露光を行うことができる。
従って、高解像度の発光装置110を提供することができる。
(実施形態3)
図8は、実施形態3に係る発光装置の平面図であり、図1に対応している。
以下、本発明の実施形態3に係る電気光学装置としての発光装置120について説明する。
本実施形態における発光装置120は、各画素の長手方向がY軸に対して傾斜していることが、実施形態1の発光装置100と異なる。
ここでは、上記各実施形態における説明と重複する部分は省略し、相違点を中心に説明する。また、同一の構成部位については同一の番号を附している。
図8は、実施形態3に係る発光装置の平面図であり、図1に対応している。
以下、本発明の実施形態3に係る電気光学装置としての発光装置120について説明する。
本実施形態における発光装置120は、各画素の長手方向がY軸に対して傾斜していることが、実施形態1の発光装置100と異なる。
ここでは、上記各実施形態における説明と重複する部分は省略し、相違点を中心に説明する。また、同一の構成部位については同一の番号を附している。
図8に示すように、発光装置120の発光画素Paおよびダミー画素Pdは、その長手方向がY軸に対して傾斜して配置されている。詳しくは、発光画素Paは、Y軸に対して平行な基準線111に対して、その長手方向が角度θ傾いた状態で配置されている。なお、発光画素Paの長手方向とは、トラック形状における両端部の2つの半円の中心を結ぶ線分のことであり、当該線分が基準線111に対して角度θ傾いている。
また、他の発光画素Pa、およびダミー画素Pdも同じ傾きを持って配置されている。この点以外の構成は、実施形態1の発光装置100と同様である。
また、基板1のサイズは、幅(Y軸方向の長さ)については、実施形態1の発光装置100と同じであり、画素行は、寸法Laの中に納まっている。また、長さ(X軸方向の長さ)については、画素行が傾いた分、発光装置100よりも長くなっている。
また、他の発光画素Pa、およびダミー画素Pdも同じ傾きを持って配置されている。この点以外の構成は、実施形態1の発光装置100と同様である。
また、基板1のサイズは、幅(Y軸方向の長さ)については、実施形態1の発光装置100と同じであり、画素行は、寸法Laの中に納まっている。また、長さ(X軸方向の長さ)については、画素行が傾いた分、発光装置100よりも長くなっている。
ここで、角度θを30°とした場合について説明する。
前述したように、Y軸方向における発光画素Paの寸法は、寸法Laとなっているが、その長手方向の長さLcは、寸法Laよりも長くなっている。詳しくは、発光画素Paが30°の角度で傾斜しているため、長さLcは、三角関数から、寸法Laの約1.15倍の長さとなっている。
なお、角度θは、30°に限定するものではなく、基準線111に対して傾斜していれば良い。例えば、実施形態2のように、画素行を複数段形成する場合には、10〜45°度の範囲内であれば、レイアウト(設計)し易くなる。
前述したように、Y軸方向における発光画素Paの寸法は、寸法Laとなっているが、その長手方向の長さLcは、寸法Laよりも長くなっている。詳しくは、発光画素Paが30°の角度で傾斜しているため、長さLcは、三角関数から、寸法Laの約1.15倍の長さとなっている。
なお、角度θは、30°に限定するものではなく、基準線111に対して傾斜していれば良い。例えば、実施形態2のように、画素行を複数段形成する場合には、10〜45°度の範囲内であれば、レイアウト(設計)し易くなる。
上述した通り、本実施形態に係る発光装置120によれば、実施形態1の効果に加えて、以下の効果を得ることができる。
発光画素Paを斜めに配置することによって、副走査方向の寸法Laに対して、相対的に長手方向の長さLcを長くすることができるため、その分、画素電極10の開口部にコーヒーリングuが重なることを低減することができる。
換言すれば、副走査方向の寸法Laを短く構成した場合でも、発光画素Paを斜めに配置することによって、画素電極10の開口部へのコーヒーリングuの影響を抑制することができる。
従って、コンパクトな発光装置120を提供することができる。
