JP2010135813A - プラズマ処理装置及びプラズマ処理装置用の電極板 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】電極38の主面に配設された誘電体90は、処理容器内に配置される基板と同心状になるように前記電極38の中心に形成され、前記基板の口径の1/10以上の第1の直径および第1一定厚さを有する平坦な第1部分と、前記第1部分よりも外側に形成され且つ前記第1の直径よりも大きい第2の直径および前記第1一定厚さよりも小さい第2一定厚さを有する平坦な第2の部分とを含み、前記被処理基板に対する均一な処理を得るための理想的な膜厚プロファイルに擬した膜厚プロファイルを有する。
【選択図】図23
Description
δ=(2/ωσμ)1/2 ‥‥‥‥(1)
ただし、ω=2πf(f:周波数)、σ:導電率、μ:透磁率
ウエハ口径:300mm
エッチングガス:NH3
ガス流量:245sccm
ガス圧力:30mTorr
RF電力:下部=2.4kW
ウエハ裏面圧力(センター部/エッジ部):20/30Torr(Heガス)
温度(チャンバ側壁/上部電極/下部電極)=60/60/20゜C
Claims (17)
- 所定の口径を有する被処理基板にプラズマ処理を施すプラズマ処理装置であって、
前記被処理基板を収納する減圧可能な処理容器と、
前記処理容器内に配設される第1の電極と、
前記処理容器内に処理ガスを供給するガス供給部と、
前記処理ガスのプラズマを生成するため、前記処理容器内に高周波電界を形成する高周波電界形成部と、
前記第1の電極の主面に配設された誘電体と
を具備し、
前記誘電体は、前記処理容器内に配置される前記基板と同心状になるように前記誘電体の中心に形成され、前記基板の口径の1/10以上の第1の直径および第1一定厚さを有する平坦な第1部分と、前記第1部分よりも外側に形成され且つ前記第1の直径よりも大きい第2の直径および前記第1一定厚さよりも小さい第2一定厚さを有する平坦な第2の部分とを含み、前記被処理基板に対する均一な処理を得るための理想的な膜厚プロファイルに擬した膜厚プロファイルを有する、
プラズマ処理装置。 - 前記第1の電極の前記主面と反対側の裏面から前記プラズマを生成するための高周波電力を供給する、請求項1に記載のプラズマ処理装置。
- 前記処理容器内で前記第1の電極と平行に向かい合って配設される第2の電極を有し、前記第2の電極の前記主面と反対側の裏面から前記プラズマを生成するための高周波電力を供給する、請求項1に記載のプラズマ処理装置。
- 前記第1の電極における前記誘電体が、電極中心部から電極エッジ部に向って厚さが次第に小さくなる第3部分を有する、請求項1〜3のいずれか一項に記載のプラズマ処理装置。
- 前記誘電体の前記第3部分は、径方向において前記第2部分よりも外側に形成される、請求項4に記載のプラズマ処理装置。
- 前記第1の電極における前記誘電体の厚さが、前記被処理基板のエッジ部と対向する位置付近で最小になる、請求項1〜5のいずれか一項に記載のプラズマ処理装置。
- 前記第1の電極における前記誘電体の第1部分の厚さを前記誘電体の誘電率に応じた値に設定する、請求項1〜6のいずれか一項に記載のプラズマ処理装置。
- 前記第1の電極の主面上に前記誘電体の一部を覆う導電性のシールド部材を設ける、請求項1〜7のいずれか一項に記載のプラズマ処理装置。
- 前記シールド部材が、前記誘電体の少なくとも中心部を露出させる所望の口径の開口部を有する、請求項8に記載のプラズマ処理装置。
- 前記シールド部材が前記第1の電極に着脱可能に取り付けられる、請求項8または請求項9に記載のプラズマ処理装置。
- 前記第1の電極の主面上で、前記誘電体の外周エッジよりも径方向外側に所望の距離だけ離れた位置から外側の電極部分を、前記プラズマが生成される空間に向かって所望の突出量だけ張り出させる、請求項1〜7のいずれか一項に記載のプラズマ処理装置。
- 前記第1の電極の主面上で、前記誘電体を、前記プラズマが生成される空間に向かって所望の突出量だけ張り出させる、請求項1〜7のいずれか一項記載のプラズマ処理装置。
- 前記第1の電極の主面において前記誘電体の内部に空洞を設け、前記空洞の中に流動性の誘電性物質を入れる、請求項1〜7のいずれか一項に記載のプラズマ処理装置。
- 前記空洞の中に前記誘電性の物質を出し入れするためのポートを前記第1の電極に少なくとも2箇所設ける、請求項13に記載のプラズマ処理装置。
- 前記誘電性物質が有機溶剤である、請求項13または請求項14に記載のプラズマ処理装置。
- 前記第1の電極の主面において前記誘電体の少なくともおもて面は固体で構成される、請求項13〜15のいずれか一項に記載のプラズマ処理装置。
- 所定の口径を有する被処理基板にプラズマ処理を施すプラズマ処理装置の処理容器内に設けられる電極板であって、
プラズマと対向する主面に誘電体を設け、
前記誘電体が、前記処理容器内に配置される前記基板と同心状になるように前記誘電体の中心に形成され、前記基板の口径の1/10以上の第1の直径および第1一定厚さを有する平坦な第1部分と、前記第1部分よりも外側に形成され且つ前記第1の直径よりも大きい第2の直径および前記第1一定厚さよりも小さい第2一定厚さを有する平坦な第2の部分とを含み、前記被処理基板に対する均一な処理を得るための理想的な膜厚プロファイルに擬した膜厚プロファイルを有する、電極板。
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