JP2010211982A - 電気光学装置、その製造方法、および電子機器 - Google Patents

Abstract

【課題】発光時における輝度ムラや、発光色ムラの発生を低減すること。
【解決手段】発光画素ＰａのＸ軸方向における凹部の端部から最寄りの開口部１０までの間隙Ｇ１が複数の開口部１０のいずれにおいても略等しく設けられている。また、Ｙ軸方向における凹部の端部から最寄りの開口部１０までの間隙Ｇ２が、複数の開口部１０のいずれにおいても略等しく設けられている。また、発光画素Ｐａの輪郭、および開口部１０ａ〜１０ｄは、中心点Ｃｅに対して点対称な形状となっている。これらの構成によれば、凹部の周縁部から中心部に向って等高線が密から疎となる厚さ分布を持つＥＬ層において、４つの開口部を、厚さ分布における同じ厚さ領域にレイアウトすることが可能となり、輝度ムラや、発光色ムラの発生を低減することができる。
【選択図】図１

Description

本発明は、電気光学装置、その製造方法、および当該電気光学装置を備えた電子機器に関する。

有機ＥＬ（Electro Luminescence）材料が溶解した拡散または溶液（以降、「液状体」という）をインクジェット法により隔壁（バンク）に囲まれた凹部に吐出、および乾燥させて、発光画素を形成した電気光学装置が知られている。また、１つの発光画素には、１つ、または複数の開口部が設けられており、当該開口部からＥＬ層が放つ光を出射する構成となっていた。この開口部は、電気光学装置の用途に応じて、ライン状や、マトリックス状に複数配置されていた。
このような液滴吐出法を用いてＥＬ層を形成した場合、複数の開口部間におけるＥＬ層の厚さにバラつきが生じ易く、これに起因して、開口部間における発光輝度のバラつきや、発光色ムラが発生してしまうという問題があった。
特許文献１には、これらの問題を解決するための構成として、１つの大きな隔壁（共通バンク）内に複数の開口部（光出射部）形成するという、技術思想が開示されている。

図１０は従来の発光装置の平面図である。
従来の発光装置５００は、多数の開口部１０を１つの大きな隔壁５２０に囲まれた凹部Ｕに形成したボトムエミッション型の発光装置である。発光装置５００は、電子写真方式プリンタのライン状の露光ヘッドに用いられ、複数の開口部１０から放たれる光を、紙面の奥行き方向（Ｚ軸（＋）方向）に出射する構成となっていた。

特開２００７−１４１４７２号公報

図１１は、発光画素の出射光の輝度比率を示すグラフである。
しかしながら、従来の発光装置５００では、依然として開口部間における発光輝度のバラつきや、発光色ムラが発生してしまうという課題があった。換言すれば、ＥＬ層の膜厚にバラつきがあるという課題があった。
図１１は、図１０における基板１の長手方向の端部側に位置する開口部１０ｊと、基板１の中央側に位置する開口部１０ｋとが発する光の輝度比率を示したグラフである。
当該グラフに示されるように、端部側の開口部１０ｊの輝度は略１００％を超えているのに対し、中央側の開口部１０ｋの輝度は８０％に満たない明るさであることが解る。

これは、開口部１０ｊにおけるＥＬ層の層厚と、開口部１０ｋにおけるＥＬ層の層厚とが異なることに起因している。この層厚のバラつきの一因は、液状体を吐出した後の乾燥工程において、液状体が隔壁５２０の凹部Ｕ内で対流し、その対流により凹部Ｕの周縁部に厚く析出物が堆積されることによるものと考察される。
特に、発光装置５００は、細長い形状であるため、長手方向の端部と中央部とでは、液状体の溶媒分子分圧が異なり、また、乾燥速度も異なるため、これらの要因も加味されて層厚のバラつきが助長されていた。

本発明は、上記課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の適用例又は形態として実現することが可能である。

（適用例）
第１の方向に略等間隔に配列された複数の発光画素を備えた電気光学装置であって、複数の発光画素の各々は、発光画素の輪郭を形成する隔壁に囲まれて構成された凹部と、凹部に形成された電気光学層と、凹部に形成され、電気光学層が放射する光を出射する複数の開口部と、を少なくとも有し、第１の方向における凹部の端部から開口部までの間隙のうち最短のものが、複数の開口部のいずれにおいても略等しく設けられ、さらに、第１の方向と交差する第２の方向における凹部の端部から開口部までの間隙のうち最短のものが複数の開口部のいずれにおいても略等しく設けられてなることを特徴とする電気光学装置。

この電気光学装置によれば、１つの大きな隔壁に囲まれた凹部において、乾燥時に大きな対流が発生していた従来の発光装置と異なり、それぞれ個別の電気光学層を備えた複数の発光画素が第１の方向に配列される構成となっている。
よって、各発光画素における凹部内での対流が相対的に小さいものとなり、電気光学層の層厚のバラつきを低減することができる。
また、第１の方向（長手方向）における端部の開口部と中央の開口部とでは、凹部の端部からの距離が大きく異なっていた従来の発光装置と異なり、第１の方向における凹部の端部から最寄りの開口部までの間隙（距離）が複数の開口部のいずれにおいても略等しく設けられている。
よって、１つの発光画素内における液状体の溶媒分子分圧が均一化され、また、乾燥速度も均一化されることになる。
さらに、第２の方向における凹部の端部から最寄りの開口部までの間隙が、複数の開口部のいずれにおいても略等しく設けられているため、１つの発光画素内における液状体の溶媒分子分圧がより均一化され、また、乾燥速度も均一化されることになる。
従って、電気光学層の層厚を均一にすることが可能な電気光学装置を提供することができる。さらに、層厚の均一化により、輝度ムラや、発光色ムラを低減することもできる。

また、凹部は、平面視において凹部の中心点を中心とした点対称な形状であり、複数の開口部は平面視において凹部の中心点を中心とした点対称に配置されていることが好ましい。
また、凹部は、４つの頂点に丸み（角Ｒ）を付けた略長方形をなし、１つの凹部に形成されている複数の開口部の数は４つであり、４つの開口部は、長方形の辺に沿って行列をなして配置されていることが好ましい。
また、凹部は、４つの頂点に丸み（角Ｒ）を付けた略長方形をなし、１つの凹部に形成されている複数の開口部の数は４つであり、４つの開口部のうち、２つの開口部は、凹部の中心点を挟むとともに、中心点から第１の方向に延在する線分に沿って配置され、残りの２つの開口部は、凹部の中心点を挟むとともに、中心点から第２の方向に延在する線分に沿って配置されていることが好ましい。

また、第１の方向における発光画素の配列の前後には、ダミー発光画素が形成され、ダミー発光画素は、隔壁によって前記ダミー発光画素の輪郭を形成されており、隔壁囲まれて構成されたダミー発光画素用の凹部には、発光画素と同様な電気光学層が形成されることが好ましい。
また、複数の発光画素のうち、第１の方向に連続して配列された複数の発光画素を含む第１画素行と、第１画素行の第２の方向側に配置され、第１画素行と同様の配列である複数の発光画素を含む第２画素行と、を備え、第１画素行の発光画素と、第２画素行の発光画素との位置は、第２画素行の発光画素の開口部が第１画素行の発光画素の開口部に対して、所定ピッチ分第１方向にシフトしていることが好ましい。
また、電気光学層は、凹部に液滴吐出法によって塗布した液状体を乾燥させて形成した有機ＥＬ層であり、開口部は、画素電極と電気光学層との間に形成された絶縁膜に形成されており、絶縁膜から画素電極の少なくとも一部が露出するように設けられていることが好ましい。
また、複数の開口部は、１方向に連続して配置された複数の開口部を含む第１光出射行と、第１光出射行の第２方向側に配置され、第１光出射行と同様の配列である複数の開口部を含む第２出射行とを有し、第１光出射行の発光画素と、第２光出射行の発光画素との位置は、第２光出射行の発光画素の開口部が第１光出射行の発光画素の開口部に対して、所定ピッチ分第１方向にシフトしていることが好ましい。
また、第１画素行に含まれる複数の開口部は、１方向に連続して配置された複数の開口部を含む第１光出射行と、第１光出射行の第２方向側に配置され、第１光出射行と同様の配列である複数の開口部を含む第２出射行とを有し、第１光出射行の発光画素と、第２光出射行の発光画素との位置は、第２光出射行の発光画素の開口部が第１光出射行の発光画素の開口部に対して、所定ピッチ分第１方向にシフトしていることが好ましい。