発光画素Paを斜めに配置することによって、副走査方向の寸法Laに対して、相対的に長手方向の長さLcを長くすることができるため、その分、画素電極10の開口部にコーヒーリングuが重なることを低減することができる。
換言すれば、副走査方向の寸法Laを短く構成した場合でも、発光画素Paを斜めに配置することによって、画素電極10の開口部へのコーヒーリングuの影響を抑制することができる。
従って、コンパクトな発光装置120を提供することができる。
(実施形態4)
図9は、実施形態4に係る発光装置の平面図であり、図1に対応している。
以下、本発明の実施形態4に係る電気光学装置としての発光装置130について説明する。
本実施形態における発光装置130は、1つの発光画素内に複数の画素電極10が形成されていることが、実施形態1の発光装置100と異なる。
ここでは、上記各実施形態における説明と重複する部分は省略し、相違点を中心に説明する。また、同一の構成部位については同一の番号を附している。
図9は、実施形態4に係る発光装置の平面図であり、図1に対応している。
以下、本発明の実施形態4に係る電気光学装置としての発光装置130について説明する。
本実施形態における発光装置130は、1つの発光画素内に複数の画素電極10が形成されていることが、実施形態1の発光装置100と異なる。
ここでは、上記各実施形態における説明と重複する部分は省略し、相違点を中心に説明する。また、同一の構成部位については同一の番号を附している。
図9に示すように、発光装置130の発光画素Paには、Y軸方向に並んだ2つの画素電極10が形成されている。詳しくは、1つの発光画素Pa内に、副走査方向に隣り合う2つの画素電極10が形成されている。
上段(Y軸(+)側)における複数の画素電極10からなる電極行を第1電極行とし、下段の(Y軸(−)側)の同様な電極行を第2電極行としたときに、Y軸方向における2つの電極行の座標は同じに設定されている。また、X軸方向の画素ピッチは、実施形態1の発光装置100と同様である。
つまり、副走査方向において、同一の電極行とみなすことが可能な2段の画素電極行が形成されている。
上段(Y軸(+)側)における複数の画素電極10からなる電極行を第1電極行とし、下段の(Y軸(−)側)の同様な電極行を第2電極行としたときに、Y軸方向における2つの電極行の座標は同じに設定されている。また、X軸方向の画素ピッチは、実施形態1の発光装置100と同様である。
つまり、副走査方向において、同一の電極行とみなすことが可能な2段の画素電極行が形成されている。
ここで、第1電極行における画素電極10の開口部の端部から発光画素Pa(凹部Co)の端部までの間隙G2は、実施形態1の発光装置100と同様に設定されている。また、第2電極行における画素電極10の開口部の端部から発光画素Paの端部までの間隙G2も、同様である。
また、第1電極行と第2電極行との間隔は、双方の画素電極10同士が干渉しないような間隔となっていれば良い。換言すれば、第1電極行の画素電極10と、第2電極行の画素電極10とが独立して点灯可能に配置されていれば良い。
また、1つの発光画素Pa内に形成される画素電極10は2つに限定するものではなく、両端の画素電極10からの間隙G2が確保されていれば、数量はいくつであっても良い。
また、第1電極行と第2電極行との間隔は、双方の画素電極10同士が干渉しないような間隔となっていれば良い。換言すれば、第1電極行の画素電極10と、第2電極行の画素電極10とが独立して点灯可能に配置されていれば良い。
また、1つの発光画素Pa内に形成される画素電極10は2つに限定するものではなく、両端の画素電極10からの間隙G2が確保されていれば、数量はいくつであっても良い。
上述した通り、本実施形態に係る発光装置130によれば、実施形態1の効果に加えて、以下の効果を得ることができる。
発光装置130には、副走査方向において、同一の電極行とみなすことが可能な2段の画素電極行が形成されているため、例えば、第1電極行に発光しない欠陥画素があった場合でも、第2電極行によって露光を行うことができる。
また、有機ELには発光寿命があるため、第1電極行の寿命が尽きた場合、第2電極行を用いて露光を行うことができる。
つまり、スペアの電極行を備えた使い勝手の良い発光装置130を提供することができる。
