JP2010126557A - オレフィンブロック重合体の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】高い生産性で、セグメントの数や分子量がより精密に制御されたブロックポリマーを製造する方法を提供すること。
【解決手段】炭素原子数２〜２０のオレフィンから選ばれる少なくとも１種のオレフィンを、少なくとも下記（Ｉ）および（II）を含む複数のステップで重合することを特徴とするブロック重合体の製造方法；
（Ｉ）第一のオレフィン重合触媒（ＰＣ１）および可逆的連鎖移動剤（Ｃ）の存在下に前記オレフィン（Ｍ１）を重合するステップ、
（II）同等の重合条件下で触媒（ＰＣ１）によって調製される重合体とは化学的性質又は物理的性質が異なる重合体を調製可能な第二のオレフィン重合触媒（ＰＣ２）および可逆的連鎖移動剤（Ｃ）の存在下に前記オレフィン（Ｍ２）を重合するステップ。
【選択図】なし

Description

本発明は、オレフィンをモノマーとして用いるオレフィンブロック重合体の製造方法に関する。

分子量分布が狭く、分子量が特定の範囲にある重合体、末端に官能基が導入された重合体、異なるセグメントが結合したオレフィンブロック重合体は、種々の有用な物性を示すことから、学術的見地のみならず、工業的見地からも非常に重要であり、このようなオレフィンブロック重合体が求められている。

このようなオレフィンブロック共重合体の製造方法としてリビング重合を利用する方法が有効であることは一般に良く知られている。高度に制御されたリビング重合の場合は、ポリマーの成長末端が反応性を定量的に保持しているため、その反応性を利用して、直接、第二、第三モノマーと反応させることにより、効率良くオレフィンブロック共重合体を製造することが出来る（特許文献１、２参照）。また、成長末端の反応性を利用して、極性基を導入したり、極性基含有モノマーと反応可能な官能基を導入し、さらに極性基含有モノマーと反応させる方法によってポリオレフィンと極性基含有ポリマーとのブロック共重合体を製造することが可能である。

しかし、オレフィン類をリビング重合で重合する場合においては、通常の条件では成長するポリマー鎖の連鎖移動反応が頻発するため、リビング重合でオレフィン重合体を製造することは非常に困難であった。これまでいくつかα−オレフィンをリビング重合した例が報告されているが、連鎖移動反応を制御するため、いずれも極めて低温で重合が行われており、その重合活性も低い値であり、分子量も高々数万程度であった。また多くの場合、重合可能なモノマーは限られており、特に工業的に重要なエチレン系の（共）重合体の製造は困難であった（非特許文献１〜６参照）。

このような状況のもと本出願人は、新しいオレフィン重合用触媒として、サリチルアルジミン配位子を有する遷移金属化合物を提案している。このサリチルアルジミン配位子を有する遷移金属化合物を用いると、工業的に製造可能な高い温度で、従来知られているリビング重合触媒と比較して非常に高い活性でリビング重合が進行し、高分子量で分子量分布の狭いポリオレフィンや末端が定量的に官能基化されたポリオレフィン、異なるセグメントが結合したブロック共重合体の製造が可能である（特許文献３参照）。

しかしながら、通常のリビング重合においては、触媒１分子につきポリマーが１本しか生成しないため、分子量分布の狭いポリマーを高い生産性で得ることは困難であった。
これを解決するために、本出願人は、サリチルアルジミン配位子を有する遷移金属化合物を用いてオレフィンを重合する際に、または重合した後、例えば水素のような連鎖移動剤を用いてポリマーと触媒間の結合を切断し、さらに、このようにして得られた重合触媒を用いることによってオレフィン重合が効率的に進行し、特徴あるオレフィン系重合体が得られることを見出している（特許文献４参照）。

上記の方法を用いると、分子量分布が非常に狭い重合体を触媒１分子に対して２〜数本得ることができる。しかしながらこの方法においてもその生産性は工業的に十分高いとはいえず、さらに生産性が高いブロック共重合体製造方法の開発が望まれている。

一方、亜鉛やアルミニウムをはじめとする金属アルキル化合物が重合系において不可逆
的な連鎖移動剤として作用することはよく知られている。
Ｇｉｂｓｏｎらはある種の遷移金属錯体を用いるオレフィン重合において、アルキル亜鉛化合物を使用することを特徴とする連鎖生長触媒システムを提案している（特許文献５および６参照）。前記システムにおいては、成長ポリマー鎖とアルキル亜鉛の交換反応が可逆的に起こるため、炭素数が約３０までの、分子量分布がポアソン分布に近い（分子量分布、Ｍｗ／Ｍｎが１に近い）オレフィン重合体が提供される。ここでポアソン分布とは、χｐ＝（ｘｐｅ−χ）／ｐ！によって表される。ここでχｐはｐ個のオレフィンが重合した重合体のモル分率であり、ｘはポアソン分布係数である。

また最近、２種の触媒とアルキル亜鉛化合物あるいはアルキルアルミニウム化合物が混在する高温溶液重合系においてジエチル亜鉛などの特定の金属アルキル化合物を存在させ、可逆的連鎖移動を用いたマルチブロック共重合体を製造する方法が提案されている。前記製造方法を用いると、連続重合法によるマルチブロック共重合体の製造が可能である（特許文献７〜９参照）。

しかしながら、前記の製造方法は連続重合であるため、ブロック共重合体に含まれる各セグメントの数やセグメントの分子量は、多分散性（シュルツ−フローリー（Ｓｃｈｕｔｚ−Ｆｌｏｒｙ）分布）を有する。すなわち、セグメントの数や分子量が同時に精密に制御されたブロック共重合体を得ることは困難である。ここでシュルツ−フローリー（Ｓｃｈｕｔｚ−Ｆｌｏｒｙ）分布は、χｐ＝β／（１＋β）ｐ によって表される。χｐはｐ個のオレフィンが重合した重合体のモル分率であり、βはシュルツ−フローリー（Ｓｃｈｕｔｚ−Ｆｌｏｒｙ）分布係数である。

また一方、オレフィン重合系において、アルキル亜鉛化合物存在下、１種類の触媒を用いて、モノマー組成が異なる反応器を直列に連結することにより、ブロック共重合体を得る方法が提案されている。前記方法を用いると、一つの反応器で調製されるセグメントは一つであるため、セグメント数が２つのＡＢ型、ジブロックポリマーを得ることができる（非特許文献７および特許文献１０参照）。しかしながら、前記の方法においても、連続重合法であるため、各セミブロックの分子量はシュルツ−フローリー（Ｓｃｈｕｔｚ−Ｆｌｏｒｙ）分布を有する。

ところで、ブロック共重合体がその化学的特徴をより明確に示すためには、セグメント数や分子量がより精密に制御されていることが望ましい。例えば前記ＡＢジブロックポリマーにおいては、統計的に、長いＡセグメントと短いＢセグメントとの組合せ、あるいはその逆の組合せが必ず生成し、好ましくない成分としてブロックポリマーの性能を損なうことが考えられる。

以上の状況から、可逆連鎖移動重合の高い生産性を維持したままで、セグメントの数や分子量がより精密に制御されたブロックポリマーを製造する方法の開発が望まれていた。
ＷＯ９１／１２２８５号公報 ＷＯ９４／２１７００号公報 ＷＯ０１／０５５２３１号公報 特開２００３−３０１０１０号公報 ＷＯ２００３／０１４０４６号公報 特表２００４−５３７５８４号公報 ＷＯ２００５／０９０４２５号公報 ＷＯ２００５／０９０４２６号公報 ＷＯ２００５／０９０４２７号公報 ＷＯ２００７／０３５４８５号公報 Macromolecules, 1986 (19), 2896 J. Am. Chem. Soc., 1996 (118), 11664 J. Am. Chem. Soc., 1996 (118), 10008 Macromolecules, 1998(31), 3184 Macromol. Rapid Commun., 1999 (20), 637 J. Am. Chem. Soc., 1993 (115), 10990 Macromolecules, 2007 (40), 7061

本発明は、オレフィンブロック重合体、または特定の重合体ブロックを２種以上含むオレフィンブロック重合体を高い生産性で製造する方法を提供することを目的としている。

本発明のオレフィンブロック重合体の製造方法は、炭素原子数２〜２０のオレフィンから選ばれる少なくとも１種のオレフィンを、少なくとも下記（Ｉ）および（II）を含む複数のステップで重合することを特徴としている。
（Ｉ）第一のオレフィン重合触媒（ＰＣ１）および可逆的連鎖移動剤（Ｃ）の存在下に前記オレフィン（Ｍ１）を重合するステップ、
（II）同等の重合条件下で触媒（ＰＣ１）によって調製される重合体とは化学的性質又は物理的性質が異なる重合体を調製可能な第二のオレフィン重合触媒（ＰＣ２）および可逆的連鎖移動剤（Ｃ）の存在下に前記オレフィン（Ｍ２）を重合するステップ。

また、前記第一のオレフィン重合触媒（ＰＣ１）および第二のオレフィン重合触媒（ＰＣ２）が、それぞれ独立に、元素周期律表第３〜１１族（３族にはランタノイドおよびアクチノイドも含まれる）から選ばれる遷移金属化合物（Ａ）を含むことが好ましく、前記遷移金属化合物（Ａ）が、下記一般式（１）から選ばれる遷移金属化合物であることがより好ましい。

（式（１）中、Ｍは元素周期律表３〜１１族（３族にはランタノイドおよびアクチノイドも含まれる）から選ばれる遷移金属原子を表し、Ｌは窒素含有基、リン含有基、酸素含有基、イオウ含有基、セレン含有基およびシクロペンタジエニル環構造を有する基からなる群から選ばれる結合基を１つ以上含有し、該結合基を介して遷移金属原子Ｍと共有結合、イオン結合または配位結合で結合する単座または多座配位子を表し、ａは配位子Ｌの数を表す１〜３の整数であり、ａが２または３のときはそれぞれのＬは同一でも異なっていても良く、また複数のＬが炭化水素基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、スズ含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、リン含有基、酸素含有基、イオウ含有基および窒素含有基からなる群から選ばれる１つ以上の架橋基を介して相互に結合していても良く、Ｘは水素原子、ハロゲン原子、酸素原子、炭化水素基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、スズ含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、リン含有基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基、ハロゲン含有基およびヘテロ環式化合物残基からなる群から選ばれる原子または基を表し、ｂはＸの数を表す０〜３の整数であり、ｂが２または３のときはそれぞれのＸは同一でも異なっていても良く、また複数のＸが互いに結合して環を形成していても良く、Ｙは電子供与性基を有する中性配位子を表し、ｃはＹの数を表す０〜３の整数であり、ｃが２または３のときはそれぞれのＹは同一でも異なっていても良く、また複数のＹが互いに結合して環を形成していても良い。）
更に本発明は、前記第一のオレフィン重合触媒（ＰＣ１）および第二のオレフィン重合触媒（ＰＣ２）が、それぞれ独立に、下記一般式（２）および（３）からなる群から選ば
れる１つ以上の遷移金属化合物（Ａ）を含むことが好ましい。

（式（２）中、Ｍ、Ｘ、ａ、ｂはそれぞれ前記式（１）と同様のものを表し、Ｑは窒素原子または置換基Ｒ²を有する炭素原子を表し、Ｇは酸素原子、イオウ原子、セレン原子ま
たは置換基Ｒ⁵を有する窒素原子を表し、Ｒ¹は１個以上のヘテロ原子を有する炭化水素基またはヘテロ原子含有基を１個以上有する炭化水素基を表し、Ｒ²〜Ｒ⁵は互いに同一でも異なっていても良く、炭化水素基、ハロゲン原子、水素原子、炭化水素置換シリル基、酸素含有基、窒素含有基、イオウ含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、リン含有基、ハロゲン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基およびスズ含有基からなる群から選ばれる原子または基を表し、これらのうち２個以上が互いに連結して環を形成していても良く、ａが２または３のときはＲ¹同士、Ｒ²同士、Ｒ³同士、
Ｒ⁴同士、Ｒ⁵同士は互いに同一でも異なっていても良く、いずれか１つの配位子に含まれるＲ²〜Ｒ⁵のうちの１個の基と、他の配位子に含まれるＲ²〜Ｒ⁵のうちの１個の基とが連結されていても良い。）

（式（３）中、Ｍ、Ｘ、ｂはそれぞれ前記式（１）と同様のものを表し、Ｒ⁶は水素以外
に１〜３０個の原子を含有する炭化水素基を表し、Ｔは水素以外に１〜４０個の原子を含有する二価の架橋基を表し、Ｚはルイス塩基官能性を有する炭素原子数５〜４０のヘテロアリール基、またはその二価の誘導体を表す。）
本発明のオレフィンブロック重合体の製造方法は、前記ステップ（Ｉ）を実施した後、重合系に第二のオレフィン重合触媒（ＰＣ２）を添加することにより前記ステップ（II）を実施することが好ましく、更に、第一のオレフィン重合触媒（ＰＣ１）の活性を低下させる手段を含むステップ（Ｘ）を前記ステップ（Ｉ）を実施した後に実施し、その後前記ステップ（II）を実施することが好ましく、前記ステップ（Ｘ）における活性を低下させる手段が加熱処理であることが好ましい。

