JP2010164885A - 電気光学装置の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】液晶装置等の電気光学装置を製造する際に、好適にラビング処理を行う。
【解決手段】電気光学装置の製造方法は、基板（２０）上に設けられた配向膜（２２）にラビング材（３２０）を接触させた状態で、配向膜に対してラビング材を第１の方向に沿って相対的に移動させ、ラビング処理を施す第１ラビング工程と、第１ラビング工程の後に、配向膜にラビング材を接触させない状態で、配向膜に対してラビング材を第１の方向に交わる第２の方向に沿って相対的に移動させる移動工程と、移動工程の後に、配向膜にラビング材を接触させた状態で、配向膜に対してラビング材を第１の方向に沿って相対的に移動させ、ラビング処理を施す第２ラビング工程とを含む。
【選択図】図１２

Description

本発明は、例えば液晶装置等の電気光学装置を製造する方法の技術分野に関する。

この種の電気光学装置として、例えば一対の基板間に液晶層を挟持してなる液晶装置がある。このような液晶装置では、一対の基板の液晶層に接する面に、電圧無印加時における液晶分子の配列を揃えるためのラビング処理が施された配向膜が設けられる。

ラビング処理は、例えばラビングクロスを表面に備えるラビングローラーで、配向膜の表面を擦ることによって施される。この際、基板上に設けられた配向膜に対するラビングローラーの接触の強弱は、基板における段差等によって不均一となってしまう。このため、例えば特許文献１では、ラビングローラーを揺動させながらラビング処理を行うという技術が開示されている。

特開平１０−３１９４０２号公報

しかしながら、上述した技術では、ラビング処理中にラビングローラーを揺動させているため、配向膜に形成されるラビング溝の方向が、ラビングローラーの揺動に起因してばらついてしまう。よって、上述した技術には、仮にラビングローラーの接触の強弱を均一にすることができたとしても、液晶分子の配列を揃えるという配向膜本来の機能を保つことが極めて困難であるという技術的問題点がある。

本発明は、例えば上述した問題点に鑑みなされたものであり、好適にラビング処理を行うことが可能な電気光学装置の製造方法を提供することを課題とする。

本発明の電気光学装置の製造方法は上記課題を解決するために、基板上に設けられた配向膜にラビング材を接触させた状態で、前記配向膜に対して前記ラビング材を第１の方向に沿って相対的に移動させ、ラビング処理を施す第１ラビング工程と、前記第１ラビング工程の後に、前記配向膜に前記ラビング材を接触させない状態で、前記配向膜に対して前記ラビング材を前記第１の方向に交わる第２の方向に沿って相対的に移動させる移動工程と、前記移動工程の後に、前記配向膜に前記ラビング材を接触させた状態で、前記配向膜に対して前記ラビング材を第１の方向に沿って相対的に移動させ、ラビング処理を施す第２ラビング工程とを含む。

本発明の電気光学装置の製造方法によれば、先ず第１ラビング工程において、基板上に設けられた配向膜に対して、例えばラビングクロス等のラビング材が接触した状態とされ、配向膜及びラビング材が第１の方向に沿って相対的に移動させられる。尚、本発明における「相対的に移動」とは、配向膜及びラビング材の相対的な位置関係を変化させるような移動であり、配向膜及びラビング材の一方のみを動かすことによって実現されてもよいし、配向膜及びラビング材の両方を動かすことによって実現されてもよい。

上述した動作を行うことにより、配向膜に対してラビング材が擦りつけられ、配向膜表面にラビング処理が施される。具体的には、配向膜の表面に、第１の方向に沿った微細なラビング溝が形成される。ラビング溝は、配向膜に対向するように配置される電気光学物質（例えば、液晶等）の配向方向を揃える機能を有している。

続く移動工程では、配向膜にラビング材を接触させない状態で、配向膜及びラビング材が第１の方向に交わる第２の方向に沿って相対的に移動させられる。移動工程における配向膜及びラビング材の移動では、配向膜及びラビング材が互いに接触していないため、ラビング溝は形成されない。

続く第２ラビング工程では、再び配向膜にラビング材が接触した状態とされ、配向膜及びラビング材が第１の方向に沿って相対的に移動させられる。これにより、第１ラビング工程と同様に、配向膜に対してラビング材が擦りつけられ、ラビング処理が施される。第２ラビング工程は、第１ラビング工程と移動方向は同じ（即ち、第１の方向）であるので、ラビング溝も同じ方向に沿って形成される。

