JP2010160384A - 液晶装置の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】液晶セルに対して光学的に最適な配置角度で偏光板を位置決めして貼り付け可能な液晶装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】本適用例の液晶装置の製造方法は、光学設計に基づいて対向配置された液晶セルと偏光板とを透過するように光を照射して、透過光強度分布における第１仮想直線Ｌ１上の第１測定点Ｍ１と第２測定点Ｍ２および第３測定点Ｍ３の透過光強度を測定する工程と、第１仮想直線Ｌ１上における透過光強度の第１の極小点Ｐ１を近似して求める工程と、第１仮想直線Ｌ１と直交し第１の極小点Ｐ１を通る第２仮想直線Ｌ２上の第４測定点Ｍ４と第５測定点Ｍ５とにおける透過光強度を測定する工程と、第２仮想直線Ｌ２上における透過光強度の第２の極小点Ｐ２を近似して求める工程と、第２の極小点Ｐ２における液晶セルに対する偏光板の配置角度に基づいて、液晶セルと偏光板とを位置決めして、液晶セルに偏光板を貼り付ける工程とを含む。
【選択図】図９

Description

本発明は、液晶装置の製造方法に関する。

液晶装置は、一般的に、一対の基板と一対の基板に挟持された液晶層とを有する液晶セルの表面に貼り付けられた光学部材としての偏光板を備えている。例えば、透過型の液晶装置では、液晶セルに対して光が入射する側の表面と入射した光が射出する側の表面とに偏光板が設けられる。
液晶装置の光学設計においては、液晶層における初期の液晶分子の配向方向や駆動時の液晶分子の配向方向を考慮して、偏光板の光学軸（偏光軸または吸収軸）の方向が規定されている。ところが、液晶装置の製造過程において、液晶セルに対して偏光板が光学的に適正な位置で貼り付けられていないと、光学設計に基づいた電気光学特性（特にコントラストや色調）が得られないという問題が生ずる。

これを改善すべく、特許文献１には、マスター偏光子を用い、マスター偏光子の偏光軸に対して液晶基板の光学軸を光学的に位置合わせした後に、該マスター偏光子の偏光軸に対して一方の偏光板の偏光軸を光学的に位置合わせして液晶基板に貼り付ける方法が開示されている。
また、特許文献２には、光学的な位置合わせの具体的な方法として、マスター偏光子、液晶基板、偏光板を透過する光の強度を測定してそれぞれの光学軸の方向をマスター偏光子に対して定める方法が記載されている。

特開平８−２０１８０１号公報 特開２００３−１０７４５２号公報

上記従来の偏光板の貼り付け方法では、マスター偏光子、液晶基板、偏光板を透過する光の強度を測定して、強度が最小または最大となる液晶基板と偏光板との相対的な位置を決めるとしている。しかしながら、実際には光の強度が最小または最大となる相対的な位置には範囲がある。また、光の強度を測定する測定装置の感度や光を発する光源の発光強度との関係で上記範囲が変化するおそれがある。それゆえに、光学的に最適な液晶基板と偏光板との相対的位置を確実に求める方法が必要であるという課題がある。

本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。

［適用例１］本適用例の液晶装置の製造方法は、一対の基板と前記一対の基板に挟持された液晶層とを有する液晶セルの少なくとも一方の表面に偏光板を貼り付ける貼付工程を備えた液晶装置の製造方法であって、前記液晶装置は、前記液晶セルに対する前記偏光板の光学軸の配置角度に基づく線対称な透過光強度分布を有し、前記貼付工程は、光学設計に基づいて互いに対向配置されたマスター偏光子と前記液晶セルと前記偏光板とを透過するように光を照射して、対向する面内の任意の第１測定点において透過光強度を測定する第１の工程と、前記透過光強度分布における対称軸に対して直交し、前記第１測定点を通る第１仮想直線上において、前記第１測定点を挟んだ第２測定点と第３測定点とにおいて、透過光強度を測定する第２の工程と、前記第１測定点、前記第２測定点および前記第３測定点における透過光強度の情報に基づいて、前記第１仮想直線上における透過光強度の第１の極小点を近似して求める第３の工程と、前記第１仮想直線と直交し前記第１の極小点を通る第２仮想直線上において、前記第１の極小点を挟んだ第４測定点と第５測定点とにおける透過光強度を測定する第４の工程と、前記第１の極小点、前記第４測定点および前記第５測定点における透過光強度の情報に基づいて、前記第２仮想直線上における透過光強度の第２の極小点を近似して求める第５の工程と、前記透過光強度分布上の前記第２の極小点における前記偏光板の前記配置角度に基づいて、前記液晶セルと前記偏光板とを相対的に位置決めして、前記偏光板を前記液晶セルに貼り付ける第６の工程とを含むことを特徴とする。

この方法によれば、第１の工程で任意に選ばれた第１測定点における透過光強度は、線対称な透過光強度分布においてどの位置となるか定かでない。そこで、第２の工程では、透過光強度分布における対称軸に対して直交し、第１測定点を通る第１仮想直線上においてさらに測定点を増やして透過光強度の情報を入手し、当該情報に基づいて第３の工程では第１測定点を通る第１仮想直線上における第１の極小点を近似して求める。第１仮想直線と直交し第１の極小点を通る第２仮想直線は、透過光強度分布における対称軸となる。そして、第４の工程で第２仮想直線上においてさらに測定点を増やして透過光強度の情報を入手し、第５の工程で第２仮想直線上すなわち対称軸上における透過光強度の第２の極小点を近似して求める。これにより、第２の極小点における透過光強度は最小となり、液晶セルと偏光板とを光学的に最適な配置とした場合に相当する。したがって、透過光強度分布における第１測定点および第２の極小点の座標が明確になり、相互の偏光板の配置角度を比較すれば、液晶セルに対して最適な偏光板の配置角度とするための角度補正量が判明する。これを基に第６の工程において、液晶セルと偏光板とを位置決めして貼り付ければ、光学設計に基づく所望の光学特性を有するノーマリーブラックの液晶装置を確実に製造することができる。

［適用例２］本適用例の他の液晶装置の製造方法は、一対の基板と前記一対の基板に挟持された液晶層とを有する液晶セルの少なくとも一方の表面に偏光板を貼り付ける貼付工程を備えた液晶装置の製造方法であって、前記液晶装置は、前記液晶セルに対する前記偏光板の光学軸の配置角度に基づく線対称な透過光強度分布を有し、前記貼付工程は、光学設計に基づいて互いに対向配置されたマスター偏光子と前記液晶セルと前記偏光板とを透過するように光を照射して、対向する面内の任意の第１測定点において透過光強度を測定する第１の工程と、前記透過光強度分布における対称軸に対して直交し、前記第１測定点を通る第１仮想直線上において、前記第１測定点を挟んだ第２測定点と第３測定点とにおいて、透過光強度を測定する第２の工程と、前記第１測定点、前記第２測定点および前記第３測定点における透過光強度の情報に基づいて、前記第１仮想直線上における透過光強度の第１の極小点を近似して求める第３の工程と、前記第１仮想直線と直交し前記第１測定点を通る第２仮想直線上において、前記第１測定点を挟んだ第４測定点と第５測定点とにおける透過光強度を測定する第４の工程と、前記第１測定点、前記第４測定点および前記第５測定点における透過光強度の情報に基づいて、前記第２仮想直線上における透過光強度の第２の極小点を近似して求める第５の工程と、前記第２仮想直線と平行であって前記第１の極小点を通る第３仮想直線と、前記第１仮想直線と平行であって前記第２の極小点を通る第４仮想直線との交点を求める第６の工程と、前記透過光強度分布上の前記交点における前記偏光板の前記配置角度に基づいて、前記液晶セルと前記偏光板とを相対的に位置決めして、前記偏光板を前記液晶セルに貼り付ける第７の工程とを含むことを特徴とする。

