JP2010131562A - 液滴噴射塗布装置及び塗布体の製造方法 - Google Patents

液滴噴射塗布装置及び塗布体の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2010131562A
JP2010131562A JP2008312019A JP2008312019A JP2010131562A JP 2010131562 A JP2010131562 A JP 2010131562A JP 2008312019 A JP2008312019 A JP 2008312019A JP 2008312019 A JP2008312019 A JP 2008312019A JP 2010131562 A JP2010131562 A JP 2010131562A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
droplet
area
droplets
liquid droplets
coating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2008312019A
Other languages
English (en)
Inventor
Yasuhiko Sawada
安彦 澤田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP2008312019A priority Critical patent/JP2010131562A/ja
Publication of JP2010131562A publication Critical patent/JP2010131562A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Coating Apparatus (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)

Abstract

【課題】液滴噴射塗布装置から噴射される液滴と液滴が噴射される塗布対象物との関係を的確に把握して、溢れや抜けといった塗布工程における不都合を可能な限り低減し、所定の品質を備える製品を安定供給し、製品の歩留まりを向上させることのできる液滴噴射塗布装置及び塗布体の製造方法を提供する。
【解決手段】移動可能に設けられ、複数のノズルが形成されたノズル面を有し複数のノズルから液滴を塗布対象物に向けてそれぞれ噴射する液滴噴射ヘッド2と、液滴噴射ヘッド2から噴射された液滴を撮影する撮影手段Cと、撮影手段Cによって撮影された液滴の面積を検出し、検出された液滴の面積を基に塗布対象物に対する液滴の噴射条件を変更する補正手段を備えるとともに、液滴噴射ヘッド2及び撮影手段Cそれぞれを制御する制御手段20とを備える。
【選択図】図1

Description

本発明は、液滴噴射塗布装置及び塗布体の製造方法に関する。
液滴を噴射する液滴噴射塗布装置は、液晶表示装置、有機EL(Electro Luminescence)表示装置、電子放出表示装置、プラズマ表示装置及び電気泳動表示装置等の様々な表示装置を製造するために用いられている。
このような液滴噴射塗布装置は、例えば、複数のノズルから微少な液滴をそれぞれ噴射する液滴噴射ヘッド(例えば、インクジェットヘッド)を備えており、その液滴噴射ヘッドにより塗布対象物に液滴を着弾させ、所定のパターンのドット列を形成する。なお、液滴噴射ヘッドは、各ノズルが形成されたノズル面を有している。
例えば、液晶表示装置を製造する製造工程では、液滴噴射塗布装置を用いて、塗布対象物である透明基板上にR(赤)、G(緑)、B(青)の各色のインクをドット状に順次塗布することにより、各色のドットが順次配列された塗布体であるカラーフィルタを製造したり、また、液滴噴射塗布装置を用いてカラーフィルタの額縁、すなわちブラックマトリクスを製造したりする。
このカラーフィルタ、或いは、ブラックマトリクスのいずれの製造についても、各々の領域は基板上において微細な面積であるため、互いの領域にはみ出すことなく塗布するには高い塗布精度が要求される。この塗布精度を向上させる方法として、例えばこれら塗布領域の周囲にバンク(隔壁)を形成する方法がある。この方法では、液滴噴射塗布装置を用いて形成されたバンク内にインクを塗布する。この方法としては、例えば、以下の特許文献1に開示された方法を挙げることができる。