ここで本発明では特に、第１ラビング工程及び第２ラビング工程間に、移動工程が含まれているため、第１ラビング工程と第２ラビング工程とでは、配向膜及びラビング材の第２方向に係る相対的な位置関係が互いに異なった状態となる。即ち、第１ラビング工程と第２ラビング工程とでは、ラビング処理に係る移動方向は同じであるものの、配向膜及びラビング材が第２の方向にずれた状態で行われる。

第１ラビング工程及び第２ラビング工程は、上述したように配向膜及びラビング材が接触した状態で行われる。この際、配向膜及びラビング材の接触の強弱は、配向膜が設けられる基板等の段差のため、位置によって異なる。言い換えれば、配向膜及びラビング材は、全ての箇所において均一な強度で接触している状態ではない。よって、ラビング処理におけるラビング材へのダメージも、位置によって異なる。

より具体的には、例えば基板が配向膜に対して凸となっている部分や段差が大きい部分は、基板が配向膜に対して凹んでいる部分や平坦な部分と比べて、ラビング材に与えてしまうダメージが大きい。仮に、このようなダメージが集中的にラビング材に与えられてしまうと、例えばラビング材を構成する材料における切れ毛や抜け毛が発生し、配向膜に意図しない傷（即ち、ラビング溝以外の傷）が発生してしまうおそれがある。配向膜上の意図しない傷は、製造された装置で表示される画像の品質を低下させる原因となる。

しかるに本発明では特に、移動工程において、配向膜及びラビング材の第２方向に係る相対的な位置関係が変化させられるため、ラビング材の同一箇所にダメージが蓄積してしまうことを防止できる。即ち、第１ラビング工程と第２ラビング工程とで、ラビング材へのダメージが大きくなってしまう位置が変化するため、ラビング処理を繰り返すことによるラビング材の局所的な劣化を、極めて効果的に低減することができる。

ちなみに、移動工程における第２方向に沿った移動は、典型的には、ラビング材へのダメージが均一となるように（即ち、ダメージがラビング材の同じ箇所に集中しないように）、予め移動幅等を決定した上で行われる。具体的には、移動工程における移動幅をラビング材の材質や基板の段差等に基づいて決定しておけば、より効果的に上述した効果を得ることが可能である。

尚、本発明における第１ラビング工程及び第２ラビング工程は、夫々１回のラビング処理（即ち、配向膜とラビング材を一度だけ擦り合わせる処理）のみを指すものではなく、各々が複数回のラビング処理をも含む概念である。即ち、移動工程は、１回のラビング処理毎に行われなくともよい。このことからすれば、第１ラビング工程においてラビング処理が施される配向膜と、第２ラビング工程においてラビング処理が施される配向膜とは、相異なるものであってもよい。即ち、移動工程は、ラビング処理を施す配向膜が入れ替わる際や、所定数の配向膜に対するラビング処理が終了する毎に行われてもよい。

以上説明したように、本発明の電気光学装置の製造方法によれば、ラビング材への局所的なダメージの蓄積を防止することができるため、高品質な画像を表示することが可能な電気光学装置を好適に製造することが可能である。

本発明の電気光学装置の製造方法の一態様では、前記ラビング材は、表面に複数の毛束を有するように構成されており、前記移動工程において、前記ラビング材は前記配向膜に対して、少なくとも前記毛束のピッチ分、前記第２の方向に沿って相対的に移動される。

この態様によれば、ラビング材は、例えばラビングクロス等の繊維状の材料を含むものであり、表面に複数の毛束を有するように構成されている。そして特に、第１ラビング工程及び第２ラビング工程間に行われる移動工程において、ラビング材が、配向膜に対して少なくとも毛束のピッチ（即ち、互いに隣り合う毛束同士の間隔）分、第２の方向に沿って相対的に移動される。即ち、移動工程における移動幅は、ラビング材における毛束のピッチに基づいて決定されている。

尚、毛束のピッチ幅は、例えばラビング材の下地部分に編み込まれている縦糸及び横糸のピッチに依存している。よって、このようなピッチ幅と関係を有する各種パラメーターに基づいて、移動工程における移動幅を決定することもできる。