この方法によれば、第１の工程および第２の工程ならびに第４の工程において、第１測定点を通過して互いに直交する第１仮想直線および第２仮想直線上において、近似に必要な透過光強度の情報を入手し、第３の工程と第５の工程とにより、それぞれの仮想直線上における極小点を求める。第６の工程において求められた、第１の極小点を通る第３仮想直線と、第１仮想直線と平行であって第２の極小点を通る第４仮想直線との交点における透過光強度は最小となり、液晶セルと偏光板とを光学的に最適な配置とした場合に相当する。ゆえに、第７の工程で透過光強度分布上の該交点における偏光板の配置角度に基づいて、液晶セルと偏光板とを相対的に位置決めして、偏光板を液晶セルに貼り付ければ、光学設計に基づく所望の光学特性を有するノーマリーブラックの液晶装置を確実に製造することができる。また、第１測定点を原点として必要な数の測定点における透過光強度の測定を優先して実施することができる。

［適用例３］上記適用例の液晶装置の製造方法において、前記第１の工程は、直前に前記偏光板の貼り付けを行った他の液晶装置において採用された前記偏光板の前記配置角度に基づいて、前記液晶セルと前記偏光板とを相対配置することが好ましい。
この方法によれば、例えば、偏光板の製造ロットが同一である場合、偏光板の外形に対する光学軸の方向ばらつきは一定の範囲内にあると考えられる。よって、第１の工程において、直前に偏光板の貼り付けを行った他の液晶装置において採用された偏光板の配置角度に基づいて、液晶セルと偏光板とを相対配置すれば、第１測定点を液晶セルと偏光板とが対向する面内において、透過光強度の測定が適正に行い得る位置に設定することができる。言い換えれば、対向する面内において、任意に選んだ第１測定点が透過光強度を測定不可能な位置となることを避けることができる。

［適用例４］上記適用例の液晶装置の製造方法において、前記第１測定点における透過光強度の情報に基づいて、次工程を選択する第１判定工程を有し、前記第１判定工程は、前記第１測定点における透過光強度が直前に前記偏光板の貼り付けを行った他の液晶装置の前記第２の極小点または前記交点の近似値に近い場合、当該他の液晶装置において採用された前記偏光板の前記配置角度に基づいて、前記液晶セルと前記偏光板とを相対的に位置決めして貼り付ける第８の工程を選択する。
この方法によれば、例えば、偏光板の製造ロットが同一である場合、偏光板の外形に対する光学軸の方向ばらつきは一定の範囲内にあると考えられる。よって、第１判定工程において、第１測定点における透過光強度が直前に偏光板の貼り付けを行った他の液晶装置の上記第２の極小点または上記交点の近似値に近いと判断したときには、当該他の液晶装置において採用された偏光板の配置角度に基づいて、液晶セルと偏光板とを相対的に位置決めして貼り付ける第８の工程を選択することにより、途中の透過光強度の測定や近似の工程を省いて効率よく偏光板を貼付することができる。すなわち、生産性を高められる。

［適用例５］上記適用例の液晶装置の製造方法において、前記第１測定点における透過光強度の情報に基づいて、次工程を選択する第１判定工程を有し、前記第１判定工程は、前記第１測定点における透過光強度が予め決められた値よりも下回った場合には、前記第１の工程における前記液晶セルに対する前記偏光板の前記配置角度を保って、前記液晶セルに前記偏光板を貼り付ける第９の工程を選択する。
この方法によれば、第９の工程における液晶セルに対する偏光板の配置角度は第１の工程における対向配置状態と同一であるため、必ずしも光学的に最適な配置とは言えないものの、第１測定点における透過光強度が光学設計に基づいた所望の光学特性における透過光強度、例えば最小値に近いと考えられる値よりも下回っていれば、液晶セルと偏光板とが光学的にほぼ最適な配置となっていると判断できる。ゆえに、前項と同様に効率よく偏光板を貼付して、生産性を高められる。

［適用例６］上記適用例の液晶装置の製造方法において、前記偏光板の前記配置角度に関する設計上の前記液晶セルに対する貼付許容限界の情報と、前記第２の極小点または前記交点が前記貼付許容限界内か否かに基づいて、次工程を選択する第２判定工程とを有し、前記第２判定工程は、前記第２の極小点または前記交点が前記貼付許容限界の外側にある場合、前記透過光強度分布上において前記第２の極小点または前記交点が存在する側の前記貼付許容限界上における第３の極小点を近似して求める第１０の工程と、前記第３の極小点における前記偏光板の前記配置角度に基づいて、前記液晶セルと前記偏光板とを相対的に位置決めして、前記偏光板を前記液晶セルに貼り付ける第１１の工程とを選択する。
偏光板の外形に対する光学軸の方向すなわち角度のばらつきが大きいと、液晶セルと偏光板とを光学的に最適な配置で位置決めして貼り付けしても液晶セルに対する貼付許容限界を超えてしまい、例えば、偏光板が液晶セルからはみ出してしまう。
この方法によれば、第２判定工程では、液晶セルに対する偏光板の貼付許容限界を考慮し、上記第２の極小点または上記交点が貼付許容限界の外側にある場合、第１０の工程では上記第２の極小点または上記交点が存在する側の貼付許容限界線上において第３の極小点を求める。したがって、第１１の工程で第３の極小点に対応する偏光板の配置角度で貼り付けを行えば、貼付許容限界内において所望の光学特性に最も近い光学特性を実現した液晶装置を製造することができる。

［適用例７］上記適用例の液晶装置の製造方法において、前記貼付工程は、第１の偏光板を前記液晶セルに貼り付ける第１貼付工程と、前記第１の偏光板が貼り付けられた前記液晶セルの表面に対して反対側の表面に第２の偏光板を貼り付ける第２貼付工程とを備え、前記第２貼付工程における前記第１の工程は、光学設計に基づいて互いに対向配置された前記第１の偏光板が貼り付けられた前記液晶セルと前記第２の偏光板とを透過するように光を照射して、対向する面内の任意の第１測定点において透過光強度を測定することを特徴とする。
この方法によれば、液晶セルの表裏面に対応して第１の偏光板、第２の偏光板が光学的にほぼ最適な配置角度で貼り付けられる。したがって、光学設計に基づく所望の光学特性を有する透過型の液晶装置を確実に製造することができる。

［適用例８］上記適用例の液晶装置の製造方法において、前記第３の工程および前記第５の工程、または前記第１０の工程における近似方法が２次関数によるものであることを特徴とする。
この方法によれば、少なくとも３点の測定点による透過光強度の測定結果から、第１の極小点および第２の極小点、または第３の極小点を近似して求めることができる。

［適用例９］上記適用例の液晶装置の製造方法において、前記第３の工程および前記第５の工程、または前記第１０の工程における近似方法が正弦関数によるものであることが好ましい。
この方法によれば、透過光強度分布は、液晶セルに対する偏光板の光学軸の配置角度に依存しているため、正弦関数を用いて近似することにより、少なくとも４点の測定点の透過光強度の測定結果が必要なものの、より正確に第１の極小点および第２の極小点、または第３の極小点を近似して求めることができる。

以下、本発明を具体化した実施形態について図面に従って説明する。なお、使用する図面は、説明する部分が認識可能な状態となるように、適宜拡大または縮小して表示している。

本実施形態は、一対の基板と、一対の基板に挟持された液晶層と、一対の基板の一方の基板に設けられた一対の電極とを有し、該一対の電極間に発生する横電界により液晶層が駆動されるＦＦＳ（Fringe Field Switching）方式の液晶装置の製造方法を例に説明する。

＜液晶装置＞
まず、ＦＦＳ方式の液晶装置について図１〜図５を参照して説明する。図１は液晶装置の構成を示す概略図であり、同図（ａ）は分解斜視図、同図（ｂ）は正面図である。

図１に示すように、本実施形態の液晶装置１０は、ガラス等の透明基板からなる一対の基板１，２と、一対の基板１，２により挟持された液晶層（図示省略）とを有する液晶セル３を備えている。
液晶セル３において、基板１は基板２よりも大きく、基板１の端子部１ａが基板２の一方の辺部より突出するように、基板１と基板２とが接合されている。端子部１ａの表面には、液晶層を駆動するための駆動用ＩＣ６と、外部電気回路との接続を図るフレキシブルな中継基板７とが平面実装されている。

基板２の表面２ａには光学フィルムとしての偏光板４が貼り付けられる、また表面２ａの反対側で裏面となる基板１の表面１ｂには同じく光学フィルムとしての偏光板５が貼り付けられる。

