JP2010146772A - 導光板及び導光板の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】安価な設備で製造でき、量産性が高く、輝度が略均一な導光板を提供する。
【解決手段】本発明の導光板１００は、面光源装置を構成するべく、光源８が端面に配置される導光板である。導光板基材１の裏面若しくは表面、又は両面に光拡散微粒子２１及び透光性バインダ２２を含む塗布液２をランダムに塗布することによって、光源８に近い部分は光拡散微粒子２１の塗布密度が低く、光源８から遠い部分は光拡散微粒子２１の塗布密度が高い構成とした。
【選択図】図１

Description

本発明は、液晶表示パネルや看板などの背面から光を照射する面光源装置、所謂バックライト装置用の導光板及び導光板の製造方法に関し、特に導光板の少なくとも表面又は裏面に拡散部を形成した導光板及び導光板の製造方法に関する。

液晶表示パネルや看板などの背面から光を照射するバックライト装置は、光源を面状に配置して拡散板等によって面均一発光を形成する直下型と、線光源を導光板の端面に配置したエッジライト又はサイドライトと呼ばれる導光板方式が知られている。

近年では、より薄型で軽量、省エネ型のものが望まれてきており、そのようなバックライト装置として導光板方式が着目されている。特に、光源として従来の蛍光灯や冷陰極管に代わり、高輝度で長寿命、省エネの観点からＬＥＤ（Light Emitting Diode）が注目されつつある。

バックライト装置用の導光板は、導光板内部に拡散材を分散させたり、表面や裏面の少なくとも一方に光拡散層もしくは拡散パターンを設けたりしている。この導光板は、端面に設けられた冷陰極管やＬＥＤアレイ光源から当該導光板内へ光を入光させ、出射側へ光を出射させて面光源装置を形成するものである。

このような透過型液晶表示パネルや看板などに用いられる導光板方式のバックライト装置として、出射面の明るさが均一となるよう、光源から離れるほど拡散層の光拡散能力を大きくするようなグラデーション分布を設ける技術が知られている（特許文献１を参照）。

光拡散層や拡散パターンによってグラデーション分布を設ける方法として、導光板に直接彫刻・切削する方法、予めグラデーションパターンを設けた金型によって、射出成型やプレス成型によって凹凸パターンを転写する方法、光反射拡散性のインクをスクリーン印刷法によってドット印刷する方法（特許文献２を参照）、インクジェット印刷によってグラデーションパターン印刷する方法などが知られている。
特開昭５７−１２８３８３号公報 特許第３７３４５４７号公報

しかしながら、導光板に直接彫刻・切削する方法においては量産性がない。射出成型やプレス成型では導光板のサイズや形状などによって異なる金型が必要であり、試作の過程で面光源装置として輝度が均一でない場合には金型を作り直さねばならず、時間とコストがかかる。特に、５０インチサイズ以上の大型の導光板を成型する場合には、金型のコストが大きくなるばかりでなく、射出成型では成型困難である。スクリーンドット印刷においても、ドットパターンマスクを設けたスクリーン版を作成する必要があり、輝度均一が不満足な場合には、スクリーン版の再製作に時間とコストが必要となる。近年では、インクジェット印刷法によって版なしにて拡散パターンを直接印刷する方法も提案されつつあるが、大型の導光板に適用する場合には設備コストが大きいものとなる。

本発明は、安価な設備で製造でき、量産性が高く、輝度が略均一な導光板及び導光板の製造方法を提供することを目的とする。

本発明に係る導光板は、面光源装置を構成するべく、光源が端面に配置される導光板であって、導光板基材の裏面若しくは表面、又は両面に光拡散微粒子及び透光性バインダを含む塗布液をランダムに塗布することによって、前記光源に近い部分は前記光拡散微粒子の塗布密度が低く、前記光源から遠い部分は前記光拡散微粒子の塗布密度が高い構成とした。これにより、金型や印刷版などを準備する必要なく、直ちに任意の１次元又は２次元グラデーション分布の光拡散微粒子の塗布密度を実現できる。そのため、輝度が略均一な導光板を、安価な設備で、量産性高く製造できる。

前記塗布液は、当該塗布液をノズルから噴出させるスプレー塗工法によって、前記導光板基材の裏面若しくは表面、又は両面に塗布すること、が好ましい。スプレー塗工法は、導光板基材の表面や裏面、さらには両面においても何ら問題なく適用できる。つまり、スプレー塗工法は、軽量で小さなノズルをＸ−Ｙ方向に走査するだけであるから、光拡散微粒子の塗布分布がグラデーション分布の導光板を、安価な設備で、簡単に製造できる。特に、大型導光板を製造する際に好適である。

本発明に係る導光板の製造方法は、面光源装置を構成するべく、光源が端面に配置される導光板の製造方法であって、導光板基材の裏面若しくは表面、又は両面に光拡散微粒子及び透光性バインダを含む塗布液をランダムに塗布して、前記光源に近い部分は前記光拡散微粒子の塗布密度を低くし、前記光源から遠い部分は前記光拡散微粒子の塗布密度を高くする。これにより、金型や印刷版などを準備する必要なく、直ちに任意の１次元又は２次元グラデーション分布の光拡散微粒子の塗布密度を実現できる。そのため、輝度が略均一な導光板を、安価な設備で、量産性高く製造できる。

前記塗布液は、当該塗布液をノズルから噴出させるスプレー塗工法によって、前記導光板基材の裏面若しくは表面、又は両面に塗布すること、が好ましい。スプレー塗工法は、導光板基材の表面や裏面、さらには両面においても何ら問題なく適用できる。つまり、スプレー塗工法は、軽量で小さなノズルをＸ−Ｙ方向に走査するだけであるから、光拡散微粒子の塗布分布がグラデーション分布の導光板を、安価な設備で、簡単に製造できる。特に、大型導光板を製造する際に好適である。

前記スプレー塗工法は、前記塗布液をノズルから噴出させながら、前記導光板基材の塗工面上において、前記ノズルを前記導光板基材の第１の辺と略平行な方向に移動させる走査を、前記第１の辺と直交する方向に所定の送りピッチで繰り返し、前記塗工面の全面又は一部に前記塗布液を塗布すること、が好ましい。

前記スプレー塗工法は、前記ノズルを前記導光板基材の第１の辺と略平行な方向に移動させる走査を、前記第１の辺と直交する方向に所定の送りピッチで繰り返す工程を、前記導光板基材の塗工面上において部分的に繰り返すことによって、前記光拡散微粒子の塗布密度を１次元的に変化させること、が好ましい。

