JP2010135370A - 検査位置決定方法、検査情報管理システム及び検査方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明にかかる検査位置決定方法は、基板上の所定の検査候補位置において検査項目に関する計測が行われた(S101)基板毎の計測データに基づいて、当該基板上の任意の位置におけるデータを補間するためのデータモデルである基板モデルを基板毎に生成し(S102)と、複数の基板モデルに基づいて、検査項目に対応するデータモデルである代表モデルを生成し(S104)と、所定の検査候補位置の計測データ及び代表モデルにより補間される補間データの少なくともいずれかを用いて、代表モデルを生成することができるデータに対応する検査位置を決定する(S105)。
【選択図】図3
Description
図1は、本発明の実施の形態1にかかる検査情報管理システム100の構成の一例を示すブロック図である。検査情報管理システム100は、複数のデバイスを基板単位で製造するデバイス製造過程における検査項目に関する情報を管理するものである。ここでは、デバイスの例として半導体素子であるものとする。つまり、検査情報管理システム100は、複数の半導体素子を基板であるシリコンウェハ(以下、ウェハとする)単位に製造する半導体製造過程を対象とするものである。また、検査情報管理システム100は、上述した半導体製造過程における検査項目に対応する基板上の検査位置を決定し、当該検査位置に基づく検査を行うものである。尚、本発明にかかるデバイスはこれに限定されず、フラットパネルや太陽電池等の工業製品であってもよい。そのため、本発明は、フラットパネルや太陽電池等の工業製品の製造検査についても適用可能である。なお、検査情報管理システム100は、基板上の複数のデバイスから特定のデバイスを選択し、当該デバイスを検査位置として決定するものであってもよい。さらに、検査情報管理システム100は、基板上に一つまたは複数のデバイスがあり、当該デバイス上に複数の検査候補位置があり、その中から検査位置を決定するものであってもよい。
尚、本発明の実施の形態は、複数の製造工程における複数の検査項目に対して適用することで、検査項目又は製造工程における計測データの特性に応じた信頼性を維持しつつ冗長性を削減する検査位置を決定できる。
1 製造ライン
1a 製造装置
1b 製造装置
1n 製造装置
2 計測装置
3 検査装置
4 検査支援装置
41 基板モデル生成部
42 代表モデル生成部
43 検査位置決定部
5 検査情報記憶装置
51 検査項目
52 計測位置
53 計測データ
54 基板モデル
55 代表モデル
56 検査位置
6 通信回線
411 CPU
412 RAM
413 ROM
414 通信部
420 ハードディスク
421 OS
422 検査位置決定プログラム
Claims (15)
- デバイスを基板単位で製造する過程で行われる検査工程において、検査項目に対応する基板上の検査位置を決定する検査位置決定方法であって、
前記基板上の所定の検査候補位置における計測データに基づいて、当該基板上の任意の位置におけるデータを補間するためのデータモデルである基板モデルを前記基板毎に生成する基板モデル生成ステップと、
複数の前記基板モデルに基づいて、前記検査項目に対応する前記データモデルである代表モデルを生成する代表モデル生成ステップと、
前記所定の検査候補位置の計測データ及び前記代表モデルにより補間される補間データの少なくともいずれかを用いて、前記代表モデルを生成することができるデータに対応する検査位置を決定する検査位置決定ステップと、
を備える検査位置決定方法。 - 前記代表モデル生成ステップは、前記所定の検査候補位置の計測データ及び前記各基板の基板モデルにより補間された補間データの少なくとも一部を選択し、各基板間における当該選択したデータを所定の分析を行うことにより当該基板をグループに分類し、当該グループ毎に代表モデルを生成する、ことを特徴とする請求項1に記載の検査位置決定方法。
- 前記代表モデル生成ステップは、前記選択したデータを前記グループ毎に所定の演算処理を行い、当該演算処理後のデータを用いて代表モデルを生成する、ことを特徴とする請求項2に記載の検査位置決定方法。
- 前記検査位置決定ステップは、
前記所定の検査候補位置の計測データ及び前記代表モデルにより補間された補間データの少なくとも一部を選択し、当該選択したデータに基づいて前記データモデルである再現モデルを生成し、
当該再現モデルが前記代表モデルと近似している場合に、前記選択されたデータに対応する検査位置を検査位置として決定する、
ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の検査位置決定方法。 - 前記検査位置決定ステップは、前記グループ毎に決定した検査位置を含めて検査位置を決定する、