また本発明のオレフィンブロック重合体の製造方法は、オレフィンの１種として少なくともエチレンを用いることが好ましく、前記ステップ（Ｉ）におけるオレフィン（Ｍ１）と前記ステップ（II）におけるオレフィン（Ｍ２）とが、異なる種類のオレフィンまたは異なる組成の２種以上のオレフィンであることも好ましい。

更に本発明のオレフィンブロック重合体の製造方法は、前記可逆的連鎖移動剤（Ｃ）が、有機アルミニウム化合物または有機亜鉛化合物であることが好ましく、特にトリエチルアルミニウムまたはジエチル亜鉛であることがより好ましい。

また本発明のオレフィンブロック重合体の製造方法では、前記オレフィン重合触媒（ＰＣ１）および／または（ＰＣ２）が、遷移金属化合物（Ａ）と共に、
（Ｂ−１）有機アルミニウムオキシ化合物、および
（Ｂ−２）遷移金属化合物（Ａ）と反応してイオン対を形成する化合物、
から選ばれる少なくとも１種の化合物（Ｂ）を含むことが好ましい。

本発明のオレフィンブロック重合体の製造方法によれば、可逆連鎖移動重合の高い生産性を維持したままで、セグメントの数やセグメントごとの分子量がより精密に制御されたオレフィンブロック重合体を製造することができる。そして、本発明の方法で得られたオレフィンブロック重合体は、各セグメントの分子量分布が狭く、シュルツ−フローリー（Ｓｃｈｕｔｚ−Ｆｌｏｒｙ）分布を持たないため、従来の共重合体と比較して好ましくない長鎖／短鎖の成分が少なく、従って高いポリマー物性を発現することが期待できる。

以下、本発明に係るオレフィンブロック重合体の製造方法について具体的に説明する。
なお、本明細書において「重合」という語は、単独重合だけでなく、共重合をも包含した意味で用いられることがあり、「重合体」という語は、単独重合体だけでなく、共重合体をも包含した意味で用いられることがある。

まず、本発明で用いられるオレフィン重合触媒を形成する各成分について説明する。
遷移金属化合物（Ａ）
本発明で用いられる遷移金属化合物（Ａ）は、下記一般式（１）で表される化合物である。

一般式（１）において、Ｍは元素周期律表３〜１１族（３族にはランタノイドおよびアクチノイドも含まれる）から選ばれる遷移金属原子を表す。

一般式（１）において、Ｌは窒素含有基、リン含有基、酸素含有基、イオウ含有基、セレン含有基およびシクロペンタジエニル環構造を有する基からなる群から選ばれる結合基を１つ以上含有し、該結合基を介して遷移金属原子Ｍと共有結合、イオン結合または配位結合で結合する単座または多座配位子を表し、ａは配位子Ｌの数を表す１〜３の整数であり、ａが２または３のときはそれぞれのＬは同一でも異なっていても良く、また複数のＬが炭化水素基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、スズ含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、リン含有基、酸素含有基、イオウ含有基および窒素含有基からなる群から選ばれる１つ以上の架橋基を介して相互に結合していても良い。

配位子Ｌの具体的な骨格としては、シクロペンタジエニル環骨格、アセチルアセトナート骨格、フェノキシ骨格、アミド骨格、イミド骨格や後述の一般式（２）、一般式（３）で表される遷移金属化合物を形成する配位子骨格が挙げられる。

一般式（１）において、Ｘは水素原子、ハロゲン原子、酸素原子、炭化水素基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、スズ含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、リン含有基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基、ハロゲン含有基およびヘテロ環式化合物残基からなる群から選ばれる原子または基を表し、ｂはＸの数を表す０〜３の整数であり、ｂが２または３のときはそれぞれのＸは同一でも異なっていても良く、また複数のＸが
互いに結合して環を形成していても良い。

ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。
炭化水素基としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル、オクチル、ノニル、ドデシル、アイコシルなどのアルキル基；シクロペンチル、シクロヘキシル、ノルボルニル、アダマンチルなどの炭素原子数が３〜３０のシクロアルキル基；ビニル、プロペニル、シクロヘキセニルなどのアルケニル基；ベンジル、フェニルエチル、フェニルプロピルなどのアリールアルキル基；フェニル、トリル、ジメチルフェニル、トリメチルフェニル、エチルフェニル、プロピルフェニル、ビフェニル、ナフチル、メチルナフチル、アントリル、フェナントリルなどのアリール基などが挙げられる。また、これらの炭化水素基には、ハロゲン化炭化水素、具体的には炭素原子数１〜２０の炭化水素基の少なくとも一つの水素がハロゲンに置換した基も含まれる。

ケイ素含有基は、基中にケイ素原子を１〜５個含有する基であり、具体的には、フェニルシリル、ジフェニルシリル、トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリプロピルシリル、トリシクロヘキシルシリル、トリフェニルシリル、メチルジフェニルシリル、トリトリルシリル、トリナフチルシリルなどの炭化水素置換シリル基；トリメチルシリルエーテルなどの炭化水素置換シリルエーテル基；トリメチルシリルメチルなどのケイ素置換アルキル基；トリメチルシリルフェニルなどのケイ素置換アリール基などが挙げられる。なおケイ素含有基が炭素原子を含む場合は、炭素原子数は１〜３０、好ましくは１〜２０の範囲にあることが望ましい。

ゲルマニウム含有基としては、前記ケイ素含有基のケイ素をゲルマニウムに置換した基が挙げられ、またスズ含有基としては、前記ケイ素含有基のケイ素をスズに置換した基が挙げられる。

ホウ素含有基は、基中にホウ素原子を１〜５個含有する基であり、具体的には、ＢＲ₄
（Ｒは水素、アルキル基、置換基を有してもよいアリール基、ハロゲン原子等を示す）が挙げられる。

アルミニウム含有基は、基中にアルミニウム原子を１〜５個含有する基であり、具体的には、ＡｌＲ₄（Ｒは水素、アルキル基、置換基を有してもよいアリール基、ハロゲン原
子等を示す）が挙げられる。

リン含有基は、基中にリン原子を１〜５個含有する基であり、具体的には、トリメチルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィンなどのトリアルキルホスフィン基；トリフェニルホスフィン、トリトリルホスフィンなどのトリアリールホスフィン基；メチルホスファイト、エチルホスファイト、フェニルホスファイトなどのホスファイト基（ホスフィド基）；ホスホン酸基；ホスフィン酸基などが挙げられる。

酸素含有基は、基中に酸素原子を１〜５個含有する基であり、具体的には、ヒドロキシ基；メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシなどのアルコキシ基；フェノキシ、メチルフェノキシ、ジメチルフェノキシ、ナフトキシなどのアリーロキシ基；フェニルメトキシ、フェニルエトキシなどのアリールアルコキシ基；アセトキシ基；カルボニル基などが挙げられる。酸素含有基が炭素原子を含む場合は、炭素原子数は１〜３０、好ましくは１〜２０の範囲にあることが望ましい。

イオウ含有基は、基中にイオウ原子を１〜５個含有する基であり、具体的には、メチルスルフォネート、トリフルオロメタンスルフォネート、フェニルスルフォネート、ベンジルスルフォネート、ｐ−トルエンスルフォネート、トリメチルベンゼンスルフォネート、
トリイソブチルベンゼンスルフォネート、ｐ−クロルベンゼンスルフォネート、ペンタフルオロベンゼンスルフォネートなどのスルフォネート基；メチルスルフィネート、フェニルスルフィネート、ベンジルスルフィネート、ｐ−トルエンスルフィネート、トリメチルベンゼンスルフィネート、ペンタフルオロベンゼンスルフィネートなどのスルフィネート基；アルキルチオ基；アリールチオ基などが挙げられる。イオウ含有基が炭素原子を含む場合は、炭素原子数は１〜３０、好ましくは１〜２０の範囲にあることが望ましい。

窒素含有基は、基中に窒素原子を１〜５個含有する基であり、具体的には、アミノ基；メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルアミノ、ジブチルアミノ、ジシクロヘキシルアミノなどのアルキルアミノ基；フェニルアミノ、ジフェニルアミノ、ジトリルアミノ、ジナフチルアミノ、メチルフェニルアミノなどのアリールアミノ基またはアルキルアリールアミノ基などが挙げられる。

ハロゲン含有基としては、ＰＦ₆、ＢＦ₄などのフッ素含有基、ＣｌＯ₄、ＳｂＣｌ₆などの塩素含有基、ＩＯ₄などのヨウ素含有基が挙げられる。
ヘテロ環式化合物残基としては、ピロール、ピリジン、ピリミジン、キノリン、トリアジンなどの含窒素化合物、フラン、ピランなどの含酸素化合物、チオフェンなどの含イオウ化合物などの残基、およびこれらのヘテロ環式化合物残基に炭素原子数が１〜３０、好ましくは１〜２０のアルキル基、アルコキシ基などの置換基がさらに置換した基などが挙げられる。なお、ヘテロ環式化合物残基には前記窒素含有基、酸素含有基、イオウ含有基は含まれない。

一般式（１）において、Ｙは電子供与性基を有する中性配位子を表し、ｃはＹの数を表す０〜３の整数であり、ｃが２または３のときはそれぞれのＹは同一でも異なっていても良く、また複数のＹが互いに結合して環を形成していても良い。

電子供与性基とは、金属に供与できる不対電子を有する基であり、Ｙは電子供与性を有する中性配位子であればどのようなものであってもよい。中性配位子Ｙとしては具体的には、ジエチルエーテル、ジメチルエーテル、ジメトキシエタン、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、フラン、ジオキサン、ジメチルフラン、アニソール、ジフェニルエーテル、メチル−ｔ−ブチルエーテルなどの鎖状又は環状の飽和または不飽和エーテル類；アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ｎ−ブチルアルデヒド、ベンズアルデヒド、ｐ−ニトロベンズアルデヒド、ｐ−トルアルデヒド、フェニルアセトアルデヒド等の鎖状又は環状の飽和または不飽和アルデヒド類；アセトン、メチルエチルケトン、メチル−ｎ−プロピルケトン、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ｎ−ブチロフェノン、ベンジルメチルケトンなどの鎖状又は環状の飽和または不飽和ケトン類；ホルムアミド、アセトアミド、ベンズアミド、ｎ−バレルアミド、ステアリルアミド、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルム
アミド、Ｎ,Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ,Ｎ−ジエチルプロピオンアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−ｎ−ブチルアミドなど鎖状又は環状の飽和または不飽和アミド類；無水酢酸、無水コハク酸、無水マレイン酸などの鎖状又は環状の飽和または不飽和無水物；スクシンイミド、フタルイミドなどの鎖状又は環状の飽和または不飽和イミド類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ベンジル、酢酸フェニル、ギ酸エチル、プロピオン酸エチル、ステアリン酸エチル、安息香酸エチルなどの鎖状又は環状の飽和または不飽和エステル類；トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリフェニルアミン、ジメチルアミン、Ｎ,Ｎ,Ｎ',Ｎ'−テ
トラメチルエチレンジアミン、アニリン、Ｎ,Ｎ−ジメチルアニリン、ピロリジン、ピペ
リジン、モルホリン等の鎖状又は環状の飽和または不飽和アミン類；ピリジン、α−ピコリン、β−ピコリン、キノリン、イソキノリン、２−メチルピリジン、ピロール、オキサゾール、イミダゾール、ピラゾール、インドール等の含窒素複素環式化合物類；チオフェン、チアゾール等の含イオウ複素環式化合物類；トリメチルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、トリフェニルホスフィンなどのホスフィン類；ア
セトにトリル、ベンゾニトリル等の飽和または不飽和ニトリル類；塩化リチウム、塩化ナトリウム、塩化カリウム、塩化マグネシウム、塩化カルシウム等の無機塩類；一酸化炭素、二酸化炭素等の無機化合物類；下記有機金属化合物等が挙げられる。

有機金属化合物として、具体的には下記のような周期表第１、２族および第１２、１３族の有機金属化合物が用いられる。
（１ａ） 一般式 Ｒ^a _mＡｌ（ＯＲ^b）_nＨ_pＸ_q
（式中、Ｒ^aおよびＲ^bは、互いに同一でも異なっていてもよく、炭素原子数が１〜１５、好ましくは１〜４の炭化水素基を示し、Ｘはハロゲン原子を示し、ｍは０＜ｍ≦３、ｎは０≦ｎ＜３、ｐは０≦ｐ＜３、ｑは０≦ｑ＜３の数であり、かつｍ＋ｎ＋ｐ＋ｑ＝３である。）で表される有機アルミニウム化合物。

（１ｂ） 一般式 Ｍ²ＡｌＲ^a ₄
（式中、Ｍ²はＬｉ、ＮａまたはＫを示し、Ｒ^aは炭素原子数が１〜１５、好ましくは１〜４の炭化水素基を示す。）で表される周期表第１族金属とアルミニウムとの錯アルキル化物。