上記記載の電気光学装置と、電気光学装置の発光画素が出射する光を所定の位置に集光させる光学部材とを、少なくとも備えたことを特徴とする電子機器。

第１の方向に配列された複数の発光画素を備えた電気光学装置であって、複数の発光画素の各々は、発光画素の輪郭を形成する隔壁に囲まれて構成された凹部と、凹部に形成された電気光学層と、凹部に形成され、電気光学層が放射する光を出射する複数の開口部と、を少なくとも有し、第１の方向における凹部の端部から開口部までの間隙のうち最短のものが、複数の開口部のいずれにおいても略等しく設けられ、さらに、第１の方向と交差する第２の方向における凹部の端部から開口部までの間隙のうち最短のものが複数の開口部のいずれにおいても略等しく設けられてなり、電気光学層を形成する工程は、電気光学層を構成する溶質を溶解または分散した溶液を凹部に液滴吐出法によって塗布する工程と、溶質を乾燥させる工程と、を含むことを特徴とする電気光学装置の製造方法。

実施形態１に係る電気光学装置の平面図。 露光ヘッドの概要を示す斜視図。 画素回路、および駆動回路を示す回路図。 図１のｑ−ｑ断面を示す断面図。 （ａ）液状体の塗布工程の一態様を示す断面図、（ｂ）乾燥工程後のＥＬ層を示す断面図。 （ａ），（ｂ）発光画素の出射光の輝度比率を示すグラフ。 実施形態２に係る発光装置の平面図。 実施形態３に係る発光装置の平面図。 電子機器としてのプリンタを示す模式断面図。 従来の発光装置の平面図。 従来の発光画素の出射光の輝度比率を示すグラフ。 変形例１に係る発光装置の断面図。 変形例３に係る発光装置の平面図。 変形例３に係る発光装置の平面図。 変形例５に係る発光装置の平面図。 変形例５に係る発光装置の平面図。

以下、本発明の実施形態について、図面を参照して説明する。なお、以下の各図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならしめてある。

（実施形態１）
「電気光学装置の概要」
図１は、本実施形態に係る電気光学装置の平面図である。図２は、露光ヘッドの概要を示す斜視図である。
まず、本発明の実施形態１に係る電気光学装置としての発光装置１００の概要について説明する。なお、図１０で説明した従来の発光装置５００と同一の部位については、同一の番号を附して説明する。

発光装置１００は、電子写真方式プリンタの露光ヘッドの光源として用いられる発光装置であり、図２に示すように、円柱状の感光ドラム７１におけるＸ軸方向（円柱の高さ方向）の側面に沿って配置された露光ヘッド２００に搭載される。
発光装置１００は、ボトムエミッション型の発光装置であり、複数の発光画素Ｐａから図１における紙面の奥行き方向（Ｚ軸（＋）方向）に光を出射する。詳しくは、発光画素Ｐａにおいてハッチングで示された、画素電極の少なくとも一部が絶縁層８から露出するように絶縁膜８に形成された開口部１０から光を出射する。なお、１つの発光画素には、４つの開口部１０ａ〜１０ｂが形成されているが、これらを総称、開口部１０と表現する。
図２の露光ヘッド２００は、発光装置１００、レンズアレイ１８０などから構成されており、発光装置１００から出射される光の焦点をレンズアレイ１８０によって感光ドラム７１の感光体からなる表面（感光面）に合せ、感光面をライン状に照射する。

ここで、感光ドラム７１は、回転軸７９を中心にして矢印方向に回転するため、発光装置１００は、当該回転に同期して、１行ずつ画像信号に応じた輝度で各発光画素を点灯させることにより、感光ドラム７１の感光面を順次露光する。
また、以降の説明において、発光装置１００から捕らえて、感光ドラム７１の回転方向に相当するＹ軸方向のことを「副走査方向」とも表現する。また、副走査方向と交差する方向（Ｘ軸方向）のことを「主走査方向」ともいう。なお、このような露光ヘッド２００や感光ドラム７１を備えた電子機器としてのプリンタの詳細については後述する。

図１に戻る。
発光装置１００は、細長い長方形をなしており、その長手方向（Ｘ軸方向）沿って複数の発光画素Ｐａを備えている。なお、Ｘ軸方向が第１の方向に相当し、Ｙ軸方向が第２の方向に相当している。また、連続して配置された複数の発光画素Ｐａからなる発光画素群を含む発光画素行の前後には、ダミー画素Ｐｄが１つずつ形成されている。なお、ダミー画素Ｐｄの数は、前後にそれぞれ１つ以上形成されていれば良い。
ダミー画素Ｐｄ、および発光画素Ｐａは、Ｘ軸方向に沿った基準線ｋ上にピッチ（間隔）ｍで配列している。詳しくは、基準線ｋ上において各画素の中心点Ｃｅがピッチｍとなるように、配列されている。ピッチｍは、例えば、約０．０８４５ｍｍに設定されている。ダミー画素Ｐｄ、および発光画素Ｐａは、Ｘ軸方向を長辺方向とした長方形をなしており、４つの角部は丸められている（以降、「角Ｒ」ともいう）。なお、この形状は、各画素を互いに区画する隔壁の輪郭（平面形状）の内周縁を示している。
また、発光画素Ｐａの輪郭は、中心点Ｃｅに対して平面視において点対称な形状となっている。換言すれば、中心点Ｃｅを中心にして発光画素Ｐａを１８０度回転させたときに、元の形状（輪郭）に重なる２回対称な形状となっている。

１つの発光画素Ｐａには、４つの画素電極が配置され、１つの画素電極に対して1つの発光素子が形成されている。また、それぞれの発光素子において、画素電極の少なくとも一部が絶縁層８から露出するように、絶縁膜８に開口部が形成されており、発光素子（発光画素Ｐａ）から出射される光は、これらの開口部から出射されることになる。なお、図１は、発光装置１００を光の出射面の反対側から見た平面図であるため、本来、画素電極１０は観察されないが、説明を容易にするために、図１では、透過図として画素電極の開口部１０を図示している。
図１における左端（Ｘ軸（−）側）の発光画素Ｐａを例にとって説明すると、２つの開口部１０ａ，１０ｂが上段（Ｙ軸（＋）側）に、残りの２つの開口部１０ｃ，１０ｄが下段（Ｙ軸（−）側）に、それぞれ配置されている。
開口部１０ａ〜１０ｄは略同一直径の円形をなしており、開口部１０ａの中心と開口部１０ｂの中心とを結ぶ線分は、基準線ｋと略平行になっている。また、同様に、開口部１０ｃの中心と開口部１０ｄの中心とを結ぶ線分は、基準線ｋと略平行になっている。換言すれば、４つの開口部は、発光画素Ｐａの輪郭をなす長方形の辺に沿って行列をなして配置されている。なお、開口部１０ａ〜１０ｄの直径は、例えば、約２５μｍに設定されている。なお、開口部の形状は、円形に限定するものではなく、例えば、正方形や、長方形であっても良い。
また、開口部１０ａ〜１０ｄも、中心点Ｃｅに対して略点対称な形状となっている。つまり、開口部１０ａ〜１０ｄ及び発光画素Ｐａの輪郭は、それぞれ中心点Ｃｅに対して略点対称な形状となっている。

また、開口部１０ａ，１０ｂは、隣り合う発光画素Ｐａの開口部１０ａ，１０ｂとＸ軸方向に略等ピッチで配列し、複数の開口部１０ａ，１０ｂからなる光出射行Ｅ１を構成している。同様に、開口部１０ｃ，１０ｄは、隣り合う発光画素Ｐａの開口部１０ｃ，１０ｄとＸ軸方向に等ピッチで配列し、複数の開口部１０ｃ，１０ｄからなる光出射行Ｅ２を構成している。
光出射行Ｅ１における開口部１０ａ，１０ｂの配置ピッチは、ピッチｍ／２に設定されている。また、光出射行Ｅ２における開口部１０ｃ，１０ｄの配置ピッチも、ｍ／２に設定されている。
つまり、発光装置１００は、副走査方向に２段に形成された光出射行Ｅ１（第１光出射行）と光出射行Ｅ２（第２光出射行）とを備えている。

ここで、図１における右端（Ｘ軸（＋）側）の発光画素Ｐａに示すように、Ｘ軸方向における発光画素Ｐａの隔壁の内周縁と、開口部１０ａ（１０ｃ）との間は、間隙（距離）Ｇ１開いている。また、同様に、隔壁の内周縁と、開口部１０ｂ（１０ｄ）との間も、間隙Ｇ１確保されている。
また、Ｙ軸方向においては、隔壁の内周縁と、開口部１０ａ（１０ｂ）との間は、間隙Ｇ２開いている。同様に、隔壁の内周縁と、開口部１０ｃ（１０ｄ）との間は、間隙Ｇ２確保されている。
なお、前述した発光画素Ｐａの角Ｒの大きさは、開口部１０の同心円よりも小さい半径であることが好ましい。また、角Ｒに換えて、面取りを施した構成であっても良いが、エッジ部や、狭路部がないことが望ましい。これは、エッジ部などがあると、後述する塗布工程において、液状体が塗布（充填）し切れない部分が生じ、塗布ムラや、層厚バラつきの原因となるからである。つまり、発光画素Ｐａの頂点にエッジが生じない程度の角Ｒ、または面取りがなされていることが好ましい。