ことを特徴とする請求項2若しくは3又は請求項2若しくは3に従属する請求項4のいずれか1項に記載の検査位置決定方法。 - 前記検査位置決定ステップは、前記代表モデル生成ステップにより前記グループに分類された基板の数の比率に基づいて、前記検査位置を決定する、ことを特徴とする請求項2若しくは3又は請求項2若しくは3に従属する請求項4のいずれか1項に記載の検査位置決定方法。
- 前記基板モデル生成ステップは、前記所定の計測位置における計測データから予め定められた異常値を除外して前記基板モデルを生成する、ことを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の検査位置決定方法。
- デバイスを基板単位で製造する過程において、検査項目に関する情報を管理する検査情報管理システムであって、
前記検査項目毎に予め定められた前記基板上の所定の検査候補位置と、前記検査候補位置において計測された計測データと、を格納する検査情報記憶部と、
前記検査情報記憶部から前記基板単位に計測データを取得し、当該計測データに基づいて、当該基板上の任意の位置におけるデータを補間するためのデータモデルである基板モデルを生成し、当該基板モデルを前記検査情報記憶部へ格納する基板モデル生成部と、
前記検査情報記憶部から複数の前記基板モデルを取得し、当該複数の前記基板モデルに基づいて、前記検査項目に対応する前記データモデルである代表モデルを生成し、当該代表モデルを前記検査情報記憶部へ格納する代表モデル生成部と、
前記所定の検査候補位置の計測データ及び前記代表モデルにより補間される補間データの少なくともいずれかを用いて、前記代表モデルを生成することができるデータに対応する検査位置を決定し、当該検査位置を前記検査情報記憶部へ格納する検査位置決定部とを備える、検査情報管理システム。 - 前記代表モデル生成部は、前記所定の検査候補位置の計測データ及び前記各基板の基板モデルにより補間された補間データの少なくとも一部を選択し、各基板間における当該選択したデータを所定の分析を行うことにより、当該基板をグループに分類し、当該グループにおける前記データモデルを前記代表モデルとして生成する、ことを特徴とする請求項8に記載の検査情報管理システム。
- 前記代表モデル生成部は、前記選択したデータを前記グループ毎に所定の演算処理を行い、当該演算処理後のデータを用いて代表モデルを生成する、ことを特徴とする請求項9に記載の検査情報管理システム。
- 前記検査位置決定部は、
前記所定の検査候補位置の計測データ及び前記代表モデルにより補間された補間データの少なくとも一部を選択し、当該選択したデータに基づいて前記データモデルである再現モデルを生成し、
当該再現モデルが前記代表モデルと近似している場合に、前記選択されたデータの検査候補位置を前記検査位置として前記検査情報記憶部へ格納する、
ことを特徴とする請求項8乃至10のいずれか1項に記載の検査情報管理システム。 - 前記検査位置決定部は、前記グループ毎に決定した検査位置を含めて検査位置を決定する、ことを特徴とする請求項9若しくは10又は請求項9若しくは10に従属する請求項11のいずれか1項に記載の検査情報管理システム。
- 前記検査位置情報決定部は、前記代表モデル生成ステップにより前記グループに分類された基板の数の比率に基づいて、前記検査位置情報を前記検査情報記憶部へ格納する、ことを特徴とする請求項9若しくは10又は請求項9若しくは10に従属する請求項11のいずれか1項に記載の検査情報管理システム。
- 前記基板モデル生成部は、前記所定の計測位置情報における計測データから予め定められた異常値を除外して前記基板モデルを生成する、ことを特徴とする請求項8乃至13のいずれか1項に記載の検査情報管理システム。
- デバイスを基板単位で製造する過程で行われる検査工程において、検査項目に対応する前記基板上の検査位置に基づく検査を行う検査方法であって、
前記基板上の所定の検査候補位置において前記検査項目に関する計測を行う事前計測ステップと、
前記事前計測ステップにより計測された計測データに基づいて、当該基板上の任意の位置におけるデータを補間するためのデータモデルである基板モデルを前記基板毎に生成し、複数の前記基板モデルに基づいて、前記検査項目に対応する前記データモデルである代表モデルを生成し、前記所定の検査候補位置の計測データ及び前記代表モデルにより補間される補間データの少なくともいずれかを用いて、前記代表モデルを生成することができるデータに対応する検査位置を決定する検査位置決定ステップと、
前記過程において、前記検査位置決定ステップにより決定された検査位置における計測を行う製造時計測ステップと、
前記製造時計測ステップにより計測された計測データに基づいて、前記基板モデルを生成するステップと、
を備える検査方法。
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