（１ｃ） 一般式 Ｒ^aＲ^bＭ³
（式中、Ｒ^aおよびＲ^bは、互いに同一でも異なっていてもよく、炭素原子数が１〜１５、好ましくは１〜４の炭化水素基を示し、Ｍ³はＭｇ、ＺｎまたはＣｄである。）で表され
る周期表第２族または第１２族金属のジアルキル化合物。

前記（１ａ）に属する有機アルミニウム化合物としては、次のような化合物などを例示できる。
一般式 Ｒ^a _mＡｌ（ＯＲ^b）_3-m
（式中、Ｒ^a およびＲ^b は、互いに同一でも異なっていてもよく、炭素原子数が１〜１５、好ましくは１〜４の炭化水素基を示し、ｍは好ましくは１．５≦ｍ≦３の数である。）で表される有機アルミニウム化合物、
一般式 Ｒ^a _mＡｌＸ_3-m
（式中、Ｒ^aは炭素原子数が１〜１５、好ましくは１〜４の炭化水素基を示し、Ｘはハロ
ゲン原子を示し、ｍは好ましくは０＜ｍ＜３である。）
で表される有機アルミニウム化合物、
一般式 Ｒ^a _mＡｌＨ_3-m
（式中、Ｒ^aは炭素原子数が１〜１５、好ましくは１〜４の炭化水素基を示し、ｍは好ま
しくは２≦ｍ＜３である。）
で表される有機アルミニウム化合物、
一般式 Ｒ^a _mＡｌ（ＯＲ^b）_nＸ_q
（式中、Ｒ^aおよびＲ^bは、互いに同一でも異なっていてもよく、炭素原子数が１〜１５、好ましくは１〜４の炭化水素基を示し、Ｘはハロゲン原子を示し、ｍは０＜ｍ≦３、ｎは０≦ｎ＜３、ｑは０≦ｑ＜３の数であり、かつｍ＋ｎ＋ｑ＝３である。）
で表される有機アルミニウム化合物。

（１ａ）に属する有機アルミニウム化合物としてより具体的には、
トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリｎ−ブチルアルミニウム、トリプロピルアルミニウム、トリペンチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウム、トリオクチルアルミニウム、トリデシルアルミニウムなどのトリｎ−アルキルアルミニウム；トリイソプロピルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリｓｅｃ−ブチルアルミニウム、トリ ｔｅｒｔ−ブチルアルミニウム、トリ２−メチルブチルアルミニウム、トリ３−メチルブチルアルミニウム、トリ２−メチルペンチルアルミニウム、トリ３−メチルペンチルアルミニウム、トリ４−メチルペンチルアルミニウム、トリ２−メチルヘキ
シルアルミニウム、トリ３−メチルヘキシルアルミニウム、トリ２−エチルヘキシルアルミニウムなどのトリ分岐鎖アルキルアルミニウム；トリシクロヘキシルアルミニウム、トリシクロオクチルアルミニウムなどのトリシクロアルキルアルミニウム；トリフェニルアルミニウム、トリトリルアルミニウムなどのトリアリールアルミニウム；（ｉ−Ｃ₄Ｈ₉）_xＡｌ_y（Ｃ₅Ｈ₁₀）_z （式中、ｘ、ｙ、ｚは正の数であり、ｚ≧２ｘである。）などで表
されるトリイソプレニルアルミニウムなどのトリアルケニルアルミニウム；イソブチルアルミニウムメトキシド、イソブチルアルミニウムエトキシド、イソブチルアルミニウムイソプロポキシドなどのアルキルアルミニウムアルコキシド；ジメチルアルミニウムメトキシド、ジエチルアルミニウムエトキシド、ジブチルアルミニウムブトキシドなどのジアルキルアルミニウムアルコキシド；エチルアルミニウムセスキエトキシド、ブチルアルミニウムセスキブトキシドなどのアルキルアルミニウムセスキアルコキシド；Ｒ^a _2.5 Ａｌ（
ＯＲ^b）_0.5などで表される平均組成を有する部分的にアルコキシ化されたアルキルアルミニウム；ジエチルアルミニウムフェノキシド、ジエチルアルミニウム（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノキシド）、エチルアルミニウムビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノキシド）、ジイソブチルアルミニウム（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノキシド）、イソブチルアルミニウムビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノキシド）などのジアルキルアルミニウムアリーロキシド；ジメチルアルミニウムクロリド、ジエチルアルミニウムクロリド、ジブチルアルミニウムクロリド、ジエチルアルミニウムブロミド、ジイソブチルアルミニウムクロリドなどのジアルキルアルミニウムハライド；エチルアルミニウムセスキクロリド、ブチルアルミニウムセスキクロリド、エチルアルミニウムセスキブロミドなどのアルキルアルミニウムセスキハライド；エチルアルミニウムジクロリド、プロピルアルミニウムジクロリド、ブチルアルミニウムジブロミドなどのアルキルアルミニウムジハライドなどの部分的にハロゲン化されたアルキルアルミニウム；ジエチルアルミニウムヒドリド、ジブチルアルミニウムヒドリド、ジイソブチルアルミニウムヒドリドなどのジアルキルアルミニウムヒドリド；エチルアルミニウムジヒドリド、プロピルアルミニウムジヒドリドなどのアルキルアルミニウムジヒドリドなどその他の部分的に水素化されたアルキルアルミニウム；エチルアルミニウムエトキシクロリド、ブチルアルミニウムブトキシクロリド、エチルアルミニウムエトキシブロミドなどの部分的にアルコキシ化およびハロゲン化されたアルキルアルミニウムなどが挙げられる。

また（１ａ）に類似する化合物も使用することができ、例えば窒素原子を介して２以上のアルミニウム化合物が結合した有機アルミニウム化合物が挙げられる。このような化合物として具体的には、（Ｃ₂Ｈ₅）₂ＡｌＮ（Ｃ₂Ｈ₅）Ａｌ（Ｃ₂Ｈ₅）₂などが挙げられる。

前記（１ｂ）に属する化合物としては、
ＬｉＡｌ（Ｃ₂Ｈ₅）₄、ＬｉＡｌ（Ｃ₇Ｈ₁₅）₄などが挙げられる。
またその他にも、有機金属化合物として、メチルリチウム、エチルリチウム、プロピルリチウム、ブチルリチウム、メチルマグネシウムブロミド、メチルマグネシウムクロリド、エチルマグネシウムブロミド、エチルマグネシウムクロリド、プロピルマグネシウムブロミド、プロピルマグネシウムクロリド、ブチルマグネシウムブロミド、ブチルマグネシウムクロリド、ジメチルマグネシウム、ジエチルマグネシウム、ジブチルマグネシウム、ブチルエチルマグネシウムなどを使用することもできる。

さらにこれらの化合物の一部が例えばアルキル基、ハロゲン基、ニトロ基、カルボニル基、アミノ基等の置換基に置換された化合物であってもよい。前記式（Ｉ）中のＹとしては、これらの中性配位子のうち、エーテル類、アルデヒド類、ケトン類、含窒素複素環式化合物類、無機塩類が好ましい。

一般式（１）で表される遷移金属化合物（Ａ）としては、具体的には、下記一般式（２
）〜（１７）で表される遷移金属化合物が挙げられる。
＜一般式（２）で表される遷移金属化合物＞

一般式（２）において、Ｘ、ａ、ｂはそれぞれ前記一般式（１）と同様のものを表す。Ｍは元素周期律表３〜１１族（３族にはランタノイドおよびアクチノイドも含まれる）から選ばれる遷移金属原子を表し、好ましくは４族または５族の遷移金属原子であり、より好ましくは４族の遷移金属原子であり、具体的にはチタン、ジルコニウム、ハフニウムであり、特に好ましくはジルコニウムである。

Ｑは窒素原子または置換基Ｒ²を有する炭素原子（−Ｃ（Ｒ²）＝）を表す。
Ｇは酸素原子、イオウ原子、セレン原子または置換基Ｒ⁵を有する窒素原子（−Ｎ（Ｒ⁵）−）を表す。

Ｒ¹は１個以上のヘテロ原子を有する炭化水素基またはヘテロ原子含有基を１個以上有
する炭化水素基である。ヘテロ原子としては、ハロゲン、窒素、酸素、リン、イオウ、セレン原子などが挙げられる。ヘテロ原子含有基は、炭素原子および水素原子以外の非金属原子を含む基であり、具体的には酸素含有基、窒素含有基、イオウ含有基、リン含有基、ハロゲン含有基、ヘテロ環式化合物残基などが挙げられる。酸素含有基、窒素含有基、イオウ含有基、リン含有基およびヘテロ環式化合物残基としては、前記一般式（１）中のＸと同様のものが挙げられる。ハロゲン含有基としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル、オクチル、ノニル、ドデシル、アイコシルなどのアルキル基；シクロペンチル、シクロヘキシル、ノルボルニル、アダマンチルなどの炭素原子数が３〜３０のシクロアルキル基；ビニル、プロペニル、シクロヘキセニルなどのアルケニル基；ベンジル、フェニルエチル、フェニルプロピルなどのアリールアルキル基；フェニル、トリル、ジメチルフェニル、トリメチルフェニル、エチルフェニル、プロピルフェニル、ビフェニル、ナフチル、メチルナフチル、アントリル、フェナントリルなどのアリール基などの炭素原子数１〜３０、好ましくは炭素原子数１〜２０の炭化水素基の少なくとも１つの水素がハロゲンに置換した基が挙げられ、具体的にはトリフルオロメチル、パーフルオロエチル、ペンタフルオロフェニル、パーフルオロヘキシル、トリクロロメチル、パークロロエチル、ペンタクロロフェニル、パークロロヘキシルなどが挙げられる。

Ｒ¹としては、炭素原子数１〜３０のハロゲン含有炭化水素基が好ましく、炭素原子数
１〜３０のフッ素含有炭化水素基が特に好ましい。Ｒ¹として具体的には、トリフルオロ
メチル、パーフルオロエチル、パーフルオロプロピル、パーフルオロブチル、パーフルオロペンチル、パーフルオロヘキシル、パーフルオロシクロヘキシル、トリフルオロメチルシクロヘキシル、ビス（トリフルオロメチル）シクロヘキシル、トリフルオロメチルフルオロシクロヘキシル、モノフルオロフェニル、ジフルオロフェニル、トリフルオロフェニル、テトラフルオロフェニル、ペンタフルオロフェニル、（トリフルオロメチル）フェニル、ビス（トリフルオロメチル）フェニル、トリス（トリフルオロメチル）フェニル、テトラキス（トリフルオロメチル）フェニル、ペンタキス（トリフルオロメチル）フェニル、（トリフルオロメチル）フルオロフェニル、（トリフルオロメチル）ジフルオロフェニ
ル、（トリフルオロメチル）トリフルオロフェニル、（トリフルオロメチル）テトラフルオロフェニル、パーフルオロエチルフェニル、ビス（パーフルオロエチル）フェニル、パーフルオロプロピルフェニル、パーフルオロブチルフェニル、パーフルオロペンチルフェニル、パーフルオロヘキシルフェニル、ビス（パーフルオロヘキシル）フェニル、パーフルオロナフチル、パーフルオロフェナントリル、パーフルオロアントリルなどが挙げられる。

Ｒ²〜Ｒ⁵は互いに同一でも異なっていても良く、炭化水素基、ハロゲン原子、水素原子、炭化水素置換シリル基、酸素含有基、窒素含有基、イオウ含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、リン含有基、ハロゲン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基およびスズ含有基からなる群から選ばれる原子または基を表す。Ｒ²
〜Ｒ⁵は、これらのうち２個以上が互いに連結して環を形成していても良く、ａが２また
は３のときはＲ¹同士、Ｒ²同士、Ｒ³同士、Ｒ⁴同士、Ｒ⁵同士は互いに同一でも異なって
いても良く、いずれか１つの配位子に含まれるＲ²〜Ｒ⁵のうちの１個の基と、他の配位子に含まれるＲ²〜Ｒ⁵のうちの１個の基とが連結されていても良い。

Ｒ²〜Ｒ⁵が表すハロゲン原子、酸素含有基、窒素含有基、イオウ含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、リン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基およびスズ含有基としては、前記一般式（１）中のＸと同様のものが挙げられる。また、Ｒ²〜Ｒ⁵が表すハロゲン含有基としては、前記一般式（２）のＲ¹で例示したも
のと同様のものが挙げられる。