上述したように移動工程を行うことで、第１ラビング工程と第２ラビング工程とで、同じ毛束が配向膜の同じ部分に接触することを防止することができる。即ち、同じ毛束に同様のダメージが加わり続けることを防止することができる。従って、ラビング処理を繰り返すことによるラビング材の劣化を、極めて効果的に低減することができる。

本発明の電気光学装置の製造方法の他の態様では、前記基板は、前記第２の方向に沿って、互いに隣り合う基板間の隙間が所定の値となるように複数並べられており、前記移動工程において、前記ラビング材は前記配向膜に対して、少なくとも前記所定の値分、前記第２の方向に沿って相対的に移動される。

この態様によれば、配向膜が設けられる基板は、第２の方向に沿って、互いに隣り合う基板間の隙間が所定の値となるように複数並べられている。複数の基板が第２の方向に沿って並べられることで、複数の基板に対して同時にラビング処理が施すことが可能となる。但し、互いに隣り合う基板同士の間に存在する所定の値の隙間に起因して、多少の段差が生じてしまう場合がある。

本態様では特に、第１ラビング工程及び第２ラビング工程間に行われる移動工程において、ラビング材が、配向膜に対して少なくとも所定の値分、第２の方向に沿って相対的に移動される。即ち、移動工程における移動幅は、互いに隣り合う基板同士の隙間に基づいて決定されている。

上述したように移動工程を行うことで、第１ラビング工程と第２ラビング工程とで、ラビング材における同じ箇所が、基板間の隙間に起因する段差によるダメージを受け続けることを防止することができる。具体的には、ラビング材のうち、第１ラビング工程において基板間の隙間部分に接触していた箇所は、移動工程において第２方向に沿って移動されることで、第２ラビング工程においては基板間の隙間以外の部分に接触することとなる。従って、ラビング処理を繰り返すことによるラビング材の劣化を、極めて効果的に低減することができる。

本発明の電気光学装置の製造方法の他の態様では、前記移動工程において、前記ラビング材は移動されず、前記基板を移動させることによって、前記ラビング材は前記配向膜に対して前記第２の方向に沿って相対的に移動される。

この態様によれば、移動工程においては、配向膜が設けられた基板を移動させることによって、配向膜及びラビング材の相対的な位置関係が変更される。即ち、移動工程では、ラビング材は移動されず、配向膜のみが移動される。

ラビング材は、例えばラビングクロス等が表面に巻き付けられたラビングローラーとして構成されるが、ラビングローラー自体をラビング方向（即ち、第１の方向）とは異なる方向（即ち、第２の方向）に移動させると、ラビングローラーの回転精度に悪影響を及ぼしてしまうおそれがある。またラビング材は、典型的には、配向膜が設けられる基板と比べて非常に大きい部材として構成されるため、移動させることによって撓みを生じてしまう場合もある。

本態様では、ラビング材を第２の方向に沿って移動させずに済むため、上述した実践上の様々な不都合を回避することができる。

本発明の電気光学装置の製造方法の他の態様では、前記基板は、複数の画素部が形成される素子基板と対向するように配置される対向基板である。

この態様によれば、ラビング処理の対象となる配向膜が設けられる基板が、比較的段差の生じ易い対向基板であるため、ラビング処理を繰り返すことによるラビング材の劣化を低減するという効果が、より顕著に発揮される。

具体的には、素子基板は、例えばマザー基板と呼ばれる複数の基板が連なった大型の基板の状態でラビング処理が施される。マザー基板は、複数の基板が連なった状態であるため、基板間に隙間が存在せず、段差も比較的少ない。一方、対向基板は、複数の基板に対して別々に（即ち、切り離された状態で）ラビング処理が施される。このため、基板間に隙間が存在することになり、素子基板と比べて段差が多くなってしまう。つまり、対向基板に対するラビング処理は、素子基板に対するラビング処理と比べて、ラビング材に与えてしまうダメージが大きくなってしまう可能性が高い。

本態様では、ラビング処理の対象を、ラビング材へのダメージが大きくなると予測される対向基板に絞ることによって、極めて効率的なラビング処理を実現することが可能である。

本発明の電気光学装置の製造方法の他の態様では、前記第１ラビング工程及び前記ラビング工程は、前記基板を固定用のパレットに収容した状態で行われる。

この態様によれば、第１ラビング工程及びラビング工程が、配向膜が設けられる基板を固定用のパレットに収容した状態で行われるため、パレットに存在している段差に起因して、ラビング材へのダメージが特定の箇所に集中してしまうおそれがある。