すなわち、基板表面にインクジェットノズルから塗布液の液滴を噴射して塗布する段階と、塗布された塗布液を乾燥させて塗布液中の溶質の固形物を得る段階と、の組み合わせを同一領域内において2回以上繰り返して、基板表面上に溶質固形物を所定の厚みで形成することを特徴とする。
特開2006−88070号公報
しかしながら、上述した方法を採用しても以下のような不都合が生ずる可能性は否定できない。すなわち、塗布対象物である例えば、基板の表面状態は基板ごとに少しずつ異なることも多い。また、この基板に対して液滴噴射塗布装置から塗布される液滴も、粘性等の物性はその幅は小さくともインクジェットヘッドごとに異なることがありうる。
従って、塗布対象物と液滴との物性の関係によっては、塗布された液滴がバンクよりも溢れる「溢れ」が生じたり、或いは、液滴がバンク内で適切に広がらず塗布されない領域が発生する、いわゆる「抜け」が生ずることがありうる。
このような「溢れ」や「抜け」が発生すると、その塗布対象物は製品としては不適格なものであり、このような塗布対象物が増えてしまうと歩留まりが悪くなる。
本発明は上記課題を解決するためになされたものであり、本発明の目的は、液滴噴射塗布装置から噴射される液滴と液滴が噴射される塗布対象物との関係を的確に把握して、溢れや抜けといった塗布工程における不都合を可能な限り低減し、所定の品質を備える製品を安定供給し、製品の歩留まりを向上させることのできる液滴噴射塗布装置及び塗布体の製造方法を提供することである。
本発明の実施の形態に係る第1の特徴は、液滴噴射塗布装置において、移動可能に設けられ、複数のノズルが形成されたノズル面を有し複数のノズルから液滴を塗布対象物に向けてそれぞれ噴射する液滴噴射ヘッドと、液滴噴射ヘッドから噴射された液滴を撮影する撮影手段と、撮影手段によって撮影された液滴の面積を検出し、検出された液滴の面積を基に塗布対象物に対する液滴の噴射条件を変更する補正手段を備えるとともに、液滴噴射ヘッド及び撮影手段それぞれを制御する制御手段とを備える。
本発明の実施の形態に係る第2の特徴は、塗布体の製造方法において、移動可能に設けられ、複数のノズルが形成されたノズル面を有し複数のノズルから液体を液滴としてそれぞれ噴射する液滴噴射ヘッドを移動させつつ、複数のノズルから液滴を塗布対象物に設けられたダミーエリアに向けて噴射する工程と、ダミーエリアを撮影手段により撮影する工程と、撮影手段による撮影された液滴の面積を検出し、液滴の面積を予め記憶されている面積と比較する工程と、液滴の面積を比較する工程の後に、比較結果に基づいて塗布対象物への噴射条件の変更を行う工程とを備える。
本発明によれば、液滴噴射塗布装置から噴射される液滴と液滴が噴射される塗布対象物との関係を的確に把握して、溢れや抜けといった塗布工程における不都合を可能な限り低減し、所定の品質を備える製品を安定供給し、製品の歩留まりを向上させることのできる液滴噴射塗布装置及び塗布体の製造方法を提供することができる。
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。
図1に示すように、本発明の実施の形態に係る液滴噴射塗布装置1は、液体であるインクをノズルから液滴として噴射する液滴噴射ヘッド2を用いて基板3にインクを塗布するためのインク塗布ボックス1Aと、そのインク塗布ボックス1Aにインクを供給するためのインク供給ボックス1Bとから構成されている。これらのインク塗布ボックス1A及びインク供給ボックス1Bは、互いに隣接して配置され、共に架台4の上面に固定されている。
ここで、液滴噴射ヘッド2及び後述するインクジェットヘッドユニット12については、図1に示す液滴噴射塗布装置1では3基設けられているが、液滴噴射塗布装置1にいくつ設けるかは任意である。
インク塗布ボックス1Aの内部には、Y軸方向スライド板5、Y軸方向移動テーブル6、X軸方向移動テーブル7及び基板保持テーブル8が積層されている。これらのY軸方向スライド板5、Y軸方向移動テーブル6、X軸方向移動テーブル7及び基板保持テーブル8は平板状に形成されている。