前記スプレー塗工法は、前記ノズルの送りピッチを変化させ、前記導光板基材の塗工面の全面又は一部に前記塗布液を塗布することによって、前記光拡散微粒子の塗布密度を１次元的に変化させること、が好ましい。

前記スプレー塗工法は、前記ノズルの走査速度を当該ノズルの走査毎に変化させ、前記導光板基材の塗工面の全面又は一部に前記塗布液を塗布することによって、前記光拡散微粒子の塗布密度を１次元的に変化させること、が好ましい。

前記スプレー塗工法は、前記ノズルからの塗布液の単位時間あたりの塗布量を当該ノズルの走査毎に変化させ、前記導光板基材の塗工面の全面又は一部に前記塗布液を塗布することによって、前記光拡散微粒子の塗布密度を１次元的に変化させること、が好ましい。

前記スプレー塗工法は、前記ノズルの走査速度を当該ノズルの走査中に変化させ、前記導光板基材の塗工面の全面又は一部に前記塗布液を塗布することによって、前記光拡散微粒子の塗布密度を１次元的に変化させること、が好ましい。

前記スプレー塗工法は、前記ノズルからの塗布液の単位時間あたりの塗布量を当該ノズルの走査中に変化させ、前記導光板基材の塗工面の全面又は一部に前記塗布液を塗布することによって、前記光拡散微粒子の塗布密度を１次元的に変化させること、が好ましい。

上述のスプレー塗工法のいずれかを組み合わせて、前記導光板基材の塗工面の全面又は一部に前記塗布液を塗布することによって、前記光拡散微粒子の塗布密度を１次元的に変化させること、が好ましい。

上述のスプレー塗工法のいずれかを組み合わせて、前記導光板基材の塗工面の全面又は一部に前記塗布液を塗布することによって、前記光拡散微粒子の塗布密度を２次元的に変化させること、が好ましい。

複数個のノズルを並列に配置し、前記複数個のノズルを略平行に走査させることによって、前記光拡散微粒子の塗布密度を１次元的又は２次元的に変化させること、が好ましい。

本発明によれば、安価な設備で製造でき、量産性が高く、輝度が略均一な導光板及び導光板の製造方法を提供することができる。

以下に、本発明に係る導光板及び導光板の製造方法の実施形態を図面に基づいて説明する。但し、本発明が以下の実施形態に限定される訳ではない。また、説明を明確にするため、以下の記載及び図面は、適宜、簡略化されている。なお、実施形態においては、導光板基材内における光の導光方向をＸ方向とし、当該Ｘ方向と直交する方向をＹ方向とした。

＜実施形態１＞
本発明の実施形態１を以下に説明する。本発明に係る導光板は、液晶表示パネルや看板などの背面から光を照射するバックライト装置を構成するべく、光源が端面に配置される導光板である。

この導光板は、図１に示すように、導光板基材１の裏面若しくは表面、又は両面に光拡散微粒子及び透光性バインダを含む塗布液２をランダムに塗布して、光源に近い部分は光拡散微粒子の塗布密度を高くし、前記光源から遠い部分は前記光拡散微粒子の塗布密度を低くすることを特徴とする。本発明で云う、「光源に近い、遠い」とは、例えば導光板基材の塗工面上における任意の２点において、当該２点が相対的に光源に近いか、遠いかを云うものである。また、「光拡散微粒子の塗布密度が高い、低い」とは、当該２点における光拡散微粒子の塗布密度が相対的に高いか、低いかを云うものである。

具体的に云うと、先ず導光板基材１を用意する。導光板基材１としては、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリカーボネート樹脂など一般の透明樹脂基板が好適に用いられる。特に、大型導光板基板としては、最も透明性に優れるポリメチルメタクリレート樹脂基板がより好適である。

次に、導光板基材１の裏面若しくは表面、又は両面（但し、本実施形態では表面のみ）に光拡散微粒子及び透光性バインダを含む塗布液２を塗布する。
塗布手段としては、塗布液２をノズルから噴出させるスプレー塗工法が好適に用いられる。このとき、スプレー装置は、流量安定性に優れ、ノズルの詰まりなどの心配がないものを好適に用いるが、塗布液２を均一な微粒子状に噴出でき、導光板基材１の平面領域外に塗布液２が飛散することが殆どない、塗布効率が高いスプレーコータ３を用いるのが好ましい。スプレーコータ３は、ノズル４に気体を圧送して噴出させ、当該噴出された気体に、貯蔵槽５からポンプ等によってノズル４に圧送された塗布液２を同伴させて、導光板基材１に噴出する構成とされている。ノズル４に圧送される気体及び塗布液２の流量は、それぞれ流量制御部６、７によって、制御される。ノズル４は、Ｘ方向及びＹ方向に移動可能な構成とされており、導光板基材１の平面全領域（但し、一部分でも良い。）に塗布液２を噴出できる構成とされている。また、ノズル４は、上下方向に移動可能な構成とされており、ノズル４と導光板基材１との間隔を変化させることができる構成とされている。ちなみに、ノズル４のＸ・Ｙ方向への駆動機構、及び上下方向への駆動機構は、特に限定されない。但し、本実施形態では、ノズル４をＸ・Ｙ方向及び上下方向へ移動可能な構成としたが、導光板基材１を支持するステージ（図示を省略）をＸ・Ｙ方向及び上下方向へ移動可能な構成としても良い。

塗布液２は、上述したように光拡散微粒子及び透光性バインダを含む混合物である。光拡散微粒子は、光を透過拡散する部材である。光拡散微粒子としては、シリカ、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、酸化チタン、酸化アルミニウム等の無機系微粒子や、シリコーンビーズ、ＰＭＭＡビーズ、ＭＳビーズ、スチレンビーズ等の有機系微粒子を用いることができる。光拡散微粒子の形状は、真球状、球状、鱗片状、不定形状等であってよく、特に限定されるものではない。光拡散微粒子の平均粒径は、１μｍ以上５０μｍ以下が望ましく、光拡散微粒子の径が小さ過ぎると、拡散効率が低下するばかりでなく、着色や色付きの原因となる場合がある。逆に光拡散微粒子の径が大き過ぎると、輝点欠点の原因となるばかりか、導光板基材１との接着が困難となって機械的安定性が損なわれる。また、塗布液２をスプレー塗布した際に、ノズルが詰まり易くなる。