具体的には、例えば基板固定用のパレットには、基板を収容するためのくぼみの他にも、基板の収容及び取出し用の治具等の形状に対応させて複数のくぼみが設けられており、基板を収容した状態でも、パレット上には段差が生じてしまうおそれがある。

本態様では、上述したようなパレット上の段差によるラビング材へのダメージの集中を防止することが可能となるため、ラビング処理を繰り返すことによるラビング材の劣化を、極めて効果的に低減することができる。

本発明の作用及び他の利得は次に説明する発明を実施するための最良の形態から明らかにされる。

実施形態に係る電気光学装置の全体構成を示す平面図である。 図１のＨ−Ｈ´線断面図である。 実施形態に係る電気光学装置の製造方法に用いられる製造用装置の構成を示す斜視図である。 固定用パレットに収納された対向基板を示す平面図である。 図４のＤ−Ｄ´線断面図である。 ラビングローラーの構成を示す断面図である。 ラビングクロスの構成を示す拡大断面図である。 ラビング処理時のラビングローラー及び対向基板を示す断面図である。 ラビング処理によってラビングローラーに蓄積するダメージを示す断面図である。 ラビングクロスにおける抜け毛を示す拡大断面図である。 ラビングクロスにおける切れ毛を示す拡大断面図である。 第１実施形態に係る電気光学装置の製造方法における処理の流れを示すフローチャートである。 ステージ移動前のラビングローラー及び対向基板の位置関係を示す拡大断面図である。 ステージ移動後のラビングローラー及び対向基板の位置関係を示す拡大断面図である。 第２実施形態に係る電気光学装置の製造方法における処理の流れを示すフローチャートである。 第２実施形態に係る電気光学装置の製造方法におけるステージ移動の移動幅を示す概念図である。

以下では、本発明の実施形態について図を参照しつつ説明する。

＜電気光学装置の構成＞
先ず、本実施形態に係る電気光学装置の製造方法によって製造される電気光学装置の構成について、図１及び図２を参照して説明する。ここに図１は、本実施形態に係る電気光学装置の全体構成を示す平面図であり、図２は、図１のＨ−Ｈ´線断面図である。尚、以下の実施形態では、電気光学装置の一例として駆動回路内蔵型のＴＦＴ（Thin Film Transistor）アクティブマトリクス駆動方式の液晶装置を例にとり説明する。

図１及び図２において、本実施形態に係る電気光学装置では、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０とが対向配置されている。ＴＦＴアレイ基板１０は、例えば石英基板、ガラス基板等の透明基板や、シリコン基板等である。対向基板２０は、例えば石英基板、ガラス基板等の透明基板である。ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間には、液晶層５０が封入されている。液晶層５０は、例えば一種又は数種類のネマティック液晶を混合した液晶からなり、一対の配向膜間で所定の配向状態をとる。

ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０とは、複数の画素電極が設けられた画像表示領域１０ａの周囲に位置するシール領域に設けられたシール材５２により、相互に接着されている。

シール材５２は、両基板を貼り合わせるための、例えば紫外線硬化樹脂、熱硬化樹脂等からなり、製造プロセスにおいてＴＦＴアレイ基板１０上に塗布された後、紫外線照射、加熱等により硬化させられたものである。シール材５２中には、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間隔（即ち、基板間ギャップ）を所定値とするためのグラスファイバー或いはガラスビーズ等のギャップ材が散布されている。尚、ギャップ材を、シール材５２に混入されるものに加えて若しくは代えて、画像表示領域１０ａ又は画像表示領域１０ａの周辺に位置する周辺領域に、配置するようにしてもよい。

シール材５２が配置されたシール領域の内側に並行して、画像表示領域１０ａの額縁領域を規定する遮光性の額縁遮光膜５３が、対向基板２０側に設けられている。尚、このような額縁遮光膜５３の一部又は全部は、ＴＦＴアレイ基板１０側に内蔵遮光膜として設けられてもよい。

周辺領域のうち、シール材５２が配置されたシール領域の外側に位置する領域には、データ線駆動回路１０１及び外部回路接続端子１０２がＴＦＴアレイ基板１０の一辺に沿って設けられている。走査線駆動回路１０４は、この一辺に隣接する２辺に沿い、且つ、額縁遮光膜５３に覆われるようにして設けられている。更に、このように画像表示領域１０ａの両側に設けられた二つの走査線駆動回路１０４間をつなぐため、ＴＦＴアレイ基板１０の残る一辺に沿い、且つ、額縁遮光膜５３に覆われるようにして複数の配線１０５が設けられている。