Y軸方向スライド板5は架台4の上面に固定されている。Y軸方向スライド板5の上面には、複数のガイド溝5aがY軸方向に沿って設けられている。これらのガイド溝5aには、Y軸方向移動テーブル6の下面に設けられたガイド用の突起部(図示せず)が係合されている。これにより、Y軸方向移動テーブル6は、Y軸方向に移動可能にY軸方向スライド板5の上面に設けられている。このY軸方向移動テーブル6は、Y軸方向移動モータを用いる駆動機構により各ガイド溝5aに沿ってY軸方向に移動する。
Y軸方向移動テーブル6の上面には、複数のガイド溝6aがX軸方向に沿って設けられている。これらのガイド溝6aには、X軸方向移動テーブル7の下面に設けられたガイド用の突起部(図示せず)が係合されている。これにより、X軸方向移動テーブル7は、X軸方向に移動可能にY軸方向移動テーブル6の上面に設けられている。このX軸方向移動テーブル7は、X軸方向移動モータを用いる駆動機構により各ガイド溝6aに沿ってX軸方向に移動する。
X軸方向移動テーブル7の上面には、基板3を保持する基板保持テーブル8が固定されている。この基板保持テーブル8は、基板3を把持する基板把持機構9を備えており、その基板把持機構9により基板保持テーブル8上に基板3を密着固定する。基板把持機構9としては、例えばコの字型の挟み金具等を用いる。なお、基板3の保持手段としては、基板把持機構9にかえて、例えば、基板3を吸着する基板吸着機構を設けるようにしてもよい。基板吸着機構としては、例えばゴム吸盤や吸引ポンプ等を用いる。
なお、基板保持テーブル8のY軸方向への移動量は、Y軸方向エンコーダのパルス信号(位置信号)に基づいて検出され、同様に、基板保持テーブル8のX軸方向への移動量は、X軸方向エンコーダのパルス信号(位置信号)に基づいて検出される。
インク塗布ボックス1Aの内部には、一組のコラム(支柱)10が立設されている。これらのコラム10は、Y軸方向スライド板5のガイド溝5aと直交する方向、すなわちX軸方向においてY軸方向スライド板5を挟む位置に設けられている。
一組のコラム10には、X軸方向スライド板11が横架されている。X軸方向スライド板11の前面には、ガイド溝11aがX軸方向に沿って設けられている。このガイド溝11aには、複数のインクジェットヘッドユニット12を具備するベース板13の背面に設けられたガイド用の突起部(図示せず)が係合されている。これにより、ベース板13はX軸方向に移動可能にX軸方向スライド板11に設けられている。このベース板13、すなわちインクジェットヘッドユニット12は、ヘッドユニット移動モータを用いる駆動機構によりガイド溝11aに沿ってX軸方向に移動する。
各インクジェットヘッドユニット12は、ベース板13に垂設されており、各インクジェットヘッドユニット12の先端には液滴噴射ヘッド2がそれぞれ着脱可能に設けられる。この液滴噴射ヘッド2は、液滴が噴射される複数のノズル(貫通孔)が形成されたノズル面を有している。このノズル面はノズルプレートの外面である。なお、ノズル面上には、インクの付着等を防止するための撥水膜が設けられている。
また、本発明の実施の形態においては、各液滴噴射ヘッド2には、液滴噴射ヘッド2ごとに撮影手段Cが装着されている。撮影手段Cとしては、例えば、CCDカメラ等を挙げることができる。撮影手段Cは、基板3の表面を撮影することができるようにレンズが基板3の表面に向けて装着されている。
インクジェットヘッドユニット12には、基板3面に対して垂直方向、すなわちZ軸方向に液滴噴射ヘッド2或いは撮影手段Cを移動させるZ軸方向移動機構12aと、液滴噴射ヘッド2或いは撮影手段CをY軸方向に移動させるY軸方向移動機構12bと、液滴噴射ヘッド2をθ方向に回転させるθ方向回転機構12cとが設けられている(以下、適宜、Z軸方向移動機構12a、Y軸方向移動機構12b、θ方向回転機構12cをまとめて「インクジェットヘッドユニット駆動機構12d」と表わす)。これにより、液滴噴射ヘッド2或いは撮影手段Cは、Z軸方向及びY軸方向に移動可能であり、液滴噴射ヘッド2はθ軸方向に回転可能である。
また、インク塗布ボックス1Aの内部には、各インクジェットヘッドユニット12の液滴噴射ヘッドを清掃するヘッドメンテユニット14が設けられている。このヘッドメンテユニット14は、インクジェットヘッドユニット12の移動方向の延長線上であってY軸方向スライド板5から離して配設されている。なお、各インクジェットヘッドユニット12の液滴噴射ヘッドがヘッドメンテユニット14に対向する待機位置まで移動すると、ヘッドメンテユニット14は各液滴噴射ヘッドを自動的に清掃するようにされている。