透光性バインダは、光拡散微粒子を導光板基材１に接着する部材である。透光性バインダとしては、紫外線硬化樹脂をはじめとする活性エネルギー反応性樹脂、熱硬化型の樹脂などが好適に用いられる。この透光性バインダは、導光板基材１の表面に光拡散微粒子と共にスプレー塗布した後に、当該透光性バインダに紫外線照射や熱処理することによって、光拡散微粒子を導光板基材１に接着する接着剤としての機能を発現する。但し、非反応性のポリマーを後述する溶剤に溶解させてスプレー塗布し、導光板基材上で溶剤を乾燥させることによって、光拡散微粒子を接着剤として機能させることも本発明の範疇に属する。

導光板基材１上においてレベリングした後の透光性バインダの厚みは、１μｍ以上２０μｍ以下が好適である。透光性バインダが薄すぎると接着剤としての機能が果たせなくなるばかりか、紫外線硬化樹脂である場合には酸素の影響によって硬化が困難となる。逆に、透光性バインダが厚すぎると、光拡散微粒子が当該透光性バインダ内に埋没してしまうので、光拡散微粒子の凹凸硬化による本来の拡散効果が低減する。

塗布液２は必要に応じて、さらに溶剤を混合することも可能である。溶媒はケトン系、アルコール系、エステル系等制約はないが、塗布液の再凝集を安定化させるために沸点６０℃以上２００℃以下のもので、沈降防止の点から比重０．８以上１．３以下のものが好ましい。溶剤の濃度や表面張力、乾燥性を制御することによって、ノズルから噴出される塗布液の液滴サイズ、ノズル先端から導光板基材１へ到達するまでの溶剤乾燥速度、導光板基材１へ塗布されてから当該導光板基材１上でレベリングしながら乾燥するまでの時間などを制御して、好適なスプレー塗布条件を設定することが可能となる。

塗布液２をスプレー塗布した導光板基材１は、当該溶剤を用いる場合は自然風乾や熱風などによって乾燥させる。透光性バインダが紫外線硬化樹脂からなる場合は、その後の行程にて紫外線を照射して当該透光性バインダを硬化させる。

このように塗布液２をスプレー塗工法によって塗布すると、不規則に光拡散微粒子が噴出され、導光板基材１の塗工面に付着する。図２は、ＭＳ微粒子と紫外線硬化型の透光性バインダと溶剤との塗布液を、ＰＭＭＡ基材上にスプレー塗布して、硬化させた状態の顕微鏡写真である。図２において、気泡のように表わされている部分が、光拡散微粒子である。導光板基材１の塗工面に付着した光拡散微粒子は、それぞれ拡散部となるため、微細な拡散部を簡単に形成することができる。また、光拡散微粒子は、必ずランダムに塗布されるため、モアレの発生を抑制することができる。

なお、望ましい光拡散性能を得るために、光拡散微粒子、透光性バインダ、溶剤、導光板基材とノズルとの間隔などのスプレー塗布条件が適宜制御・選択されるが、塗布液２を水玉状に塗布しても良い（図３）。図中、符号２１は光拡散微粒子、２２は透光性バインダを示している。光拡散性能を大きくするために全面を塗布液２で覆っても良い（図４）。但し、光拡散性能を大きくするために、より多くの塗布液２を塗布しても、光拡散微粒子２１が透光性バインダ２２内に埋没してしまう場合がある（図５）。

このような場合、さらに溶媒で希釈した低粘度の透光性バインダ２２に小粒径の光拡散微粒子２１を混合し、ノズル４から導光板基材１までの間で噴出した極微細な液滴を再凝集させても良い（図６）。より具体的には、塗布液２をノズル４により噴出する際、ノズル４と塗工面との間隔が比較的小さい場合は光拡散微粒子２１が単分散した状態で当該塗工面に付着する。この状態は光拡散微粒子２１が透光性バインダ２２内に埋没しやすいため、拡散力が比較的小さい。一方、ノズル４と塗工面との間隔が比較的大きい場合、噴出直後の液滴中は希釈溶媒の成分が多いため、光拡散微粒子２１は分散した状態であるが、塗工面に到達するまでの間に乾燥すると表面張力で光拡散微粒子２１を核として再凝集し、葡萄のフサ状の凝集塊となり塗工面に付着する。この状態は光拡散微粒子２１の凝集体が透光性バインダ２２内に埋没せず、表面凹凸が大きくなるため拡散力が比較的大きい。このように光拡散微粒子２１の分散凝集を調整することによって、拡散部の拡散力を調整する方法を併用しても良い。

このとき、導光板基材１の屈折率をｎ1、透光性バインダ２２の屈折率をｎ2及び、光拡散微粒子２１の屈折率をｎ3、塗布された光拡散微粒子２１と透光性バインダ２２とで形成された微細凹凸の算術平均表面粗さをＲａとしたとき、以下の関係を満たすことが好ましい。
０．００１≦｜ｎ2―ｎ3｜≦０．５０ 且つ ０.０１μｍ≦Ｒａ≦１０μｍ

光拡散性は、光拡散微粒子２１の屈折率差、光拡散微粒子２１の体積、光拡散微粒子２１の体積濃度、光拡散微粒子２１の形状（真球等の定形・不定形）や表面の微細凹凸等により変化するが、｜ｎ2―ｎ3｜が０．００１より小さい場合、屈折散乱性が少なく照度均一化効果が得難い。また、｜ｎ2―ｎ3｜が０．５０より大きい場合、界面における反射が多く屈折散乱性が少なくなることから、やはり照度均一化効果が得難い。

しかも、Ｒａが０．０１μｍより小さい場合、反射散乱性が少なく光源付近が局所的に明るい等、照度均一化効果が得難い。また、Ｒａが１０μｍより大きい場合、反射散乱要素が物理的に大きいことから、光源付近が局所的に明るい等、やはり照度均一化効果が得難い。

またｎ１＝ｎ２であれば、基材とバインダ間の屈折率差による反射、屈折を考慮しなくて良いので、光学設計、考察が容易となるため好ましい。

ここで、厚さ５ｍｍ、導光長６００ｍｍのＰＭＭＡ基板に、Ｙ方向へのノズルの走査を、X方向に一定の送りピッチで繰り返して均一塗工を試みた。そして、図７に示す条件で送りピッチを変えて塗布液２を塗布した導光板１００の左端にＬＥＤアレイ光源８を設置して、輝度分布を測定した。輝度測定は、図８に示すように、導光板基材１の塗工面を出射面側とした。当該塗工面の背面に拡散反射フィルム９を設置し、前面に拡散フィルム１０を設置して、面輝度測定器１１を用いて測定した。この場合、図８に示すように、導光板基材１におけるＹ方向に配置された辺が、本発明で云う第１の辺となる。