「画素回路」
図３は、画素回路、および駆動回路を示す回路図である。
ここでは、発光装置１００の画素回路、および駆動回路の概要について説明する。
図１の発光画素Ｐａの各々には、図３の画素回路４が４つ形成されており、1つの発光素子を1つの画素回路が制御している。
画素回路４は、画素を選択するためのスイッチングＴＲ１と、ＥＬ層１５に電流を流すための駆動用ＴＲ２と、保持容量Ｃなどから構成されている。また、スイッチングＴＲ１、および駆動用ＴＲ２は、ＴＦＴとして構成されている。
スイッチングＴＲ１のゲート端子には、走査線駆動回路１７からの走査線ＳＬが接続されており、ソース端子には、データ線駆動回路１８からのデータ線ＤＬが接続されている。スイッチングＴＲ１のドレイン端子には、駆動用ＴＲ２のゲート端子と、保持容量Ｃの一端が接続されている。
駆動用ＴＲ２のソース端子と、保持容量Ｃの他端とは、電源電位が供給されているＶＤＤラインに接続されている。そして、駆動用ＴＲ２のドレイン端子は、画素電極１０に接続されている。
また、画素電極１０と、共通電極２３との間には、電気光学層としてのＥＬ層１５が配置されている。また、共通電極２３は、アースラインに接続されている。

走査線駆動回路１７、およびデータ線駆動回路１８には、外部機器（図示せず）から画像信号に基づいたタイミング信号、および画像内容を規定したデータ信号が供給される。
走査線駆動回路１７は、シフトレジスタや出力バッファ（いずれも図示せず）を含んで構成され、外部機器からのタイミング信号に基づき、走査線ＳＬに走査信号を供給する。なお、タイミング信号は、感光ドラム７１の回転と同期している。
また、図１の場合、副走査方向において並んで配置された２段の光出射行Ｅ１，Ｅ２がそれぞれ有する複数の開口部は、主走査方向において同一ピッチの構成であり、かつ、副走査方向において重なる位置に配置されており、いずれか一方の走査線ＳＬを選択して、片方の光出射行を点灯駆動しており、所定のタイミングで他方の光出射行を駆動するように切り替える。切替え方はこれに限定されないが、このように点灯駆動する光出射行を切り替えることにより、発光装置１００の寿命を長くすることができる。また一方の光出射行のみを点灯駆動する時よりも1つの光出射行の光量を低減し、両方の光出射行を点灯駆動することで必要な光量を得るように駆動しても発光装置１００の寿命を長くすることができる。
データ線駆動回路１８は、シフトレジスタやラッチ回路（いずれも図示せず）を含んで構成され、外部機器からのタイミング信号、およびデータ信号に基づき、複数のデータ線ＤＬに画像信号に規定された輝度に応じたデータ信号を供給する。

このような画素回路４において、走査信号によってスイッチングＴＲ１が選択されると、当該ＴＦＴはオンし、データ信号が駆動用ＴＲ２に供給される。これにより、駆動用ＴＲ２がオンし、ＶＤＤラインからＥＬ層１５にデータ信号の電圧に応じた電流が流れ、発光層から光が放射される。
また、駆動用ＴＲ２がオンするのと並行して、保持容量Ｃにデータ信号が保持されるため、保持容量Ｃの容量に応じた時間、発光が維持される。
なお、上述の画素回路は、ＥＬ層１５を発光させるための最も基本的な回路構成の一例であり、この回路構成に限定するものではなく、ＥＬ層１５を効率的に発光させることが可能な回路構成であれば、適宜、変更を加えた回路構成を用いることであっても良い。

「発光装置の構成」
図４は、図１のｑ−ｑ断面を示す断面図である。
ここでは、発光装置１００のより詳細な構成について説明する。
発光装置１００は、基板１、素子層６、絶縁層７、画素電極１０、隔壁２０、ＥＬ層１５、共通電極２３などから構成されている。また、発光素子は少なくともＥＬ層１５を含んでいる。
基板１は、ガラス、石英、樹脂（プラスチック、プラスチックフィルム）などの透明な材質から構成されている。
素子層６は、図３で説明した画素回路（４）、ゲート絶縁膜２、絶縁層３、配線層５などから構成されている。詳しくは、基板１上に、非晶質シリコンや、多結晶シリコンなどからなるＴＦＴを含む画素回路が形成され、その上に、ゲート絶縁膜２、および絶縁層３が積層されている。また、絶縁層３の上層には、走査線ＳＬおよびデータ線ＤＬなどの各種配線が形成された配線層５が形成されている。
また、図４に示すように、駆動用ＴＲ２などの回路素子は、隔壁２０に重なるように配置されており、素子層６において画素電極１０の開口部と重なる部分は、透明に形成されている。

絶縁層７は、シリコン酸化物、シリコン窒化物、シリコン酸窒化物などの透明な絶縁材料から構成されている。なお、前述のゲート絶縁膜２や、絶縁層３も同様な材質から構成されており、絶縁層３のことを「第１層間絶縁膜」、絶縁層７のことを「第２層間絶縁膜」ともいう。
絶縁層７の上には、画素電極１０が形成されている。画素電極１０と駆動用ＴＲ２のドレイン端子との間には、絶縁層３，７を貫通するコンタクトホールを介して、当該間を電気的に接続するための配線が形成されている。
画素電極１０は、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）や、ＺｎＯなどの透明電極から構成された透明電極である。
また、開口部を除く画素電極１０の上層には、例えば、ＳｉＯ₂からなる絶縁層８が形成されており、ＥＬ層１５に電位を印加可能な有効画素領域を規定している。換言すれば、絶縁層８は、画素電極１０とＥＬ層１５とが接触する領域を区画している。

隔壁２０は、黒色の樹脂などの絶縁材料からなる断面が台形状のバンクであり、各画素を互いに区画している。材料としては、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、フッ素系樹脂などを用いることができ、光硬化性であることが好ましい。
隔壁２０は、１μｍ程度の高さ（厚さ）に形成され、その表面は液状体に対して、絶縁膜８よりも撥液性を有している。なお、撥液性は、隔壁２０の材質自体が撥液性を有していることであっても良いし、後加工によって、撥液性を付与することであっても良い。また、隔壁２０は、光学的には、ブラックマトリックスの機能を有している。

ここで、平面的に隔壁２０に囲まれた凹形状の部分を凹部Ｕと定義している。凹部Ｕとは、図４において、画素電極１０が形成された面を底面として、両端の隔壁２０の傾斜面を側面とし、隔壁２０の天面を結ぶ平面を天面とし、これらの底面、側面、天面によって囲まれた台形部を指している。この台形部が発光素子の形成領域に相当する。
また、凹部Ｕのサイズは、当該台形の底面の大きさ、つまり、隔壁２０の内周縁を基準としており、図１に示した輪郭は、隔壁２０の内周縁を示している。換言すれば、凹部Ｕの周縁部は隔壁２０の内周縁のことであり、凹部Ｕの端部とは、隔壁２０の内周縁の一端に相当する。
よって、図１で説明した通り、Ｙ軸方向において、Ｙ軸（−）側の凹部Ｕの端部から、最寄り（最短の間隙）の開口部１０ｄまでの間は、間隙Ｇ２確保されている。また、同様に、Ｙ軸（＋）側の凹部Ｕの端部から、最寄りの開口部１０ｂまでの間も、間隙Ｇ２確保されている。
また、図４では、Ｘ軸方向に切断した断面は図示していないが、当該方向においても、略同様の断面形状となっている。

ＥＬ層１５は、正孔注入層や、発光層などを含む複数層から形成された有機ＥＬ発光層である。なお、ＥＬ層１５の形成方法については、後述する。
共通電極２３は、Ｍｇ−Ａｇ合金（例えば重量比１０：１）などの導電性および光反射性を兼ね備えた仕事関数の低い材料から構成された光反射層、兼電極であり、ＥＬ層１５および隔壁２０を覆って（ＥＬ層１５および隔壁２０と平面的に重なるように）形成されている。
また、共通電極２３の上層を熱硬化型のエポキシ樹脂で充填し、封止しても良い。ＥＬ層１５は、水分を嫌うため、封止することによって、信頼性を向上させることができる。また、エポキシ樹脂を接着剤として、ガラスや金属などからなる封止基板をさらに備える構成であっても良い。この構成によれば、より防湿性を高めることができる。
このような構成の発光装置１００において、ＥＬ層１５に駆動電流が流れると、ＥＬ層１５は発光し、光を放射する。ＥＬ層１５から放射される光のうち、画素電極１０側に進む光は、開口部１０ｂ，１０ｄを透過して、図４の白矢印で示されるように、基板１からＺ軸（＋）方向に出射される。また、共通電極２３側に進む光は、共通電極２３で反射され、ＥＬ層１５を介して、開口部１０ｂ，１０ｄを透過し、白矢印で示される光に合成されて、基板１からＺ軸（＋）方向に出射される。