Ｒ²〜Ｒ⁵が表す炭化水素基としては、例えば炭素原子数１〜３０のものが挙げられ、具体的には、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ネオペンチル、ｎ−ヘキシルなどの炭素原子数が１〜３０、好ましくは１〜２０の直鎖状または分岐状のアルキル基；ビニル、アリル、イソプロペニルなどの炭素原子数２〜３０、好ましくは２〜２０の直鎖状または分岐状のアルケニル基；エチニル、プロパルギルなど炭素原子数２〜３０、好ましくは２〜２０の直鎖状または分岐状のアルキニル基；シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、ノルボルニル、アダマンチルなどの炭素原子数３〜３０、好ましくは３〜２０の環状飽和炭化水素基；シクロペンタジエニル、インデニル、フルオレニルなどの炭素原子数５〜３０の環状不飽和炭化水素基；フェニル、ベンジル、ナフチル、ビフェニル、ターフェニル、フェナントリル、アントリルなどの炭素原子数６〜３０、好ましくは６〜２０のアリール基；トリル、イソプロピルフェニル、ｔｅｒｔ−ブチルフェニル、ジメチルフェニル、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルなどのアルキル置換アリール基などが挙げられる。また、前記炭化水素基は、他の炭化水素基で置換されていてもよく、例えば、ベンジル、クミルなどのアリール基置換アルキル基などが挙げられる。

Ｒ²〜Ｒ⁵が表す炭化水素置換シリル基としては、例えば炭素原子数の合計が１〜３０の基が挙げられる。具体的には、メチルシリル、ジメチルシリル、トリメチルシリル、エチルシリル、ジエチルシリル、トリエチルシリル、ジフェニルメチルシリル、トリフェニルシリル、ジメチルフェニルシリル、ジメチル−ｔ−ブチルシリル、ジメチル（ペンタフルオロフェニル）シリルなどが挙げられる。これらの中では、メチルシリル、ジメチルシリル、トリメチルシリル、エチルシリル、ジエチルシリル、トリエチルシリル、ジメチルフェニルシリル、トリフェニルシリルなどが好ましい。特にトリメチルシリル、トリエチルシリル、トリフェニルシリル、ジメチルフェニルシリルが好ましい。

前記一般式（２）で表される遷移金属化合物の例としては、下記一般式（２ａ）で表される化合物が挙げられる。

一般式（２ａ）において、Ｍ、Ｘ、Ｑ、Ｇ、Ｒ¹、ａ、ｂはそれぞれ前記一般式（２）
と同様のものを表し、Ｒ⁷〜Ｒ¹⁰としては、前記一般式（２）のＲ²〜Ｒ⁵で例示したもの
と同様のものが挙げられる。

以下に、一般式（２）で表される遷移金属化合物の具体的構造として、ａが２であり、それぞれの配位子が同一であるものの例を示すが、これらに限定されるものではない。ａが１であるものや、ａが２または３でそれぞれ異なる配位子を有するものも挙げられる。

＜一般式（３）で表される遷移金属化合物＞

一般式（３）において、Ｘ、ｂはそれぞれ前記式（１）と同様のものを表す。Ｍは元素周期律表３〜１１族（３族にはランタノイドおよびアクチノイドも含まれる）から選ばれる遷移金属原子を表し、好ましくは４族の遷移金属原子であり、具体的にはチタンまたはジルコニウムまたはハフニウムであり、特に好ましくはハフニウムである。

Ｒ⁶は水素以外に１〜３０個の原子を含有する炭化水素基を表し、具体的には例えば、
メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル、オクチル、ノニル、ドデシル、アイコシルなどのアルキル基；シクロペンチル、シクロヘキシル、ノルボルニル、アダマンチルなどの炭素原子数が３〜３０のシクロアルキル基；ベンジル、フェニルエチル、フェニルプロピルなどのアリールアルキル基；フェニル、トリル、ジメチルフェニル、トリメチルフェニル、エチルフェニル、プロピルフェニル、イソプロピルフェニル、ジイソプロピルフェニル、トリイソプロピルフェニル、ｔｅｒｔ−ブチルフェニル、ジ−ｔｅｒｔ―ブチルフェニル、トリ―ｔｅｒｔ−ブチルフェニル、ビフェニル、ナフチル、メチルナフチル、アントリル、フェナントリルなどのアリール基などが挙げられる。また、これらの炭化水素基には、ハロゲン化炭化水素、具体的には炭素原子数１〜２０の炭化水素基の少なくとも一つの水素がハロゲンに置換した基も含まれる。これらのうち、Ｒ⁶として２，６−ジ
イソプロピルフェニル基が好ましい。

Ｔは水素以外に１〜４０個の原子を含有する二価の架橋基を表し、好ましくは水素以外に１〜２０個の原子を含有する架橋基であり、より好ましくは炭素原子数１〜２０の炭化水素基が１つないし２つ置換したメチレン基またはシリル基である。具体的には例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル、オクチル、ノニル、ドデシルなどのアルキル基；シクロペンチル、シクロヘキシル、ノルボルニル、アダマンチルなどの炭素原子数が３〜２０のシクロアルキル基；ベンジル、フェニルエチル、フェニルプロピルなどのアリールアルキル基；フェニル、トリル、ジメチルフェニル、トリメチルフェニル、エチルフェニル、プロピルフェニル、イソプロピルフェニル、ジイソプロピルフェニル、トリイソプロピルフェニル、ｔｅｒｔ−ブチルフェニル、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル、トリ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル、ビフェニル、ナフチル、メチルナフチル、アントリル、フェナントリルなどのアリール基が１つないし２つ置換したメチレン基またはシリル基が挙げられる。これらのうち、炭素原子数６〜２０のアリール基が１つ置換したメチレン基またはシリル基が好ましく、置換フェニル基または縮合多環式アリール基が１つ置換したメチレン基またはシリル基がより好ましい。

Ｚはルイス塩基官能性を有する炭素原子数５〜４０のヘテロアリール基を表し、特にピリジン−２−イル基又は置換ピリジン−２−イル基、あるいはそれらの二価の誘導体である。

前記一般式（３）で表される遷移金属化合物としては、下記一般式（３ａ）で表される化合物が好ましい。

一般式（３ａ）において、Ｍ、Ｘ、Ｒ⁶、Ｔ、ｂはそれぞれ前記一般式（３）と同様の
ものを表す。

Ｒ¹¹〜Ｒ¹³は、水素原子、ハロゲン原子、または水素以外に最大２０個の原子を含有するアルキル基、シクロアルキル基、ヘテロアルキル基、ヘテロシクロアルキル基、アリール基、またはシリル基を表し、好ましくは水素原子または炭素原子数１〜４のアルキル基である。

Ｒ¹⁴は、水素以外に最大２０個の原子を含有するアルキル基、シクロアルキル基、ヘテロアルキル基、ヘテロシクロアルキル基、アリール基、またはシリル基を表し、好ましくは炭素原子数６〜２０のアリール基であり、より好ましくはナフタレニル基である。また、Ｒ¹¹〜Ｒ¹⁴の基は、隣接する基同士が互いに結合することによって、縮合環誘導体を形成することもできる。

以下に、一般式（３）で表される遷移金属化合物の構造例を示すが、これらに限定され
るものではない。

＜一般式（４）で表される遷移金属化合物＞

一般式（４）において、Ｘ、Ｙ、ｂ、ｃはそれぞれ前記式（１）と同様のものを表す。Ｍは元素周期律表３〜１１族（３族にはランタノイドおよびアクチノイドも含まれる）から選ばれる遷移金属原子を表し、好ましくは４〜１１族の遷移金属原子であり、より好ましくは４族の遷移金属原子であり、具体的にはチタン、ジルコニウムまたはハフニウムであり、特に好ましくはジルコニウムである。

Ｌ¹は遷移金属原子に配位するシクロペンタジエニル骨格を有する配位子であり、ａは
配位子Ｌ¹の数を表す１〜３の整数であり、ａが２または３のときはそれぞれのＬ¹は同一でも異なっていても良く、また複数のＬ¹が炭化水素基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含
有基、スズ含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、リン含有基、酸素含有基、イオウ含有基および窒素含有基からなる群から選ばれる１つ以上の架橋基を介して相互に結合していても良い。

Ｌ¹で表されるシクロペンタジエニル骨格を有する配位子としては、たとえばシクロペ
ンタジエニル基、メチルシクロペンタジエニル基、ジメチルシクロペンタジエニル基、トリメチルシクロペンタジエニル基、テトラメチルシクロペンタジエニル基、ペンタメチルシクロペンタジエニル基、エチルシクロペンタジエニル基、メチルエチルシクロペンタジエニル基、プロピルシクロペンタジエニル基、メチルプロピルシクロペンタジエニル基、ブチルシクロペンタジエニル基、メチルブチルシクロペンタジエニル基、ヘキシルシクロペンタジエニル基などのアルキル置換シクロペンタジエニル基あるいはインデニル基、４，５，６，７−テトラヒドロインデニル基、フルオレニル基などを例示することができる。これらの基は、炭素原子数が１〜２０の（ハロゲン化）炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、ケイ素含有基、ハロゲン原子などで置換されていてもよい。

また、複数のＬ¹が架橋基を介して結合されている遷移金属化合物としては、後述する
ような一般式（５）、（５ａ）、（５ｂ）、または（５ｃ）で表される遷移金属化合物が挙げられる。

このような遷移金属化合物は、たとえば遷移金属の原子価が４である場合、ａが２または３であることが好ましい。この場合、それぞれのＬ¹は同一でも異なっていても良く、
またＸはアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリールアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリーロキシ基、トリアルキルシリル基、スルフォネート基、ハロゲン原子または水素原子であることが好ましい。

以下に、前記一般式（４）で表され、Ｍがジルコニウムである遷移金属化合物について具体的な化合物を例示するが、これらに限定されるものではない。
ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムモノクロリドモノハイドライド、ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニ
ウムジブロミド、ビス（シクロペンタジエニル）メチルジルコニウムモノクロリド、ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムフェノキシモノクロリド、ビス（メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、ビス（エチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、ビス（プロピルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、ビス（ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、ビス（ヘキシルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、ビス（オクチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、ビス（インデニル）ジルコニウムジクロリド、ビス（４，５，６，７−テトラヒドロインデニル）ジルコニウムジクロリド、ビス（インデニル）ジルコニウムジブロミド、ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジメチル、ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムメトキシクロリド、ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムエトキシクロリド、ビス（フルオレニル）ジルコニウムジクロリド、ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムビス（メタンスルホナト）、ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムビス（ｐ−トルエンスルホナト）、ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムビス（トリフルオロメタンスルホナト）、ビス（メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムビス（トリフルオロメタンスルホナト）、ビス（エチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムビス（トリフルオロメタンスルホナト）、ビス（プロピルシクロペンタジエニル）ジルコニウムビス（トリフルオロメタンスルホナト）、ビス（ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムビス（トリフルオロメタンスルホナト）、ビス（ヘキシルシクロペンタジエニル）ジルコニウムビス（トリフルオロメタンスルホナト）、ビス（ジメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムビス（トリフルオロメタンスルホナト）、ビス（メチルエチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムビス（トリフルオロメタンスルホナト）、ビス（メチルプロピルシクロペンタジエニル）ジルコニウムビス（トリフルオロメタンスルホナト）、ビス（メチルブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムビス（トリフルオロメタンスルホナト）、ビス（ジメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、ビス（メチルプロピルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、ビス（メチルブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、ビス（メチルヘキシルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、ビス（エチルブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、ビス（トリメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、ビス（テトラメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、ビス（ペンタメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、ビス（メチルベンジルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、ビス（エチルヘキシルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、ビス（メチルシクロヘキシルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、ビス（シクロペンタジエニル）エチルジルコニウムモノクロリド、ビス（シクロペンタジエニル）シクロヘキシルジルコニウムモノクロリド、ビス（シクロペンタジエニル）フェニルジルコニウムモノクロリド、ビス（シクロペンタジエニル）ベンジルジルコニウムモノクロリド、ビス（シクロペンタジエニル）メチルジルコニウムモノハイドライド、ビス（シクロペンタジエニル）ジフェニルジルコニウム、ビス（シクロペンタジエニル）ジベンジルジルコニウム、ビス（インデニル）ジルコニウムビス（ｐ−トルエンスルホナト）、ビス（ジメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムエトキシクロリド、ビス（メチルエチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、ビス（プロピルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、ビス（メチルブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムビス（メタンスルフォネート）、ビス（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリドなど。

なお前記例示において、シクロペンタジエニル環の二置換体は、１，２−および１，３−置換体を含み、三置換体は、１，２，３−および１，２，４−置換体を含む。またプロピル、ブチルなどのアルキル基は、ｎ−、ｉ−、ｓｅｃ−、ｔｅｒｔ−などの異性体を含む。

また前記のようなジルコニウム化合物において、ジルコニウムを、チタンまたはハフニ
ウムに置換えた化合物を挙げることもできる。
＜一般式（５）で表される遷移金属化合物＞

一般式（５）において、Ｘは前記式（１）と同様のものを表す。Ｍは元素周期律表３〜１１族（３族にはランタノイドおよびアクチノイドも含まれる）から選ばれる遷移金属原子を表し、好ましくは４〜１１族の遷移金属原子であり、より好ましくは４族の遷移金属原子であり、具体的にはチタン、ジルコニウムまたはハフニウムであり、特に好ましくはジルコニウムである。

Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶、Ｒ¹⁷およびＲ¹⁸は、互いに同一でも異なっていてもよく、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、ケイ素含有基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基、リン含有基、水素原子またはハロゲン原子を示す。Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶、Ｒ¹⁷およびＲ¹⁸で示される基のうち、互いに隣接する基の一部が結合してそれらの基が結合する炭素原子とともに環を形成していてもよい。なお、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶、Ｒ¹⁷およびＲ¹⁸が各々２ヶ所に表示されているが、それぞれたとえばＲ¹⁵とＲ¹⁵などは、同一の基でもよくまた相異なる基でもよい。Ｒで示される基のうち同一のサフィックスのものは、それらを継いで、環を形成する場合の好ましい組み合せを示している。

炭化水素基としては、前記一般式（２）のＲ²〜Ｒ⁵が表す炭化水素基として例示したものと同様の基が挙げられる。これらの炭化水素基が結合して形成する環としてはベンゼン環、ナフタレン環、アセナフテン環、インデン環などの縮環基、および前記縮環基上の水素原子がメチル、エチル、プロピル、ブチルなどのアルキル基で置換された基が挙げられる。

ハロゲン化炭化水素基としては、前記の炭化水素基にハロゲンが置換した基が挙げられる。
ケイ素含有基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基、リン含有基、ハロゲン原子としては、前記一般式（１）中のＸと同様のものが挙げられる。

これらのうち、炭素原子数が１〜２０の炭化水素基であることが好ましく、特にメチル、エチル、プロピル、ブチルの炭素原子数が１〜４の炭化水素基、炭化水素基が結合して形成されたベンゼン環、炭化水素基が結合して形成されたベンゼン環上の水素原子がメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチルなどのアルキル基で置換された基であることが好ましい。

Ｊ¹は、炭素原子数が１〜２０の２価の炭化水素基、炭素原子数が１〜２０の２価のハ
ロゲン化炭化水素基、２価のケイ素含有基、２価のゲルマニウム含有基、２価のスズ含有基、−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−、−Ｇｅ−、−Ｓｎ−、−ＮＲ¹⁹
−、−Ｐ（Ｒ¹⁹）−、−Ｐ（Ｏ）（Ｒ¹⁹）−、−ＢＲ¹⁹−または−ＡｌＲ¹⁹−〔ただし、Ｒ¹⁹は、互いに同一でも異なっていてもよく、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、水素
原子またはハロゲン原子である〕を示す。

炭素原子数が１〜２０の２価の炭化水素基として具体的には、メチレン、ジメチルメチレン、１，２−エチレン、ジメチル−１，２−エチレン、１，３−トリメチレン、１，４−テトラメチレン、１，２−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキシレンなどのアルキレン基；ジフェニルメチレン、ジフェニル−１，２−エチレンなどのアリールアルキレン基などが挙げられる。

炭素原子数が１〜２０の２価のハロゲン化炭化水素基として具体的には、クロロメチレンなどの前記炭素原子数が１〜２０の２価の炭化水素基をハロゲン化した基などが挙げられる。

２価のケイ素含有基としては、シリレン、メチルシリレン、ジメチルシリレン、ジエチルシリレン、ジ（ｎ−プロピル）シリレン、ジ（イソプロピル）シリレン、ジ（シクロヘキシル）シリレン、メチルフェニルシリレン、ジフェニルシリレン、ジ（ｐ−トリル）シリレン、ジ（ｐ−クロロフェニル）シリレンなどのアルキルシリレン基；アルキルアリールシリレン基；アリールシリレン基；テトラメチル−１，２−ジシリレン、テトラフェニル−１，２−ジシリレンなどのアルキルジシリレン基；アルキルアリールジシリレン基；アリールジシリレン基などが挙げられる。

２価のゲルマニウム含有基としては、前記２価のケイ素含有基のケイ素をゲルマニウムに置換した基などが挙げられる。２価のスズ含有基としては、前記２価のケイ素含有基のケイ素をスズに置換した基などが挙げられる。

これらのうち、ジメチルシリレン、ジフェニルシリレン、メチルフェニルシリレンなどの置換シリレン基が特に好ましい。また、Ｒ¹⁹は、前記Ｒ¹⁵〜Ｒ¹⁸と同様のハロゲン原子、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基である。

以下に、前記一般式（５）で表され、Ｍがジルコニウムである遷移金属化合物について具体的な化合物を例示するが、これらに限定されるものではない。
エチレン−ビス（インデニル）ジメチルジルコニウム、エチレン−ビス（インデニル）ジルコニウムジクロリド、エチレン−ビス（インデニル）ジルコニウムビス（トリフルオロメタンスルホナト）、エチレン−ビス（インデニル）ジルコニウムビス（メタンスルホナト）、エチレン−ビス（インデニル）ジルコニウムビス（ｐ−トルエンスルホナト）、エチレン−ビス（インデニル）ジルコニウムビス（ｐ−クロルベンゼンスルホナト）、エチレン−ビス（４，５，６，７−テトラヒドロインデニル）ジルコニウムジクロリド、イソプロピリデン（シクロペンタジエニル）（フルオレニル）ジルコニウムジクロリド、イソプロピリデン（シクロペンタジエニル）（メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレン−ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレン−ビス（メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレン−ビス（ジメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレン−ビス（トリメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレン−ビス（インデニル）ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレン−ビス（インデニル）ジルコニウムビス（トリフルオロメタンスルホナト）、ジメチルシリレン−ビス（４，５，６，７−テトラヒドロインデニル）ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレン（シクロペンタジエニル）（フルオレニル）ジルコニウムジクロリド、ジフェニルシリレン−ビス（インデニル）ジルコニウムジクロリド、メチルフェニルシリレン−ビス（インデニル）ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス（２，３，５−トリメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス（２，４，７−トリメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、ｒ
ａｃ−ジメチルシリレン−ビス（２−メチル−４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、イソプロピリデン（シクロペンタジエニル）（フルオレニル）ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレン（３−ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（インデニル）ジルコニウムジクロリド、イソプロピリデン（４−メチルシクロペンタジエニル）（３−メチルインデニル）ジルコニウムジクロリド、イソプロピリデン（４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−メチルインデニル）ジルコニウムジクロリド、イソプロピリデン（４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルインデニル）ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレン（４−メチルシクロペンタジエニル）（３−メチルインデニル）ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレン（４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−メチルインデニル）ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレン（４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルインデニル）ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレン（３−ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（フルオレニル）ジルコニウムジクロリド、イソプロピリデン（３−ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（フルオレニル）ジルコニウムジクロリドなど。

また前記のような化合物中のジルコニウムを、チタニウムまたはハフニウムに代えた化合物を挙げることもできる。
前記一般式（５）で表される遷移金属化合物として、他の具体的な例としては下記一般式（５ａ）または（５ｂ）で表される遷移金属化合物がある。

一般式（５ａ）において、Ｍ、Ｘはそれぞれ前記式（５）と同様のものを表す。
Ｒ²⁰は互いに同一でも異なっていてもよく、炭素原子数が１〜６の炭化水素基を示し、具体的には、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ネオペンチル、ｎ−ヘキシル、シクロヘキシルなどのアルキル基；ビニル、プロペニルなどのアルケニル基などが挙げられる。これらのうちインデニル基に結合した炭素原子が１級のアルキル基が好ましく、さらに炭素原子数が１〜４のアルキル基が好ましく、特にメチル基およびエチル基が好ましい。

Ｒ²¹、Ｒ²³、Ｒ²⁴およびＲ²⁵は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子またはＲ²⁰と同様の炭素原子数が１〜６の炭化水素基を示す。
Ｒ²²は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子または炭素原子数が６〜１６のアリール基を示し、具体的には、フェニル、α−ナフチル、β−ナフチル、アントリル、フェナントリル、ピレニル、アセナフチル、フェナレニル、アセアントリレニル、テトラヒドロナフチル、インダニル、ビフェニリルなどが挙げられる。これらのうちフェニル、ナフチル、アントリル、フェナントリルであることが好ましい。

これらのアリール基は、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素などのハロゲン原子；メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル、シクロヘキシル、オクチル、ノニル、ドデシル、ア
イコシル、ノルボルニル、アダマンチルなどのアルキル基；ビニル、プロペニル、シクロヘキセニルなどのアルケニル基；ベンジル、フェニルエチル、フェニルプロピルなどのアリールアルキル基；フェニル、トリル、ジメチルフェニル、トリメチルフェニル、エチルフェニル、プロピルフェニル、ビフェニル、α−またはβ−ナフチル、メチルナフチル、アントリル、フェナントリル、ベンジルフェニル、ピレニル、アセナフチル、フェナレニル、アセアントリレニル、テトラヒドロナフチル、インダニル、ビフェニリルなどのアリール基などの炭素原子数が１〜２０の炭化水素基；トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリフェニルシリルなどの有機シリル基で置換されていてもよい。

Ｊ¹は、前記一般式（５）におけるＪ¹と同じである。これらのうち、２価のケイ素含有基、２価のゲルマニウム含有基であることが好ましく、２価のケイ素含有基であることがより好ましく、アルキルシリレン、アルキルアリールシリレンまたはアリールシリレンであることがより好ましい。

以下に、前記一般式（５ａ）で表され、Ｍがジルコニウムである遷移金属化合物について具体的な化合物を例示するが、これらに限定されるものではない。
ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−メチル−４−フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−メチル−４−（α−ナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−メチル−４−（β−ナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−メチル−４−（１−アントリル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−メチル−４−（２−アントリル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−メチル−４−（９−アントリル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−メチル−４−（９−フェナントリル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−メチル−４−（ｐ−フルオロフェニル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−メチル−４−（ペンタフルオロフェニル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−メチル−４−（ｐ−クロロフェニル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−メチル−４−（ｍ−クロロフェニル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−メチル−４−（ｏ−クロロフェニル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−メチル−４−（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−メチル−４−（ｐ−ブロモフェニル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−メチル−４−（ｐ−トリル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−メチル−４−（ｍ−トリル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−メチル−４−（ｏ−トリル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−メチル−４−（ｏ，ｏ'−ジメチルフェニル）−１−インデニル）

ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−メチル−４−（ｐ−エチルフェニル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−メチル−４−（ｐ−ｉ−プロピルフェニル）インデニル））ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−メチル−４−（ｐ−ベンジルフェニル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−メチル−４−（ｐ−ビフェニル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−メチル−４−（ｍ−ビフェニル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−メチル−４−（ｐ−トリメチルシリレンフェニル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、
ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−メチル−４−（ｍ−トリメチルシリレンフェニル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−フェニル−４−フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジエチルシリレン−ビス｛１−（２−メチル−４−フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジ−（ｉ−プロピル）シリレン−ビス｛１−（２−メチル−４−フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジ−（ｎ−ブチル）シリレン−ビス｛１−（２−メチル−４−フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジシクロヘキシルシリレン−ビス｛１−（２−メチル−４−フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−メチルフェニルシリレン−ビス｛１−（２−メチル−４−フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジフェニルシリレン−ビス｛１−（２−メチル−４−フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジ（ｐ−トリル）シリレン−ビス｛１−（２−メチル−４−フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジ（ｐ−クロロフェニル）シリレン−ビス｛１−（２−メチル−４−フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−メチレン−ビス｛１−（２−メチル−４−フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−エチレン−ビス｛１−（２−メチル−４−フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルゲルミレン−ビス｛１−（２−メチル−４−フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルスタニレン−ビス｛１−（２−メチル−４−フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−メチル−４−フェニルインデニル）｝ジルコニウムジブロミド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−メチル−４−フェニルインデニル）｝ジルコニウムジメチル、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−メチル−４−フェニルインデニル）｝ジルコニウムメチルクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−メチル−４−フェニルインデニル）｝ジルコニウムクロリドＳＯ₂Ｍｅ、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛
１−（２−メチル−４−フェニルインデニル）｝ジルコニウムクロリドＯＳＯ₂Ｍｅ、ｒ
ａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−エチル−４−フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−エチル−４−（α−ナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−エチル−４−（β−ナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−エチル−４−（２−メチル−１−ナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−エチル−４−（５−アセナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−エチル−４−（９−アントリル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−エチル−４−（９−フェナントリル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−エチル−４−（ｏ−メチルフェニル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−エチル−４−（ｍ−メチルフェニル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−エチル−４−（ｐ−メチルフェニル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−エチル−４−（２，３−ジメチルフェニル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−エチル−４−（２，４−ジメチルフェニル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−エチル−４−（２，５−ジメチルフェニル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−エチル−４−（２，４，６−トリメチルフェニル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−エチル−４−（ｏ−クロロフェニル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−エチル−４−（ｍ−クロロフェニル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−エチル−４−（ｐ−クロロフェニル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−エチル−４−（２，
３−ジクロロフェニル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−エチル−４−（２，６−ジクロロフェニル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−エチル−４−（３，５−ジクロロフェニル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−エチル−４−（２−ブロモフェニル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−エチル−４−（３−ブロモフェニル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス

｛１−（２−エチル−４−（４−ブロモフェニル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−エチル−４−（４−ビフェニリル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−エチル−４−（４−トリメチルシリルフェニル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−ｎ−プロピル−４−フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−ｎ−プロピル−４−（α−ナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−ｎ−プロピル−４−（β−ナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−ｎ−プロピル−４−（２−メチル−１−ナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−ｎ−プロピル−４−（５−アセナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−ｎ−プロピル−４−（９−アントリル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−ｎ−プロピル−４−（９−フェナントリル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−ｉ−プロピル−４−フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−ｉ−プロピル−４−（α−ナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−ｉ−プロピル−４−（β−ナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−ｉ−プロピル−４−（８−メチル−９−ナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−ｉ−プロピル−４−（５−アセナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−ｉ−プロピル−４−（９−アントリル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−ｉ−プロピル−４−（９−フェナントリル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−ｓ−ブチル−４−フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−ｓ−ブチル−４−（α−ナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−ｓ−ブチル−４−（β−ナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−ｓ−ブチル−４−（２−メチル−１−ナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−ｓ−ブチル−４−（５−アセナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−ｓ−ブチル−４−（９−アントリル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−ｓ−ブチル−４−（９−フェナントリル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−ｎ−ペンチル−４−フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−ｎ−ペンチル−４−（α−ナフチル）インデニル）｝

ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−ｎ−ブチル−４−フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−ｎ−ブチル−４−（α−ナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−ｎ−ブチル−４−（β−ナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−ｎ−ブ
チル−４−（２−メチル−１−ナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−ｎ−ブチル−４−（５−アセナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−ｎ−ブチル−４−（９−アントリル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−ｎ−ブチル−４−（９−フェナントリル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−ｉ−ブチル−４−フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−ｉ−ブチル−４−（α−ナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−ｉ−ブチル−４−（β−ナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−ｉ−ブチル−４−（２−メチル−１−ナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−ｉ−ブチル−４−（５−アセナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−ｉ−ブチル−４−（９−アントリル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−ｉ−ブチル−４−（９−フェナントリル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−ネオペンチル−４−フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−ネオペンチル−４−（α−ナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−ｎ−ヘキシル−４−フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−ｎ−ヘキシル−４−（α−ナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−メチルフェニルシリレン−ビス｛１−（２−エチル−４−フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−メチルフェニルシリレン−ビス｛１−（２−エチル−４−（α−ナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−メチルフェニルシリレン−ビス｛１−（２−エチル−４−（９−アントリル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−メチルフェニルシリレン−ビス｛１−（２−エチル−４−（９−フェナントリル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジフェニルシリレン−ビス｛１−（２−エチル−４−フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジフェニルシリレン−ビス｛１−（２−エチル−４−（α−ナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジフェニルシリレン−ビス｛１−（２−エチル−４−（９−アントリル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジフェニルシリレン−ビス｛１−（２−エチル−４−（９−フェナントリル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジフェニルシリレン−ビス｛１−（２−エチル−４−（４−ビフェニリル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−メチレン−ビス｛１−（２−エチル−４−フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−メチレン−ビス｛１−（２−エチル−４−（α−ナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−エチレン−ビス｛１−（２−エチル−４−フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−エチレン−ビス｛１−（２−エチル−４−（α−ナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−エチレン−ビス｛１−（２−ｎ−プロピル−４−（α−ナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルゲルミル−ビス｛１−（２−エチル−４−フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルゲルミル−ビス｛１−（２−エチル−４−（α−ナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルゲルミル−ビス｛１−（２−ｎ−プロピル−４−フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリドなど。

また上記のような化合物中のジルコニウムをチタニウムまたはハフニウムに代えた化合物を挙げることもできる。
次に、一般式（５ｂ）で表される遷移金属化合物について説明する。

一般式（５ｂ）において、Ｍ、Ｘはそれぞれ前記式（５）と同様のものを表す。
Ｒ³¹およびＲ³²は、互いに同一でも異なっていてもよく、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、ケイ素含有基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基、リン含有基、水素原子またはハロゲン原子を示す。炭化水素基としては、前記一般式（２）のＲ²〜Ｒ⁵が表す炭化水素基として例示したものと同様の基が挙げられ、ハロゲン化炭化水素基としては、前記の炭化水素基にハロゲンが置換した基が挙げられる。また、ケイ素含有基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基、リン含有基、ハロゲン原子としては、前記一般式（１）中のＸと同様のものが挙げられる。

これらのうちＲ³¹は、炭素原子数が１〜２０の炭化水素基であることが好ましく、特にメチル、エチル、プロピルの炭素原子数が１〜３の炭化水素基であることが好ましい。Ｒ³²は、水素原子または炭素原子数が１〜２０の炭化水素基であることが好ましく、特に水素原子あるいは、メチル、エチル、プロピルの炭素原子数が１〜３の炭化水素基であることが好ましい。

Ｒ³³およびＲ³⁴は、互いに同一でも異なっていてもよく、炭素原子数が１〜２０のアルキル基を示し、具体的にはメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ネオペンチル、ｎ−ヘキシル、シクロヘキシル、オクチル、ノニル、ドデシル、アイコシル、ノルボルニル、アダマンチルなどが挙げられる。これらのうちＲ³³は、２級または３級アルキル基であることが好ましい。

Ｊ¹は、前記一般式（５）におけるＪ¹と同じである。
以下に、前記一般式（５ｂ）で表され、Ｍがジルコニウムである遷移金属化合物について具体的な化合物を例示するが、これらに限定されるものではない。

ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２，７−ジメチル−４−エチルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２，７−ジメチル−４−ｎ−プロピルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２，７−ジメチル−４−ｉ−プロピルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２，７−ジメチル−４−ｎ−ブチルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２，７−ジメチル−４−ｓｅｃ−ブチルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２，７−ジメチル−４−ｔ−ブチルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２，７−ジメチル−４−ｎ−ペンチルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２，７−ジメチル−４−ｎ−ヘキシルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２，７−ジメチル−４−シクロヘキシルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２，７−ジメチル
−４−メチルシクロヘキシルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２，７−ジメチル−４−フェニルエチルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２，７−ジメチル−４−フェニルジクロロメチルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２，７−ジメチル−４−クロロメチルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２，７−ジメチル−４−トリメチルシリルメチルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２，７−ジメチル−４−トリメチルシロキシメチルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジエチルシリレン−ビス｛１−（２，７−ジメチル−４−ｉ−プロピルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジ（ｉ−プロピル）シリレン−ビス｛１−（２，７−ジメチル−４−ｉ−プロピルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジ（ｎ−ブチル）シリレン−ビス｛１−（２，７−ジメチル−４−ｉ−プロピルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジ（シクロヘキシル）シリレン−ビス｛１−（２，７−ジメチル−４−ｉ−プロピルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−メチルフェニルシリレン−ビス｛１−（２，７−ジメチル−４−ｉ−プロピルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−メチルフェニルシリレン−ビス｛１−（２，７−ジメチル−４−ｔ−ブチルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジフェニルシリレン−ビス｛１−（２，７−ジメチル−４−ｔ−ブチルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジフェニルシリレン−ビス｛１−（２，７−ジメチル−４−ｉ−プロピルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジフェニルシリレン−ビス｛１−（２，７−ジメチル−４−エチルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジ（ｐ−トリル）シリレン−ビス｛１−（２，７−ジメチル−４−ｉ−プロピルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジ（ｐ−クロロフェニル）シリレン−ビス｛１−（２，７−ジメチル−４−ｉ−プロピルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−メチル−４−ｉ−プロピル−７−エチルインデニル）｝ジルコニウムジブロミド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２，３，７−トリメチル−４−エチルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２，３，７−トリメチル−４−ｎ−プロピルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２，３，７−トリメチル−４−ｉ−プロピルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２，３，７−トリメチル−４−ｎ−ブチルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２，３，７−トリメチル−４−ｓｅｃ−ブチルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２，３，７−トリメチル−４−ｔ−ブチルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２，３，７−トリメチル−４−ｎ−ペンチルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２，３，７−トリメチル−４−ｎ−ヘキシルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２，３，７−トリメチル−４−シクロヘキシルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２，３，７−トリメチル−４−メチルシクロヘキシルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２，３，７−トリメチル−４−トリメチルシリルメチルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２，３，７−トリメチル−４−トリメチルシロキシメチルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２，３，７−トリメチル−４−フェニルエチルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２，３，７−トリメチル−４−フェニルジクロロメチルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２，３，７−トリメチル−４−クロロメチルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジエチルシリレン−ビス｛１−（２，３，７−トリメチル−４−ｉ−プロピルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジ（ｉ−プロピル）シリレン−ビス｛１−（２，３，７−トリメチル−
４−ｉ−プロピルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジ（ｎ−ブチル）シリレン−ビス｛１−（２，３，７−トリメチル−４−ｉ−プロピルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジ（シクロヘキシル）シリレン−ビス｛１−（２，３，７−トリメチル−４−ｉ−プロピルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−メチルフェニルシリレン−ビス｛１−（２，３，７−トリメチル−４−ｉ−プロピルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−メチルフェニルシリレン−ビス｛１−（２，３，７−トリメチル−４−ｔ−ブチルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジフェニルシリレン−ビス｛１−（２，３，７−トリメチル−４−ｔ−ブチルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジフェニルシリレン−ビス｛１−（２，３，７−トリメチル−４−ｉ−プロピルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジフェニルシリレン−ビス｛１−（２，３，７−トリメチル−４−エチルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジ（ｐ−トリル）シリレン−ビス｛１−（２，３，７−トリメチル−４−ｉ−プロピルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジ（ｐ−クロロフェニル）シリレン−ビス｛１−（２，３，７−トリメチル−４−ｉ−プロピルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−メチル−４−ｉ−プロピル−７−メチルインデニル）｝ジルコニウムジメチル、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−メチル−４−ｉ−プロピル−７−メチルインデニル）｝ジルコニウムメチルクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−メチル−４−ｉ−プロピル−７−メチルインデニル）｝ジルコニウム−ビス（メタンスルホナト）、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−メチル−４−ｉ−プロピル−７−メチルインデニル）｝ジルコニウム−ビス（ｐ−フェニルスルフィナト）、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−メチル−３−メチル−４−ｉ−プロピル−７−メチルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−メチル−４，６−ジ−ｉ−プロピルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−エチル−４−ｉ−プロピル−７−メチルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス｛１−（２−フェニル−４−ｉ−プロピル−７−メチルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−エチレン−ビス｛１−（２，４，７−トリメチルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−イソプロピリデン−ビス｛１−（２，４，７−トリメチルインデニル）｝ジルコニウムジクロリドなど。

また上記のような化合物中のジルコニウムをチタニウムまたはハフニウムに代えた化合物を挙げることもできる。
前記一般式（５）で表される遷移金属化合物の他の例としては、例えば下記一般式（５ｃ）で表される化合物も挙げられる。

一般式（５ｃ）において、Ｍ、Ｘはそれぞれ前記式（５）と同様のものを表す。
Ｊ²は、炭素原子、ケイ素原子またはゲルマニウム原子を示し、炭素原子であることが
好ましい。

Ｒ³⁵〜Ｒ⁴¹は、互いに同一でも異なっていてもよく、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、ケイ素含有基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基、リン含有基、水素原子またはハロゲン原子を示す。炭化水素基としては、前記一般式（２）のＲ²〜Ｒ⁵が表す炭化水素基として例示したものと同様の基が挙げられ、ハロゲン化炭化水素基としては、前記の炭化水素基にハロゲンが置換した基が挙げられる。また、ケイ素含有基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基、リン含有基、ハロゲン原子としては、前記一般式（１）中のＸと同様のものが挙げられる。Ｒ³⁵〜Ｒ⁴¹で示される基のうち、互いに隣接する基の一部が結合してそれらの基が結合する炭素原子とともに環を形成していてもよい。これらの基が結合して形成する環としてはベンゼン環、ナフタレン環、アセナフテン環、インデン環などの縮環基、および前記縮環基上の水素原子がメチル、エチル、プロピル、ブチルなどのアルキル基で置換された基が挙げられる。

Ｒ³⁵〜Ｒ⁴¹は、これらのうち、水素原子、炭素原子数が１〜１０のアルキル基または炭素原子数が６〜２４のアリール基であるか、またはＲ³⁵〜Ｒ⁴¹のうち互いに隣接する２つ以上の基がそれらを結合する原子と一緒に４〜２０個の炭素原子を有する芳香族または脂肪族の環を形成していることが好ましい。

Ｒ⁴²〜Ｒ⁴⁵は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子または炭素原子数が１〜４０の基を示す。前記炭素原子数が１〜４０の基としては、例えば、炭素原子数が１〜２０のアルキル基、炭素原子数が１〜１０のアルコキシ基、炭素原子数が６〜２０のアリール基、炭素原子数が２〜１２のアルケニル基、炭素原子数が７〜４０のアリールアルキル基、炭素原子数が７〜４０のアルキルアリール基または炭素原子数が８〜４０のアリールアルケニル基が挙げられ、これらの基は、ハロゲン原子、−ＮＲ₂基、−ＳｉＲ₃基、−ＳＲ基、−ＯＳｉＲ₃基（但し、Ｒは、ハロゲン原子、炭素原子数が１〜１０のアルキル基
または炭素原子数が６〜１０のアリール基である。）などの置換基を有してもよい。

