JP2010135072A - 荷電粒子線装置 - Google Patents
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Abstract
本発明は電子検出器に関し、任意のエネルギーをもつ信号電子を選択的に弁別し検出することを目的とする装置である。任意のエネルギーをもつ信号電子を弁別し選択することで、そのエネルギー特有の情報を反映した像を得ることができる。
【解決手段】
信号検出器として、信号電子の入射位置の特定できる検出器を用いる。荷電粒子線の照射位置ごとに、信号電子が信号検出器に入射する入射位置の分布を取得する。入射位置の分布は、信号電子のエネルギー分布に対応する。信号電子のエネルギー分布像を取得しているので、画像処理等により考慮すべき信号電子のエネルギーを任意に変えることができる。信号電子のエネルギー領域により得られる情報が異なることから、エネルギー領域を任意に選択することで、試料の様々な特性情報を取得することができる。
【選択図】図1
Description
2 第一陽極
3 一次電子線
4 第二陰極
5 第一集束レンズ
6 対物レンズ絞り
7 電子線中心軸調整用アライナー
8 電子線中心調整用偏向器
9 第二集束レンズ
10 対物レンズ
11 試料
12 上段偏向コイル
13 下段偏向コイル
14,304,305,306,316,317,318,319,401,402,403,404,405 信号電子
15 偏向器
16 検出器
17 増幅器
30 高電圧制御回路
31 アライナー制御回路
32 第一集束レンズ制御回路
33 第二集束レンズ制御回路
34 偏向制御回路
35 対物レンズ制御回路
36 CCDコントローラ
37 試料微動制御回路
38 表示装置
39 画像取得手段
40 画像処理手段
41 計算手段
42 内部メモリ
43 入力手段
44 コンピュータ
50 シンチレータ
51 加速電極
52 CCD
100 等電位線
101 帯電試料
102 負に帯電した部位
103 正に帯電した部位
104,105,106 二次電子
200,201,202,310,311,312,406,407,408,506,507,508 シンチレータの発光パターン
203,313,550 シンチレータの上部
204,314,410,551 シンチレータの中心
205,315,552 シンチレータの下部
206,207,208,412,413,414 二次電子像
209 帯電コントラスト像
300 重金属の微粒子を内包する基材試料
301,302,303 重金属微粒子
307,308,309 電子のエネルギーと電子の数の関係図
400 凹凸のある試料
409 シンチレータの左側
411 シンチレータの右側
500 Au
501 Nb
502 Mo
503,504,505 オージェ電子
509,510,511,512 オージェ電子像
513 組成像
600 チャージした部分
601 シンチレータのパターン
Claims (20)
- 荷電粒子源と、
荷電粒子源から放出された一次荷電粒子線を試料上で走査する偏向器と、
荷電粒子源から放出された一次荷電粒子線を集束する対物レンズと、
一次荷電粒子線の照射により試料から発生する信号電子を検出する検出器と、
前記検出器からの検出信号を記憶するメモリと、
前記検出信号を処理する制御装置と、
を有する荷電粒子線装置において、
前記検出器は、検出素子が平面状に配列しており、
試料上の各照射位置ごとに、当該照射位置から放出される信号電子の分布情報を前記検出器で検出し、
前記メモリは、前記照射位置と当該照射位置から放出される信号電子の分布情報を対応して記憶し、
前記制御装置は、記憶された各照射位置ごとの信号電子の分布情報に基づいて、各照射位置ごとの画素値を算出し、
さらに、前記算出した画素値を各照射位置に対応させて画像を作成することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1において、検出器がCCDであることを特徴とする請求項1記載の走査電子顕微鏡。
- 請求項1において、検出した電子の検出場所を表示する表示装置を備えていることを特徴とする走査電子顕微鏡。
- 請求項1の荷電粒子線装置において、
前記制御装置は、各照射位置ごとの二次電子の分布情報を比較し、
当該比較した分布情報に基づいて試料の帯電の情報を取得することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1の荷電粒子線装置において、
前記制御装置は、各照射位置ごとの二次電子の分布情報を比較し、
当該比較した分布情報に基づいて、試料に含有される元素の試料表面からの深さ情報を取得することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1の荷電粒子線装置において、
前記制御装置は、各照射位置ごとの信号電子の分布情報を比較し、
当該比較した分布情報に基づいて試料の形状の情報を取得することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1の荷電粒子線装置において、