一方、インク供給ボックス1Bの内部には、図1に示すように、インクを収容する複数のインクタンク15が設けられている。これらのインクタンク15は、対応する供給パイプ16により各液滴噴射ヘッド2にそれぞれ接続されている。また、各供給パイプ16の途中には、それぞれインクバッファタンク17が設けられている。
インクバッファタンク17は、その内部に貯留したインクの液面と液滴噴射ヘッド2のノズル面との水頭差(水頭圧)を利用し、ノズル先端のインクの液面(メニスカス)を調整する。これにより、インクの漏れ出しや噴射不良が防止されている。
液滴噴射ヘッド2は、インクタンク15からインクバッファタンク17を介してインクの供給を受ける。インクとしては、水性インク、油性インク及び紫外線硬化インク等の各種のインクを用いる。例えば、油性インクは、顔料、溶剤(インク溶剤)、分散剤、添加剤及び界面活性剤等の各種の成分により構成されている。
架台4の内部には、液滴噴射塗布装置1の各部を制御するための制御手段20及び各種のプログラムを記憶する記憶手段(図示せず)等が設けられている。制御手段20は、インクジェットヘッドユニット12を制御して液滴噴射ヘッド2から基板3に対する液滴の吐出を行い、或いは、装着された撮影手段Cで基板保持テーブル8上に載置された基板3を撮影し、その測定結果に基づいて補正を行う。
この基板3は、実際に液滴を噴射してカラーフィルタ等を製造する際に用いられる基板である。図2に示す基板3の例のように、基板3には、液滴が塗布されて実際にカラーフィルタ等になる塗布エリアRが設けられている。図2に示す基板3では、横3列、縦3行の計9面の塗布エリアRが設けられているが、この塗布エリアRの枚数は任意に設定することができる。
塗布エリアRの周囲を取り囲むように塗布エリアRの塗布面よりもわずかに高いバンクBが形成されている。このバンクBは、塗布エリアRに塗布された液滴が塗布エリアRの領域を越えて溢れ出すことを防止するために形成されている。
さらに塗布エリアRにはそれぞれに各液滴噴射ヘッド2からの液滴の噴射が設定通り行われるかを確認するための試し打ちを行うダミーエリアDが設けられている。図2に示す本発明の実施の形態における基板3では、各塗布エリアRごとに2カ所ずつ設けられている。このダミーエリアDに対して各液滴噴射ヘッド2から液滴が噴射された後、撮影手段Cによって噴射された液滴の撮影が行われる。この撮影結果を基に各インクジェットヘッドユニット12(液滴噴射ヘッド2)から適切な量の液滴が基板3に対して塗布されているか否かを確認した後にカラーフィルタ等の製造が行われる。
図3は、制御手段20の内部構成を示すブロック図である。制御手段20は、図2に示すように、制御管理手段21と、噴射制御手段22と、駆動制御手段23と、補正手段24とから構成される。制御管理手段21は、図示しない記憶手段に記憶される各種のプログラムに基づいて、液滴噴射ヘッド2に液滴の噴射を行わせるための噴射許可信号や基板3の位置等を示すステージ位置信号等をそれぞれ噴射制御手段22、駆動制御手段23に送信する等、液滴噴射塗布装置1全体の制御を管理する。また、位置決めの補正を行う場合には、撮影手段である撮影手段Cに対して基板3上のダミーエリアDの撮影を指示するとともに、補正手段24からの補正指示に基づいて噴射制御手段22に指示を出す。
噴射制御手段22は、制御管理手段21からの指示に基づいて指令波形を有する信号を生成し、液滴噴射ヘッド2に送信する。この信号を受けた液滴噴射ヘッド2は信号に基づいて基板3に対して液滴を噴射する。駆動制御手段23は、制御管理手段21からの指示に基づいてY軸方向移動テーブル6の移動制御、X軸方向移動テーブル7の移動制御、ベース板13の移動制御、インクジェットヘッドユニット駆動機構12dの駆動制御等を行う。これにより、基板保持テーブル8に保持された基板3と、ベース板13に垂設された各インクジェットヘッドユニット12(液滴噴射ヘッド2或いは、撮影手段C)との相対位置を色々と変化させることができる。