「ＥＬ層の形成方法」
図５（ａ）は液状体の塗布工程の一態様を示す断面図であり、（ｂ）は乾燥工程後のＥＬ層を示す断面図である。図５（ａ），（ｂ）ともに、図４に対応している。
ここでは、ＥＬ層の形成方法について説明する。
ＥＬ層１５は、正孔注入層１１、中間層１２、発光層１３を含む複数の有機薄膜層からなり、画素電極１０側からこの順に積層されている。
これらの有機薄膜層は液滴吐出法（インクジェット法）を用いて成膜されており、この成膜工程は、「塗布工程」と「乾燥工程」とに大別される。

まず、「塗布工程」では、ダミー画素Ｐｄを含む全ての画素に対して液状体が塗布される。詳しくは、図１の左端のダミー画素Ｐｄから、発光画素行の各発光画素Ｐａ、そして右端のダミー画素Ｐｄまで、順番に液状体が塗布される。また、液状体の吐出量は、液滴吐出装置によって、全ての画素において、略一定になるように制御されている。
図５（ａ）は、正孔注入層１１を形成するための液状体ｉを１つの発光画素Ｐａの凹部Ｕに塗布した状態を示している。
液滴吐出装置（図示せず）の吐出ヘッド３５０から吐出された液状体ｉの液滴は、凹部Ｕに着弾し、図５（ａ）に示すように、凹部Ｕにおいて凸状に充填（塗布）される。なお、液状体ｉが凸状となるのは、隔壁２０が液状体に対して撥液性を有しているためであり、液状体ｉは、その表面張力によって水滴状の膨らみを持って凹部Ｕに満たされることになる。
このようにして、発光装置１００の全ての画素に液状体が塗布されると「乾燥工程」が行われる。なお、液状体の塗布は、インクジェット法に限定するものではなく、凹部Ｕに液状体を塗布可能な方法であれば良い。例えば、ジェットディスペンサ法や、ニードルディスペンサ法などのディスペンサ法を用いることもできる。

「乾燥工程」では、塗布された液状体の溶媒成分を除去し、乾燥した有機薄膜層を形成する。詳しくは、液状体が塗布された状態の発光装置１００を加熱し、溶媒成分を蒸発させることにより液状体を乾燥させて、有機薄膜層を形成する。
加熱方法は、各画素を均一に加熱可能な加熱方法であれば良く、発光装置１００をホットプレート上に載せて加熱する方法や、発光装置１００の上方から赤外線ランプを照射する方法などを採用することができる。また、これらの方法を組み合せても良い。または、減圧環境や、真空環境において乾燥を行っても良い。このような方法によれば、より効率的に乾燥を行うことができる。

このようにして、図５（ｂ）に示すような正孔注入層１１が成膜される。
続いて、成膜された正孔注入層１１の上層に、中間層１２形成用の液状体を用いて、同様に「塗布工程」および「乾燥工程」を行い、中間層１２を成膜する。
最後に、成膜された中間層１２の上層に、発光層１３形成用の液状体を用いて、同様に「塗布工程」および「乾燥工程」を行い、発光層１３を成膜する。
この状態が、図５（ｂ）に示されており、正孔注入層１１、中間層１２、発光層１３の３層構造からなるＥＬ層１５が形成されている。なお、中間層１２は、正孔注入層１１と発光層１３との間に設けられ、発光層１３に対する正孔の輸送性（注入性）を向上させると共に、発光層から正孔注入層に電子が浸入することを抑制するために設けられている。つまり、発光層１３における正孔と電子との結合による発光の効率を改善するものである。また、これらの積層構造に限定するものではなく、正孔注入層１１と発光層１３との２層構造であっても良い。あるいは、正孔注入層１１と、発光層１３と、ＬｉＦ（フッ化リチウム）などからなる電子注入層との３層構造であっても良い。

上述した「塗布工程」で用いられる液状体は、溶剤などの溶媒に、それぞれの有機薄膜層の材料（溶質）を溶解または分散した溶液であり、以下に、好適な各有機薄膜層の材料を挙げる。
正孔注入層１１の材料としては、例えば、ポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）等のポリチオフェン誘導体にドーパントとしてのポリスチレンスルホン酸（ＰＳＳ）を加えた混合物（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）や、ポリスチレン、ポリピロール、ポリアニリン、ポリアセチレンやその誘導体を用いてもよい。
中間層１２の材料としては、例えば、正孔輸送性が良好なトリフェニルアミン系ポリマーを含んだものが挙げられる。

発光層１３の材料としては、蛍光または燐光を発光する発光材料を用いることが好ましい。例えば、ポリフルオレン誘導体（ＰＦ）、ポリパラフェニレンビニレン誘導体（ＰＰＶ）、ポリフェニレン誘導体（ＰＰ）、ポリパラフェニレン誘導体（ＰＰＰ）、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）等のポリチオフェニレン誘導体、ポリメチルフェニレンシラン（ＰＭＰＳ）等を用いることができる。また、これらの高分子材料に、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素等の高分子材料や、ルブレン、ペリレン、９，１０−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクドリン等低分子材料をドープしてもよい。
また、本実施形態では、好適な事例として、上記材料の中から発光波長帯域が赤色に対応した材料を用いて発光層１３を構成している。つまり、各発光画素Ｐａからは、赤色光が出射される構成となっている。また、赤色に限定されず、単色であれば良く、例えば、青色や、緑色に対応した材料を用いることもできる。
特に、赤色に対応した材料を用いた場合には、他の色調に比べて発光寿命が長いことが知られている。
また、発光層１３が赤色に対応している場合、図２の感光ドラム７１の表面（感光面）には、赤色の波長領域を感知する感光体が塗布、または貼り付けられている。

「ＥＬ層の層厚分布」
図５（ｂ）に示すように、ＥＬ層１５の厚さｔは、凹部Ｕの端部（周縁部）側が厚く形成されている。詳しくは、厚さｔは、凹部Ｕの中央部（中心点Ｃｅ）よりも、周縁部の方が厚くなっており、その厚さは、中央部周辺では略平坦で、周縁部に向って極僅かに厚さを増し、周縁部近傍ではやや傾斜が急になっている。換言すれば、極浅い皿状の厚さ分布となっており、等高線で示すとしたら、周縁部に数本の等高線が現れ、平坦部には殆ど等高線が現れない程度の厚さ分布である。
これは、いわゆるコーヒーの染み現象に起因したものであり、液状体の乾燥にともない、凹部Ｕの周縁部に析出物が厚く堆積されて形成されたものである。なお、コーヒーの染み現象とは、液体乾燥時の溶質の自発的な輸送現象である。詳しくは、液滴の乾燥にともない、液体の中心から外側に向かう微小な対流が生じ、溶質が外側に向かって移動し、周縁部に厚く堆積される現象を指す。
また、乾燥工程における乾燥が、発光装置１００全体においては基板１（図１）の外周に近い部分から始まり、また、発光画素Ｐａにおいては画素の周縁部から始まることも、上記対流を助長させているものと考察される。

このように、凹部Ｕ内において、ＥＬ層の厚さｔはバラついているが、開口部１０ｄと、開口部１０ｂとの位置は、中心点Ｃｅに対して点対称となっており、また、凹部Ｕの端部からの距離も、間隙Ｇ２で共通となっている。
よって、開口部１０ｂ、および開口部１０ｄにおけるＥＬ層の厚さｔの分布は、略同様の分布となる。
また、開口部１０ａ、および開口部１０ｃにおけるＥＬ層の厚さｔの分布も、略同様の分布となり、さらに、開口部１０ｂ，１０ｄと、開口部１０ａ，１０ｃとは、中心点Ｃｅに対して点対称となる位置に配置されている。換言すれば、開口部１０ａ〜１０ｄは、等高線状に変化する厚さｔの分布における同じ厚さ領域にレイアウトされている。
このため、開口部１０ａ〜１０ｄにおけるＥＬ層の厚さｔの分布は、略同様の分布となる。

「出射光の輝度分布」
図６（ａ），（ｂ）は、発光画素の出射光の輝度比率を示すグラフであり、図１１に対応している。
図６は、図１の左端の発光画素Ｐａにおける開口部１０ａ〜１０ｄごとの出射光の輝度比率を示したグラフであり、（ａ）には開口部１０ｂ，１０ｄのグラフが示され、（ｂ）には開口部１０ａ，１０ｃのグラフが示されている。当該グラフの縦軸は輝度比率を示し、横軸は開口部の幅を示している。
なお、輝度比率とは、各開口部が出射する光の輝度を同一条件で測定し、当該輝度を、基準輝度を１００としたときの比率で表したものである。また、輝度比率が７０％以上であれば、輝度規格は満たしている。