ＴＦＴアレイ基板１０上における対向基板２０の４つのコーナー部に対向する領域には、両基板間を上下導通材１０７で接続するための上下導通端子１０６が配置されている。これらにより、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間で電気的な導通をとることができる。

図２において、ＴＦＴアレイ基板１０上には、駆動素子である画素スイッチング用のＴＦＴや走査線、データ線等の配線が作り込まれた積層構造が形成される。この積層構造の詳細な構成については図２では図示を省略してあるが、この積層構造の上に、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等の透明材料からなる画素電極９ａが、画素毎に所定のパターンで島状に形成されている。

画素電極９ａは、対向電極２１に対向するように、ＴＦＴアレイ基板１０上の画像表示領域１０ａに形成されている。ＴＦＴアレイ基板１０における液晶層５０の面する側の表面、即ち画素電極９ａ上には、配向膜１６が画素電極９ａを覆うように形成されている。

対向基板２０におけるＴＦＴアレイ基板１０との対向面上には、遮光膜２３が形成されている。遮光膜２３は、例えば対向基板２０における対向面上に平面的に見て、格子状に形成されている。対向基板２０において、遮光膜２３によって非開口領域が規定され、遮光膜２３によって区切られた領域が、例えばプロジェクター用のランプや直視用のバックライトから出射された光を透過させる開口領域となる。尚、遮光膜２３をストライプ状に形成し、該遮光膜２３と、ＴＦＴアレイ基板１０側に設けられたデータ線等の各種構成要素とによって、非開口領域を規定するようにしてもよい。

遮光膜２３上には、ＩＴＯ等の透明材料からなる対向電極２１が複数の画素電極９ａと対向するように形成されている。また遮光膜２３上には、画像表示領域１０ａにおいてカラー表示を行うために、開口領域及び非開口領域の一部を含む領域に、図２には図示しないカラーフィルターが形成されるようにしてもよい。対向基板２０の対向面上における、対向電極２１上には、配向膜２２が形成されている。

尚、図１及び図２に示したＴＦＴアレイ基板１０上には、上述したデータ線駆動回路１０１、走査線駆動回路１０４等の駆動回路に加えて、画像信号線上の画像信号をサンプリングしてデータ線に供給するサンプリング回路、複数のデータ線に所定電圧レベルのプリチャージ信号を画像信号に先行して各々供給するプリチャージ回路、製造途中や出荷時の当該電気光学装置の品質、欠陥等を検査するための検査回路等を形成してもよい。

図１及び図２を参照して説明した電気光学装置は、例えばプロジェクター、モバイル型のパーソナルコンピュータや、携帯電話、液晶テレビや、ビューファインダー型、モニタ直視型のビデオテープレコーダー、カーナビゲーション装置、ページャー、電子手帳、電卓、ワードプロセッサー、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた装置等の電子機器に適用することが可能である。

＜電気光学装置の製造方法＞
次に、本実施形態に係る電気光学装置の製造方法について、図３から図１６を参照して説明する。尚、以下の説明では、図１及び図２で示した電気光学装置の対向基板２０上に設けられた配向膜２２に対してラビング処理が施される場合を例にとる。

先ず、本実施形態に係る電気光学装置の製造方法で用いられる製造用装置について、図３から図７を参照して説明する。ここに図３は、本実施形態に係る電気光学装置の製造方法に用いられる製造用装置の構成を示す斜視図である。また図４は、固定用パレットに収納された対向基板を示す平面図であり、図５は、図４のＤ−Ｄ´線断面図である。更に図６は、ラビングローラーの構成を示す断面図であり、図７は、ラビングクロスの構成を示す拡大断面図である。

図３において、本実施形態に係る電気光学装置の製造方法では、ステージ２００上に配置された対向基板２０（図２参照）に対して、ラビングローラー３００によるラビング処理が行われる。具体的には、ステージ２００が図中のＡ方向に移動すると共に、ラビングローラー３００が図中のＢ方向に回転され、ステージ２００上の対向基板２０に設けられている配向膜２２に、Ａ方向に沿ったラビング溝が形成される。尚、ステージ２００はラビング方向であるＡ方向に加えて、Ａ方向に交わるＣ方向についても移動可能とされている。Ｃ方向へのステージ２００の移動については、後に詳述する。ちなみに、ここでのＡ方向が、本発明の「第１の方向」の一例であり、Ｃ方向が、本発明の「第２の方向」の一例である。