図１（ｂ）に示すように、液晶装置１０を正面から見ると、表示領域を含む所謂見切り領域は、表示領域の中心３ｃに対して上下および左右（Ｘ軸，Ｙ軸方向）が均等割り振りされている。表示領域の中心３ｃの位置は、液晶セル３のＸ軸方向における幅の中央となっている。
偏光板外形は、見切り領域を十分覆うように平面的な寸法が余裕を持って設定されている。また、液晶セル３の外形のばらつきや偏光板４，５の貼付位置精度等を考慮して、液晶セル３の長手方向の基準辺３ａから距離ｘ１の間隔が空くように、また短手方向の基準辺３ｂから距離ｙ１の間隔が空くように、基板２よりも一回り小さく設定されている。

したがって、この場合の液晶セル３に対する偏光板４，５の貼付許容限界は、平面的に液晶セル３の外形から偏光板４，５がはみ出ないこと。また、偏光板４，５が少なくとも液晶セル３の見切り領域を覆っていることが必要条件となる。

表示領域には、略矩形状のサブ画素ＳＧがマトリクス状に複数配置されており、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の少なくとも３色のフィルタエレメントから選ばれた１色のフィルタエレメントが各サブ画素ＳＧに対応して基板２側に設けられている。すなわち、基板２は、サブ画素ＳＧに対応したカラーフィルタを備えている（詳細は後述する）。

異なる色のフィルタエレメントを備えた３つのサブ画素ＳＧにより１つの表示用画素が構成されている。同色のフィルタエレメントを有するサブ画素ＳＧが液晶セル３の長手方向（Ｙ軸方向）に沿って直線的に配置され、異なる色のフィルタエレメントを有するサブ画素ＳＧが液晶セル３の短手方向（Ｘ軸方向）に配列した所謂ストライプ方式となっている。

このような液晶装置１０は透過型であって、例えば、偏光板５の背面側に照明装置（図示省略）を装備して用いられる。照明装置は、例えば光源としてＬＥＤ、ＥＬ、冷陰極管などを用い、これらの光源からの光を液晶セル３に向かって射出することができる導光板や拡散板、反射板などの構成を備えている。

なお、液晶装置１０は、サブ画素ＳＧを構成する電極を駆動制御する手段として一方の基板側に例えば薄膜トランジスターなどのスイッチング素子を備えたアクティブ型や、画素を構成する電極が一対の基板１，２において互いに交差するように配置されるパッシブ型の液晶装置でもよい。また、透過型に限定されず、偏光板５が半透過反射タイプあるいは液晶セル３の内面に反射層を有する半透過反射型の液晶装置でもよい。

図２はサブ画素の構成を示す概略平面図、図３は図２のＡ−Ａ'線で切ったサブ画素の構造を示す概略断面図である。

図２に示すように、基板１上には、Ｙ軸方向に延在する信号線１１と、Ｘ軸方向に延在する走査線１２と、同じくＸ軸方向に延在する共通配線１３が設けられている。これらの信号線１１と走査線１２および共通配線１３により区切られた領域にサブ画素ＳＧが設けられている。

サブ画素ＳＧには、画素電極１８と、画素電極１８との間で横電界を発生させるための共通電極１４と、画素電極１８を駆動制御するためのＴＦＴ（Thin Film Transistor）素子１５とが設けられている。以降、基板１を素子基板１と呼び、これに対向する基板２を対向基板２と呼ぶ。

画素電極１８は、矩形状に形成されており、複数のスリット状の開口部１８ａを有している。開口部１８ａは、例えば信号線１１の延在方向に沿う方向に、互いに平行に形成されている。画素電極１８は、絶縁層１７（図３参照）を貫通するコンタクトホール１７ａを介して、ＴＦＴ素子１５のドレイン電極１５ｄに電気的に接続されている。画素電極１８は、透光性を有する導電材料からなり、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）からなる。

共通電極１４は、矩形状に形成されており、画素電極１８に平面的に重なるように設けられている。共通電極１４は、一辺部において共通配線１３に重なっており、この部分で共通配線１３に電気的に接続されている。共通電極１４は、透光性を有する導電材料からなり、例えばＩＴＯからなる。

ＴＦＴ素子１５は、ゲート電極１５ｇと半導体層１５ａとソース電極１５ｓとドレイン電極１５ｄとを備えている。ゲート電極１５ｇは、走査線１２の一部である。半導体層１５ａは、ゲート電極１５ｇに平面的に重なる位置に形成されている。ソース電極１５ｓは、信号線１１から分岐した部分であり、その一部が半導体層１５ａの一部（ソース側）を覆うように形成されている。ドレイン電極１５ｄは、一部が半導体層１５ａの一部（ドレイン側）を覆うように形成されている。

図３に示すように、液晶装置１０は、素子基板１と対向基板２とにより挟持された液晶層３０を有する。
素子基板１は透光性を有する、例えば、ガラス、石英、樹脂等の基板である。素子基板１の液晶層３０側の表面には、まず例えば、アルミニウムやアルミニウム合金等などの低抵抗配線材料からなるゲート電極１５ｇと共通配線１３とが形成され、一部が共通配線１３と重なるように共通電極１４が形成されている。ゲート電極１５ｇと共通配線１３および共通電極１４を覆うように、例えば酸化シリコンや酸化窒化シリコン等からなるゲート絶縁層１６が形成されている。ゲート絶縁層１６上には、例えばアモルファスシリコンからなる半導体層１５ａが形成され、半導体層１５ａのソース側を覆うようにソース電極１５ｓが形成され、半導体層１５ａのドレイン側を覆うようにドレイン電極１５ｄが形成されている。これらの電極の形成もアルミニウムやアルミニウム合金等の低抵抗な導電材料が用いられる。

また、ゲート絶縁層１６、半導体層１５ａ、ソース電極１５ｓ、ドレイン電極１５ｄを覆うように、例えば酸化シリコンや酸化窒化シリコン等からなる絶縁層１７が形成されている。
画素電極１８は、絶縁層１７上に形成されている。画素電極１８と共通電極１４とはゲート絶縁層１６と絶縁層１７とを介して対向しており、画素電極１８と共通電極１４との間には、ゲート絶縁層１６と絶縁層１７とを誘電体膜とする保持容量が形成されている。

画素電極１８と共通電極１４との間に電圧が印加されると、スリット状の開口部１８ａおよびその周辺に横電界が発生する。液晶層３０の液晶分子は正の誘電異方性を有するものであって、発生した横電界方向に液晶分子が配列する。なお、画素電極１８と共通電極１４との配置はこの形態に限定されない。共通電極１４が画素電極１８よりも液晶層３０側に配置されていてもよい。このような構成の場合は、共通電極１４がスリット状の開口部を有することとなる。

素子基板１の液晶層３０に接する側には配向膜１９が形成されている。配向膜１９は、例えばポリイミド樹脂等からなる。配向膜１９の表面は、液晶分子が開口部１８ａの延在方向に対して所定の角度で配向するように、ラビング処理等の配向処理が施されている。

次に、素子基板１に対向する対向基板２は、素子基板１と同様に例えば透明性を有するガラス、石英、樹脂等の基板により構成されている。液晶層３０に向かって対向基板２の表面には、遮光層２１と、フィルタエレメント２２と、オーバーコート層２３と、配向膜２４とが設けられている。

遮光層２１は、例えば、アルミニウムやクロムなどの遮光性を有する金属材料またはこれらの金属材料の酸化物あるいは遮光性を有する樹脂材料からなり、対向基板２上においてサブ画素ＳＧを区画するようにパターニング形成されている。
フィルタエレメント２２は、遮光層２１の開口部に設けられ、例えばアクリル樹脂等からなり、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色に対応する色材を含有している。
オーバーコート層２３は、例えば透明性を有するアクリル樹脂等からなり、遮光層２１とフィルタエレメント２２とを覆うように形成されている。

対向基板２の液晶層３０に接する側には配向膜２４が形成されている。配向膜２４は、例えばポリイミド樹脂等からなる。配向膜２４の表面には、例えば対向する素子基板１の配向膜１９の配向処理方向に対して１８０度反転した方向に、ラビング処理等の配向処理が施されている。