Y方向への一回のノズル４の走査による塗工幅は約５０ｍｍであって、中心部は光拡散微粒子２１の塗布密度が高く、外方に行くにつれ次第に低くなるようなガウシアン分布に類似した分布になっている。X方向への送りピッチが１０ｍｍを超えるような荒いピッチの場合には、光拡散微粒子２１の塗布密度にムラが生じて、図７に示すように輝度分布に明暗ムラが発生する。送りピッチを１０ｍｍとすることで、送りピッチによるムラがない塗工が可能である。

また、図７に示すように、光源８から遠くなればなるほど、相対輝度が低下する。塗布液２を塗布した導光板１００の光拡散性能は、導光板基材１の表面上の光拡散微粒子２１の塗布密度に比例する。そのため、光源側には光拡散微粒子２１の塗布密度を低く、光源遠方側には高くなるように当該塗布液２をスプレー塗布すれば良い。その方法を以下に述べる。

図９は、ノズル４をＹ方向に移動させる走査を、Ｘ方向に所定の送りピッチで繰り返し、１次元的に導光板基材１の塗工面における中央部周辺では光拡散微粒子２１の塗布密度を高く、当該中央部の両側（即ち、端面Ａ、Ｂ側）では光拡散微粒子２１の塗布密度を低くするグラデーション分布の様子を示したものである。

この導光板基材１は、両端面Ａ、ＢにＬＥＤアレイなどの線光源を設置する導光板基材を想定している。図９の例では、塗布液２の塗布量は一定にしておき、ノズル４をＹ方向に一定速度で走査する。端面Ａ側から、ノズル４のＸ方向への送りピッチをムラのないように１０ｍｍから開始するが、導光板基材１の中央部周辺では送りピッチを順次狭く変化するようにして塗布液２を塗布することで、不連続がない完全なグラデーション分布を実現している。

グラデーション分布を実現する上で、スプレー塗工法は極めて自由度が高い。図１０は、塗布液２を塗布する際の各パラメータ及び各種塗工法を整理したものである。ここでは、左右両端面Ａ、ＢにＬＥＤアレイなどの線光源を設置する両端光源タイプの１次元グラデーション分布を設けた導光板を製造する場合を考える。両端光源タイプの場合には、面内の輝度分布を一定にするため、両端部で光拡散微粒子２１の塗布密度が低く、中央部周辺で光拡散微粒子２１の塗布密度が高いグラデーション分布を実現する必要がある。

図１０の表中で、各パラメータとしては、ノズル４の走査方向、ノズル４の走査速度、ノズル４の送りピッチ、塗布液２の塗布量などが考えられる。これらのいずれか１つのパラメータを制御し、他のパラメータを一定とすることで、１次元の連続的なグラデーション分布を簡単に実現することができる。

図１０（ｂ）に示す塗工法（１）は、以下のように塗布液２を塗布するものである。当該塗工法（１）では、導光板基材１におけるＹ方向に配置された辺が、本発明で云う第１の辺となる。先ず、全てのパラメータを一定として、透明な導光板基材１の全体又は一部に均一に塗布液２を塗布する。次に、中央部周辺に同様にして均一に塗布液２を重ねて塗布する。すなわち、全てのパラメーラを一定として、中央部周辺で塗布液２の塗布を繰り返すことによって、導光板基材１の光源に近い両端部における光拡散微粒子２１の塗布密度が低く、光源から遠い中央部周辺の光拡散微粒子２１の塗布密度が高いグラデーション分布を実現している。この状況を、図１１（ａ）に示したが、重ね塗りする境界には必ず有限の段差が生ずることが避けられず、塗布液２の塗布量はできるだけ少なく、ノズル４の走査速度はできるだけ速くし、１回の均一塗工での光拡散微粒子２１の塗布密度をできるだけ少なくし、重ね塗り回数を多くするように塗布液２を塗布することが望ましい。

なお、このような多層重ね塗りについては、塗布液２の単位時間あたりの塗布量、ノズル４の走査速度、ノズル４の送りピッチなどを変えて適宜調整しながら、重ね塗りを実施しても良い。

図１０（ｂ）に示す塗工法（２）は、Ｘ方向への送りピッチのみを連続的に変化させ、他のパラメータを一定とした塗工法である。当該塗工法（２）も、導光板基材１におけるＹ方向に配置された辺が、本発明で云う第１の辺となる。

塗布される光拡散微粒子２１の塗布密度は、ノズル４の送りピッチに逆比例して増減する。すなわち、図１１（ｂ）に示すように、両端部においてはノズル４の送りピッチが広く、中央部周辺においてはノズル４の送りピッチが狭くするように、設計したグラデーション分布関数の逆比例関係となるように連続的に送りピッチを増減することによって、導光板基材１の光源に近い両端部における光拡散微粒子２１の塗布密度が低く、光源から遠い中央部周辺の光拡散微粒子２１の塗布密度が高いグラデーション分布を実現している。この塗工法（２）は、塗布液２の重ね塗りをしなくても、所望のグラデーション分布が得られて生産性が高く、しかも不連続点が生じない完全なグラデーション分布であるので、輝度ムラのない高品位の面光源装置が得られる。

図１０（ｂ）に示す塗工法（３）は、ノズル４の走査毎に走査速度のみを変化させ、他のパラメータを一定とした塗工法である。当該塗工法（３）も、導光板基材１におけるＹ方向に配置された辺が、本発明で云う第１の辺となる。

光拡散微粒子２１の塗布密度はノズル４の走査速度に反比例するので、図１１（ｃ）に示すように、導光板基材１の両端部はノズル４の走査速度を早く、中央部周辺では遅くし、所望のグラデーション分布の逆比例関係によって、ノズル４の走査毎の走査速度を連続的に変化させながら塗布することで、導光板基材１の光源に近い両端部における光拡散微粒子２１の塗布密度が低く、光源から遠い中央部周辺の光拡散微粒子２１の塗布密度が高いグラデーション分布を実現している。この塗工法（３）も、生産性と輝度ムラ品位の両面において好ましい。

図１０（ｂ）に示す塗工法（４）は、ノズル４の走査毎に塗布液２の塗布流量のみを変化させ、他のパラメータを一定とした塗工法である。当該塗工法（４）も、導光板基材１におけるＹ方向に配置された辺が、本発明で云う第１の辺となる。