発光装置130には、副走査方向において、同一の電極行とみなすことが可能な2段の画素電極行が形成されているため、例えば、第1電極行に発光しない欠陥画素があった場合でも、第2電極行によって露光を行うことができる。
また、有機ELには発光寿命があるため、第1電極行の寿命が尽きた場合、第2電極行を用いて露光を行うことができる。
つまり、スペアの電極行を備えた使い勝手の良い発光装置130を提供することができる。
(電子機器)
図10は、上述の発光装置を露光ヘッドの光源として備えた電子機器としてのプリンタを示す模式断面図である。
以下、電子写真方式のプリンタ300の構成について、図10を中心に、適宜、図2を交えながら説明する。
プリンタ300は、上述の発光装置100〜130のいずれかを光源とした4つの露光ヘッド200K,200C,200M,200Yと、これらの露光ヘッドに対応する4個の感光ドラム(像担持体)71K,71C,71M,71Yとを備えた、タンデム型の電子写真方式プリンタである。
なお、以降の説明において、発光装置100〜130を総称する場合には、発光装置100と表現する。また、4つの露光ヘッドを総称する場合、または、代表として説明する場合には、露光ヘッド200という表現を用いることがある。感光ドラム71という表現も、同様の意味で用いる場合がある。
図10は、上述の発光装置を露光ヘッドの光源として備えた電子機器としてのプリンタを示す模式断面図である。
以下、電子写真方式のプリンタ300の構成について、図10を中心に、適宜、図2を交えながら説明する。
プリンタ300は、上述の発光装置100〜130のいずれかを光源とした4つの露光ヘッド200K,200C,200M,200Yと、これらの露光ヘッドに対応する4個の感光ドラム(像担持体)71K,71C,71M,71Yとを備えた、タンデム型の電子写真方式プリンタである。
なお、以降の説明において、発光装置100〜130を総称する場合には、発光装置100と表現する。また、4つの露光ヘッドを総称する場合、または、代表として説明する場合には、露光ヘッド200という表現を用いることがある。感光ドラム71という表現も、同様の意味で用いる場合がある。
図2に示すように、露光ヘッド200は、円柱状の感光ドラム71と平行に、これと対向した状態で用いられる。換言すれば、感光ドラム71の回転軸79と平行に、かつ、露光ヘッド200から出射される光が、回転軸79を照射するように配置されている。
光学部材としてのレンズアレイ180は、セルフォック(登録商標)レンズであり、発光装置100から入射する光を、感光ドラム71の表面で集光し、露光(描画)する。
光学部材としてのレンズアレイ180は、セルフォック(登録商標)レンズであり、発光装置100から入射する光を、感光ドラム71の表面で集光し、露光(描画)する。
図10に戻る。
プリンタ300は、駆動ローラ91と従動ローラ92とテンションローラ93とを備え、これらの各ローラに中間転写ベルト90を、矢印方向(反時計方向)に循環駆動するよう張架したものである。
この中間転写ベルト90に対して、感光ドラム71K,71C,71M,71Yが所定間隔で配置されている。これら感光ドラム71K,71C,71M,71Yは、その外周面が像担持体としての感光層となっている。
なお、上記符号中のK、C、M、Yは、それぞれ黒、シアン、マゼンタ、イエローを意味し、それぞれ黒、シアン、マゼンタ、イエロー用の感光体であることを示している。
また、これら符号(K、C、M、Y)の意味は、他の部材についても同様である。感光ドラム71は、中間転写ベルト90の駆動と同期して、それぞれが矢印方向(時計方向)に回転駆動するようになっている。
プリンタ300は、駆動ローラ91と従動ローラ92とテンションローラ93とを備え、これらの各ローラに中間転写ベルト90を、矢印方向(反時計方向)に循環駆動するよう張架したものである。
この中間転写ベルト90に対して、感光ドラム71K,71C,71M,71Yが所定間隔で配置されている。これら感光ドラム71K,71C,71M,71Yは、その外周面が像担持体としての感光層となっている。
なお、上記符号中のK、C、M、Yは、それぞれ黒、シアン、マゼンタ、イエローを意味し、それぞれ黒、シアン、マゼンタ、イエロー用の感光体であることを示している。