液晶層３０の液晶分子は、画素電極１８と共通電極１４との間に電界が発生していない状態（オフ状態）では、配向膜１９と配向膜２４とに施された配向処理によって規制される方向に沿って配向する。また、画素電極１８と共通電極１４との間に電界が発生している状態（オン状態）では、開口部１８ａの延在方向と直交する方向に発生する電界に沿って配向する。このように、液晶層３０では、オフ状態とオン状態とで液晶分子の配向方向を異ならせる制御が行われる。

次に、図４を参照して、液晶装置１０の光学設計について説明する。図４（ａ）および（ｂ）は液晶装置の光学設計を示す概略図である。図４（ａ）に示すように、偏光板４，５は、光学軸としての透過軸を有している。偏光板４の透過軸４ｔと偏光板５の透過軸５ｔとは、互いに直交するように配置されている。

図４（ｂ）に示すように、画素電極１８のスリット状の開口部１８ａの延在方向と信号線１１の延在方向とは合致している。オン状態において画素電極１８と共通電極１４との間に発生する電界の方向は、信号線１１の延在方向と直交する方向、すなわち走査線１２の延在方向に沿った方向である。

素子基板１側の配向膜１９には、例えば、信号線１１の延在方向に対して時計回り方向に５度の角度をなす方向にラビング処理が施されている。これに対して対向する対向基板２側の配向膜２４には、信号線１１の延在方向に対して時計回り方向に５度の角度をなす方向であって、配向膜１９のラビング方向とは１８０度異なる向きにラビング処理が施されている。したがって、配向膜１９，２４のラビング方向、すなわち液晶層３０オフ状態における配向処理方向は、開口部１８ａの延在方向に対して時計回り方向に５度の角度をなす方向となる。

偏光板４の透過軸４ｔは配向膜１９，２４のラビング方向と直交しており、偏光板５の透過軸５ｔは配向膜１９，２４のラビング方向と平行となっている。したがって、オフ状態において照明装置から入射した光は、偏光板５により直線偏光に変換され液晶セル３を透過して偏光板４に入射する。直線偏光の偏光方向と偏光板４の透過軸４ｔとは直交しているため、入射した直線偏光は偏光板４を透過できない。よって、液晶装置１０はオフ時に黒表示となる所謂ノーマリーブラックモードである。なお、透過軸４ｔが配向膜１９，２４のラビング方向と平行し、透過軸５ｔが配向膜１９，２４のラビング方向に直交する方式でもよい。

ところで、配向膜１９，２４のラビング方向すなわち液晶セル３の光学軸に対する偏光板４，５の透過軸４ｔ，５ｔの相対的な位置関係にずれが生じると、オフ状態において液晶装置１０に入射した光が少量ではあるが透過してしまい、表示のコントラスト低下を招くこととなる。液晶セル３に偏光板４，５を貼り付けしたときの実際の液晶セル３に対する透過軸４ｔ，５ｔの角度と光学設計上における所定の透過軸４ｔ，５ｔの角度との差（以下、ずれ角度と称する）が大きいほどコントラスト低下も大きくなり、液晶装置１０の表示品質が低下する。

図５は、液晶装置における偏光板の透過軸のずれ角度とコントラストとの関係の一例を示す図である。図５は等コントラストコンターと呼ばれる図であって、縦軸および横軸は、それぞれ偏光板４の透過軸４ｔのずれ角度および偏光板５の透過軸５ｔのずれ角度である。また、光学設計上の所定の角度（±０）に対して、観察側から見て時計回り方向にずれている場合をプラス側のずれとし、反時計回り方向にずれている場合をマイナス側のずれとしている。このような等コントラストコンターは、黒表示時に液晶装置１０を透過する光の透過光強度分布と言い換えることができる。
図５に示すように、本実施形態の液晶装置１０の透過光強度分布は、２つの偏光板４，５のずれ角度に基づく２次元的な平面において、傾きがほぼ±１の軸に対して線対称となっている。

具体的には、領域Ａｒ１，Ａｒ２，Ａｒ３，Ａｒ４，Ａｒ５は、それぞれコントラスト比が同じ範囲となる領域を示している。コントラスト比とは、Ｖ−Ｔカーブ（透過率の印加電圧依存性を示すカーブ）における透過率の最小値と最大値との比のことである。
領域Ａｒ１は、傾きがほぼ±１の軸を有する楕円形状であり、コントラスト比が１：１４００〜１：１５００の領域となっている。領域Ａｒ２は領域Ａｒ１を取り囲む同心のリング状であり、コントラスト比が１：１３００〜１：１４００の領域となっている。同様に領域Ａｒ３は領域Ａｒ２を取り囲み、コントラスト比が１：１２００〜１：１３００の領域となっている。領域Ａｒ４は領域Ａｒ３を取り囲み、コントラスト比が１：１１００〜１：１２００の領域となっている。領域Ａｒ５は領域Ａｒ４を取り囲み、コントラスト比が１：１１００未満の領域となっている。なお、液晶装置１０のコントラスト比は、１：１３００以上であることが望ましい。

偏光板４，５の透過軸４ｔ，５ｔのいずれか一方のずれ角度が１．０°または−１．０°であると、コントラスト比は１：１１００よりも低くなる。また、透過軸４ｔ，５ｔの双方のずれ角度が±０．５°以内であっても、コントラスト比が１：１２００よりも低くなる場合が生じてしまう。これに対して、透過軸４ｔ，５ｔの双方のずれ角度が、０°±０．２５°以内であれば、コントラスト比は少なくとも１：１３００以上となる。したがって、透過軸４ｔ，５ｔの光学設計上の所定の角度に対するずれ角度を±０．２５°程度の範囲内に抑えれば、１：１３００以上のコントラスト比が得られる。この０°±０．２５°程度の範囲を、ずれ角度の光学的な許容範囲とする。

このように、液晶装置１０の製造工程において、液晶セル３の配向膜１９，２４のラビング方向に対する偏光板４，５の透過軸４ｔ，５ｔを精度良く光学設計上の所定の角度に合わせること、すなわち偏光板４，５を液晶セル３に対して光学的に最適な状態で配置することが、液晶装置１０の表示品質を確保する上で重要である。

なお、液晶装置１０において、画素電極１８の開口部１８ａの延在方向、配向膜１９，２４のラビング方向等の光学設計条件は、上記の形態に限定されるものではない。

＜液晶装置の製造方法＞
次に、液晶装置１０の製造方法について図６を参照して簡単に説明する。図６は液晶装置の製造方法を示すフローチャートである。

図６に示すように、液晶装置１０の製造方法は、素子基板１上にＴＦＴ素子１５や各種配線、電極を形成する素子・電極形成工程（ステップＳ１）と、素子基板１に配向膜１９を成膜して配向処理を施す配向処理工程（ステップＳ２）と、対向基板２上に遮光層２１やフィルタエレメント２２、オーバーコート層２３を形成するカラーフィルタ層形成工程（ステップＳ３）と、対向基板２に配向膜２４を成膜して配向処理を施す配向処理工程（ステップＳ４）とを備えている。
また、配向処理が施された素子基板１と対向基板２とを所定の位置でシール材を用いて接合する貼り合わせ工程（ステップＳ５）と、貼り合わされた素子基板１と対向基板２との隙間に液晶を注入して封止する液晶注入・封止工程（ステップＳ６）と、できあがった液晶セル３に対して偏光板４，５を貼り付ける偏光板貼付工程（ステップＳ７）とを備えている。

ステップＳ１〜ステップＳ６は、公知の技術を用いて各工程を実施することができる。例えば、ステップＳ１〜ステップＳ４の素子基板１や対向基板２の製造工程は、一般的にマザー基板を用いて行われ、それぞれに多数個取りされた状態で加工が行われる。そして、ステップＳ５では、マザー基板同士を貼り合せる。ステップＳ６では、貼り合わされたマザー基板から少なくとも１つの組み合わせを取り出して液晶を注入・封止することにより液晶セル３を完成させる。

ステップＳ７は偏光板貼付工程であって、前述したように偏光板４，５を液晶セル３に対して光学的に最適な状態で配置することが求められている。

図７（ａ）および（ｂ）は液晶セルに対する偏光板の貼付方法を示す模式図である。ステップＳ７では、図７（ａ）に示すように、まず液晶セル３を挟んで偏光板４とマスター偏光子とを互いに対向配置する。マスター偏光子は、光学軸の方向が予め既知の偏光板そのものを用いることができる。これ以外にも、一般的な偏光板よりも高い偏光度が得られるものが好ましく、例えばワイヤーグリッド偏光子、ブリュスター角を用いた石英積層板、プリズムなどを挙げることができる。