図４及び図５において、対向基板２０は、図に示すように固定用パレット４００に複数枚が収容された状態でステージ２００上に配置される。尚、図４及び図５では、説明の便宜上、対向基板２０上に設けられる配向膜２２についての図示を省略している。固定用パレット４００を用いることで、ラビング処理中に対向基板２０のラビングローラー３００に対する方向がずれてしまうことを防止することができる。これにより、ラビング方向が意図しない方向となってしまうことを防止できる。また、固定用パレット４００を用いれば、一度に多くの対向基板２０に対してラビング処理を施すことが可能となる。よって、製造工程の効率化を実現することができる。

図４の網掛け部分で示すように、固定用パレット４００に収容された対向基板２０間には、隙間（ギャップ）が存在している。これは、例えば固定用パレット４００に対向基板２０を収容する際、或いは取り出す際に用いる治具等の形状に対応した隙間である。図５に示すように、上述した隙間は、互いに隣り合う対向基板２０同士の間に段差を生じさせてしまう。

図６において、ラビングローラー３００は、ローラー軸３１０に、ラビングクロス３２０が巻き付けられるようにして構成されている。ラビングクロス３２０は、例えばベルベット織物であり、素材としてはレーヨン、コットン、ポリエステル等が用いられる。

図７において、ラビングクロス３２０は、ベース材３２１の上層に設けられた接着層３２２に、複数の毛束３２３を有する構成とされている。毛束３２３は、例えば１〜２ｍｍ程度の長さを有しており、０．３ｍｍ程度のピッチで設けられている。ラビング処理時には、この毛束３２３の先端と対向基板２０上の配向膜が擦り合わされることによって、配向膜上にラビング溝が形成される。

次に、上述した製造装置において起こり得る技術的問題点について、図８から図１１を参照して説明する。ここに図８は、ラビング処理時のラビングローラー及び対向基板を示す断面図であり、図９は、ラビング処理によってラビングローラーに蓄積するダメージを示す断面図である。また図１０及び図１１は夫々、ラビングクロスにおける抜け毛及び切れ毛を示す拡大断面図である。尚、以下に示す技術的問題点は、比較例に係る電気光学装置の製造方法において起こり得るものであり、本実施形態に係る電気光学装置の製造方法において起こるものではない。

図８において、対向基板２０上の配向膜に対してラビング処理が行われる際には、対向基板２０に対して、ラビングローラー３００から一定荷重がかけられた状態となる。このため、ラビングローラー３００の表面に位置するラビングクロス３２０には、対向基板２０からの押圧や摩耗によるダメージが蓄積することとなる。

図９において、上述したラビングクロス３２０へのダメージは、対向基板２０に段差が生じていることに起因して均一なものとはならない。例えば、凸となっている部分が接触する箇所と、凹んだ部分が接触する箇所とではダメージが異なる。また、比較的平坦な部分を通過する箇所と、複数の段差を通過する箇所とではダメージが異なる。よって、何らの対策も行わずに複数回のラビング処理が行われると、ラビングクロス３２０におけるダメージが集中する箇所と、ダメージをあまり受けない箇所とで差が生じてしまう。

図１０及び図１１に示すように、ラビングクロス３２０においてダメージが集中する箇所では、抜け毛や切れ毛が発生してしまい、ラビング処理中において対向基板２０上の配向膜に意図しない傷をつけてしまう場合がある。このような意図しない傷は、製造された電気光学装置において表示される画像の品質を低下させてしまう原因となる。

以下では、上述した技術的問題点を解決可能とする本実施形態に係る電気光学装置の製造方法を、２種類の実施形態に分けて詳細に説明する。

＜第１実施形態＞
第１実施形態に係る電気光学装置の製造方法について、図１２から図１４を参照して説明する。ここに図１２は、第１実施形態に係る電気光学装置の製造方法における処理の流れを示すフローチャートである。また図１３は、ステージ移動前のラビングローラー及び対向基板の位置関係を示す拡大断面図であり、図１４は、ステージ移動後のラビングローラー及び対向基板の位置関係を示す拡大断面図である。