図4は、補正手段24の内部構成を示すブロック図である。補正手段24は、受信手段24aと、算出手段24bと、比較・判断手段24cと、記憶手段24dと、送信手段24eとから構成される。なお、記憶手段24dについては、本発明の実施の形態においては補正手段24内に上述した各種のプログラムを記憶する記憶手段とは別に設けているが、これらがまとまり1つの記憶手段であっても良い。
以下、これら補正手段24を構成する各手段の働きについて、塗布エリアRに規定の量の液滴が噴射されることで溢れや抜けといった塗布工程における不都合を可能な限り低減させる塗布体の製造方法の流れを説明しつつ、併せて説明する(図5のフローチャート参照)。
まず基板3を液滴噴射塗布装置1のインク塗布ボックス1A内に搬入する(ST1)。搬入された基板3は基板保持テーブル8に載置される。この基板保持テーブル8がX軸方向、或いはY軸方向に移動することによって予め定められた位置にインクジェットヘッドユニット12(液滴噴射ヘッド2)から液滴が塗布される。
基板3がインク塗布ボックス1A内に搬入された後、ダミーエリアDを利用してその基板3に対して液滴が適切に塗布されるか否かの塗布条件を確認する(ST2)。そこで、まず1度目の確認であることから制御管理手段21において「N=1」と確認回数を決定する(ST3)。
基板3には、上述したように各塗布エリアRごとに2カ所ずつダミーエリアDが設けられているが、塗布条件の確認は基板ごとに行われ各塗布エリアRごとに行われるわけではない。従って、例えば1度目の確認では、図2に示す矢印の向きに基板3を移動させ、横1列のダミーエリアD1に液滴を塗布することで各液滴噴射ヘッド2の塗布条件を確認する。また、例えば、1度目では塗布条件が適切ではないと判断され、2度目の確認を行う際には、塗布エリアRを挟んで対向する位置に設けられている横1列のダミーエリアD2を利用する。このように基板3に設けられているダミーエリアDを順に利用することにより、本発明の実施の形態においては最大6回に亘って塗布条件の確認を行うことが可能である。但し、塗布条件の確認を何度行うかは任意に設定することができる。
その上で、撮影手段Cで基板3に形成されている補正マークを検出し、各液滴噴射ヘッド2をダミーエリアD1上に位置するよう基板3の位置を補正する(ST4)。そしてダミーエリアDに液滴を噴射(塗布)する(ST5)。例えば、液滴噴射ヘッド2に64カ所の吐出孔が形成されていた場合、一度の吐出によって64個の液滴が各ダミーエリアDに塗布される。
なお、この塗布条件の確認は、各液滴噴射ヘッド2それぞれがダミーエリアD1へ液滴を塗布することにより行われる。例えば、本発明の実施の形態における液滴噴射塗布装置1では、液滴噴射ヘッド2が3基設けられていることから、この3基全てがダミーエリアD1に液滴を塗布して塗布条件の確認を行う。
次に、ダミーエリアDに液滴噴射ヘッド2から液滴が塗布されると、制御管理手段21がダミーエリアDを撮影手段Cで撮影するよう指示を出す。撮影手段Cは、制御管理手段21からの指示に基づいてダミーエリアDに塗布された液滴の状態を撮影し(ST6)、その画像情報を補正手段24へと送信する。
補正手段24では、撮影手段Cからの画像情報を受信手段24aで受信し、算出手段24bへと送る。算出手段24bでは、画像情報を基にダミーエリアDに塗布された各塗布点ごとの液滴の面積を算出する(ST7)。さらに算出手段24bは算出された各塗布点ごとの液滴の面積から全塗布点の平均面積を算出する(ST8)。算出された値は、算出手段24bから比較・判断手段24cへと送られる。
比較・判断手段24cでは、算出手段24bから送られた全塗布点の平均面積と、予め記憶手段24d内に記憶されている塗布量ごとの液滴の面積(以下、便宜上「設定面積」と表わす)とを比較する(ST9)。
上述したように、液滴を基板3に塗布する場合において上述した溢れや抜けが発生しないような量に塗布量を調整して塗布する必要がある。例えば、塗布エリアR内における塗布された液滴の広がりは、基板3と液滴との接触角によって左右される。そのため、予め液滴を塗布エリアRに塗布した際に、その塗布エリアRを囲むように形成されているバンクBを乗り越えて液滴が塗布エリアRから外側に溢れることがなく、かつ、塗布エリアR内において液滴が塗布されない領域が発生しないような塗布量が設定される。この設定された塗布量の液滴を基板3に塗布した場合の面積を把握し、記憶手段24dに記憶させておく。この面積が上述した設定面積であり、この設定面積と算出手段24bにおいて算出された平均面積とを比較する。