Ｒ⁴²〜Ｒ⁴⁵は、これらのうち、水素原子または炭素原子数が１〜１０の炭化水素基であることが好ましい。
Ｒ⁴⁶は、水素原子または炭素原子数が１〜４０の基であるか、あるいはＲ⁴⁶は、Ｒ³⁵〜Ｒ³⁸の１つ以上の基に結合している。炭素原子数が１〜４０の基としては、前記Ｒ⁴²〜Ｒ⁴⁵で例示した基が挙げられる。これらのうち、水素原子、炭素原子数６〜２４のアリール基または炭素原子数１〜１０のアルキル基であることが好ましい。

以下に、前記一般式（５ｃ）で表される遷移金属化合物について具体的な化合物を例示するが、これらに限定されるものではない。
｛４−（η⁵−シクロペンタジエニル）（η⁵−４，５−テトラヒドロペンタレン）｝ジクロロチタン、｛４−（η⁵−シクロペンタジエニル）（η⁵−４，５−テトラヒドロペンタレン）｝ジクロロジルコニウム、｛４−（η⁵−シクロペンタジエニル）（η⁵−４，５−テトラヒドロペンタレン）｝ジクロロハフニウム、｛４−（η⁵−シクロペンタジエニ
ル）−４−メチル−（η⁵−４，５−テトラヒドロペンタレン）｝ジクロロジルコニウム
、｛４−（η⁵−シクロペンタジエニル）−４−エチル−（η⁵−４，５−テトラヒドロペンタレン）｝ジクロロジルコニウム、｛４−（η⁵−シクロペンタジエニル）−４−フェ
ニル−（η⁵−４，５−テトラヒドロペンタレン）｝ジクロロジルコニウムなど。

＜一般式（６）で表される遷移金属化合物＞

一般式（６）において、Ｘ、ｂはそれぞれ前記式（１）と同様のものを表す。Ｍは元素周期律表３〜１１族（３族にはランタノイドおよびアクチノイドも含まれる）から選ばれる遷移金属原子を表し、好ましくは４〜１１族の遷移金属原子であり、より好ましくは４族の遷移金属原子であり、具体的にはチタン、ジルコニウムまたはハフニウムであり、特に好ましくはジルコニウムである。

Ｃｐは、Ｍにπ結合しているシクロペンタジエニル基またはその誘導体を示す。
Ｔ¹は、酸素原子、イオウ原子、ホウ素原子または周期表第１４族の原子を含む基を示
し、たとえば−ＳｉＲ₂−、−ＣＲ₂−、−Ｓｉ（Ｒ₂）Ｓｉ（Ｒ₂）−、−Ｃ（Ｒ₂）Ｃ（
Ｒ₂）−、−Ｃ（Ｒ₂）Ｃ（Ｒ₂）Ｃ（Ｒ₂）−、−Ｃ（Ｒ）＝Ｃ（Ｒ）−、−Ｃ（Ｒ₂）Ｓ
ｉ（Ｒ₂）−、−ＧｅＲ₂−などである。

Ｚ¹は、窒素原子、リン原子、酸素原子またはイオウ原子を含む基を示し、たとえば−
ＮＲ’−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＰＲ’−などである。
またＴ¹とＺ¹とで縮合環を形成してもよい。

前記Ｒは水素原子または２０個までの非水素原子をもつアルキル基、アリール基、シリル基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アリール基およびこれらの組合せから選ばれた基であり、前記Ｒ’は炭素原子数が１〜１０のアルキル基、炭素原子数が６〜１０のアリール基もしくは炭素原子数が７〜１０のアラルキル基であるか、または１個もしくはそれ以上の前記Ｒと３０個までの非水素原子の縮合環系を形成してもよい。

以下に、前記一般式（６）で表される遷移金属化合物について具体的な化合物を例示するが、これらに限定されるものではない。
（ｔｅｒｔ−ブチルアミド）（テトラメチル−η⁵−シクロペンタジエニル）−１，２
−エタンジイルジルコニウムジクロリド、（ｔｅｒｔ−ブチルアミド）（テトラメチル−η⁵−シクロペンタジエニル）−１，２−エタンジイルチタンジクロリド、（メチルアミ
ド）（テトラメチル−η⁵−シクロペンタジエニル）−１，２−エタンジイルジルコニウ
ムジクロリド、（メチルアミド）（テトラメチル−η⁵−シクロペンタジエニル）−１，
２−エタンジイルチタンジクロリド、（エチルアミド）（テトラメチル−η⁵−シクロペ
ンタジエニル）−メチレンチタンジクロリド、（ｔｅｒｔ−ブチルアミド）ジメチル（テトラメチル−η⁵−シクロペンタジエニル）シランチタンジクロリド、（ｔｅｒｔ−ブチ
ルアミド）ジメチル（テトラメチル−η⁵−シクロペンタジエニル）シランジルコニウム
ジクロリド、（ベンジルアミド）ジメチル−（テトラメチル−η⁵−シクロペンタジエニ
ル）シランチタンジクロリド、（フェニルホスフィド）ジメチル（テトラメチル−η⁵−
シクロペンタジエニル）シランジルコニウムジベンジルなど。

＜一般式（７）で表される遷移金属化合物＞

一般式（７）において、Ｍ²は周期表第８〜１０族の遷移金属原子を示し、好ましくは
ニッケル、パラジウム、白金である。

Ｘ、ｂはそれぞれ前記式（１）と同様のものを表す。
それぞれのＺ²は、互いに同一でも異なっていてもよく、窒素原子またはリン原子を示
す。

それぞれのＲ⁵⁰は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子または炭化水素基を示す。炭化水素基として具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基などの炭素原子数が１〜２０の直鎖もしくは分岐状のアルキル基；フェニル基、ナフチル基などの炭素原子数が６〜２０のアリール基；これらのアリール基に前記炭素原子数が１〜２０のアルキル基などの置換基が１〜５個置換した置換アリール基などが挙げられる。

それぞれのｄは、互いに同一でも異なっていてもよく、１または２であって、それぞれ結合するＺ²の価数を満たす数である。
Ｔ²は、下記式

で表される、２つのＺ²を結ぶ結合基を表す。ただし、それぞれのＲ⁵¹は互いに同一でも
異なっていてもよく、水素原子または前記Ｒ⁵⁰と同様の炭化水素基を示す。これらのＲ⁵⁰およびＲ⁵¹のうちの２個以上、好ましくは隣接する基が互いに連結して環を形成していてもよい。

前記一般式（７）で表される遷移金属化合物としては、下記一般式（７ａ）で表される化合物が好ましい。

（一般式（７ａ）中、Ｍ²、Ｘ、ｂ、Ｚ²、Ｒ⁵⁰、ｄ、およびＲ⁵¹は、前記一般式（７）と同じである。）
このような一般式（７ａ）で表される遷移金属化合物の具体的なものとしては、次の化
合物などが挙げられる。下記式中、ｉＰｒはイソプロピル基を示す。

上記以外にも、前記一般式（７ａ）で表される遷移金属化合物として、上記化合物中のパラジウムまたはニッケルが白金に置き代わった化合物などが挙げられる。

また、前記一般式（７）で表される化合物としては、上記以外に次の化合物などが挙げられる。下記式中、ｉＰｒはイソプロピル基を示す。

上記以外にも、前記一般式（７）で表される遷移金属化合物として、上記化合物中のパラジウムまたはニッケルが白金に置き代わった化合物などが挙げられる。

＜一般式（８）で表される遷移金属化合物＞

一般式（８）において、Ｍ³は周期表第３〜６族の遷移金属原子を示し、チタン、ジル
コニウム、ハフニウムなどの周期表第４族の遷移金属原子であることが好ましい。

Ｘ、ｂはそれぞれ前記式（１）と同様のものを表す。
それぞれのＲ⁵²は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、有機シリル基であるかまたは、窒素、酸素、リン、イオウ、ケイ素から選ばれる少なくとも１種の元素を含む置換基で置換された炭化水素基を示す。

炭化水素基として具体的には、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、デシル、オクタデシルなどの炭素原子数が１〜２０の直鎖または分岐状のアルキル基；フェニル、ナフチルなどの炭素原子数が６〜２０のアリール基；これらのアリール基に前記炭素原子数が１〜２０のアルキル基などの置換基が１〜５個置換した置換アリール基；シクロペンチル、シクロヘキシル、ノルボルニル、アダマンチルなどのシクロアルキル基；ビニル、プロペニル、シクロヘキセニルなどのアルケニル基；ベンジル、フェニルエチル、フェニルプロピルなどのアリールアルキル基などが挙げられる。

ハロゲン化炭化水素基としては、前記炭化水素基にハロゲンが置換した基が挙げられる。
有機シリル基として具体的には、メチルシリル、ジメチルシリル、トリメチルシリル、エチルシリル、ジエチルシリル、トリエチルシリル、トリフェニルシリルなどが挙げられる。

窒素、酸素、リン、イオウおよびケイ素から選ばれる少なくとも１種の元素を含む置換基で置換された炭化水素基としては、前記炭化水素基に−ＣＯＯＣＨ₃、−Ｎ（ＣＨ₃）Ｃ（Ｏ）ＣＨ₃、−ＯＣ（Ｏ）ＣＨ₃、−ＣＮ、−Ｎ（Ｃ₂Ｈ₅）₂、−Ｎ（ＣＨ₃）Ｓ（Ｏ₂）
ＣＨ₃、−Ｐ（Ｃ₆Ｈ₅）₂などが置換した基が挙げられる。

ｍは０〜２の整数であり、ｎは１〜５の整数である。
Ａは、周期表第１３〜１６族の原子を示し、具体的には、ホウ素原子、炭素原子、窒素原子、酸素原子、ケイ素原子、リン原子、硫黄原子、ゲルマニウム原子、セレン原子、スズ原子などが挙げられ、炭素原子またはケイ素原子であることが好ましい。ｎが２以上の場合には、複数のＡは、互いに同一でも異なっていてもよい。

Ｅは、炭素、水素、酸素、ハロゲン、窒素、硫黄、リン、ホウ素およびケイ素から選ばれる少なくとも１種の元素を有する置換基である。ｍが２の場合には、２個のＥは互いに同一でも異なっていてもよく、また２個のＥが互いに連結して環を形成していてもよい。

このような−（Ｅ_mＡ）_n−で示される２個の窒素原子を結合する結合基として具体的には以下のような基などが挙げられる。
−ＣＨ₂−、−Ｃ（Ｍｅ）₂−、−Ｃ（Ｐｈ）₂−、−Ｓｉ（Ｍｅ）₂−、
−Ｓｉ（Ｐｈ）₂−、−Ｓｉ（Ｍｅ）（Ｐｈ）−、−ＣＨ₂ＣＨ₂−、
−ＣＨ₂Ｓｉ（Ｍｅ）₂−、−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−、
−ＣＨ₂Ｃ（Ｍｅ）₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂Ｃ（Ｅｔ）₂ＣＨ₂−、
−ＣＨ₂Ｃ（ｎ−Ｐｒ）₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂Ｃ（ｉ−Ｐｒ）₂ＣＨ₂−、
−ＣＨ₂Ｃ（ｎ−Ｂｕ）₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂Ｃ（ｉ−Ｂｕ）₂ＣＨ₂−、
−ＣＨ₂Ｃ（ｓ−Ｂｕ）₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂Ｃ（ｃ−Ｐｅｎ）₂ＣＨ₂−、
−ＣＨ₂Ｃ（ｃ−Ｈｅｘ）₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂Ｃ（Ｐｈ）₂ＣＨ₂−、
−ＣＨ₂Ｃ（Ｍｅ）（Ｅｔ）ＣＨ₂−、−ＣＨ₂Ｃ（Ｍｅ）（ｉ−Ｐｒ）ＣＨ₂−、
−ＣＨ₂Ｃ（Ｍｅ）（ｉ−Ｂｕ）ＣＨ₂−、−ＣＨ₂Ｃ（Ｍｅ）（ｔ−Ｂｕ）ＣＨ₂−、
−ＣＨ₂Ｃ（Ｍｅ）（ｉ−Ｐｅｎ）ＣＨ₂−、−ＣＨ₂Ｃ（Ｍｅ）（Ｐｈ）ＣＨ₂−、
−ＣＨ₂Ｃ（Ｅｔ）（ｉ−Ｐｒ）ＣＨ₂−、−ＣＨ₂Ｃ（Ｅｔ）（ｉ−Ｂｕ）ＣＨ₂−、
−ＣＨ₂Ｃ（Ｅｔ）（ｉ−Ｐｅｎ）ＣＨ₂−、−ＣＨ₂Ｃ（ｉ−Ｐｒ）（ｉ−Ｂｕ）ＣＨ₂−
、
−ＣＨ₂Ｃ（ｉ−Ｐｒ）（ｉ−Ｐｅｎ）ＣＨ₂−、−ＣＨ₂Ｓｉ（Ｍｅ）₂ＣＨ₂−、
−ＣＨ₂Ｓｉ（Ｅｔ）₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂Ｓｉ（ｎ−Ｂｕ）₂ＣＨ₂−、
−ＣＨ₂Ｓｉ（Ｐｈ）₂ＣＨ₂−、−ＣＨ（Ｍｅ）ＣＨ₂ＣＨ（Ｍｅ）−、
−ＣＨ（Ｐｈ）ＣＨ₂ＣＨ（Ｐｈ）−、−Ｓｉ（Ｍｅ）₂ＯＳｉ（Ｍｅ）₂−、
−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−、−Ｓｉ（Ｍｅ）₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（Ｍｅ）₂−、