射出された光がマスター偏光子、液晶セル３、偏光板４を透過するように光源を配置すると共に、偏光板４の上方には透過する光の強度を測定可能な受光部を配置する。

光源としては、可視光波長の光を直進性を有して射出するものが好ましく、例えば半導体レーザーやＬＥＤを用いることができる。また、受光部としては、例えばマルチフォトメーターなどを用いることができる。なお、光源と受光部との配置は、これに限らず、図７（ａ）において上側に光源、下側に受光部としてもよい。

光源とマスター偏光子との間には、１／４λ板を配置することが望ましい。１／４λ板を透過した光は、対向する面内での光強度分布に偏りが少ない円偏光となる。

マスター偏光子に入射した円偏光は、これを透過して直線偏光に変換され液晶セル３に入射する。液晶セル３に入射した直線偏光は、前述した光学設計によれば液晶セル３を透過して偏光板４に入射するもほとんど偏光板４を透過することができない。したがって、受光部によって偏光板４を透過する透過光の強度を測定しつつ、マスター偏光子、液晶セル３、偏光板４のうちいずれか２つを対向する面内で回転させて、透過光強度が最小となる相対的な位置を決める。そして、偏光板４を液晶セル３の一方の表面に貼り付ける。

次に、図７（ｂ）に示すように、貼り付けられた偏光板４が光源側に向くように液晶セル３を配置すると共に、偏光板５を液晶セル３の他方の表面に対して対向配置する。偏光板４の場合と同様にして、受光部によって偏光板５を透過する透過光の強度を測定しつつ、液晶セル３、偏光板５のうちいずれか１つを対向する面内で回転させて、透過光強度が最小となる相対的な位置を決める。そして、偏光板５を液晶セル３の他方の表面に貼り付ける。

本実施形態の液晶装置１０はノーマリーブラックモードであるため、液晶セル３に対する偏光板４，５の相対的な位置が光学設計条件からわずかに外れても光漏れが生ずる。この光漏れを受光部において測定することにより、透過光強度が最小となる液晶セル３と偏光板４，５の相対位置（相対角度）が求められる。

一方、図５に示したように透過光強度は、偏光板４，５のずれ角度に基づく分布を有している。したがって、受光部により検出された透過光強度が最小となる相対位置（相対角度）が必ずしも最適な位置（角度）と言えないおそれがある。

そこで、前述した透過光強度の測定方法を踏まえつつ、液晶セル３に対して偏光板４，５をそれぞれ最適な位置（角度）に位置決めすることができる方法（アルゴリズム）について、実施例を挙げて説明する。

（実施例１）
図８は実施例１の偏光板の位置決め方法を示すフローチャート、図９は実施例１の偏光板の位置決め方法を示す概略図、図１０は透過光強度分布における極小点の近似方法を示すグラフである。

図８に示すように、実施例１の液晶装置の製造方法としての偏光板の位置決め方法は、第１測定点における透過光強度を測定する第１の工程（ステップＳ１１）と、第２および第３測定点における透過光強度を測定する第２の工程（ステップＳ１２）と、第１〜第３測定点の透過光強度の測定結果に基づいて透過光強度分布における第１の極小点を近似する第３の工程（ステップＳ１３）と、第４および第５測定点における透過光強度を測定する第４の工程（ステップＳ１４）と、第１の極小点の透過光強度の近似値と、第４〜第５測定点の透過光強度の測定結果に基づいて透過光強度分布における第２の極小点を近似する第５の工程（ステップＳ１５）とを備えている。

図８のステップＳ１１では、図７（ａ）に示すように、光学設計に基づいて互いに対向配置されたマスター偏光子と液晶セル３と偏光板４とを透過するように光を照射して、対向する面内の任意の第１測定点において透過光強度を測定する。

この時点では、第１測定点が図５に示した透過光強度分布においてどこに位置しているか不明である。そして、ステップＳ１２へ進む。

図８のステップＳ１２では、図９に示すように、透過光強度分布における対称軸に対して直交し、第１測定点Ｍ１を通る第１仮想直線Ｌ１上において、第１測定点Ｍ１を挟んだ第２測定点Ｍ２と第３測定点Ｍ３とにおいて透過光強度を測定する。
前述したように透過光強度分布は、傾きがほぼ±１の軸に対して線対称である。そこで、まず透過光強度の変化が傾き−１の軸に比べて急峻な傾き＋１の軸を第１仮想直線Ｌ１として、第１測定点Ｍ１を通る同一線上の第２測定点Ｍ２と第３測定点Ｍ３を選定して、透過光強度を測定する。
具体的には、第２測定点Ｍ２は、第１測定点Ｍ１におけるマスター偏光子、液晶セル３、偏光板４の相対配置を原点として、液晶セル３に対してマスター偏光子と偏光板４とをそれぞれ反時計回りに一定の角度回転させた状態で透過光強度を測定することを意味している。同様に第３測定点Ｍ３は、第１測定点Ｍ１におけるマスター偏光子、液晶セル３、偏光板４の相対配置を原点として、液晶セル３に対してマスター偏光子と偏光板４とをそれぞれ時計回りに一定の角度回転させた状態で透過光強度を測定することを意味している。

第１仮想直線Ｌ１上における透過光強度の変化は、図１０に示すように、２次関数として近似できる。すなわち、第１仮想直線Ｌ１上における透過光強度ｙは、各測定点における液晶セル３に対するマスター偏光子と偏光板４のそれぞれのずれ角度の組み合わせを示す座標ｘとの関係において、以下の数式（１）を満足させる。
ｙ＝ａｘ²＋ｂｘ＋ｃ ・・・・（１）
第２測定点Ｍ２、第３測定点Ｍ３を選定する際には、第１測定点Ｍ１を原点（基準）として時計回りと反時計回りの両方向に一定のずれ角度でマスター偏光子と偏光板４と回転させることが好ましい。また、その際のずれ角度は、受光部によって精度よく透過光強度を計測可能な範囲に留めることが好ましい。これにより、上記数式（１）を正確に特定することができる。そして、ステップＳ１３へ進む。

図８のステップＳ１３では、第１測定点Ｍ１から第３測定点Ｍ３における測定結果から上記数式（１）を近似して求め、近似された数式（１）によって、第１仮想直線Ｌ１上の第１の極小点Ｐ１を求める。言い換えれば、第１の極小点Ｐ１を求めることにより、第１測定点Ｍ１を原点としたときの第１の極小点Ｐ１における、液晶セル３に対するマスター偏光子と偏光板４のずれ角度の座標ｘが求められる。そして、ステップＳ１４へ進む。

図８のステップＳ１４では、図９に示すように、第１仮想直線Ｌ１と直交し第１の極小点Ｐ１を通る第２仮想直線Ｌ２上において、第１の極小点Ｐ１を挟んだ第４測定点Ｍ４と第５測定点Ｍ５とにおける透過光強度を測定する。
具体的には、第１仮想直線Ｌ１に直交し、第１の極小点Ｐ１を通る第２仮想直線Ｌ２は、透過光強度分布において傾き−１の軸であって、この第２仮想直線Ｌ２上において液晶セル３に対するマスター偏光子と偏光板４の最適な相対配置（配置角度）が存在する。そこで、今度は、第１の極小点Ｐ１を基準としてマスター偏光子を反時計回りに一定の角度で回転させると共に、偏光板４を時計回りに一定の角度で回転させた第４測定点Ｍ４における透過光強度を測定する。また、第１の極小点Ｐ１を基準としてマスター偏光子を時計回りに一定の角度で回転させると共に、偏光板４を反時計回りに一定の角度で回転させた第５測定点Ｍ５における透過光強度を測定する。そして、ステップＳ１５へ進む。

