JP2013211574A - プラズマ処理装置及びプラズマ処理装置用の電極板 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】このプラズマ処理装置においては、たとえば上部電極38の内部の主面側に、空洞104を有する誘電体90を設ける。そして、上部電極39の中心部における誘電体90の厚さをエッジ部における誘電体90の厚さより大きくし、誘電体90の空洞の中に流動性の誘電性物質NZを出し入れ可能に入れる。好ましくは、空洞104に誘電性流動体NZを出し入れするためのポートとして、たとえば複数本のパイプ106,108を電極38の裏面側から空洞104の異なる箇所(たとえば中心部とエッジ部)に接続してよい。
【選択図】 図42
Description
δ=(2/ωσμ)1/2 ‥‥‥‥(1)
ただし、ω=2πf(f:周波数)、σ:導電率、μ:透磁率
ウエハ口径:300mm
エッチングガス:NH3
ガス流量:245sccm
ガス圧力:30mTorr
RF電力:下部=2.4kW
ウエハ裏面圧力(センター部/エッジ部):20/30Torr(Heガス)
温度(チャンバ側壁/上部電極/下部電極)=60/60/20゜C
12 サセプタ
32 高周波電源
38 上部電極
90 誘電体膜
104 空洞
106,108 パイプ(ポート)
Claims (10)
- 減圧可能な処理容器内に第1の電極を設け、前記処理容器内に高周波電界を形成するとともに処理ガスを流し込んで前記処理ガスのプラズマを生成し、前記プラズマの下で被処理基板に所望のプラズマ処理を施すプラズマ処理装置であって、
前記第1の電極の内部の主面側に空洞を有する誘電体を設けて、前記第1の電極の中心部側における前記誘電体の厚さをエッジ部側における前記誘電体の厚さより大きくし、前記誘電体の空洞の中に流動性の誘電性物質を出し入れ可能に入れるプラズマ処理装置。 - 前記第1の電極の裏面側から前記空洞の第1および第2の箇所にそれぞれ接続される第1および第2のポートを有し、
前記空洞に前記誘電性物質を入れるときは、前記第1のポートより前記空洞に前記誘電性物質を導入しながら、前記第2のポートより前記空洞内のエアーを抜き、
前記空洞内の前記誘電性物質の量を減らすときは、前記第1のポートより前記空洞にエアーを送り込みながら、前記第2のポートより前記空洞内の誘電性物質を抜くように構成された、請求項1に記載のプラズマ処理装置。 - 前記第1の箇所は前記空洞の中心部およびエッジ部の一方に設定され、前記第2の箇所は前記空洞の中心部およびエッジ部の他方に設定される、請求項2に記載のプラズマ処理装置。
- 前記誘電体の厚さは、前記第1の電極の中心部を含む第1の直径の内側では一定であり、前記第1の直径の外側では前記第1の電極のエッジ部に向かってテーパ状に減少する、請求項1〜3のいずれか一項に記載のプラズマ処理装置。
- 前記第1の電極の前記主面と反対側の裏面から前記プラズマを生成するための高周波電力を供給する、請求項1〜4のいずれか一項に記載のプラズマ処理装置。
- 前記処理容器内に前記第1の電極と平行に向かい合う第2の電極を設け、前記第2の電極の前記主面と反対側の裏面から前記プラズマを生成するための高周波電力を供給する、請求項1〜4のいずれか一項に記載のプラズマ処理装置。
- 高周波放電方式のプラズマ処理装置においてプラズマを生成するために処理容器内に設けられる電極板であって、プラズマと対向する前記電極の内部の主面側に空洞を有する誘電体を設けて、電極中心部側における前記誘電体の厚さを電極エッジ部側における前記誘電体の厚さより大きくし、前記誘電体の空洞の中に流動性の誘電性物質を出し入れ可能に入れる電極板。
- 前記第1の電極の裏面側から前記空洞の第1および第2の箇所にそれぞれ接続される第1および第2のポートを有し、
前記空洞に前記誘電性物質を入れるときは、前記第1のポートより前記空洞に前記誘電性物質を導入しながら、前記第2のポートより前記空洞内のエアーを抜き、
前記空洞内の前記誘電性物質の量を減らすときは、前記第1のポートより前記空洞にエアーを送り込みながら、前記第2のポートより前記空洞内の誘電性物質を抜くように構成された、請求項7に記載の電極板。 - 前記第1の箇所は前記空洞の中心部およびエッジ部の一方に設定され、前記第2の箇所は前記空洞の中心部およびエッジ部の他方に設定される、請求項8に記載の電極板。
- 前記誘電体の厚さは、前記第1の電極の中心部を含む第1の直径の内側では一定であり、前記第1の直径の外側では前記第1の電極のエッジ部に向かってテーパ状に減少する、請求項7〜9のいずれか一項に記載の電極板。
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