すなわち、図１１（ｄ）に示すように、ノズル４を所定のピッチで、端面Ａ側から中央部に送るにつれ、塗布液２の塗布量を多くし、中央部から光源が設置される端面Ｂ側に送るにつれ、塗布液２の塗布量を少なくすることで、導光板基材１の光源に近い両端部における光拡散微粒子２１の塗布密度が低く、光源から遠い中央部の光拡散微粒子２１の塗布密度が高いグラデーション分布を実現している。塗工中に、塗布液２の塗布量設定を迅速、簡便に、しかも高精度で再現性よく設定可能であるスプレー塗工法においては、この塗工法（４）も、生産性と輝度ムラ品位の両面において好ましい。

図１０（ｂ）に示す塗工法（５）は、ノズル４をＸ方向に移動させる走査を、Ｙ方向に所定の送りピッチで繰り返す塗工法である。具体的に云うと、ノズル４の走査中に連続的に走査速度を変化させ、他のパラメータは一定とする。当該塗工法（５）は、導光板基材１におけるＸ方向に配置された辺が、本発明で云う第１の辺となる。

すなわち、図１１（ｅ）に示すように、導光板基材１の両端部でノズル４の走査速度を速く、中央部周辺で遅くなるように所望のノズル４の走査中において、グラデーション分布関数の逆関数関係によって当該ノズル４の走査速度を連続的に変化させながらノズル４を走査し、導光板基材１の光源に近い両端部における光拡散微粒子２１の塗布密度が低く、光源から遠い中央部の光拡散微粒子２１の塗布密度が高いグラデーション分布を実現している。この塗工法（５）も、生産性と輝度ムラ品位の両面において好ましい。

図１０（ｂ）に示す塗工法（６）も、ノズル４をＸ方向に移動させる走査を、Ｙ方向に所定の送りピッチで繰り返す塗工法である。具体的に云うと、ノズル４の走査中に連続的に塗布液２の塗布量を変化させ、他のパラメータは一定とする。当該塗工法（６）も、導光板基材１におけるＸ方向に配置された辺が、本発明で云う第１の辺となる。

すなわち、図１１（ｆ）に示すように、ノズル４の走査中において、導光板基材１の両端部で塗布液２の塗布量を少なく、中央部周辺で多く噴出することで、導光板基材１の光源に近い両端部における光拡散微粒子２１の塗布密度が低く、光源から遠い中央部の光拡散微粒子２１の塗布密度が高いグラデーション分布を実現している。この塗工法（６）も、生産性と輝度ムラ品位の両面において好ましい。また、塗布液の塗布量を高速に可変できる場合には、この塗工法（６）によって所望のグラデーション分布が簡便に実現できる。

より、詳しく定量的に説明する。まず、光拡散微粒子２１と透光性バインダ２２、さらに必要に応じて溶剤を含む塗布液２を、輝度ムラの発生しない送りピッチ、例えば１０ｍｍの送りピッチにて導光板基材１に均一塗工する。このように均一塗工した導光板を、塗布液２の塗布量やノズル４の走査速度などを変えて数種（図示例ではα乃至γの３種類）製造する。図１２（ａ）は、製造した導光板α乃至γの光拡散微粒子２１の塗布密度を示す。各々の導光板α乃至γについて、左端にＬＥＤアレイなどの線光源を設置して、図８のように輝度分布を測定すると、図１２（ｂ）に示すようになる。これをもとに、面内均一輝度を与えるような、目標とすべき光拡散微粒子２１の塗布密度はそれぞれ、左右両端光源の導光板については図１２（ｃ）のように、また左片端光源の導光板の場合は図１２（ｄ）のような光拡散微粒子２１の塗布密度となる。

この目標とする、光拡散微粒子２１の塗布密度を実現するために、図１０（ｂ）に示す６種の塗工法（１）乃至（６）がそれぞれ好適に用いられる。塗布液２の塗布量Ｆ(Ｘ，Ｙ)、ノズル４のＹ方向への走査速度Ｖ_Ｙ（Ｘ）、ノズル４のＸ方向への走査速度Ｖ_Ｘ（Ｘ）、ノズル４のＸ方向への送りピッチΔＸ（Ｘ）、ノズル４のＹ方向への送りピッチΔＹ（Ｘ）とする。図１０（ｂ）に示す塗工法（１）乃至（６）は以下のように塗工すれば良い。但し、図１０（ａ）の左端でのＸ座標をX₀、左端での塗布液２の塗布量などをそれぞれＦ₀、Ｖ_Ｙ0、ΔＸ₀、左端での光拡散微粒子２１の目標塗布密度をC₀とすると、図１２（ｃ）又は（ｄ）における位置Xでの光拡散微粒子２１の目標塗布密度Ｃ（Ｘ）は、以下のようにパラメータを決定しながら塗工すれば良い。但し、塗布ムラを防止するために全ての場合において、最長のノズルの送りピッチは前述の１０ｍｍとするように設定する必要がある。
塗工法（１）：Ｆ、Ｖ_Ｙ、ΔＸ及び重ね塗り段数などを適宜選定して実施
塗工法（２）：ΔＸ（Ｘ）＝ΔＸ₀×C₀／C（X₀＋ΣΔＸ）、Ｆ及びＶ_Ｙは一定
塗工法（３）：Ｖ_Ｙ（Ｘ）＝Ｖ_Ｙ0×C₀／C（X₀＋ΣΔＸ）、Ｆ及びΔＸは一定
塗工法（４）：Ｆ（Ｘ）＝Ｆ₀×C（X₀＋ΣΔＸ）／C₀、Ｖ_Ｙ及びΔＸは一定
塗工法（５）：Ｖ_Ｘ（Ｘ）＝Ｖ_Ｘ0×C₀／C（X）、Ｆ及びΔＹは一定
塗工法（６）：Ｆ（Ｘ）＝Ｆ₀×C（X）／C₀、Ｖ_Ｘ及びΔＹは一定
なお、必要に応じて、塗工法（１）乃至（６）を併用しても可能である。

このような塗工法（１）乃至（６）を用いて製造された導光板１００は、導光板基材１の裏面若しくは表面、又は両面に光拡散微粒子２１及び透光性バインダ２２を含む塗布液２をランダムに塗布することによって、光源に近い部分は光拡散微粒子２１の塗布密度が低く、光源から遠い部分は光拡散微粒子２１の塗布密度が高い構成となる。この導光板１００は、例えば図８に示したように、ＬＥＤアレイなどの線光源８と、拡散反射フィルム９と、拡散フィルム１０と、で面光源装置を構成する。