図６（ａ）に示すように、開口部１０ｂ，１０ｄの輝度比率は、そのピークが共に約９０％となっている。また、その分布は、中心点（線）Ｃｅに対して略対称な形状となっている。
また、図６（ｂ）に示すように、開口部１０ａ，１０ｃの輝度比率も、そのピークが共に約９０％となっている。また、その分布は、中心点（線）Ｃｅに対して略対称な形状となっている。
また、ここでは、左端の発光画素Ｐａにおける４つの開口部の輝度分布について説明したが、発光画素行の略中央に位置する発光画素や、右端の発光画素を含む他の発光画素においても、図６のグラフと略同等の測定結果が得られている。

上述した通り、本実施形態に係る発光装置１００によれば、以下の効果を得ることができる。
発光装置１００によれば、１つの大きな隔壁２０に囲まれた凹部Ｕにおいて、乾燥時に大きな対流が発生していた従来の発光装置５００（図１０）と異なり、それぞれ個別のＥＬ層１５を備えた複数の発光画素Ｐａが主走査方向に配列される構成となっている。
よって、各発光画素Ｐａにおける凹部Ｕ内での対流が相対的に小さいものとなり、ＥＬ層１５の層厚のバラつきを低減することができる。

また、Ｘ軸方向における端部の開口部１０ｊと中央部の開口部１０ｋとでは、凹部Ｕの端部からの距離が大きく異なっていた従来の発光装置と異なり、Ｘ軸方向における凹部Ｕの端部から最寄りの開口部１０までの間隙Ｇ１が複数の開口部１０のいずれにおいても略等しく設けられている。
よって、１つの発光画素内における液状体の溶媒分子分圧が均一化され、また、乾燥速度も均一化することができる。
さらに、Ｙ軸方向における凹部Ｕの端部から最寄りの開口部１０までの間隙Ｇ２が、複数の開口部１０のいずれにおいても略等しく設けられているため、１つの発光画素Ｐａ内における液状体の溶媒分子分圧がより均一化され、また、乾燥速度も均一化することができる。
従って、ＥＬ層１５の層厚を均一にすることが可能な電気光学装置を提供することができる。さらに、層厚の均一化により、輝度ムラや、発光色ムラを低減することもできる。

特に、発光画素Ｐａの輪郭、および開口部１０ａ〜１０ｄを中心点Ｃｅに対して点対称な形状としたことにより、凹部Ｕの周縁部から中心部に向って等高線が密から疎となる厚さ分布を持つＥＬ層１５において、４つの開口部を、厚さ分布における同じ厚さ領域にレイアウトすることができる。
よって、１つの発光画素Ｐａに形成された４つの開口部１０ａ〜１０ｄにおけるＥＬ層１５の厚さ（分布）を略均一に揃えることができる。
これにより、図１１に示すように、開口部の位置によってＥＬ層の厚さに差があり、それに起因して発光輝度にバラつきがあった従来の発光装置と異なり、図６に示すように、４つの開口部における輝度を略均一にすることができる。
さらに、発光画素行を構成する全ての発光画素Ｐａにおいても、図６のグラフと略同等の輝度分布が得られることから、輝度ムラや、発光色ムラを低減することができる。

また、Ｘ軸方向において、複数の発光画素Ｐａからなる発光画素行の前後に、ダミー画素Ｐｄが１つずつ形成されている。
この構成によれば、乾燥工程において、複数の発光画素Ｐａにおける液状体の溶媒分子分圧が均一化されるため、乾燥速度が均一化され、発光画素Ｐａ間におけるＥＬ層１５の層厚を均一にすることができる。

さらに、発光装置１００には、副走査方向において、同一の光出射行とみなすことが可能な２段の光出射行Ｅ１と光出射行Ｅ２とが形成されているため、例えば、光出射行Ｅ１に発光しない欠陥画素があった場合でも、光出射行Ｅ２を用いて露光を行うことができる。また、有機ＥＬには発光寿命があるため、光出射行Ｅ１の寿命が尽きた場合、光出射行Ｅ２を用いて露光を行うことができる。
つまり、スペアの光出射行を備えた使い勝手の良い発光装置１００を提供することができる。

（実施形態２）
図７は、実施形態２に係る発光装置の平面図であり、図１に対応している。
以下、本発明の実施形態２に係る電気光学装置としての発光装置１１０について説明する。
本実施形態における発光装置１１０は、発光画素Ｐａ内における４つの開口部のレイアウトが、実施形態１の発光装置１００と異なる。
ここでは、実施形態１における説明と重複する部分は省略し、相違点を中心に説明する。また、同一の構成部位については同一の番号を附している。

発光装置１１０は、図１の発光装置１００と同様に、Ｘ軸方向に沿って複数の発光画素Ｐａ、およびダミー画素Ｐｄを備えている。これらの画素配置、ピッチ、開口部の断面構成やサイズなどは、発光装置１００と同様である。
１つの発光画素Ｐａ内における４つの開口部１０ｅ〜１０ｈのレイアウトのみが、実施形態１の発光装置１００と異なる。
開口部１０ｆと開口部１０ｈとは、基準線ｋに沿って配置されている。また、２つの開口部は、中心点Ｃｅを通るＹ軸と平行な線分を挟んで、当該線分に対して線対称となるように配置されている。
開口部１０ｅと開口部１０ｇとは、中心点Ｃｅを通るＹ軸と平行な線分に沿って配置されている。また、２つの開口部は、基準線ｋを挟んで、基準線ｋに対して線対称となるように配置されている。
つまり、４つの開口部１０ｅ〜１０ｈは、中心点Ｃｅに対して点対称となるように配置されている。

また、発光装置１１０は、副走査方向に形成された３段の光出射行Ｅ１１〜Ｅ１３を備えている。
まず、光出射行Ｅ１１は、隣り合う発光画素Ｐａの開口部１０ｅがＸ軸方向にピッチｍで配列した複数の開口部１０ｅから構成される。
光出射行Ｅ１２は、隣り合う発光画素Ｐａの開口部１０ｆ，１０ｈがＸ軸方向にピッチｍ／２で配列した複数の開口部１０ｆ，１０ｈから構成される。
そして、光出射行Ｅ１３は、隣り合う発光画素Ｐａの開口部１０ｇがＸ軸方向にピッチｍで配列した複数の開口部１０ｇから構成される。

ここで、図７における右端（Ｘ軸（＋）側）の発光画素Ｐａに示すように、Ｘ軸方向における発光画素Ｐａの隔壁の内周縁と、開口部１０ｆ（１０ｈ）との間は、間隙（距離）Ｇ１開いている。
また、Ｙ軸方向においては、隔壁の内周縁と、開口部１０ｅ（１０ｇ）との間は、間隙Ｇ２開いている。
また、発明者等の実験結果によれば、１つの発光画素Ｐａ内における４つの開口部の輝度分布は、略均一となり、図６のグラフと略同等の測定結果が得られている。

上述した通り、本実施形態に係る発光装置１１０によれば、実施形態１と同様に、以下の効果を得ることができる。
発光画素Ｐａの輪郭、および開口部１０ｅ〜１０ｈを中心点Ｃｅに対して点対称な形状としたことにより、凹部Ｕの周縁部から中心部に向って等高線が密から疎となる厚さ分布を持つＥＬ層１５において、４つの開口部を、厚さ分布における同じ厚さ領域にレイアウトすることができる。
よって、１つの発光画素Ｐａに形成された４つの開口部１０ｅ〜１０ｈにおけるＥＬ層１５の厚さ（分布）を略均一に揃えることができる。
従って、ＥＬ層１５の層厚を均一にすることが可能な発光装置１１０を提供することができる。さらに、層厚の均一化により、輝度ムラや、発光色ムラを低減することもできる。

（実施形態３）
図８は、実施形態３に係る発光装置の平面図であり、図１に対応している。
以下、本発明の実施形態３に係る電気光学装置としての発光装置１２０について説明する。
本実施形態における発光装置１２０は、１つの発光画素に２つの開口部が形成されていること、および主走査方向にシフトした２段の画素行を備えていることが、実施形態１の発光装置１００と異なる。
ここでは、上記各実施形態における説明と重複する部分は省略し、相違点を中心に説明する。また、同一の構成部位については同一の番号を附している。