また、これら符号(K、C、M、Y)の意味は、他の部材についても同様である。感光ドラム71は、中間転写ベルト90の駆動と同期して、それぞれが矢印方向(時計方向)に回転駆動するようになっている。
感光ドラム71(K、C、M、Y)の周囲には、それぞれ感光ドラム71の外周面を一様に帯電させる帯電手段(コロナ帯電器)72(K、C、M、Y)と、この帯電手段72(K、C、M、Y)によって一様に帯電させられた外周面を感光ドラム71(K、C、M、Y)の回転に同期して順次ライン走査する露光ヘッド200(K、C、M、Y)とが設けられている。
また、露光ヘッド200(K、C、M、Y)で形成された静電潜像に現像剤としてのトナーを付与して可視像(トナー像)とする現像装置74(K、C、M、Y)と、現像装置74(K、C、M、Y)で現像されたトナー像を一次転写対象としての中間転写ベルト90に順次転写する転写手段としての一次転写ローラ75(K、C、M、Y)とが設けられている。
また、転写された後に感光ドラム71(K、C、M、Y)の表面に残留しているトナーを除去するクリーニング手段としてのクリーニング装置76(K、C、M、Y)がそれぞれ設けられている。
また、露光ヘッド200(K、C、M、Y)で形成された静電潜像に現像剤としてのトナーを付与して可視像(トナー像)とする現像装置74(K、C、M、Y)と、現像装置74(K、C、M、Y)で現像されたトナー像を一次転写対象としての中間転写ベルト90に順次転写する転写手段としての一次転写ローラ75(K、C、M、Y)とが設けられている。
また、転写された後に感光ドラム71(K、C、M、Y)の表面に残留しているトナーを除去するクリーニング手段としてのクリーニング装置76(K、C、M、Y)がそれぞれ設けられている。
また、露光ヘッド200(K、C、M、Y)の主発光波長と、感光ドラム71(K、C、M、Y)の感度ピーク波長とが略一致するように設定されている。
現像装置74(K、C、M、Y)は、例えば、現像剤として非磁性一成分トナーを用いている。そして、その一成分現像剤を例えば供給ローラで現像ローラへ搬送し、現像ローラ表面に付着した現像剤の膜厚を規制ブレードで規制し、その現像ローラを感光ドラム71(K、C、M、Y)に接触させるか、または押圧せしめることにより、感光ドラム71(K、C、M、Y)の電位レベルに応じて現像剤を付着させ、トナー像として現像する。
現像装置74(K、C、M、Y)は、例えば、現像剤として非磁性一成分トナーを用いている。そして、その一成分現像剤を例えば供給ローラで現像ローラへ搬送し、現像ローラ表面に付着した現像剤の膜厚を規制ブレードで規制し、その現像ローラを感光ドラム71(K、C、M、Y)に接触させるか、または押圧せしめることにより、感光ドラム71(K、C、M、Y)の電位レベルに応じて現像剤を付着させ、トナー像として現像する。
このような4色の単色トナー像形成ステーションにより形成された黒、シアン、マゼンタ、イエローの各トナー像は、一次転写ローラ75(K、C、M、Y)に印加される一次転写バイアスによって中間転写ベルト90上に順次一次転写される。
そして、中間転写ベルト90上で順次重ね合わされてフルカラーとなったトナー像は、二次転写ローラ66において「紙」等の記録媒体Rに二次転写され、更に、定着部である定着ローラ対61を通ることで記録媒体R上に定着される。その後、記録媒体Rは、排紙ローラ対62によって装置上部に形成された排紙トレイ68上に排出される。
そして、中間転写ベルト90上で順次重ね合わされてフルカラーとなったトナー像は、二次転写ローラ66において「紙」等の記録媒体Rに二次転写され、更に、定着部である定着ローラ対61を通ることで記録媒体R上に定着される。その後、記録媒体Rは、排紙ローラ対62によって装置上部に形成された排紙トレイ68上に排出される。
また、給紙カセット63は、複数枚の記録媒体Rを保持するための着脱自在に設けられた用紙ホルダであり、ピックアップローラ64は給紙カセット63から記録媒体Rを一枚ずつ給送するためのローラ部材である。
ゲートローラ対65は、二次転写部としての二次転写ローラ66への記録媒体Pの供給タイミングを規定するためのローラ部材である。