図８のステップＳ１５では、第１の極小点Ｐ１における透過光強度の近似値と、第４測定点Ｍ４および第５測定点Ｍ５における透過光強度の測定結果から、ステップＳ１３の場合と同様に上記数式（１）を近似して求め、近似された数式（１）によって、第２仮想直線Ｌ２上の第２の極小点Ｐ２を求める。言い換えれば、第２の極小点Ｐ２を求めることにより、第１の極小点Ｐ１を基準としたときの第２の極小点Ｐ２における、液晶セル３に対するマスター偏光子と偏光板４のずれ角度の座標ｘが求められる。求められた第２の極小点Ｐ２における液晶セル３に対するマスター偏光子と偏光板４のずれ角度の座標ｘは、液晶装置１０における光学設計上の最適な液晶セル３と偏光板４との相対配置（配置角度）を示すものである。

そして、第２の極小点Ｐ２における液晶セル３に対する偏光板４の光学的に最適な相対配置（配置角度）に基づいて、液晶セル３に対して偏光板４を位置決めして貼り付けする。

偏光板４が貼り付けられた液晶セル３と偏光板５とを位置決めする場合にも、上述したステップＳ１１〜ステップＳ１５を適用できることは言うまでもない。
すなわち、図７（ｂ）に示すように、偏光板４が貼り付けられた液晶セル３と偏光板５とを対向配置し、対向する面内の任意の第１測定点Ｍ１における透過光強度を測定する。続いて、第１測定点Ｍ１を通る第１仮想直線Ｌ１上において第１測定点Ｍ１を挟んだ第２測定点Ｍ２と第３測定点Ｍ３における透過光強度を測定する。すなわち、受光部により透過光強度を測定しつつ、例えば液晶セル３に対して偏光板５を時計回りと反時計回りとに一定の角度回転させた状態で透過光強度を測定する。第１測定点Ｍ１、第２測定点Ｍ２、第３測定点Ｍ３の透過光強度の情報から上記数式（１）を近似して求めることにより、第１の極小点Ｐ１が求められる。一方の偏光板４はすでに液晶セル３に対して光学的に最適な配置角度で貼り付けられているため、この場合、第１測定点Ｍ１を原点とする透過光強度分布において第１の極小点Ｐ１の座標が他方の偏光板５の光学的に最適な配置角度を示すものである。この第１の極小点Ｐ１に基づいて液晶セル３と偏光板５とを位置決めして貼り付ける。

このような実施例１の偏光板の位置決め方法（アルゴリズム）によれば、液晶セル３に対して偏光板４，５がそれぞれ光学的に最適配置され、優れたコントラスト比が得られる液晶装置１０を製造することができる。

（実施例２）
図１１は実施例２の偏光板の位置決め方法を示すフローチャート、図１２は実施例２の偏光板の位置決め方法を示す概略図である。

実施例２の偏光板の位置決め方法は、実施例１の偏光板の位置決め方法に対して、第１測定点を原点として第２測定点から第５測定点を選定して、各測定点における透過光強度を先に測定し、これらの測定結果から液晶セル３に対する偏光板の最適な配置を求めるものである。したがって、実施例１に対して同一の構成を示す部分は、同一の符号を用いて説明する。

具体的には、図１１のステップＳ２１（第１の工程）では、図１２に示すように、光学設計に基づいて互いに対向配置されたマスター偏光子と液晶セル３と偏光板４とを透過するように光を照射して、対向する面内の任意の第１測定点Ｍ１において透過光強度を測定する。そして、ステップＳ２２へ進む。

図１１のステップＳ２２（第２の工程）では、図１２に示すように、透過光強度分布における対称軸に対して直交し、第１測定点Ｍ１を通る第１仮想直線Ｌ１上において、第１測定点Ｍ１を挟んだ第２測定点Ｍ２と第３測定点Ｍ３とにおいて、透過光強度を測定する。すなわち、液晶セル３に対してマスター偏光子と偏光板４とをそれぞれ反時計回りに一定の角度回転させた状態の第２測定点Ｍ２において透過光強度を測定する。また、液晶セル３に対してマスター偏光子と偏光板４とをそれぞれ時計回りに一定の角度回転させた状態の第３測定点Ｍ３において透過光強度を測定する。そして、ステップＳ２３へ進む。

図１１のステップＳ２３（第４の工程）では、第１仮想直線Ｌ１と直交し第１測定点Ｍ１を通る第２仮想直線Ｌ２上において、第１測定点Ｍ１を挟んだ第４測定点Ｍ４と第５測定点Ｍ５とにおける透過光強度を測定する。すなわち、第１測定点Ｍ１を基準としてマスター偏光子を反時計回りに一定の角度で回転させると共に、偏光板４を時計回りに一定の角度で回転させた第４測定点Ｍ４における透過光強度を測定する。また、第１測定点Ｍ１を基準としてマスター偏光子を時計回りに一定の角度で回転させると共に、偏光板４を反時計回りに一定の角度で回転させた第５測定点Ｍ５における透過光強度を測定する。そして、ステップＳ２４へ進む。

図１１のステップＳ２４（第３の工程）では、図１２に示すように、第１測定点Ｍ１、第２測定点Ｍ２および第３測定点Ｍ３における透過光強度の情報に基づいて、第１仮想直線Ｌ１上における透過光強度の第１の極小点Ｐ１を近似して求める。第１の極小点Ｐ１を求める方法は、実施例１で説明した方法と同じである。そして、ステップＳ２５へ進む。

図１１のステップＳ２５（第５の工程）では、図１２に示すように、第１測定点Ｍ１、第４測定点Ｍ４および第５測定点Ｍ５における透過光強度の情報に基づいて、第２仮想直線Ｌ２上における透過光強度の第２の極小点Ｐ２を近似して求める。第２の極小点Ｐ２を求める方法は、第１の極小点Ｐ１を近似して求めた方法と同じである。この場合の第２の極小点Ｐ２における液晶セル３に対するマスター偏光子と偏光板４の相対的配置（配置角度）は、図１２に示すように光学的に最適な状態となっていない。そこで、ステップＳ２６へ進む。

図１１のステップＳ２６（第６の工程）では、図１２に示すように、第２仮想直線Ｌ２と平行であって第１の極小点Ｐ１を通る第３仮想直線Ｌ３と、第１仮想直線Ｌ１と平行であって第２の極小点Ｐ２を通る第４仮想直線Ｌ４との交点Ｐ３を求める。求められた交点Ｐ３における液晶セル３に対するマスター偏光子と偏光板４のずれ角度の座標ｘは、液晶装置１０における光学設計上の最適な液晶セル３と偏光板４との相対配置（配置角度）である。

偏光板４が貼り付けられた液晶セル３に偏光板５を位置決めして貼り付ける方法は、実施例１と同じである。

実施例２の偏光板の位置決め方法（アルゴリズム）によれば、実施例１と同様に液晶セル３に対して偏光板４，５がそれぞれ光学的に最適配置され、優れたコントラスト比が得られる液晶装置１０を製造することができる。また、第１測定点Ｍ１から第５測定点Ｍ５までの透過光強度の測定を先行して実施することから、実施例１に比べて測定動作に無駄が生じ難い。すなわち、少なくとも一方の偏光板（偏光板４）を効率的に位置決めして貼り付けすることができる。なお、第１測定点Ｍ１を原点として第２測定点Ｍ２から第５測定点Ｍ５を設定する方法は、実施例１の各測定点の設定の考え方と同じである。また、第１測定点Ｍ１を基準として他の測定点における透過光強度を測定する順番は、これに限定されず、例えば第４測定点Ｍ４、第５測定点Ｍ５を先に測定してもよい。

実施例１および実施例２の偏光板の位置決め方法によれば、２次関数により各極小点を近似するため、偏光板４を貼り付けする際には少なくとも５点、偏光板５を貼り付けする際には少なくとも３点、合計８点の測定点における透過光強度を測定することにより、光学的な最適配置を求めることができる。

また、実施例１や実施例２の偏光板の位置決め方法を液晶装置１０の量産に適用する場合、液晶セル３や偏光板４，５の製造ロットを考慮して、第１の工程であるステップＳ１１およびステップＳ２１では、直前に偏光板４，５の貼り付けを行った他の液晶装置１０において採用された偏光板４，５の配置角度に基づいて、液晶セル３と偏光板４，５とを相対配置することが好ましい。これによれば、最適な相対配置に近い状態で液晶セル３と偏光板４，５とを配置して透過光強度の測定を行うことができる。すなわち、第１測定点Ｍ１における透過光強度を受光部によって適正に測定可能な位置に設定することができる。