図８に示すように、発光装置１２０の発光画素Ｐａおよびダミー画素Ｐｄの輪郭は、略同一半径の２つの半円間を直線で結んだ形状、換言すれば、Ｙ軸方向に長いトラック形状となっている。
また、１つの発光画素Ｐａには、Ｙ軸方向に沿って２つの開口部１０ａ，１０ｃが配列されている。開口部１０ａと開口部１０ｃとは、基準線ｋに対して線対称となるように配置されている。開口部１０ａ，１０ｃを含む発光画素Ｐａの輪郭は、中心点Ｃｅに対して点対称な形状となっている。
発光画素Ｐａおよびダミー画素Ｐｄは、基準線ｋ上においてピッチｍ／２で配列している。また、発光画素Ｐａは、Ｙ軸に平行な線分である開始線１２１を起点として配列されている。
つまり、発光装置１２０の隣り合う２つの発光画素Ｐａを一体化すると、図１の１つの発光画素に相当する位置関係になっている。このため、２つの開口部の附番を、図１の附番に合せている。

また、図８における右端（Ｘ軸（＋）側）の発光画素Ｐａに示すように、Ｘ軸方向における発光画素Ｐａの隔壁の内周縁と、開口部１０ａ（１０ｃ）との間は、間隙（距離）Ｇ１開いている。
また、Ｙ軸方向においては、隔壁の内周縁と、開口部１０ａ（１０ｃ）との間は、間隙Ｇ２開いている。
また、発明者等の実験結果によれば、１つの発光画素Ｐａ内における２つの開口部の輝度分布は、略均一となり、図６（ｂ）のグラフと略同等の測定結果が得られている。

ここまで説明した、基準線ｋに沿って配列された画素行を第１画素行としたときに、第１画素行の下段（Ｙ軸（−）側）にも、基準線ｋ２に沿った第２画素行が設けられている。なお、基準線ｋ２は、基準線ｋと略平行な線分である。
第２画素行は、主走査方向の起点（配置）が異なること以外は、第１画素行と同一の画素行である。第２画素行は、第１画素行の起点である開始線１２１から、ｍ／４（画素ピッチの半分）Ｘ軸（＋）方向にシフトした基準線１２２を起点として、ピッチｍ／２でＸ軸方向に配列している。
換言すれば、主走査方向における第１画素行の発光画素Ｐａ（の開口部）と、第２画素行の発光画素Ｐａ（の開口部）との位置は、ｍ／４、主走査方向にシフトして配置されている。
また、発光装置１２０では、画素行を２段備えているため、それに伴い、基板１のサイズが大きくなっている。

このような構成の発光装置１２０は、副走査方向に４段に形成された光出射行Ｅ１〜Ｅ４を備えている。
光出射行Ｅ１は、第１画素行の隣り合う開口部１０ａの配列から構成される。
光出射行Ｅ２は、第１画素行の隣り合う開口部１０ｃの配列から構成される。
光出射行Ｅ３は、第２画素行の隣り合う開口部１０ａの配列から構成される。
光出射行Ｅ４は、第２画素行の隣り合う開口部１０ｃの配列から構成される。
また、図３の画素回路においては、第１画素行と同じ画素回路が、第２画素行にも形成されている。発光装置１２０を点灯駆動する場合には、走査線駆動回路１７によって、第１画素行、第２画素行の順番に走査信号が供給され、感光ドラム７１の回転に同期して、交互に点灯駆動される。

上述した通り、本実施形態に係る発光装置１２０によれば、実施形態１の効果と同様に、以下の効果を得ることができる。
発光画素Ｐａの輪郭、および開口部１０ａ，１０ｃを中心点Ｃｅに対して点対称な形状としたことにより、凹部Ｕの周縁部から中心部に向って等高線が密から疎となる厚さ分布を持つＥＬ層１５において、２つの開口部を、厚さ分布における同じ厚さ領域にレイアウトすることができる。
つまり、１つの発光画素Ｐａに２つの開口部が形成された構成においても、凹部Ｕの周縁部から開口部までの間隙を略均一にすることにより、開口部におけるＥＬ層１５の厚さ（分布）を略均一にすることができる。
従って、ＥＬ層１５の層厚を均一にすることが可能な発光装置１２０を提供することができる。さらに、層厚の均一化により、輝度ムラや、発光色ムラを低減することもできる。

図２で説明した通り、発光装置１２０は、感光ドラム７１の回転に同期して、点灯駆動されるため、感光ドラム７１の水平方向（Ｘ軸方向）における１つの感光行に対して、第１画素行により光を照射した後、感光ドラム７１を１画素行分回転させて、第２画素行による照射を行えば、１つの感光行に対して２倍の解像度による露光を行うことができる。
例えば、ピッチｍ／２が、約０．０４２ｍｍである場合には、１つの画素行における水平解像度は、約６００ｄｐｉであるが、主走査方向に画素ピッチが半分シフトしてレイアウトされた第１画素行と第２画素行とで、時系列に照射することにより、約１２００ｄｐｉの水平解像度による露光を行うことができる。
従って、高解像度の発光装置１２０を提供することができる。

また、第１画素行には同一の光出射行とみなすことが可能な２段の光出射行Ｅ１と光出射行Ｅ２とが形成され、第２画素行には同一の光出射行とみなすことが可能な２段の光出射行Ｅ３と光出射行Ｅ４とが形成されている。
よって、例えば、光出射行Ｅ１に発光しない欠陥画素があった場合でも、光出射行Ｅ２を用いて露光を行うことが可能であり、また、光出射行Ｅ４に発光しない欠陥画素があった場合でも、光出射行Ｅ３を用いることができる。
つまり、スペアの光出射行を備えた使い勝手の良い発光装置１２０を提供することができる。

（電子機器）
図９は、上述の発光装置を露光ヘッドの光源として備えた電子機器としてのプリンタを示す模式断面図である。
以下、電子写真方式のプリンタ３００の構成について、図９を中心に、適宜、図２を交えながら説明する。
プリンタ３００は、上述の発光装置１００〜１２０のいずれかを光源とした４つの露光ヘッド２００Ｋ，２００Ｃ，２００Ｍ，２００Ｙと、これらの露光ヘッドに対応する４個の感光ドラム（像担持体）７１Ｋ，７１Ｃ，７１Ｍ，７１Ｙとを備えた、タンデム型の電子写真方式プリンタである。
なお、以降の説明において、発光装置１００〜１２０を総称する場合には、発光装置１００と表現する。また、４つの露光ヘッドを総称する場合、または、代表として説明する場合には、露光ヘッド２００という表現を用いることがある。感光ドラム７１という表現も、同様の意味で用いる場合がある。

図２に示すように、露光ヘッド２００は、円柱状の感光ドラム７１と平行に、これと対向した状態で用いられる。換言すれば、感光ドラム７１の回転軸７９と平行に、かつ、露光ヘッド２００から出射される光が、回転軸７９を照射するように配置されている。
光学部材としてのレンズアレイ１８０は、セルフォック（登録商標）レンズであり、発光装置１００から入射する光を、感光ドラム７１の表面で集光し、露光（描画）する。

図９に戻る。
プリンタ３００は、駆動ローラ９１と従動ローラ９２とテンションローラ９３とを備え、これらの各ローラに中間転写ベルト９０を、矢印方向（反時計方向）に循環駆動するよう張架したものである。
この中間転写ベルト９０に対して、感光ドラム７１Ｋ，７１Ｃ，７１Ｍ，７１Ｙが所定間隔で配置されている。これら感光ドラム７１Ｋ，７１Ｃ，７１Ｍ，７１Ｙは、その外周面が像担持体としての感光層となっている。
なお、上記符号中のＫ、Ｃ、Ｍ、Ｙは、それぞれ黒、シアン、マゼンタ、イエローを意味し、それぞれ黒、シアン、マゼンタ、イエロー用の感光体であることを示している。
また、これら符号（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の意味は、他の部材についても同様である。感光ドラム７１は、中間転写ベルト９０の駆動と同期して、それぞれが矢印方向（時計方向）に回転駆動するようになっている。

感光ドラム７１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の周囲には、それぞれ感光ドラム７１の外周面を一様に帯電させる帯電手段（コロナ帯電器）７２（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）と、この帯電手段７２（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）によって一様に帯電させられた外周面を感光ドラム７１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の回転に同期して順次ライン走査する露光ヘッド２００（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）とが設けられている。
また、露光ヘッド２００（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）で形成された静電潜像に現像剤としてのトナーを付与して可視像（トナー像）とする現像装置７４（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）と、現像装置７４（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）で現像されたトナー像を一次転写対象としての中間転写ベルト９０に順次転写する転写手段としての一次転写ローラ７５（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）とが設けられている。
また、転写された後に感光ドラム７１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の表面に残留しているトナーを除去するクリーニング手段としてのクリーニング装置７６（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）がそれぞれ設けられている。