前記制御装置は、各照射位置ごとのオージェ電子の分布情報を比較し、
当該比較した分布情報に基づいて、試料に含有される元素を特定することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 荷電粒子源と、
荷電粒子源から放出された一次荷電粒子線を試料上で走査する偏向器と、
荷電粒子源から放出された一次荷電粒子線を集束する対物レンズと、
一次荷電粒子線の照射により試料から発生する信号電子を検出する検出器と、
前記検出器からの検出信号を記憶するメモリと、
前記検出信号を処理する制御装置と、
を有する荷電粒子線装置において、
前記検出器は、検出素子が平面状に配列しており、
前記信号電子を前記検出器の方向に偏向する偏向器を有し、
試料上の各照射位置ごとに、当該照射位置から放出される信号電子の分布情報を前記検出器で検出し、
前記メモリは、前記照射位置と当該照射位置から放出される信号電子の分布情報を対応して記憶し、
前記制御装置は、記憶された各照射位置ごとの信号電子の分布情報に基づいて、各照射位置ごとの画素値を算出し、
さらに、前記算出した画素値を各照射位置に対応させて画像を作成することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項8において、検出器がCCDであることを特徴とする請求項1記載の走査電子顕微鏡。
- 請求項8において、検出した電子の検出場所を表示する表示装置を備えていることを特徴とする走査電子顕微鏡。
- 請求項8の荷電粒子線装置において、
前記制御装置は、各照射位置ごとの二次電子の分布情報を比較し、
各照射位置ごとの二次電子の分布を比較し、当該比較した分布情報に基づいて試料の帯電の情報を取得することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項8の荷電粒子線装置において、
前記制御装置は、各照射位置ごとの二次電子の分布情報を比較し、
各照射位置ごとの二次電子の分布を比較し、当該比較した分布情報に基づいて、試料に含有される元素の試料表面からの深さ情報を取得することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項8の荷電粒子線装置において、
前記制御装置は、各照射位置ごとの信号電子の分布情報を比較し、
各照射位置ごとの信号電子の分布を比較し、当該比較した分布情報に基づいて試料の形状の情報を取得することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項8の荷電粒子線装置において、
前記制御装置は、各照射位置ごとのオージェ電子の分布情報を比較し、
各照射位置ごとのオージェ電子の分布を比較し、当該比較した分布情報に基づいて、試料に含有される元素を特定することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 荷電粒子源と、
荷電粒子源から放出された一次荷電粒子線を集束する対物レンズと、
一次荷電粒子線の照射により試料から発生する信号電子を検出する検出器と、
前記検出器からの検出信号を記憶するメモリと、
前記検出信号を処理する制御装置と、
を有する荷電粒子線装置において、
前記検出器は、検出素子が平面状に配列しており、
前記信号電子を前記検出器の方向に偏向する偏向器を有し、
当該一次荷電粒子線の照射位置から放出される信号電子の分布情報を前記検出器で検出し、
当該検出された分布情報に基づいて、前記偏向器の帯電の有無を判定することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 荷電粒子源から放出された一次荷電粒子線を試料上に走査するステップと、
一次荷電粒子線の照射により試料から発生する信号電子を検出するステップと、
検出された信号電子の検出位置の分布情報に基づいて、各照射位置ごとの画素値を算出するステップと、
前記算出した画素値を各照射位置に対応させて画像を作成するステップと
からなる試料像作成方法。 - 請求項1の試料像形成方法において、
各照射位置ごとの二次電子の分布情報を比較し、当該比較した分布情報に基づいて試料の帯電の情報を表す試料像を形成することを特徴とする試料像作成方法。 - 請求項17の荷電粒子線装置において、
各照射位置ごとの二次電子の分布情報を比較し、当該比較した分布情報に基づいて、試料に含有される元素の試料表面からの深さ情報を表す試料像を形成することを特徴とする試料像作成方法。 - 請求項17の荷電粒子線装置において、
前記制御装置は、各照射位置ごとの信号電子の分布情報を比較し、
当該比較した分布情報に基づいて試料の形状を表す試料像を形成することを特徴とする試料像作成方法。 - 請求項17の荷電粒子線装置において、
前記制御装置は、各照射位置ごとのオージェ電子の分布情報を比較し、
当該比較した分布情報に基づいて、試料に含有される元素を表す試料像を形成することを特徴とする試料像作成方法。
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