また、クリーニングブレード67は、二次転写後に中間転写ベルト90の表面に残留しているトナーを除去するためのクリーニング部材である。
ゲートローラ対65は、二次転写部としての二次転写ローラ66への記録媒体Pの供給タイミングを規定するためのローラ部材である。
また、クリーニングブレード67は、二次転写後に中間転写ベルト90の表面に残留しているトナーを除去するためのクリーニング部材である。
上述したように、プリンタ300は、露光ヘッド200の光源として、輝度ムラや、発光色ムラが低減された発光装置100を備えている。
従って、プリンタ300によれば、均一な露光による高品位な画像を得ることができる。
従って、プリンタ300によれば、均一な露光による高品位な画像を得ることができる。
また、電子機器としてはプリンタに限定するものではなく、各種照明装置や、表示装置などにも適用することができる。
また、表示装置に適用する場合には、発光装置100の画素行を複数段形成してマトリックス状の表示エリアを構成するとともに、画素行における発光色を赤、緑、青の繰り返しパターンとする。これにより、フルカラーの有機ELパネルを構成することができる。
この有機ELパネルは、例えば、携帯電話、カーナビゲーションシステム用の表示装置や、PDA(Personal Digital Assistants)、モバイルコンピュータ、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、車載機器、オーディオ機器などの各種電子機器に用いることができる。
これらの電子機器によれば、輝度ムラや、発光色ムラが低減された高品位の表示を得ることができる。
また、表示装置に適用する場合には、発光装置100の画素行を複数段形成してマトリックス状の表示エリアを構成するとともに、画素行における発光色を赤、緑、青の繰り返しパターンとする。これにより、フルカラーの有機ELパネルを構成することができる。
この有機ELパネルは、例えば、携帯電話、カーナビゲーションシステム用の表示装置や、PDA(Personal Digital Assistants)、モバイルコンピュータ、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、車載機器、オーディオ機器などの各種電子機器に用いることができる。
これらの電子機器によれば、輝度ムラや、発光色ムラが低減された高品位の表示を得ることができる。
なお、本発明は上述した実施形態に限定されず、上述した実施形態に種々の変更や改良などを加えることが可能である。変形例を以下に述べる。
(変形例1)
図13は、変形例1に係る発光装置の断面図であり、図4(a)に対応している。
実施形態1の発光装置100では、ボトムエミション型を採用していたが、トップエミッション型であっても良い。
図13は、発光装置100をトップエミション型で構成する場合における図1のs−s断面を示している。なお、この場合、図1は基板1側からの透過平面図となる。
なお、実施形態1における説明と重複する部分は省略し、相違点を中心に説明する。また、同一の構成部位については同一の番号を附して説明する。
図13は、変形例1に係る発光装置の断面図であり、図4(a)に対応している。
実施形態1の発光装置100では、ボトムエミション型を採用していたが、トップエミッション型であっても良い。
図13は、発光装置100をトップエミション型で構成する場合における図1のs−s断面を示している。なお、この場合、図1は基板1側からの透過平面図となる。
なお、実施形態1における説明と重複する部分は省略し、相違点を中心に説明する。また、同一の構成部位については同一の番号を附して説明する。
トップエミション型の発光装置は、基板1、反射層30、素子層6、絶縁層7、画素電極10、隔壁20、有機EL層15、共通電極33、封止層35などから構成されている。この構成は、発光装置の厚さ方向(Z軸方向)の構成が、図4(a)のボトムエミッション型の構成と、略反転しており、トップエミション型の場合、白抜きの矢印で示すように、発光画素Paの凹部Co側から光を出射する。