また、露光ヘッド２００（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の主発光波長と、感光ドラム７１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の感度ピーク波長とが略一致するように設定されている。
現像装置７４（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）は、例えば、現像剤として非磁性一成分トナーを用いている。そして、その一成分現像剤を例えば供給ローラで現像ローラへ搬送し、現像ローラ表面に付着した現像剤の膜厚を規制ブレードで規制し、その現像ローラを感光ドラム７１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）に接触させるか、または押圧せしめることにより、感光ドラム７１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の電位レベルに応じて現像剤を付着させ、トナー像として現像する。

このような４色の単色トナー像形成ステーションにより形成された黒、シアン、マゼンタ、イエローの各トナー像は、一次転写ローラ７５（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）に印加される一次転写バイアスによって中間転写ベルト９０上に順次一次転写される。
そして、中間転写ベルト９０上で順次重ね合わされてフルカラーとなったトナー像は、二次転写ローラ６６において「紙」等の記録媒体Ｒに二次転写され、更に、定着部である定着ローラ対６１を通ることで記録媒体Ｒ上に定着される。その後、記録媒体Ｒは、排紙ローラ対６２によって装置上部に形成された排紙トレイ６８上に排出される。

また、給紙カセット６３は、複数枚の記録媒体Ｒを保持するための着脱自在に設けられた用紙ホルダであり、ピックアップローラ６４は給紙カセット６３から記録媒体Ｒを一枚ずつ給送するためのローラ部材である。
ゲートローラ対６５は、二次転写部としての二次転写ローラ６６への記録媒体Ｒの供給タイミングを規定するためのローラ部材である。
また、クリーニングブレード６７は、二次転写後に中間転写ベルト９０の表面に残留しているトナーを除去するためのクリーニング部材である。

上述したように、プリンタ３００は、露光ヘッド２００の光源として、輝度ムラや、発光色ムラが低減された発光装置１００を備えている。
従って、プリンタ３００によれば、均一な露光による高品位な画像を得ることができる。

また、電子機器としてはプリンタに限定するものではなく、各種照明装置や、表示装置などにも適用することができる。
また、表示装置に適用する場合には、上記発光装置の画素行を複数段形成してマトリックス状の表示エリアを構成するとともに、画素行における発光色を赤、緑、青の繰り返しパターンとする。これにより、フルカラーの有機ＥＬパネルを構成することができる。
この有機ＥＬパネルは、例えば、携帯電話、カーナビゲーションシステム用の表示装置や、ＰＤＡ（Personal Digital Assistants）、モバイルコンピュータ、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、車載機器、オーディオ機器などの各種電子機器に用いることができる。
これらの電子機器によれば、輝度ムラや、発光色ムラが低減された高品位の表示を得ることができる。

なお、本発明は上述した実施形態に限定されず、上述した実施形態に種々の変更や改良などを加えることが可能である。変形例を以下に述べる。

（変形例１）
図１２は、変形例１に係る発光装置の断面図であり、図４に対応している。
実施形態１の発光装置１００では、ボトムエミッション型を採用していたが、トップエミッション型であっても良い。
図１２は、発光装置１００をトップエミッション型で構成する場合における図１のｑ−ｑ断面を示している。なお、この場合、図１は基板１側からの透過平面図となる。
なお、実施形態１における説明と重複する部分は省略し、相違点を中心に説明する。また、同一の構成部位については同一の番号を附して説明する。

トップエミッション型の発光装置は、基板１、反射層３０、素子層６、絶縁層７、画素電極１０、隔壁２０、ＥＬ層１５、共通電極３３、封止層３５などから構成されている。この構成は、発光装置の厚さ方向（Ｚ軸方向）の構成が、図４のボトムエミッション型の構成と、略反転しており、トップエミッション型の場合、白抜きの矢印で示すように、発光画素Ｐａの凹部Ｕ側から光を出射する。
トップエミッション型において固有な構成部位は、反射層３０、共通電極３３、および封止層３５であり、他の構成部位は、実施形態１での説明と略同様である。
反射層３０は、ＡｌやＡｇ、またはそれらの合金などから構成された全反射膜である。また、凹部Ｕ側から光を出射する構成であるため、基板１も透明である必要はなく、金属を用いても良い。
共通電極３３は、ＭｇＡｇなどの金属を、光が透過できる程度にごく薄く成膜した金属薄膜層から構成されており、ハーフミラーとしての光学作用を有している。
封止層３５は、ＳｉＯ₂や、Ｓｉ₃Ｎ₄などの透明で、かつ、水分を遮断する機能を有する封止層であり、ＥＬ層１５に水分が浸入することを防止するガスバリア層である。

このような構成において、ＥＬ層１５から放射される光のうち、共通電極３３側に進む光は、その大半が共通電極３３を透過して、白矢印で示されるように、封止層３５からＺ軸（＋）方向に出射される。また、画素電極１０側に進む光は、反射層３０で反射され、ＥＬ層１５を介して、白矢印で示される光に合成されて、封止層３５からＺ軸（＋）方向に出射される。また、共通電極３３で反射された光も、反射層３０との間で反射を繰り返し、その多くが、封止層３５から出射されることになる。
また、その他の構成、および間隙Ｇ２などの寸法関係は、Ｚ軸方向が反転していることを除いて、実施形態１での説明と同じである。
上述した通り、本変形例に係るトップエミッション型の発光装置であっても、実施形態１の発光装置１００と同様の作用効果を得ることができる。また、他の各実施形態の構成も適用が可能であり、同様の作用効果を得ることができる。

（変形例２）
図１を用いて説明する。
図１の発光装置１００において、各発光画素Ｐａにさらに光センサを設けた構成であっても良い。詳しくは、発光画素Ｐａの画素電極１０の隣（例えば、間隙Ｇ２部）に、フォトダイオードを形成する。なお、光センサは、フォトダイオードに限定するものではなく、例えば、フォトトランジスタや、ＣｄＳ（硫化カドミウム）セルを用いた光センサであっても良い。
これらの構成によれば、当該画素が出射した光の反射光を検知することできるため、例えば、スキャナーのスキャンヘッド（発光兼、受光装置）に発光装置１００を適用することができる。

（変形例３）
図１３は、変形例３に係る発光装置の平面図であり、図１に対応している。
図１４は、変形例３に係る発光装置の平面図であり、図７に対応している。
図１の発光装置１００は、１つの画素行を備えた構成であったが、複数段の画素行を備えた構成であっても良い。また、図７の発光装置１１０についても、同様に複数段の画素行を備えた構成であっても良い。

図１３の発光装置１３０は、図１の発光装置１００における画素行（第１画素行）と、その下段（Ｙ軸（−）側）に配置された第２画素行との２段の画素行を備えている。第２画素行は、主走査方向の起点（配置）が異なること以外は、第１画素行と同一の画素行である。
第２画素行は、第１画素行の起点である開始線１３１から、ｍ／４（開口部ピッチの半分）Ｘ軸（＋）方向にシフトした基準線１３２を起点として、ピッチｍでＸ軸方向に配列している。換言すれば、主走査方向における第１画素行の発光画素Ｐａと、第２画素行の発光画素Ｐａとの位置は、ｍ／４、主走査方向にシフトして配置されている。
この構成によれば、実施形態３（図８）と同様な４つの光出射行が形成されるため、同様な作用効果を得ることができる。よって、高解像度の発光装置１３０を提供することができる。

図１４の発光装置１４０は、図７の発光装置１１０における画素行（第１画素行）と、その下段（Ｙ軸（−）側）に配置された第２画素行との２段の画素行を備えている。第２画素行は、主走査方向の起点（配置）が異なること以外は、第１画素行と同一の画素行である。
第２画素行は、第１画素行の起点である開始線１４１から、ｍ／２（開口部１０ｆピッチの半分）Ｘ軸（＋）方向にシフトした基準線１４２を起点として、ピッチｍでＸ軸方向に配列している。換言すれば、主走査方向における第１画素行の発光画素Ｐａと、第２画素行の発光画素Ｐａとの位置は、ｍ／２、主走査方向にシフトして配置されている。
この構成によれば、図１４に示すように、Ｘ軸方向のピッチｍ／４ごとに、第１画素行、または第２画素行のいずれかの開口部が位置している。つまり、主走査方向にピッチｍ／４で開口部がレイアウトされていることになる。
よって、ピッチｍ／４で配置された開口部を感光ドラム７１の回転に同期して、選択的に点灯駆動することによって、実施形態３（図８）と同様に、高解像度の露光を行うことができる。従って、高解像度の発光装置１４０を提供することができる。

（変形例４）
図８を用いて説明する。
図８の発光装置１２０では、画素行は第１画素行と第２画素行との２行構成であるものとして説明したが、第１画素行と第２画素行との２行からなる構成を１つの発光ユニットとして、この発光ユニットを複数段、副走査方向に配列する構成であっても良い。発光ユニット数は、例えば、３〜５ユニットとすることが好ましい。
前述した通り、主走査方向に画素ピッチが半分シフトしてレイアウトされた第１画素行と第２画素行とによる構成によって、水平解像度を倍にすることができるため、上記構成によれば、高解像度の発光ユニットが、副走査方向に複数段、配列されることになる。
よって、変形例４に係る発光装置によれば、副走査方向において、同一の画素ピッチの発光ユニットが複数段形成されているため、例えば、第１発光ユニットに発光しない欠陥画素があった場合でも、第２発光ユニット、または第３発光ユニットによって露光を行うことができる。