比較・判断手段24cが両者を比較した結果、面積が同等であると判断した場合は(ST10のYes)、基板3に対する液滴の塗布量が適切であると思われる。このことは予め設定されていた塗布条件を変更する必要がないことを示している。そこで、比較・判断手段24cは送信手段24eを介して制御管理手段21へ塗布条件の変更がない旨送信し、制御管理手段21からの指示に基づいて噴射制御手段22が設定された塗布量の液滴を所定の位置(塗布エリアR)へ塗布する(ST11)。
全ての塗布エリアRへの液滴の塗布が終了すると、基板3は塗布ボックス1A内から搬出される(ST12)。
比較・判断手段24cが設定面積と平均面積とを比較した結果(ST13)、設定面積よりも平均面積が大きい場合には(ST13のYes)、基板3上において液滴が広がりやすくなっていると判断できる。この場合は溢れにつながるので、比較・判断手段24cは、制御管理手段21に補正を行う旨を示すとともに、制御管理手段21を介して噴射制御手段22に対して液滴噴射ヘッド2から塗布される液滴量を設定されている量から減らす補正を行うよう指示を出す(ST14)。
なお、ここでは塗布される液滴量を設定されている量から減らすという補正方法を説明したが、例えば、液滴量は変更せず塗布エリアR内への液滴塗布に際して、バンクBから離れた位置に液滴を塗布するように液滴噴射ヘッド2の塗布位置を補正する方法も考えられる。
一方、設定面積よりも平均面積が小さい場合には、基板3上において液滴が広がり難くなっていると判断することができる。この場合は塗布エリアR内における抜けにつながるので、比較・判断手段24cは、制御管理手段21に補正を行う旨を示すとともに、制御管理手段21を介して噴射制御手段22に対して液滴噴射ヘッド2から塗布される液滴量を設定されている量から増やす補正を行うよう指示を出す(ST15)。
なお、ここでは塗布される液滴量を設定されている量を増やすという補正方法を説明したが、例えば、液滴量は変更せず塗布エリアR内への液滴塗布に際して、これまでよりもバンクBに近づけた位置に液滴を塗布するように液滴噴射ヘッド2の塗布位置を補正する方法も考えられる。
補正手段24から補正を行う旨の情報を得た制御管理手段21は、確認回数Nに回数を1つ加え「N+1」とし(ST16)、再度各液滴噴射ヘッド2からダミーエリアDに対して液滴を噴射させて塗布条件の確認を行うようにする(ST5へ戻る)。
このような塗布条件の確認を行うことによって、液滴噴射塗布装置から噴射される液滴と液滴が噴射される塗布対象物との関係を的確に把握して、溢れや抜けといった塗布工程における不都合を可能な限り低減し、所定の品質を備える製品を安定供給し、製品の歩留まりを向上させることのできる液滴噴射塗布装置及び塗布体の製造方法を提供する。
なお、この発明は、上記実施の形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施の形態に開示されている複数の構成要素を適宜組み合わせることにより種々の発明を形成できる。例えば、実施の形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。更に、異なる実施の形態に亘る構成要素を適宜組み合わせても良い。
本発明の実施の形態における液滴噴射塗布装置の全体構成を示す斜視図である。 本発明の実施の形態において使用される基板を示す平面図である。 本発明の実施の形態における制御手段の内部構成を示すブロック図である。 本発明の実施の形態における補正手段の内部構成を示すブロック図である。 塗布条件の確認を行い、塗布工程における不都合を可能な限り低減させる塗布体の製造方法の流れを示すフローチャートである。
符号の説明
1…液滴噴射塗布装置、1A…インク塗布ボックス、1B…インク供給ボックス、2…液滴噴射ヘッド、3…基板、3a…基準基板、4…架台、5…Y軸方向スライド板、6…Y軸方向移動テーブル、7…X軸方向移動テーブル、8…基板保持テーブル、9…基板把持機構、10…コラム(支柱)、11…X軸方向スライド板、12…インクジェットヘッドユニット、13…ベース板、15…インクタンク、16…供給パイプ、17…インクバッファタンク、20…制御手段、21…制御管理手段、22…噴射制御手段、23…駆動制御手段、24…補正手段、24a…受信手段、24b…算出手段、24c…比較・判断手段、24d…記憶手段、24e…送信手段、B…バンク、C…撮影手段(カメラ)、D…ダミーエリア、R…塗布エリア。