トップエミッション型において固有な構成部位は、反射層30、共通電極33、および封止層35であり、他の構成部位は、実施形態1での説明と略同様である。
反射層30は、AlやAg、またはそれらの合金などから構成された全反射膜である。また、凹部Co側から光を出射する構成であるため、基板1も透明である必要はなく、金属を用いても良い。
共通電極33は、MgAgなどの金属を、光が透過できる程度にごく薄く成膜した金属薄膜層から構成されており、ハーフミラーとしての光学作用を有している。
封止層35は、SiO2や、Si3N4などの透明で、かつ、水分を遮断する機能を有する封止層であり、有機EL層15に水分が浸入することを防止するガスバリア層である。
トップエミッション型において固有な構成部位は、反射層30、共通電極33、および封止層35であり、他の構成部位は、実施形態1での説明と略同様である。
反射層30は、AlやAg、またはそれらの合金などから構成された全反射膜である。また、凹部Co側から光を出射する構成であるため、基板1も透明である必要はなく、金属を用いても良い。
共通電極33は、MgAgなどの金属を、光が透過できる程度にごく薄く成膜した金属薄膜層から構成されており、ハーフミラーとしての光学作用を有している。
封止層35は、SiO2や、Si3N4などの透明で、かつ、水分を遮断する機能を有する封止層であり、有機EL層15に水分が浸入することを防止するガスバリア層である。
このような構成において、有機EL層15から放射される光のうち、共通電極33側に進む光は、その大半が共通電極33を透過して、白矢印で示されるように、封止層35からZ軸(+)方向に出射される。また、画素電極10側に進む光は、反射層30で反射され、有機EL層15を介して、白矢印で示される光に合成されて、封止層35からZ軸(+)方向に出射される。また、共通電極33で反射された光も、反射層30との間で反射を繰り返し、その多くが、封止層35から出射されることになる。
また、その他の長さLa、間隙G2などの寸法関係は、Z軸方向が反転していることを除いて、実施形態1での説明と同じである。
上述した通り、本変形例に係るトップエミション型の発光装置であっても、実施形態1の発光装置100と同様の作用効果を得ることができる。また、他の各実施形態の構成も適用が可能であり、同様の作用効果を得ることができる。
また、その他の長さLa、間隙G2などの寸法関係は、Z軸方向が反転していることを除いて、実施形態1での説明と同じである。
上述した通り、本変形例に係るトップエミション型の発光装置であっても、実施形態1の発光装置100と同様の作用効果を得ることができる。また、他の各実施形態の構成も適用が可能であり、同様の作用効果を得ることができる。
(変形例2)
図1を用いて説明する。
図1の発光装置100において、各発光画素Paにさらに光センサを設けた構成であっても良い。詳しくは、発光画素Paの画素電極10の隣(例えば、間隙G2部)に、フォトダイオードを形成する。なお、光センサは、フォトダイオードに限定するものではなく、例えば、フォトトランジスタや、CdS(硫化カドミウム)セルを用いた光センサであっても良い。
これらの構成によれば、当該画素が出射した光の反射光を検知することできるため、例えば、スキャナーのスキャンヘッド(発光兼、受光装置)に発光装置100を適用することができる。
図1を用いて説明する。
図1の発光装置100において、各発光画素Paにさらに光センサを設けた構成であっても良い。詳しくは、発光画素Paの画素電極10の隣(例えば、間隙G2部)に、フォトダイオードを形成する。なお、光センサは、フォトダイオードに限定するものではなく、例えば、フォトトランジスタや、CdS(硫化カドミウム)セルを用いた光センサであっても良い。
これらの構成によれば、当該画素が出射した光の反射光を検知することできるため、例えば、スキャナーのスキャンヘッド(発光兼、受光装置)に発光装置100を適用することができる。
(変形例3)
図7を用いて説明する。
図7の発光装置110では、画素行は第1画素行と第2画素行との2行構成であるものとして説明したが、第1画素行と第2画素行との2行からなる構成を1つの発光ユニットとして、この発光ユニットを複数段、副走査方向に配列する構成であっても良い。発光ユニット数は、例えば、3〜5ユニットとすることが好ましい。