図１２において、第１実施形態に係る電気光学装置の製造方法では、先ず実際のラビング処理が行われる前に、ラビング処理の回数を示すパラメーターＮを０とする（ステップＳ１１）。即ち、パラメーターＮを初期化する。

続いて、ラビングローラー３００が対向基板２０に接触した状態で、ステージ２００をＡ方向（図３参照）に移動させ、ラビング処理を行う（ステップＳ１２）。１回のラビング処理が終了すると、パラメーターＮに１を足す（ステップＳ１３）。即ち、パラメーターＮをインクリメントする。これにより、ラビング回数がカウントされる。

パラメーターＮは、インクリメントされる毎に所定値となっているか否かが判定される（ステップＳ１４）。ここで、パラメーターＮが所定値となっていない場合（ステップＳ１４：ＮＯ）、ステップＳ１２以降の処理を再び繰り返す。即ち、再びラビング処理を行う。一方、パラメーターＮが所定値となっている場合（ステップＳ１４：ＹＥＳ）、ラビングローラー３００が対向基板２０に接触していない状態で、ステージ２００をラビング方向（即ち、Ａ方向）と交わる方向であるＣ方向（図３参照）に移動させる。即ち、パラメーターＮと比較される所定値は、ステージ２００のＣ方向への移動を行うか否かを判定するための閾値である。

ステージ２００がＣ方向に移動された後は、全体のラビング処理が終了したか否かを判定し（ステップＳ１６）、ラビング処理が全て終了するまで、再びステップＳ１１からの処理を繰り返す。但し、ステージ２００がＣ方向に移動された後のラビング処理では、それまでのラビング処理と比べて、ラビングローラー３００と対向基板２０とが互いにＣ方向にずれた状態で行われる。

図１３及び図１４において、上述したステップＳ１５では、ステージ２００が、毛束３２３のピッチＷ１分だけＣ方向に移動される。ステージ２００が毛束３２３のピッチＷ１分だけＣ方向に移動することによって、移動前は対向基板２０と接触していなかった図１３中の右から２番目の毛束３２３が、移動後の状態を示す図１４では、対向基板２０と接触する状態となっている。

このように、ステージ２００をＣ方向に移動することによって、同じ毛束３２３が対向基板２０或いは固定用パレット４００の同じ部分に接触し続けることを防止することができる。即ち、同じ毛束３２３に同様のダメージが加わり続けることを防止することができる。従って、ラビング処理によるラビングクロス３２０へのダメージの均一化を行うことが可能となり、ラビングクロス３２０の局所的な劣化を極めて効果的に低減することができる。

また、ステージ２００をＣ方向に移動するか否かの判定に用いられる所定値を、ダメージの蓄積度等を予測して設定しておくことで、より効率的にラビングクロス３２０の劣化を防止することができる。具体的には、所定値を小さくすれば、ステージ２００のＣ方向への移動は頻繁に行われることとなるため、ダメージを均一化するという効果をより高めることができる。一方、所定値を大きくすれば、ステージ２００のＣ方向への移動の頻度は少なくなるが、その分ラビング処理の高速化を実現することができる。よって、例えば比較的ダメージの蓄積し易い素材が使用されたラビングクロス３２０を用いる場合には所定値を小さくし、比較的ダメージの蓄積し難い素材が使用されたラビングクロス３２０を用いる場合には所定値を大きくすることで、効率的にラビングクロス３２０の劣化を防止することができる。

以上説明したように、第１実施形態に係る電気光学装置の製造方法によれば、ラビングクロス３２０への局所的なダメージの蓄積を防止することができるため、高品質な画像を表示することが可能な電気光学装置を好適に製造することが可能である。

＜第２実施形態＞
次に、第２実施形態に係る電気光学装置の製造方法について、図１５及び図１６を参照して説明する。ここに図１５は、第２実施形態に係る電気光学装置の製造方法における処理の流れを示すフローチャートである。また図１６は、第２実施形態に係る電気光学装置の製造方法におけるステージ移動の移動幅を示す概念図である。尚、第２実施形態は、上述の第１実施形態と比べて、ステージのＣ方向への移動幅が異なり、その他の処理については概ね同様である。このため第２実施形態では、第１実施形態と異なる部分について詳細に説明し、その他の重複する部分については適宜説明を省略する。