Claims (2)

  1. 移動可能に設けられ、複数のノズルが形成されたノズル面を有し前記複数のノズルから液滴を塗布対象物に向けてそれぞれ噴射する液滴噴射ヘッドと、
    前記液滴噴射ヘッドから噴射された前記液滴を撮影する撮影手段と、
    前記撮影手段によって撮影された前記液滴の面積を検出し、検出された前記液滴の面積を基に前記塗布対象物に対する前記液滴の噴射条件を変更する補正手段を備えるとともに、前記液滴噴射ヘッド及び前記撮影手段それぞれを制御する制御手段と、
    を備えることを特徴とする液滴噴射塗布装置。
  2. 移動可能に設けられ、複数のノズルが形成されたノズル面を有し前記複数のノズルから液体を液滴としてそれぞれ噴射する液滴噴射ヘッドを移動させつつ、前記複数のノズルから前記液滴を塗布対象物に設けられたダミーエリアに向けて噴射する工程と、
    前記ダミーエリアを撮影手段により撮影する工程と、
    前記撮影手段による撮影された前記液滴の面積を検出し、前記液滴の面積を予め記憶されている面積と比較する工程と、
    前記液滴の面積を比較する工程の後に、比較結果に基づいて前記塗布対象物への噴射条件の変更を行う工程と
    を備える塗布工程を有することを特徴とする塗布体の製造方法。
JP2008312019A 2008-12-08 2008-12-08 液滴噴射塗布装置及び塗布体の製造方法 Pending JP2010131562A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008312019A JP2010131562A (ja) 2008-12-08 2008-12-08 液滴噴射塗布装置及び塗布体の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008312019A JP2010131562A (ja) 2008-12-08 2008-12-08 液滴噴射塗布装置及び塗布体の製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2010131562A true JP2010131562A (ja) 2010-06-17

Family

ID=42343440

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008312019A Pending JP2010131562A (ja) 2008-12-08 2008-12-08 液滴噴射塗布装置及び塗布体の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2010131562A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102000652A (zh) * 2010-09-10 2011-04-06 深圳市华星光电技术有限公司 液晶涂布装置及液晶涂布方法
US8726836B2 (en) 2010-09-10 2014-05-20 Shenzhen China Optoelectronics Technology Co., Ltd. Liquid crystal coating apparatus and liquid crystal coating method
KR20230039525A (ko) 2021-09-13 2023-03-21 시바우라 메카트로닉스 가부시끼가이샤 도포 장치, 액적 토출 검사 방법

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102000652A (zh) * 2010-09-10 2011-04-06 深圳市华星光电技术有限公司 液晶涂布装置及液晶涂布方法
WO2012031431A1 (zh) * 2010-09-10 2012-03-15 深圳市华星光电技术有限公司 液晶涂布装置及液晶涂布方法