前述した通り、主走査方向に画素ピッチが半分シフトしてレイアウトされた第1画素行と第2画素行とによる構成によって、水平解像度を倍にすることができるため、上記構成によれば、高解像度の発光ユニットが、副走査方向に複数段、配列されることになる。
よって、変形例3に係る発光装置によれば、副走査方向において、同一の画素ピッチの発光ユニットが複数段形成されているため、例えば、第1発光ユニットに発光しない欠陥画素があった場合でも、第2発光ユニット、または第3発光ユニットによって露光を行うことができる。
また、有機ELには発光寿命があるため、第1発光ユニットの寿命が尽きた場合、第2発光ユニット、または第3発光ユニットを用いて露光を行うことができる。
従って、使い勝手が良く、長寿命の発光装置を提供することができる。また、複数の発光ユニットのうち、最低1つのユニットに画素欠陥がなければ、発光装置として使用することが可能であるため、製造歩留りを高めることができる。換言すれば、製造歩留りが高いことから、製造コストを抑制することができる。
図7を用いて説明する。
図7の発光装置110では、画素行は第1画素行と第2画素行との2行構成であるものとして説明したが、第1画素行と第2画素行との2行からなる構成を1つの発光ユニットとして、この発光ユニットを複数段、副走査方向に配列する構成であっても良い。発光ユニット数は、例えば、3〜5ユニットとすることが好ましい。
前述した通り、主走査方向に画素ピッチが半分シフトしてレイアウトされた第1画素行と第2画素行とによる構成によって、水平解像度を倍にすることができるため、上記構成によれば、高解像度の発光ユニットが、副走査方向に複数段、配列されることになる。
よって、変形例3に係る発光装置によれば、副走査方向において、同一の画素ピッチの発光ユニットが複数段形成されているため、例えば、第1発光ユニットに発光しない欠陥画素があった場合でも、第2発光ユニット、または第3発光ユニットによって露光を行うことができる。
また、有機ELには発光寿命があるため、第1発光ユニットの寿命が尽きた場合、第2発光ユニット、または第3発光ユニットを用いて露光を行うことができる。
従って、使い勝手が良く、長寿命の発光装置を提供することができる。また、複数の発光ユニットのうち、最低1つのユニットに画素欠陥がなければ、発光装置として使用することが可能であるため、製造歩留りを高めることができる。換言すれば、製造歩留りが高いことから、製造コストを抑制することができる。
また、ここまでは、副走査方向に沿って長手方向を配置した図7の画素レイアウトを前提として説明したが、各画素行は図8のように、副走査方向と長手方向とが傾きを持って配置された構成であっても良い。
また、一つの発光画素Pa内に配置される画素電極数も、1つに限定するものではなく、図9で説明したように、複数個配置されていても良い。
このように、上記各実施形態および変形例を組み合せた構成であっても、各実施形態および変形例と同様の作用効果を得ることができる。
また、一つの発光画素Pa内に配置される画素電極数も、1つに限定するものではなく、図9で説明したように、複数個配置されていても良い。
このように、上記各実施形態および変形例を組み合せた構成であっても、各実施形態および変形例と同様の作用効果を得ることができる。
1…基板、10…画素電極(開口部)、15…有機EL層、20…隔壁、100〜130…電気光学装置としての発光装置、180…光学部材としてのレンズアレイ、200…露光ヘッド、300…電子機器としてのプリンタ、Co…凹部、Pa…発光画素、Pd…ダミー画素。
Claims (10)
- 第1の方向に配列された複数の発光画素を備えた電気光学装置であって、
前記複数の発光画素は隔壁によって互いに区画されており、
前記複数の発光画素の各々は、画素電極と、共通電極と、前記画素電極と前記共通電極との間に配置された電気光学層と、前記画素電極と前記電気光学層とが接触する領域を区画する絶縁層と、を有する発光素子を備え、
前記隔壁によって少なくとも一部が規定された凹部は、前記第1の方向と交差する第2の方向の長さが、前記第1の方向の長さよりも長く形成されてなり、