図１５において、第２実施形態に係る電気光学装置の製造方法では、上述した第１実施形態と同様に、先ずパラメーターＮが初期化され（ステップＳ２１）、ラビング処理が行われ（ステップＳ２２）、パラメーターＮがインクリメントされ、（ステップＳ２３）、パラメーターＮが所定値となっているか否かが判定される（ステップＳ２４）。即ち、第１実施形態におけるステップＳ１１からステップＳ１４と同様の処理が行われる。

第２実施形態では特に、パラメーターＮが所定値となっていると判定された際に（ステップＳ２４：ＹＥＳ）、ステージ２００が対向基板２０同士の隙間分だけＣ方向に移動される（ステップＳ２５）。これにより、ラビングクロス３２０における同じ箇所が、対向基板２０間の隙間に起因する段差（図５等参照）によるダメージを受け続けることを防止することができる。

図１６に示すように、対向基板２０同士の隙間Ｗ２分だけ、ステージ２００をＣ方向に移動するようにすれば、１回目のラビング時に対向基板２０間の隙間部分に接触していた箇所は、２回目のラビング時には対向基板２０間の隙間以外の部分に接触することとなる。同様に、３回目以降のラビングについても、ステージ２００の移動前に対向基板２０間の隙間部分に接触していた箇所は、移動後のラビング時には対向基板２０間の隙間以外の部分に接触することとなる。これにより、ラビングクロス３２０の同じ箇所に同様のダメージが加わり続けることを防止することができる。従って、ラビング処理によるラビングクロス３２０へのダメージの均一化を行うことが可能となり、ラビングクロス３２０の局所的な劣化を極めて効果的に低減することができる。

以上説明したように、第２実施形態に係る電気光学装置の製造方法によれば、第１実施形態と同様に、ラビングクロス３２０への局所的なダメージの蓄積を防止することができるため、高品質な画像を表示することが可能な電気光学装置を好適に製造することが可能である。

本発明は、上述した実施形態に限られるものではなく、特許請求の範囲及び明細書全体から読み取れる発明の要旨或いは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴う電気光学装置の製造方法もまた本発明の技術的範囲に含まれるものである。

９ａ…画素電極、１０…ＴＦＴアレイ基板、１０ａ…画像表示領域、１６，２２…配向膜、２０…対向基板、３０…ＴＦＴ、５０…液晶層、１０１…データ線駆動回路、１０２…外部回路接続端子、１０４…走査線駆動回路、２００…ステージ、３００…ラビングローラー、３１０…ローラー軸、３２０…ラビングクロス、３２１…ベース材、３２２…接着層、３２３…毛束、４００…固定用パレット

Claims (6)

1. 基板上に設けられた配向膜にラビング材を接触させた状態で、前記配向膜に対して前記ラビング材を第１の方向に沿って相対的に移動させ、ラビング処理を施す第１ラビング工程と、
   前記第１ラビング工程の後に、前記配向膜に前記ラビング材を接触させない状態で、前記配向膜に対して前記ラビング材を前記第１の方向に交わる第２の方向に沿って相対的に移動させる移動工程と、
   前記移動工程の後に、前記配向膜に前記ラビング材を接触させた状態で、前記配向膜に対して前記ラビング材を第１の方向に沿って相対的に移動させ、ラビング処理を施す第２ラビング工程と
   を含むことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
2. 前記ラビング材は、表面に複数の毛束を有するように構成されており、
   前記移動工程において、前記ラビング材は前記配向膜に対して、少なくとも前記毛束のピッチ分、前記第２の方向に沿って相対的に移動される
   ことを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置の製造方法。
3. 前記基板は、前記第２の方向に沿って、互いに隣り合う基板間の隙間が所定の値となるように複数並べられており、
   前記移動工程において、前記ラビング材は前記配向膜に対して、少なくとも前記所定の値分、前記第２の方向に沿って相対的に移動される
   ことを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置の製造方法。
4. 前記移動工程において、前記ラビング材は移動されず、前記基板を移動させることによって、前記ラビング材は前記配向膜に対して前記第２の方向に沿って相対的に移動されることを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法。
5. 前記基板は、複数の画素部が形成される素子基板と対向するように配置される対向基板であることを特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法。
6. 前記第１ラビング工程及び前記ラビング工程は、前記基板を固定用のパレットに収容した状態で行われることを特徴とする請求項１から５のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法。

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