JP2010157717A - Euvマスク検査 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】システムはセンサのアレイおよび光学システムを含む。センサのアレイは、受けた光エネルギーに対応するアナログデータを生成する。光学システムは、EUVパターニングデバイスの検査エリアからのEUV光をセンサのアレイに誘導し、アナログデータはEUVマスク上で発見される欠陥を判定し、または異常を補償するために使用される。
【選択図】 図2
Description
1. ステップモードでは、サポート構造(例えば、マスクテーブル)MTおよび基板テーブルWTを基本的に静止状態に保ちつつ、放射ビームBに付けられたパターン全体を一度に(すなわち、単一静的露光)ターゲット部分C上に投影する。その後、基板テーブルWTは、Xおよび/またはY方向に移動され、それによって別のターゲット部分Cを露光することができる。
2. スキャンモードでは、サポート構造(例えば、マスクテーブル)MTおよび基板テーブルWTを同期的にスキャンする一方で、放射ビームBに付けられたパターンをターゲット部分C上に投影する(すなわち、単一動的露光)。サポート構造(例えば、マスクテーブル)MTに対する基板テーブルWTの速度および方向は、投影システムPSの(縮小)拡大率および像反転特性によって決めることができる。
3. 別のモードでは、プログラマブルパターニングデバイスを保持した状態で、サポート構造(例えば、マスクテーブル)MTを基本的に静止状態に保ち、また基板テーブルWTを動かす、またはスキャンする一方で、放射ビームBに付けられているパターンをターゲット部分C上に投影する。パルス放射源SOが採用されてもよく、さらにプログラマブルパターニングデバイスは、基板テーブルWTの移動後ごとに、またはスキャン中の連続する放射パルスと放射パルスとの間に、必要に応じて更新される。この動作モードは、前述の型のプログラマブルミラーアレイといったプログラマブルパターニングデバイスを利用するマスクレスリソグラフィに容易に適用することができる。
[0067] 発明の概要および要約の項目は、発明者が想定するような本発明の1つまたは複数の例示的実施形態について述べることができるが、全部の例示的実施形態を述べることはできず、したがって、本発明および添付の請求の範囲をいかなる意味でも制限しないものとする。
Claims (15)
- 受けた光エネルギーに対応するアナログデータを生成するセンサのアレイと、
EUVパターニングデバイスの検査エリアからの極端紫外(EUV)光を前記センサのアレイに誘導する光学システムとを含み、
前記アナログデータは前記EUVマスク上で発見される欠陥を判定し、または異常を補償するために使用される、システム。 - 前記センサのアレイは電荷結合素子(CCD)のアレイを含む、請求項1に記載のシステム。
- 前記CCDアレイは二次元CCDアレイを含む、請求項2に記載のシステム。
- 前記センサのアレイは、前記センサのアレイにおける各センサによって生成される前記アナログデータを処理するために時間遅延積分を使用する、請求項1に記載のシステム。
- 前記EUV光は、約50nm未満の波長を有する光を含む、請求項1に記載のシステム。
- 前記EUV光は、約13.4nmの波長を有する光を含む、請求項1に記載のシステム。
- 前記EUV光は、約11.2nmの波長を有する光を含む、請求項1に記載のシステム。
- 前記センサのアレイは、前記EUV光が前記センサのアレイの一センサにつき約1光子と同等またはそれより少ない場合に前記アナログデータを生成する、請求項1に記載のシステム。
- 前記センサのアレイは、前記EUVパターニングデバイスの前記検査エリアのサイズに対応するようにサイズ決定され、それによって、検査スループットは前記検査エリアからの全ての照明を実質的に同時に受け取ることに基づいて増加する、請求項1に記載のシステム。
- 前記EUVマスクが別のEUV放射ビームをパターン形成するときに前記EUVマスクを支持するサポートデバイスと、
前記パターン形成されたEUVビームを基板のターゲット部分上に投影する投影システムと
をさらに含む、請求項1に記載のシステム。 - アナログ−デジタル変換器と、
リソグラフィシステムの一部を制御するコントローラとを含み、
前記リソグラフィシステムはデジタルデータに基づいて基板をパターン形成するために前記EUVパターニングデバイスを使用する、請求項1に記載のシステム。 - 縦軸を有する一次元アレイ状に構成されかつ基板上に形成された複数の感光性エレメントであって、感光性エレメントの各々はスキャンEUVマスクによってパターン形成されたEUV放射ビームによる照明に応答して電荷を生成し、感光性エレメントの各々は隣接する感光性エレメントに電気的結合されており、それによって各感光性エレメントにおける累積された電荷は、前記スキャンEUVマスクに同期して前記隣接する感光性エレメントへ切り替え可能に移動できる、複数の感光性エレメントと、
前記一次元アレイの端に配置された前記感光性エレメントのうちの1つに結合されているアナログ−デジタル変換器(ADC)と
を含む、極端紫外線(EUV)マスク検査システム。 - 前記複数の感光性エレメントは、前記基板の裏面および前記基板の前面のうちの1つから照明されている、請求項12に記載のEUVマスク検査システム。
- 前記EUVマスクおよび前記複数の感光性エレメントのうちの少なくとも1つに結合されているアクチュエータをさらに含む、請求項12に記載のEUVマスク検査システム。
- EUV放射ビームをスキャンEUVマスクに投影し、パターン形成されたEUV放射ビームにすること、
前記パターン形成された放射ビームをEUVディテクタアレイに投影することであって、前記EUVディタクタアレイは、縦軸を有する一次元アレイ状に構成されかつ基板上に形成された複数の感光性エレメントであって、感光性エレメントの各々はパターン形成されたEUV放射ビームによる照明に応答して電荷を生成し、感光性エレメントの各々は隣接する感光性エレメントに電気的に結合されており、それによって各感光性エレメントにおける累積された電荷は、前記スキャンEUVマスクに同期して前記隣接する感光性エレメントへ切り替え可能に移動できる、複数の感光性エレメントと、前記一次元アレイの端に配置された前記感光性エレメントのうちの1つに結合されているアナログ−デジタル変換器(ADC)とを含む、該投影すること、および
前記ADCから出力信号を出力すること
を含む、極端紫外線(EUV)マスク検査方法。
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