前記第2の方向において、前記凹部の端部から、最寄りの前記画素電極の開口部までの間隙が、前記画素電極の開口部の長さの1/2以上確保されていることを特徴とする電気光学装置。 - 前記第1の方向においても、前記凹部の端部から、最寄りの前記画素電極の開口部までの間隙が、前記画素電極の開口部の長さの1/2以上確保されていることを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置。
- 前記第2の方向において、前記凹部の端部から、最寄りの前記画素電極の開口部までの間隙が、前記画素電極の開口部の長さの3倍以上確保されていることを特徴とする請求項1または2に記載の電気光学装置。
- 前記第1の方向における前記複数の発光画素からなる配列の前後には、ダミー画素が形成され、
前記ダミー画素も、前記隔壁によって区画されており、
前記ダミー画素には前記電気光学層を構成する層のうち、少なくとも1つの層が形成されることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の電気光学装置。 - 前記第1の方向に配列された前記複数の発光画素を含む第1画素行と、
前記第1画素行の前記第2の方向側に配置された前記第1画素行と同様の配列を有する第2画素行と、を備え、
前記第1の方向における前記第1画素行の前記発光画素と、前記第2画素行の前記発光画素との位置は、前記第1画素行における前記発光画素の配置ピッチの略半ピッチ分シフトしていることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の電気光学装置。 - 前記画素電極の開口部は、略円形に設けられ、
平面視において前記複数の発光画素の各々の形状は、略同一半径の2つの半円間を直線で結んだトラック形状をなし、
前記2つの半円の中心を結ぶ線分が、前記第2の方向に沿った線分から傾斜するように、前記複数の発光画素の各々は前記隔壁によって区画されていることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載の電気光学装置。 - 前記複数の発光画素の各々には、前記発光素子が複数配置されるとともに、前記凹部には前記複数の発光素子が前記第2の方向において間隙を持って配置されており、
前記複数の発光画素のうち第1発光画素に形成された前記複数の発光素子と、前記複数の発光画素のうち第2発光画素に形成された前記複数の発光素子とは、前記第1の方向に沿ってそれぞれ配列をなしていることを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項に記載の電気光学装置。 - 前記電気光学層は、前記凹部に液滴吐出法によって塗布した液状体を乾燥させて形成した有機EL層であることを特徴とする請求項1〜7のいずれか一項に記載の電気光学装置。
- 請求項1〜8のいずれか一項に記載の電気光学装置と、
前記電気光学装置の前記発光画素が出射する光を所定の位置に集光させる光学部材とを、少なくとも備えたことを特徴とする電子機器。 - 第1の方向に配列された複数の発光画素を備えた電気光学装置の製造方法であって、
前記複数の発光画素は隔壁によって互いに区画され、
前記複数の発光画素の各々は、画素電極と、共通電極と、前記画素電極と前記共通電極との間に配置された電気光学層と、前記画素電極と前記電気光学層とが接触する領域を区画する絶縁層と、を有する発光素子を備え、前記隔壁によって少なくとも一部が規定された凹部は、前記第1の方向と交差する第2の方向の長さが、前記第1の方向の長さよりも長く形成されてなり、
前記第2の方向において、前記凹部の端部から、最寄りの前記画素電極の開口部までの間隙が、前記画素電極の開口部の長さの1/2以上確保されてなり、
前記電気光学層を形成する工程は、
前記電気光学層を構成する溶質を溶解または分散した溶液を前記凹部に液滴吐出法によって塗布する工程と、
前記溶質を乾燥させる工程と、を含むことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
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