以上のように、本発明の導光板及び導光板の製造方法によれば、金型や印刷版などを準備する必要なく、直ちに任意の１次元的なグラデーション分布を持った導光板を製造することができる。そのため、輝度が略均一な導光板を、安価な設備で、量産性高く製造できる。

しかも、スプレー塗工法は、導光板基材１の表面や裏面、さらには両面においても何ら問題なく適用できる。例えば、表面については当該塗工法（１）乃至（６）によって、Ｘ方向への１次元グラデーション分布を実現し、裏面については当該塗工法（１）乃至（６）によって、Ｙ方向への１次元グラデーション分布を実現し、３辺光源タイプおよび４辺光源タイプの導光板を製造することも可能である。

一般に、高発光効率のグラデーション分布を実現するには、広い拡散反射能力レンジ、すなわち光拡散微粒子２１の塗布密度レンジが必要である。光拡散微粒子２１の塗布密度を増減させて、５倍から１０倍以上の光拡散性能を達成させることは一般的に難しい。このような場合には、裏面には光拡散微粒子２１の塗布密度を均一にスプレー塗布し、表面に不足分の光拡散性能を補うべく、当該塗工法（１）乃至（６）によってグラデーション分布を実現することで、高発光効率の輝度均一なグラデーション導光板が製造し易い場合もある。本発明は、このような場合にでも有効に適用可能である。

また、スプレー塗工法は、例えば５０インチサイズ以上の大型の導光板にも容易に適用できる。射出成型やプレス成型、ドット印刷等はいずれも大型の精密金型やスクリーン版が必要の他に、大型の設備が必要で、投資コストが高い。また、インクジェット印刷法においても、大判対応とするには巨額の投資が必要である。スプレー塗工法であれば、軽量で小さなノズルをＸ−Ｙ方向に走査するだけであるから、安価な設備で目的が達せられる。すなわち、本発明のスプレー塗工法は、大型導光板にも安価な設備にて適用される。

さらに、導光板基材自身に拡散材を含有させたものを用いれば、表面に塗布する光拡散微粒子の塗布密度を全体的に下げて塗布することができるので、場合によっては有益である。例えば、前述のように、表面塗工だけでは光拡散性能が不足する場合である。また例えば、厚くて短い導光板の場合は、光源から入射した導光光が拡散反射面に十分衝突しないうちに反対端面に到達してしまい、十分に面発光しない場合がある。その場合には、僅かに拡散部を導光板内に分散させておくことで、有効に発光させることがでるようになる。本発明は、このような用途にも好適に用いられる。

＜実施形態２＞
本発明の実施形態２を以下に説明する。本実施形態の導光板及び導光板の製造方法は、実施形態１の導光板及び導光板の製造方法と略同様であるが、光拡散微粒子を２次元グラデーション分布としている点が相違する。そのため、相違部分のみを詳細に説明する。

図１３は、導光板１００の４辺に線光源を設置することを想定した２次元グラデーション分布を模式的に示した。すなわち、図１３（ａ）は、光拡散微粒子の塗布密度が略等しい部分を線で結んで示した。図１３（ｂ）は、光拡散微粒子の塗布密度のＸ方向の分布を示した。図１３（ｃ）は、光拡散微粒子の塗布密度のＹ方向の分布を示した。この目標とするグラデーション分布がＣ（Ｘ，Ｙ）で表せるとすれば、塗工法（１）乃至（６）を単独又は併用して用いることで製造可能である。

塗工法（１）の応用としては、図１３（ａ）の線にそって順次重ね塗りを実施することで可能となる。重ね塗りの境界における輝度ムラや輝度段差を防ぐためには、十分に多くの重ね塗り回数を要する。

塗工法（３）の応用としては、Ｙ方向へのノズルの一回の走査中に連続的に走査速度を変化させることで可能となる。すなわち、Ｙ方向へのノズルの走査速度を以下の式に従って走査すれば良い。
Ｖ_Ｙ（Ｘ、Ｙ）＝Ｖ_Ｙ0×C₀／C（X₀＋ΣΔＸ、Ｙ）、Ｆ及びΔＸは一定

塗工法（４）の応用としては、Ｙ方向へのノズルの一回の走査中に連続的に塗布液の塗布量を変化させることで可能となる。すなわち、Ｙ方向へのノズルの走査中に、塗布液の塗布量を以下の式に従って噴出すれば良い。
Ｆ（Ｘ，Ｙ）＝Ｆ₀×C（X₀＋ΣΔＸ、Ｙ）／C₀、Ｖ_Ｙ及びΔＸは一定

塗工法（５）と（６）とを組み合わせて、２次元グラデーション分布を実現することもできる。すなわち、以下の式に従ってＸ方向にノズルを走査すれば良い。
Ｖ_Ｘ（Ｘ、Ｙ）＝Ｖ_Ｘ0×C₀／C（X、Ｙ）、Ｆ及びΔＹは一定
Ｆ（Ｘ、Ｙ）＝Ｆ₀×C（X、Ｙ）／C₀、Ｖ_Ｘ及びΔＹは一定

また、塗工法（２）を応用して、Ｙ方向への一回のノズルの走査中に、ノズルの走査速度や塗布液の塗布量を変えることで２次元グラデーション分布を実現することもできる。

ここでいう、２次元グラデーション分布とは４辺光源のものに限らず、直交２光源や３辺光源でも良く、端面周辺部において光拡散微粒子の塗布密度を微調整する場合なども含めるものである。このことは、上述した１次元グラデーション分布においても同様である。

上述の実施形態１、２における導光板の製造方法において、生産性を考えた場合、１つのノズルだけで広い面積の導光板基材の塗工面上を塗工することは時間がかかるので必ずしも得策ではない。図１４は、例えばＹ方向、すなわち走査方向と略直交方向に等間隔に複数個のノズル４を並列に配置し、当該複数個のノズル４をＸ方向に走査するようにした一例である。但し、Ｙ方向に走査する構成でも良い。このようにマルチノズルとすることで塗布時間を大幅に短縮させることができる。隣接するノズル４と４の間隔は塗布時に互いに干渉しない十分広い間隔が必要であったり、場合によっては隣接するノズルをＸ方向にずらして互い違いに配置することも考えられる。

これらの複数個のノズル４は、個別又は共通に制御され、塗布液を導光板基材１にスプレー塗布する。

１次元グラデーション分布の場合は、例えば塗工法（５）又は（６）を応用して並列に配置したノズル４をＸ方向に１回走査させる。このとき、各々のノズル４は同一の流量とする。次に、輝度ムラを生じさせない十分小さいＹ方向送りピッチ、例えば１０ｍｍほどＹ方向にずらして、塗工法（５）又は（６）によりＸ方向に走査する。これをノズル間隔分走査することで全面に均一に塗布することができる。