（実施例３）
図１３は実施例３の偏光板の位置決め方法を示すフローチャートである。実施例３の偏光板の位置決め方法は、実施例１に対して第１測定点Ｍ１における透過光強度の測定結果を基に次工程を選択する第１判定工程（ステップＳ３２）を備えている点が異なっている。他のステップＳ３１およびステップＳ３３〜ステップＳ３６は、実施例１のステップＳ１１〜ステップＳ１５に相当する。したがって、追加されたステップＳ３２について説明する。

図１３のステップＳ３２（第１判定工程）では、第１測定点Ｍ１における透過光強度が直前に偏光板４の貼り付けを行った他の液晶装置１０（パネル）の第２の極小点Ｐ２の近似値に近い場合、当該他の液晶装置１０において採用された偏光板４の配置角度に基づいて、液晶セル３と偏光板４とを相対的に位置決めして貼り付ける工程（第８の工程）を選択する。

実施例３の偏光板の位置決め方法によれば、透過光強度を測定する測定点の数を減らして効率的に偏光板４を液晶セル３に貼り付けすることが可能である。また、実施例３の偏光板の位置決め方法は、偏光板４が貼り付けられた液晶セル３に偏光板５を貼り付ける場合にも適用が可能である。

実施例３の偏光板の位置決め方法を液晶装置１０の量産に適用する場合、液晶セル３や偏光板４，５の製造ロットを考慮して、各製造ロットの使用開始時に上記第１判定工程を実施することが好ましい。これによって、所謂ロット判定を可能とし、同一製造ロットの液晶セル３や偏光板４，５を用いて液晶装置１０を製造する際には、最初に求められた液晶セル３に対する偏光板４，５の最適配置を適用して、以降の液晶装置１０の製造における偏光板４，５の貼り付けを行い、優れたコントラスト比を有する液晶装置１０を効率よく製造することが可能である。

さらには、上記第１判定工程（ステップＳ３２）は、第１測定点Ｍ１における透過光強度が予め決められた値よりも下回る場合には、第１の工程（ステップＳ３１）における液晶セル３に対する偏光板４（または偏光板５）の配置角度を保って、液晶セル３に偏光板４（偏光板５）を貼り付ける工程（第９の工程）を選択するとしてもよい。これによれば、第２の工程以降を省くことができるため、より効率的に偏光板４，５を貼り付けすることができる。

（実施例４）
図１４は実施例４の偏光板の位置決め方法を示すフローチャート、図１５（ａ）および（ｂ）は実施例４の偏光板の位置決め方法を示す概略図である。
図１４に示すように、実施例４の偏光板の位置決め方法は、実施例２の偏光板の位置決め方法に対して、第２判定工程であるステップＳ４７と、第６〜第８測定点における透過光強度の測定を行うステップＳ４８と、第６〜第８測定点における透過光強度の情報を基に透過光強度分布において第３の極小点を近似するステップＳ４９とをさらに備えたことが特徴である。実施例４におけるステップＳ４１〜ステップＳ４６は、実施例２のステップＳ２１〜ステップＳ２６に相当する。したがって、追加されたステップＳ４７〜ステップＳ４９について説明する。

図１４のステップＳ４７（第２判定工程）では、図１（ｂ）を参照して前述した液晶装置１０における偏光板４（偏光板５）の貼付許容限界を考慮し、図１５（ａ）に示すように、ステップＳ４６で求められた交点Ｐ３が貼付許容限界線Ｌ５で囲まれた領域の内側にあるか否かを判定する。内側にあれば交点Ｐ３における偏光板４のずれ角度（液晶セル３に対する配置角度）に基づいて、液晶セル３と偏光板４とを位置決めして貼り付けする。交点Ｐ３が貼付許容限界線Ｌ５で囲まれた領域の内側にない場合、ステップＳ４８へ進む。

図１４のステップＳ４８では、図１５（ａ）に示すように、透過光強度分布において交点Ｐ３が存在する側の貼付許容限界線Ｌ５上における第６測定点Ｍ６、第７測定点Ｍ７、第８測定点Ｍ８における透過光強度を測定する。なお、図１５（ａ）では、第７測定点Ｍ７は第２仮想直線Ｌ２と貼付許容限界線Ｌ５との交点であり、第８測定点Ｍ８は第１仮想直線Ｌ１と貼付許容限界線Ｌ５との交点であり、第６測定点Ｍ６は第７測定点Ｍ７と第８測定点Ｍ８の中間点としたが、これに限定されない。少なくとも当該貼付許容限界線Ｌ５上の３点について透過光強度を測定すればよい。そして、ステップＳ４９へ進む。

図１４のステップＳ４９（第１０の工程）では、第６測定点Ｍ６、第７測定点Ｍ７および第８測定点Ｍ８における透過光強度の測定結果に基づいて近似することにより、前述の数式（１）を求め、さらに第３の極小点Ｐ４を求める。

図１５（ａ）に示すように、第３の極小点Ｐ４は、液晶セル３に対する偏光板４の最適配置を示す交点Ｐ３を通過する第３仮想直線Ｌ３と貼付許容限界線Ｌ５（図１５（ｂ）における領域Ａｒ１４との境界線）との交点Ｐ５とは合致しない。その理由について以下に説明する。
図１５（ａ）に示すように液晶装置１０における透過光強度分布は楕円形状を示している。その楕円率は液晶層３０の位相差値Δｎｄ（Δｎは液晶分子の複屈折率、ｄは液晶層の厚み）に依存する。したがって、Δｎｄの設定によっては、透過光強度分布を示す等コントラストコンターが同心円状となったり、楕円の長軸が傾き＋１の軸の方向となったりする。
それゆえに、交点Ｐ３が貼付許容限界線Ｌ５内にない、すなわち図１５（ｂ）に示した領域Ａｒ１１、Ａｒ１２、Ａｒ１３、Ａｒ１４のいずれかに存在する場合には、図１５（ａ）に示すように交点Ｐ３を通過する第３仮想直線Ｌ３と貼付許容限界線Ｌ５との交点Ｐ５を含む等コントラストコンター（この場合は楕円）よりも内側において、透過光強度がさらに低下する等コントラストコンター（楕円）が存在する。透過光強度がより低い当該等コントラストコンター（楕円）と貼付許容限界線Ｌ５との接点が第３の極小点Ｐ４となる。

次に、求められた第３の極小点Ｐ４における液晶セル３に対するマスター偏光子と偏光板４とのずれ角度の座標ｘに基づいて、液晶セル３と偏光板４とを位置決めして貼り付けする。
実施例４の偏光板の位置決め方法によれば、図１（ｂ）に示したように、液晶セル３の基準辺３ａからの距離ｘ１と、同じく基準辺３ｂからの距離ｙ１とを偏光板外形の基準として、偏光板４の外形が液晶セル３からはみ出したりすることなく、見切り領域を確実に覆って貼り付けすることができ、且つ、所望のコントラスト比が確保された液晶装置１０を製造することができる。
また、実施例４の偏光板の位置決め方法は、偏光板４の貼り付けに限定されず、偏光板４が貼り付けられた液晶セル３に偏光板５を貼り付ける場合にも適用できることは言うまでもない。

上記実施形態以外にも様々な変形例が考えられる。以下、変形例を挙げて説明する。

（変形例１）上記実施形態において、実施例３の偏光板の位置決め方法は、実施例１に適用することに限定されない。実施例１および実施例４においても第１判定工程を追加することができる。また、実施例４の偏光板の位置決め方法は、実施例２に適用することに限定されない。実施例１においても第２判定工程を追加することができる。すなわち、実施例１または実施例２に対して実施例３または実施例４を組み合わせた偏光板の位置決め方法を採用することができる。

（変形例２）上記実施形態の実施例１〜実施例４の偏光板の位置決め方法において、各極小点を近似する方法は、図１０に示した２次関数に限定されない。例えば、透過光強度分布は、偏光板４，５のずれ角度に依存するため、以下のような数式（２）で表わされる正弦関数を用いてよい。
ｙ＝ａ・ｓｉｎ²（ｂｘ＋ｃ）＋ｄ ・・・・（２）
これによれば、２次関数を用いる場合に比べて、近似に要する測定点の数が少なくとも３点から４点に増えるが、より精度よく近似を行うことができる。

