JP2010155898A5 - - Google Patents
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Description
また、(C)成分は、上記一般式中のR5が、一般式:
(式中、R8、R9、およびR10は同じかまたは異なり、水素原子または炭素数1〜5のアルキル基であり、mは1〜10の整数である。)
で表されるイミダゾール含有一価有機基、または一般式:
(式中、R8、R9、R10、およびmは前記のとおりである。)
で表されるイミダゾール含有一価有機基であるアルコキシシランまたはその部分加水分解縮合物であることが好ましい。
で表されるイミダゾール含有一価有機基、または一般式:
で表されるイミダゾール含有一価有機基であるアルコキシシランまたはその部分加水分解縮合物であることが好ましい。
(B)成分は、一般式:
R3 bSi(OR4)(4−b)
で表されるアルコキシシランまたはその部分加水分解縮合物である。上式中、R3は非置換またはハロゲン置換の一価炭化水素基であり、前記R1と同様の一価炭化水素基が例示され、好ましくは、アルキル基、アルケニル基、アリール基であり、特に好ましくは、メチル基、ビニル基、アリル基、フェニル基である。また、上式中、R4はアルキル基であり、前記R2と同様のアルキル基が例示され、好ましくは、メチル基、エチル基である。また、上式中、bは0または1であり、好ましくは1である。
R3 bSi(OR4)(4−b)
で表されるアルコキシシランまたはその部分加水分解縮合物である。上式中、R3は非置換またはハロゲン置換の一価炭化水素基であり、前記R1と同様の一価炭化水素基が例示され、好ましくは、アルキル基、アルケニル基、アリール基であり、特に好ましくは、メチル基、ビニル基、アリル基、フェニル基である。また、上式中、R4はアルキル基であり、前記R2と同様のアルキル基が例示され、好ましくは、メチル基、エチル基である。また、上式中、bは0または1であり、好ましくは1である。
(C)成分は、一般式:
R5R6 cSi(OR7)(4−c)
で表されるアルコキシシランまたはその部分加水分解縮合物である。上式中、R5はイミダゾール含有一価有機基であり、具体的には、一般式:
で表される基、または一般式:
で表される基が例示される。式中、R8、R9、およびR10は同じかまたは異なり、水素原子または炭素数1〜5のアルキル基である。このアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基が例示される。式中、R8、R9、およびR10は水素原子またはメチル基であることが好ましい。また、式中、mは1〜10の整数であり、好ましくは、3〜8の整数である。
R5R6 cSi(OR7)(4−c)
で表されるアルコキシシランまたはその部分加水分解縮合物である。上式中、R5はイミダゾール含有一価有機基であり、具体的には、一般式:
[実施例1〜2、比較例1〜4]
湿気遮断下、下記の成分を表1に示す組成で均一に混合して室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物を調製した。
(a−1)成分:25℃における粘度が24,000mPa・sであり、分子鎖末端のケイ素原子に結合する基の80モル%が、式:
−O−Si(OCH3)3
で表されるトリメトキシシロキシ基であり、残りがメチル基であるジメチルポリシロキサン
(a−2)成分:25℃における粘度が540mPa・sであり、分子鎖末端のケイ素原子に結合する基の80モル%が、式:
−O−Si(OCH3)3
で表されるトリメトキシシロキシ基であり、残りがメチル基であるジメチルポリシロキサン
(b)成分:メチルトリメトキシシラン
(c−1)成分:式:
で表されるイミダゾール含有トリメトキシシラン
(c−2)成分:式:
で表されるイミダゾール含有トリメトキシシラン
(d)成分:ジイソプロポキシビス(エチルアセトアセテート)チタン
(e−1)成分:平均粒子径が1μmの水酸化アルミニウム粉末
(e−2)成分:平均粒子径が10μmの炭酸亜鉛粉末
(f−1)成分:3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン
(f−2)成分:3−アミノプロピルトリメトキシシランと3−グリシドキシプロピルトリメトキシシランをモル比1:2で混合した後、25℃で4週間反応させた反応混合物
湿気遮断下、下記の成分を表1に示す組成で均一に混合して室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物を調製した。
(a−1)成分:25℃における粘度が24,000mPa・sであり、分子鎖末端のケイ素原子に結合する基の80モル%が、式:
−O−Si(OCH3)3
で表されるトリメトキシシロキシ基であり、残りがメチル基であるジメチルポリシロキサン
(a−2)成分:25℃における粘度が540mPa・sであり、分子鎖末端のケイ素原子に結合する基の80モル%が、式:
−O−Si(OCH3)3
で表されるトリメトキシシロキシ基であり、残りがメチル基であるジメチルポリシロキサン
(b)成分:メチルトリメトキシシラン
(c−1)成分:式:
(c−2)成分:式:
(d)成分:ジイソプロポキシビス(エチルアセトアセテート)チタン
(e−1)成分:平均粒子径が1μmの水酸化アルミニウム粉末
(e−2)成分:平均粒子径が10μmの炭酸亜鉛粉末
(f−1)成分:3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン
(f−2)成分:3−アミノプロピルトリメトキシシランと3−グリシドキシプロピルトリメトキシシランをモル比1:2で混合した後、25℃で4週間反応させた反応混合物
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JP2008334353A JP5258550B2 (ja) | 2008-12-26 | 2008-12-26 | 室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物 |
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JP2008334353A JP5258550B2 (ja) | 2008-12-26 | 2008-12-26 | 室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物 |
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---|---|
JP2010155898A JP2010155898A (ja) | 2010-07-15 |
JP2010155898A5 true JP2010155898A5 (ja) | 2011-12-22 |
JP5258550B2 JP5258550B2 (ja) | 2013-08-07 |
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ID=42574051
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2008334353A Expired - Fee Related JP5258550B2 (ja) | 2008-12-26 | 2008-12-26 | 室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物 |
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Country | Link |
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US9139699B2 (en) | 2012-10-04 | 2015-09-22 | Dow Corning Corporation | Metal containing condensation reaction catalysts, methods for preparing the catalysts, and compositions containing the catalysts |
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JPH0768256B2 (ja) * | 1991-08-01 | 1995-07-26 | 株式会社ジャパンエナジー | 新規イミダゾールシラン化合物及びその製造方法並びにそれを用いる金属表面処理剤 |
JPH0539295A (ja) * | 1991-08-02 | 1993-02-19 | Nikko Kyodo Co Ltd | 金属表面処理剤 |
JP3418262B2 (ja) * | 1994-11-22 | 2003-06-16 | ジーイー東芝シリコーン株式会社 | 室温硬化性ポリオルガノシロキサン組成物 |
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