２次元グラデーション分布の場合は、Ｙ方向への光拡散微粒子の塗布密度分布に対応させるように各々のノズル４からの塗布液２の塗布量を、独立に、走査毎に制御することで可能となる。

図１５は、透光性バインダが紫外線硬化型で、溶剤も併用した光拡散微粒子の塗布液を用いてスプレー塗布する場合の試作・製造プロセスを示す。先ず、塗布液２を導光板基材１にスプレー塗布した後に、温風などによって溶剤を乾燥させる。次いで、紫外線を照射して透光性バインダを硬化させて、光拡散微粒子を導光板基材の表面に永久接着させる。

多くの場合は、１回のグラデーション分布設計にて所望の輝度均一な導光板が得られることは少ない。しかし、本発明によれば図１５に示すように、直ちに輝度分布を測定評価し、所望の均一度が得られない場合には各パラメータに微調整を加えて、再度塗工する。これを必要に応じて繰り返せば、短時間にしかも容易に光拡散微粒子のグラデーション分布を実現することが可能となる。

以上のように、本発明によれば、光拡散微粒子の１次元グラデーション分布も２次元グラデーション分布も金型や印刷版などを必要とせず、設計から直ちに試作・生産が実施可能である。特に、光源の光を効率良く、しかも均一に前方に出射できるような輝度均一の最適な光拡散微粒子のグラデーション分布は、導光板基材のサイズ、形状、板厚、光源位置などによって全て異なるが、本発明の方法はこのような、多品種で多銘柄の生産に好適に適用されるものである。

＜実施例１＞
定盤（ステージ）の上に長さ（導光方向）１２００ｍｍ、幅１０００ｍｍ、厚み８ｍｍの透明ＰＭＭＡ導光板基材１を置き、図９のように、上方からノズル４によって塗布液２を塗布し、図１０（ｂ）に示す塗工法（１）により、走査方向をＹ方向として、Ｘ方向送りピッチ１０ｍｍピッチとしてまず均一塗布を実施した。塗布液２は、光拡散微粒子としてＭＳ樹脂の架橋粒子（平均粒径３μｍ、溶媒除く固形分換残濃度１０ｗｔ％）、透光性バインダとしてウレタン系紫外線硬化樹脂、希釈溶媒としてＰＧＭＡＣ（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）にて固形分２０ｗｔ％となるように希釈した混合溶液を用い、窒素ガスを同伴させて噴出させた。

導光板基材１とノズル４との距離を１５０ｍｍとし、塗布液２の塗布量は、溶液換算で１ｍＬ／ｍｉｎで、ノズル４の走査速度は１５０ｍｍ／ｍｉｎとした。この場合で、塗布幅は約５０ｍｍであった。

この条件にて、ノズル４のＹ方向への走査を、Ｘ方向に１０ｍｍ間隔で送りながら導光板基材１の表面全面に塗布液２を塗布した。但し、Ｘ方向に配置された一方の端面（図９の紙面における上側の端面）側での塗工初めは導光板基材１の２０ｍｍ手前から空走査を開始し、Ｘ方向に配置された他方の端面（図９の紙面における下側の端面）側での塗り終わりでも導光板基材１を２０ｍｍ超えたところまで走査させた。Ｙ方向に配置された一方の端面（図９の紙面における左側の端面）側では導光板基材１の手前２０ｍｍから塗工し、Ｙ方向に配置された他方の端面（図９の紙面における右側の端面）側では導光板基材１を２０ｍｍ超えて塗工し、ノズル４の方向転換部での塗工ムラが基材本体に入らないように実施した。

両端光源タイプの導光板を製造するために、図１１（ａ）のように、８段の重ね塗りを行なった。この導光板の塗工面を出射側として、図９のように拡散反射フィルム９及び拡散フィルム１０を設置し、両端部に白色ＬＥＤアレイ光源８を配置して外観検査及び輝度分布を測定したところ、８段の輝度段差が視認されるが、十分容認されるような均一な導光板が得られた。

＜実施例２＞
実施例１と同じ条件にて塗工を開始したが、当該塗工法（３）にてＹ方向の走査速度をＸ方向送りピッチによって半連続的に変化させる方法を用いた。実施例１の塗工条件で、Ｘ方向送りピッチが１０ｍｍの均一塗布の導光板基材１上の光拡散微粒子の塗布分布をC₀、ノズル４のＹ方向への走査速度１５０ｍｍ／ｍｉｎをＶ_Ｙ0、ノズル４のＸ方向への送りピッチΔＸ＝１０ｍｍ一定として、導光板基材１上のｎ回目の走査速度Ｖ_Ｙ（Ｘ）を以下のように順次変えていった。その他の変数は全て一定として塗工した。
Ｖ_Ｙ（Ｘ）＝Ｖ_Ｙ0×C₀／C（X₀＋ΣΔＸ）

塗工したものを、両端光源として外観検査と輝度分布測定したところ、輝度ムラや輝度段差は全く視認されず、輝度均一精度も極めて高い、高品位の導光板が得られた。

以上、本発明に係る導光板及び導光板の製造方法の実施形態及び実施例を説明したが、上述した実施形態及び実施例に限られず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の変更が可能である。