（ａ）は液晶装置の構成を示す分解斜視図、（ｂ）は正面図。 サブ画素の構成を示す概略平面図。 図２のＡ−Ａ'線で切ったサブ画素の構造を示す概略断面図。 （ａ）および（ｂ）は液晶装置の光学設計を示す概略図。 液晶装置における偏光板の透過軸のずれ角度とコントラストとの関係の一例を示す図。 液晶装置の製造方法を示すフローチャート。 （ａ）および（ｂ）は液晶セルに対する偏光板の貼付方法を示す模式図。 実施例１の偏光板の位置決め方法を示すフローチャート。 実施例１の偏光板の位置決め方法を示す概略図。 透過光強度分布における極小点の近似方法を示すグラフ。 実施例２の偏光板の位置決め方法を示すフローチャート。 実施例２の偏光板の位置決め方法を示す概略図。 実施例３の偏光板の位置決め方法を示すフローチャート。 実施例４の偏光板の位置決め方法を示すフローチャート。 （ａ）および（ｂ）は実施例４の偏光板の位置決め方法を示す概略図。

１…一対の基板のうちの素子基板、２…一対の基板のうちの対向基板、４，５…偏光板、１０…液晶装置、３０…液晶層、Ｌ１…第１仮想直線、Ｌ２…第２仮想直線、Ｌ３…第３仮想直線、Ｌ４…第４仮想直線、Ｍ１…第１測定点、Ｍ２…第２測定点、Ｍ３…第３測定点、Ｍ４…第４測定点、Ｍ５…第５測定点、Ｐ１…第１の極小点、Ｐ２…第２の極小点、Ｐ３…交点、Ｐ４…第３の極小点。

Claims (9)

1. 一対の基板と前記一対の基板に挟持された液晶層とを有する液晶セルの少なくとも一方の表面に偏光板を貼り付ける貼付工程を備えた液晶装置の製造方法であって、
   前記液晶装置は、前記液晶セルに対する前記偏光板の光学軸の配置角度に基づく線対称な透過光強度分布を有し、
   前記貼付工程は、
   光学設計に基づいて互いに対向配置されたマスター偏光子と前記液晶セルと前記偏光板とを透過するように光を照射して、対向する面内の任意の第１測定点において透過光強度を測定する第１の工程と、
   前記透過光強度分布における対称軸に対して直交し、前記第１測定点を通る第１仮想直線上において、前記第１測定点を挟んだ第２測定点と第３測定点とにおいて、透過光強度を測定する第２の工程と、
   前記第１測定点、前記第２測定点および前記第３測定点における透過光強度の情報に基づいて、前記第１仮想直線上における透過光強度の第１の極小点を近似して求める第３の工程と、
   前記第１仮想直線と直交し前記第１の極小点を通る第２仮想直線上において、前記第１の極小点を挟んだ第４測定点と第５測定点とにおける透過光強度を測定する第４の工程と、
   前記第１の極小点、前記第４測定点および前記第５測定点における透過光強度の情報に基づいて、前記第２仮想直線上における透過光強度の第２の極小点を近似して求める第５の工程と、
   前記透過光強度分布上の前記第２の極小点における前記偏光板の前記配置角度に基づいて、前記液晶セルと前記偏光板とを相対的に位置決めして、前記偏光板を前記液晶セルに貼り付ける第６の工程とを含むことを特徴とする液晶装置の製造方法。
2. 一対の基板と前記一対の基板に挟持された液晶層とを有する液晶セルの少なくとも一方の表面に偏光板を貼り付ける貼付工程を備えた液晶装置の製造方法であって、
   前記液晶装置は、前記液晶セルに対する前記偏光板の光学軸の配置角度に基づく線対称な透過光強度分布を有し、
   前記貼付工程は、
   光学設計に基づいて互いに対向配置されたマスター偏光子と前記液晶セルと前記偏光板とを透過するように光を照射して、対向する面内の任意の第１測定点において透過光強度を測定する第１の工程と、
   前記透過光強度分布における対称軸に対して直交し、前記第１測定点を通る第１仮想直線上において、前記第１測定点を挟んだ第２測定点と第３測定点とにおいて、透過光強度を測定する第２の工程と、
   前記第１測定点、前記第２測定点および前記第３測定点における透過光強度の情報に基づいて、前記第１仮想直線上における透過光強度の第１の極小点を近似して求める第３の工程と、
   前記第１仮想直線と直交し前記第１測定点を通る第２仮想直線上において、前記第１測定点を挟んだ第４測定点と第５測定点とにおける透過光強度を測定する第４の工程と、
   前記第１測定点、前記第４測定点および前記第５測定点における透過光強度の情報に基づいて、前記第２仮想直線上における透過光強度の第２の極小点を近似して求める第５の工程と、
   前記第２仮想直線と平行であって前記第１の極小点を通る第３仮想直線と、前記第１仮想直線と平行であって前記第２の極小点を通る第４仮想直線との交点を求める第６の工程と、
   前記透過光強度分布上の前記交点における前記偏光板の前記配置角度に基づいて、前記液晶セルと前記偏光板とを相対的に位置決めして、前記偏光板を前記液晶セルに貼り付ける第７の工程とを含むことを特徴とする液晶装置の製造方法。
3. 前記第１の工程は、直前に前記偏光板の貼り付けを行った他の液晶装置において採用された前記偏光板の前記配置角度に基づいて、前記液晶セルと前記偏光板とを相対配置することを特徴とする請求項１または２に記載の液晶装置の製造方法。
4. 前記第１測定点における透過光強度の情報に基づいて、次工程を選択する第１判定工程を有し、
   前記第１判定工程は、前記第１測定点における透過光強度が直前に前記偏光板の貼り付けを行った他の液晶装置の前記第２の極小点または前記交点の近似値に近い場合、当該他の液晶装置において採用された前記偏光板の前記配置角度に基づいて、前記液晶セルと前記偏光板とを相対的に位置決めして貼り付ける第８の工程を選択することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の液晶装置の製造方法。
5. 前記第１測定点における透過光強度の情報に基づいて、次工程を選択する第１判定工程を有し、
   前記第１判定工程は、前記第１測定点における透過光強度が予め決められた値よりも下回った場合には、前記第１の工程における前記液晶セルに対する前記偏光板の前記配置角度を保って、前記液晶セルに前記偏光板を貼り付ける第９の工程を選択することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の液晶装置の製造方法。
6. 前記偏光板の前記配置角度に関する設計上の前記液晶セルに対する貼付許容限界の情報と、前記第２の極小点または前記交点が前記貼付許容限界内か否かに基づいて、次工程を選択する第２判定工程とを有し、
   前記第２判定工程は、前記第２の極小点または前記交点が前記貼付許容限界の外側にある場合、前記透過光強度分布上において前記第２の極小点または前記交点が存在する側の前記貼付許容限界上における第３の極小点を近似して求める第１０の工程と、
   前記第３の極小点における前記偏光板の前記配置角度に基づいて、前記液晶セルと前記偏光板とを相対的に位置決めして、前記偏光板を前記液晶セルに貼り付ける第１１の工程とを選択することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の液晶装置の製造方法。
7. 前記貼付工程は、第１の偏光板を前記液晶セルに貼り付ける第１貼付工程と、前記第１の偏光板が貼り付けられた前記液晶セルの表面に対して反対側の表面に第２の偏光板を貼り付ける第２貼付工程とを備え、前記第２貼付工程における前記第１の工程は、光学設計に基づいて互いに対向配置された前記第１の偏光板が貼り付けられた前記液晶セルと前記第２の偏光板とを透過するように光を照射して、対向する面内の任意の第１測定点において透過光強度を測定することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項に記載の液晶装置の製造方法。
8. 前記第３の工程および前記第５の工程、または前記第１０の工程における近似方法が２次関数によるものであることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか一項に記載の液晶装置の製造方法。
9. 前記第３の工程および前記第５の工程、または前記第１０の工程における近似方法が正弦関数によるものであることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか一項に記載の液晶装置の製造方法。

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