また、有機ＥＬには発光寿命があるため、第１発光ユニットの寿命が尽きた場合、第２発光ユニット、または第３発光ユニットを用いて露光を行うことができる。
従って、使い勝手が良く、長寿命の発光装置を提供することができる。また、複数の発光ユニットのうち、最低１つのユニットに画素欠陥がなければ、発光装置として使用することが可能であるため、製造歩留りを高めることができる。換言すれば、製造歩留りが高いことから、製造コストを抑制することができる。
また、図１３の発光装置１３０、図１４の発光装置１４０においても、同様に複数ユニット化しても良い。これらの構成であっても、変形例４と同様の作用効果を得ることができる。

（変形例５）
図１５は、変形例５に係る発光装置の平面図であり、図１に対応している。
図１６は、変形例５に係る発光装置の平面図であり、図８に対応している。
図１の発光装置１００は、２段の光出射行Ｅ１，Ｅ２が同一の光出射行とみなすことが可能な構成であったが、図１５に示すように、光出射行Ｅ２は光出射行Ｅ１の起点である開始線１５１から、ｍ／４（画素ピッチの半分）Ｘ軸（−）方向にシフトした基準線１５２を起点として、ピッチｍ／２でＸ軸（＋）方向に配列している。
換言すれば、主走査方向における光出射行Ｅ１の開口部１０ａと、光出射行Ｅ２の開口部１０ｃとの位置は、ｍ／４、主走査方向にシフトして配置されている。
また、図８の発光装置１２０は、２段の光出射行Ｅ１，Ｅ２が同一の光出射行とみなすことが可能であり、また、２段の光出射行Ｅ３，Ｅ４が同一の光出射行とみなすことが可能であり、光出射行Ｅ３は光出射行Ｅ１の起点である開始線１２１から、ｍ／４（画素ピッチの半分）Ｘ軸（＋）方向にシフトした基準線１２２を起点として、ピッチｍでＸ軸（＋）方向に配列している構成であったが、図１６に示すように、主走査方向における光出射行Ｅ１の開口部１０ｉと、光出射行Ｅ２の開口部１０ｊとの位置をｍ／２主走査方向にシフトして配置した構成とし、主走査方向における光出射行Ｅ１の開口部１０ｉと、光出射行Ｅ３の開口部１０ｋとの位置をｍ／４主走査方向にシフトして配置した構成とし、主走査方向における光出射行Ｅ３の開口部１０ｋと、光出射行Ｅ４の開口部１０ｌとの位置をｍ／２主走査方向にシフトして配置した構成としても良い。
このような構成としても、それぞれ実施形態１（図１）、実施形態３（図８）と同様な作用効果を得ることができる。

１…基板、１０…画素電極、１０ａ〜１０ｈ…開口部、１５…電気光学層としてのＥＬ層、２０…隔壁、１００〜１４０…電気光学装置としての発光装置、１８０…光学部材としてのレンズアレイ、２００…露光ヘッド、３００…電子機器としてのプリンタ、Ｃｅ…中心点、Ｇ１，Ｇ２…間隙、Ｕ…凹部、Ｐａ…発光画素、Ｐｄ…ダミー画素。

Claims (11)

1. 第１の方向に略等間隔に配列された複数の発光画素を備えた電気光学装置であって、
   前記複数の発光画素の各々は、
   発光画素の輪郭を形成する隔壁に囲まれて構成された凹部と、
   前記凹部に形成された電気光学層と、
   前記凹部に形成され、前記電気光学層が放射する光を出射する複数の開口部と、を少なくとも有し、
   前記第１の方向における前記凹部の端部から開口部までの間隙のうち最短のものが、前記複数の開口部のいずれにおいても略等しく設けられ、
   さらに、前記第１の方向と交差する第２の方向における前記凹部の端部から開口部までの間隙のうち最短のものが前記複数の開口部のいずれにおいても略等しく設けられてなることを特徴とする電気光学装置。
2. 前記凹部は、平面視において前記凹部の中心点を中心とした点対称な形状であり、前記複数の開口部は平面視において前記凹部の中心点を中心とした点対称に配置されていることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
3. 前記凹部は、４つの頂点に丸み（角Ｒ）を付けた略長方形をなし、
   １つの前記凹部に形成されている前記複数の開口部の数は４つであり、
   前記４つの開口部は、前記長方形の辺に沿って行列をなして配置されていることを特徴とする請求項１または２に記載の電気光学装置。
4. 前記凹部は、４つの頂点に丸み（角Ｒ）を付けた略長方形をなし、
   １つの前記凹部に形成されている前記複数の開口部の数は４つであり、
   前記４つの開口部のうち、２つの開口部は、前記凹部の中心点を挟むとともに、
   前記中心点から前記第１の方向に延在する線分に沿って配置され、
   残りの２つの開口部は、前記凹部の中心点を挟むとともに、前記中心点から前記第２の方向に延在する線分に沿って配置されていることを特徴とする請求項１または２に記載の電気光学装置。
5. 前記第１の方向における前記発光画素の配列の前後には、ダミー発光画素が形成され、
   前記ダミー発光画素は、前記隔壁によって前記ダミー発光画素の輪郭を形成されており、
   前記隔壁囲まれて構成された前記ダミー発光画素用の凹部には、前記発光画素と同様な前記電気光学層が形成されることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の電気光学装置。
6. 前記複数の発光画素のうち、前記第１の方向に連続して配列された複数の発光画素を含む第１画素行と、
   前記第１画素行の前記第２の方向側に配置され、前記第１画素行と同様の配列である複数の発光画素を含む第２画素行と、を備え、
   前記第１画素行の発光画素と、前記第２画素行の発光画素との位置は、前記第２画素行の発光画素の開口部が前記第１画素行の発光画素の開口部に対して、所定ピッチ分前記第１方向にシフトしていることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の電気光学装置。
7. 前記電気光学層は、前記凹部に液滴吐出法によって塗布した液状体を乾燥させて形成した有機ＥＬ層であり、
   前記開口部は、画素電極と前記電気光学層との間に形成された絶縁膜に形成されており、前記絶縁膜から前記画素電極の少なくとも一部が露出するように設けられていることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の電気光学装置。
8. 前記複数の開口部は、前記第１の方向に連続して配置された複数の開口部を含む第１光出射行と、前記第１光出射行の前記第２の方向側に配置され、前記第１光出射行と同様の配列である複数の開口部を含む第２出射行とを有し、
   前記第１光出射行の発光画素と、前記第２光出射行の発光画素との位置は、前記第２光出射行の発光画素の開口部が第１光出射行の発光画素の開口部に対して、所定ピッチ分前記第１方向にシフトしていることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の電気光学装置。
9. 前記第１画素行に含まれる前記複数の開口部は、前記第１の方向に連続して配置された複数の開口部を含む第１光出射行と、前記第１光出射行の前記第２の方向側に配置され、前記第１光出射行と同様の配列である複数の開口部を含む第２出射行とを有し、
   前記第１光出射行の発光画素と、前記第２光出射行の発光画素との位置は、前記第２光出射行の発光画素の開口部が第１光出射行の発光画素の開口部に対して、所定ピッチ分前記第１方向にシフトしていることを特徴とする請求項６に記載の電気光学装置。
10. 請求項１〜９のいずれか一項に記載の電気光学装置と、
    前記電気光学装置の前記発光画素が出射する光を所定の位置に集光させる光学部材とを、少なくとも備えたことを特徴とする電子機器。
11. 第１の方向に配列された複数の発光画素を備えた電気光学装置であって、
    前記複数の発光画素の各々は、発光画素の輪郭を形成する隔壁に囲まれて構成された凹部と、前記凹部に形成された電気光学層と、前記凹部に形成され、前記電気光学層が放射する光を出射する複数の開口部と、を少なくとも有し、前記第１の方向における前記凹部の端部から開口部までの間隙のうち最短のものが、前記複数の開口部のいずれにおいても略等しく設けられ、
    さらに、前記第１の方向と交差する第２の方向における前記凹部の端部から開口部までの間隙のうち最短のものが前記複数の開口部のいずれにおいても略等しく設けられてなり、
    前記電気光学層を形成する工程は、
    前記電気光学層を構成する溶質を溶解または分散した溶液を前記凹部に液滴吐出法によって塗布する工程と、
    前記溶質を乾燥させる工程と、を含むことを特徴とする電気光学装置の製造方法。

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