本発明に係る導光板の製造方法において、導光板基材の塗工面に塗布液をスプレー塗工する様子を示す概略図である。 （ａ）、（ｂ）は、導光板基材の塗工面の顕微鏡写真である。 （ａ）は、塗布液が水玉状に塗布された導光板を概略的に示す側面図である。（ｂ）は、塗布液が水玉状に塗布された導光板を概略的に示す平面図である。 （ａ）は、塗工面の全面に塗布液が塗布された導光板を概略的に示す側面図である。（ｂ）は、塗工面の全面に塗布液が塗布された導光板を概略的に示す平面図である。 （ａ）は、光拡散微粒子が透光性バインダ内に埋没するように塗布液が塗布された導光板を概略的に示す側面図である。（ｂ）は、光拡散微粒子が透光性バインダ内に埋没するように塗布液が塗布された導光板を概略的に示す平面図である。 （ａ）は、光拡散微粒子が凝集するように塗布液が塗布された導光板を概略的に示す側面図である。（ｂ）は、光拡散微粒子が凝集するように塗布液が塗布された導光板を概略的に示す平面図である。 送りピッチを変えて塗布液を均一塗布した導光板の相対輝度のＸ方向の分布を示す図である。 面光源装置の輝度分布を測定する様子を示す概略図である。 （ａ）は、塗布液をスプレー塗工法で塗布する際のノズルの軌跡を概略的に示す図である。（ｂ）は、（ａ）に示すノズルの軌跡によって、塗布された光拡散微粒子の塗布密度のＸ方向の分布を示す図である。 （ａ）は、塗布液をスプレー塗工法で塗布する際のノズルの走査方向及び送り方向を規定した図である。（ｂ）は、本発明の導光板の製造方法に用いる塗工法の条件を詳細に示す図である。 （ａ）〜（ｆ）は、図１０（ｂ）に示した塗工法によるノズルの軌跡、及び光拡散微粒子の塗布密度のＸ方向の分布を示す図である。 （ａ）は、塗布液を導光板基材に均一塗布した際の光拡散微粒子の塗布密度のＸ方向の分布を示す図である。（ｂ）は、（ａ）の導光板基材の左端に光源を設置して、測定した輝度のＸ方向の分布を示す図である。（ｃ）は、光拡散微粒子の目標塗布密度のＸ方向の分布を示す図である。（ｄ）は、異なる光拡散微粒子の目標塗布密度のＸ方向の分布を示す図である。 （ａ）は、光拡散微粒子の塗布密度が２次元グラデーション分布とした際の、当該塗布密度が略等しい部分を線で結んだ図である。（ｂ）は、２次元グラデーション分布の光拡散微粒子の塗布密度のＸ方向の分布を示す図である。（ｃ）は、２次元グラデーション分布の光拡散微粒子の塗布密度のＹ方向の分布を示す図である。 複数個のノズルによって、導光板基材の塗工面に塗布液をスプレー塗工する様子を示す概略図である。 本発明に係る導光板の製造方法の各工程順を示す概略図である。

符号の説明

１ 導光板基材
２ 塗布液
３ スプレーコータ
４ ノズル
５ 貯蔵槽
６、７ 流量制御部
８ 光源
９ 拡散反射フィルム
１０ 拡散フィルム
１１ 面輝度測定器
２１ 光拡散微粒子
２２ 透光性バインダ
１００ 導光板

Claims (14)

1. 面光源装置を構成するべく、光源が端面に配置される導光板であって、
   導光板基材の裏面若しくは表面、又は両面に光拡散微粒子及び透光性バインダを含む塗布液をランダムに塗布することによって、前記光源に近い部分は前記光拡散微粒子の塗布密度が低く、前記光源から遠い部分は前記光拡散微粒子の塗布密度が高い導光板。
2. 前記塗布液は、当該塗布液をノズルから噴出させるスプレー塗工法によって、前記導光板基材の裏面若しくは表面、又は両面に塗布することを特徴とする請求項１に記載の導光板。
3. 面光源装置を構成するべく、光源が端面に配置される導光板の製造方法であって、
   導光板基材の裏面若しくは表面、又は両面に光拡散微粒子及び透光性バインダを含む塗布液をランダムに塗布して、前記光源に近い部分は前記光拡散微粒子の塗布密度を低くし、前記光源から遠い部分は前記光拡散微粒子の塗布密度を高くする導光板の製造方法。
4. 前記塗布液は、当該塗布液をノズルから噴出させるスプレー塗工法によって、前記導光板基材の裏面若しくは表面、又は両面に塗布することを特徴とする請求項３に記載の導光板の製造方法。
5. 前記スプレー塗工法は、前記塗布液をノズルから噴出させながら、前記導光板基材の塗工面上において、前記ノズルを前記導光板基材の第１の辺と略平行な方向に移動させる走査を、前記第１の辺と直交する方向に所定の送りピッチで繰り返し、前記塗工面の全面又は一部に前記塗布液を塗布することを特徴とする請求項４に記載の導光板の製造方法。
6. 前記ノズルを前記導光板基材の第１の辺と略平行な方向に移動させる走査を、前記第１の辺と直交する方向に所定の送りピッチで繰り返す工程を、前記導光板基材の塗工面上において部分的に繰り返すことによって、前記光拡散微粒子の塗布密度を１次元的に変化させることを特徴とする請求項５に記載の導光板の製造方法。
7. 前記ノズルの送りピッチを変化させ、前記導光板基材の塗工面の全面又は一部に前記塗布液を塗布することによって、前記光拡散微粒子の塗布密度を１次元的に変化させることを特徴とする請求項５に記載の導光板の製造方法。
8. 前記ノズルの走査速度を当該ノズルの走査毎に変化させ、前記導光板基材の塗工面の全面又は一部に前記塗布液を塗布することによって、前記光拡散微粒子の塗布密度を１次元的に変化させることを特徴とする請求項５に記載の導光板の製造方法。
9. 前記ノズルからの塗布液の単位時間あたりの塗布量を当該ノズルの走査毎に変化させ、前記導光板基材の塗工面の全面又は一部に前記塗布液を塗布することによって、前記光拡散微粒子の塗布密度を１次元的に変化させることを特徴とする請求項５に記載の導光板の製造方法。
10. 前記ノズルの走査速度を当該ノズルの走査中に変化させ、前記導光板基材の塗工面の全面又は一部に前記塗布液を塗布することによって、前記光拡散微粒子の塗布密度を１次元的に変化させることを特徴とする請求項５に記載の導光板の製造方法。
11. 前記ノズルからの塗布液の単位時間あたりの塗布量を当該ノズルの走査中に変化させ、前記導光板基材の塗工面の全面又は一部に前記塗布液を塗布することによって、前記光拡散微粒子の塗布密度を１次元的に変化させることを特徴とする請求項５に記載の導光板の製造方法。
12. 請求項６乃至１１のいずれかを組み合わせて、前記導光板基材の塗工面の全面又は一部に前記塗布液を塗布することによって、前記光拡散微粒子の塗布密度を１次元的に変化させることを特徴とする請求項５に記載の導光板の製造方法。
13. 請求項６乃至１１のいずれかを組み合わせて、前記導光板基材の塗工面の全面又は一部に前記塗布液を塗布することによって、前記光拡散微粒子の塗布密度を２次元的に変化させることを特徴とする請求項５に記載の導光板の製造方法。
14. 複数個のノズルを並列に配置し、前記複数個のノズルを略平行に走査させることによって、前記光拡散微粒子の塗布密度を１次元的又は２次元的に変化させることを特徴とする請求項４に記載の導光板の製造方法。