US8726836B2 (en) 2010-09-10 2014-05-20 Shenzhen China Optoelectronics Technology Co., Ltd. Liquid crystal coating apparatus and liquid crystal coating method
KR20230039525A (ko) 2021-09-13 2023-03-21 시바우라 메카트로닉스 가부시끼가이샤 도포 장치, 액적 토출 검사 방법

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101521901B1 (ko) 잉크젯 성막 방법
CN100354132C (zh) 液滴喷出头、喷出装置、及光电装置的制造装置
TWI526250B (zh) Film forming apparatus and thin film forming method
TWI232977B (en) Liquid droplet ejection apparatus, method of manufacturing electrooptic device, electrooptic device, and electronic device
KR100533453B1 (ko) 헤드 캡 및 이것을 구비한 액체방울 토출 장치, 액정 표시장치의 제조 방법, 유기 el 장치의 제조 방법, 전자방출 장치의 제조 방법, pdp 장치의 제조 방법, 전기영동 표시 장치의 제조 방법, 컬러 필터의 제조 방법,유기 el의 제조 방법, 스페이서 형성 방법, 금속 배선형성 방법, 렌즈 형성 방법, 레지스트 형성 방법 및광확산체 형성 방법
KR100952380B1 (ko) 착탄 도트 측정 방법 및 착탄 도트 측정 장치, 및 액적토출 장치, 전기 광학 장치의 제조 방법, 전기 광학 장치및 전자 기기
JP2007256449A (ja) 液滴噴射検査装置、液滴噴射装置及び塗布体の製造方法
JP2009113040A (ja) マイクロデポジション装置
US20070216721A1 (en) Droplet jetting applicator and method of manufacturing coated body
JP2009000618A (ja) 液状体の吐出方法、有機el素子の製造方法、カラーフィルタの製造方法
JP2007252967A (ja) 液滴噴射塗布ヘッドモジュール、液滴噴射塗布装置及び塗布体の製造方法
JP2010131562A (ja) 液滴噴射塗布装置及び塗布体の製造方法
JP2007229609A (ja) 液滴噴射装置及び塗布体の製造方法
JP5364309B2 (ja) 液滴噴射塗布装置及び塗布体の製造方法
JP2006159117A (ja) ヘッド位置補正方法およびヘッド位置補正装置、並びに液滴吐出装置、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、電子機器
JP2008221183A (ja) 液滴噴射塗布装置及び塗布体の製造方法
JP4765278B2 (ja) 液滴吐出装置の液滴着弾位置補正方法および液滴吐出装置、並びに電気光学装置の製造方法
JP4950873B2 (ja) 液滴噴射塗布装置の製造方法
JP2006159703A (ja) 液滴吐出装置を用いた描画方法、液滴吐出装置、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置、および電子機器
TW201731594A (zh) 膜圖案描繪方法、塗布膜基材、及塗布裝置
JP6362182B2 (ja) 産業用インクジェット描画装置
JP2006248654A (ja) ワーク移載装置、ワーク処理システム、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、回路基板の製造方法、回路基板、および電子機器
JP2019147139A (ja) インクジェット装置、およびそれを用いた機能素子の製造方法
CN114683731B (zh) 打印方法、打印系统以及打印设备
KR102256039B1 (ko) 인쇄 장치