なお、上記例示中、Ｍｅはメチル基を示し、Ｅｔはエチル基を示し、ｎ−Ｐｒはｎ−プロピル基を示し、ｉ−Ｐｒはイソプロピル基を示し、ｎ−Ｂｕはｎ−ブチル基を示し、ｉ−Ｂｕはイソブチル基を示し、ｓ−Ｂｕはｓｅｃ−ブチル基を示し、ｔ−Ｂｕはｔｅｒｔ−ブチル基を示し、ｉ−Ｐｅｎはイソペンチル基を示し、ｃ−Ｐｅｎはシクロペンチル基を示し、ｃ−Ｈｅｘはシクロヘキシル基を示し、Ｐｈはフェニル基を示す。

以下に、前記一般式（８）で表される遷移金属化合物の具体的な例を示すが、これらに限定されるものではない。

なお、上記例示中、Ｍｅはメチル基を示し、Ｅｔはエチル基を示し、ｉＰｒはイソプロピル基を示し、ｔＢｕはｔｅｒｔ−ブチル基を示す。

本発明では、上記のような化合物において、チタンをジルコニウム、ハフニウムに置き換えた遷移金属化合物を用いることもできる。
本発明では、前記一般式（８）で表される遷移金属化合物としては、Ｒ⁵²が、アルキル基などの置換基が１〜５個置換した置換アリール基である、下記一般式（８ａ）で表される遷移金属化合物を用いることが望ましい。

一般式（８ａ）において、Ｍ³、Ｘ、ｂ、ｍ、ｎ、ＡおよびＥはそれぞれ前記一般式
（８）と同様のものを表す。

それぞれのＲ⁵³およびＲ⁵⁴は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、有機シリル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、−ＣＯＯＲ、−Ｎ（Ｒ）Ｃ（Ｏ）Ｒ、−ＯＣ（Ｏ）Ｒ、−ＣＮ、−ＮＲ₂または−
Ｎ（Ｒ）ＳＯ₂Ｒ（ただし、Ｒはそれぞれ独立に炭素原子数が１〜５のアルキル基である
）を表す。ただし、５つのＲ⁵³のうち少なくとも１つ、および５つのＲ⁵⁴のうち少なくとも１つは、水素以外の基である。

ハロゲン原子としては、前記一般式（８）におけるＸと同じであり、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基および有機シリル基としては、前記一般式（８）におけるＲ⁵²と同じである。

アルコキシ基として具体的には、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、イソブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシなどが挙げられる。アリーロキシ基として具体的には、フェノキシ、２，６−ジメチルフェノキシ、２，４，６−トリメチルフェノキシなどが挙げられる。

−ＣＯＯＲ、−Ｎ（Ｒ）Ｃ（Ｏ）Ｒ、−ＯＣ（Ｏ）Ｒ、−ＣＮ、−ＮＲ₂または−Ｎ（
Ｒ）ＳＯ₂Ｒ（ただし、Ｒはそれぞれ独立に炭素原子数が１〜５のアルキル基である）で
示される基としては、−ＣＯＯＣＨ₃、−Ｎ（ＣＨ₃）Ｃ（Ｏ）ＣＨ₃、−ＯＣ（Ｏ）ＣＨ₃、−ＣＮ、−Ｎ（Ｃ₂Ｈ₅）₂、−Ｎ（ＣＨ₃）ＳＯ₂ＣＨ₃などが挙げられる。

またＲ⁵³で示される基のうちの２個以上の基、好ましくは隣接する基が互いに連結してそれぞれが結合する炭素原子とともに芳香族環、脂肪族環などの環を形成していてもよく、またＲ⁵⁴で示される基のうちの２個以上の基、好ましくは隣接する基が互いに連結してそれぞれが結合する炭素原子とともに芳香族環、脂肪族環などの環を形成していてもよい。

以下に、前記一般式（８ａ）で表される遷移金属化合物の具体的な例を示すが、これらに限定されるものではない。

なお、上記例示中、Ｍｅはメチル基を示し、Ｅｔはエチル基を示し、ｉＰｒはｉｓｏ−プロピル基を示し、ｎＰｒはｎ−プロピル基を示し、ｎＢｕはｎ−ブチル基、ｓＢｕはｓｅｃ−ブチル基、ｔＢｕはｔｅｒｔ−ブチル基、ｎＯｃｔはｎ−オクチル基を示す。

本発明では、上記のような化合物において、チタンをジルコニウム、ハフニウムに置き換えた遷移金属化合物を用いることもできる。
＜一般式（９）で表される遷移金属化合物＞

一般式（９）において、Ｍ、Ｘ、Ｒ¹、ａ、ｂはそれぞれ前記一般式（２）と同様のも
のを表す。

Ｇ¹は窒素原子またはリン原子を表し、Ｑ¹〜Ｑ⁴は、それぞれ独立に、置換基Ｒを有す
る炭素原子、窒素原子またはリン原子を表す。
置換基Ｒは互いに同一でも異なっていても良く、炭化水素基、ハロゲン原子、水素原子
、炭化水素置換シリル基、酸素含有基、窒素含有基、イオウ含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、リン含有基、ハロゲン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基およびスズ含有基からなる群から選ばれる原子または基を表す。それぞれの置換基Ｒのうち２個以上が互いに連結して環を形成していても良く、ａが２または３のときはそれぞれの配位子上の置換基Ｒ同士は互いに同一でも異なっていても良く、いずれか１つの配位子に含まれる置換基Ｒのうちの１個の基と、他の配位子に含まれる置換基Ｒのうちの１個の基とが連結されていても良い。置換基Ｒが表す具体的な原子または基としては、前記一般式（２）中のＲ²〜Ｒ⁵と同様のものが挙げられる。

以下に、一般式（９）で表される遷移金属化合物の具体的構造として、ａが２であり、それぞれの配位子が同一であるものの例を示すが、これらに限定されるものではない。ａが１であるものや、ａが２または３でそれぞれ異なる配位子を有するものも挙げられる。

また、前記一般式（９）で表される遷移金属化合物としては、一般式（９ａ）で表されるものも挙げられる。

一般式（９ａ）において、Ｍ、Ｘ、Ｒ¹、ａ、ｂ、Ｇ¹、Ｑ¹、Ｑ²、Ｒは、それぞれ前記一般式（９）と同様のものを表す。

＜一般式（１０）で表される遷移金属化合物＞

一般式（１０）において、Ｍ、Ｘ、ｂはそれぞれ前記一般式（２）と同様のものを表す。

Ｇは互いに同一でも異なっていても良く、前記一般式（２）のＧと同様のものを表す。
Ｑは互いに同一でも異なっていても良く、前記一般式（２）のＱと同様のものを表す。
Ｒ³、Ｒ⁴はそれぞれ同一でも異なっていても良く、前記一般式（２）のＲ³、Ｒ⁴と同様のものを表す。

Ｊ³は、酸素、イオウ、炭素、窒素、リン、ケイ素、セレン、スズおよびホウ素からな
る群より選ばれた少なくとも１種の元素を含む２価の結合基を示し、炭化水素基である場合には炭素原子３個以上からなる基である。Ｊ³は、好ましくは主鎖が原子３個以上、よ
り好ましくは４個以上２０個以下、特に好ましくは４個以上１０個以下で構成された構造を有する。なお、これらの結合基は置換基を有していてもよい。

２価の結合基（Ｊ³）として具体的には、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｓｅ−などのカルコゲン
原子；−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ₃）−、−ＰＨ−、−Ｐ（ＣＨ₃）−などの窒素またはリン原子含有基；−ＳｉＨ₂−、−Ｓｉ（ＣＨ₃）₂−などのケイ素原子含有基；−ＳｎＨ₂−、−Ｓｎ（ＣＨ₃）₂−などのスズ原子含有基；−ＢＨ−、−Ｂ（ＣＨ₃）−、−ＢＦ−などの
ホウ素原子含有基などが挙げられる。炭化水素基としては−（ＣＨ₂）₄−、−（ＣＨ₂）₅−、−（ＣＨ₂）₆−などの炭素原子数が３〜２０の飽和炭化水素基、シクロヘキシリデン基、シクロヘキシレン基などの環状飽和炭化水素基、これらの飽和炭化水素基の一部が１
〜１０個の炭化水素基、フッ素、塩素、臭素などのハロゲン、酸素、イオウ、窒素、リン、ケイ素、セレン、スズ、ホウ素などのヘテロ原子で置換された基、ベンゼン、ナフタレン、アントラセンなどの炭素原子数が６〜２０の環状炭化水素の残基、ピリジン、キノリン、チオフェン、フランなどのヘテロ原子を含む炭素原子数が３〜２０の環状化合物の残基などが挙げられる。

前記一般式（１０）で表される遷移金属化合物の例としては、下記一般式（１０ａ）で表される化合物が挙げられる。

一般式（１０ａ）において、Ｍ、Ｘ、ｂ、Ｇ、Ｑ、Ｊ³はそれぞれ前記一般式（１０）
と同様のものを表す。

一般式（１０ａ）において、Ｒ⁷〜Ｒ¹⁰はそれぞれ同一でも異なっていても良く、前記
一般式（２）のＲ²〜Ｒ⁵と同様のものを表し、２つのＲ¹⁰の少なくとも一方、特に両方が、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基であることが好ましく、特にハロゲン原子、炭化水素基、炭化水素置換シリル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、エステル基、アミド基、アミノ基、スルホンアミド基、ニトリル基またはニトロ基であることが好ましい。

以下に、前記一般式（１０）で表される遷移金属化合物の具体的な例を示すが、これらに限定されるものではない。

なお、上記例示中、Ｍｅはメチル基を示し、Ｐｈはフェニル基を示し、ｔＢｕはｔｅｒｔ−ブチル基を示す。 本発明では、上記のような化合物において、チタン金属をジルコニウム、ハフニウムなどのチタン以外の金属に置き換えた遷移金属化合物を用いることもできる。

＜一般式（１１）で表される遷移金属化合物＞

一般式（１１）において、Ｍ、Ｘ、ｂ、Ｇ¹、Ｑ¹〜Ｑ⁴は、それぞれ前記一般式（９）
と同様のものを表す。

Ｊ⁴は、酸素、イオウ、炭素、窒素、リン、ケイ素、セレン、スズおよびホウ素からな
る群より選ばれた少なくとも１種の元素を含む２価の結合基を示す。具体的には、前記一般式（１０）のＪ³と同様のものが挙げられる。

また、前記一般式（１１）で表される遷移金属化合物としては、一般式（１１ａ）で表されるものも挙げられる。

一般式（１１ａ）において、Ｍ、Ｘ、ｂ、Ｇ¹、Ｑ¹、Ｑ²、Ｒは、それぞれ前記一般式
（９）と同様のものを表す。またＪ⁴は、前記一般式（１１）と同様のものを表す。

＜一般式（１２）で表される遷移金属化合物＞

一般式（１２）において、Ｍ⁴は周期表第８〜１１族の遷移金属原子を表し、鉄、ルテ
ニウム、オスミウム、コバルト、ロジウム、イリジウムなどの周期表第８、９族の遷移金属原子であることが好ましく、特に鉄、コバルトが好ましい。

Ｘおよびｂは、それぞれ前記一般式（２）と同様のものを表す。
複数のＲは互いに同一でも異なっていてもよく、前記一般式（２）のＲ²〜Ｒ⁵と同様のものを表す。また、隣接するＲ各々が互いに連結して芳香族環、脂肪族環や窒素原子やイオウ原子、酸素原子などの異原子を含む炭化水素環を形成していてもよく、これらの環はさらに置換基を有してもよい。

Ｚ³は、周期表第１５または１６族の原子を示し、具体的には窒素原子、リン原子、ヒ
素原子、アンチモン原子、酸素原子、イオウ原子、セレン原子、テルル原子などが挙げられ、好ましくは窒素原子、酸素原子またはイオウ原子である。

以下に、前記一般式（１２）で表される遷移金属化合物の具体的な例を示すが、これらに限定されるものではない。

なお、上記例示中、Ｍｅはメチル基を示し、Ｅｔはエチル基を示し、ｎＰｒはｎ−プロピル基を示し、ｉＰｒはｉ−プロピル基を示し、ｓＢｕはｓｅｃ−ブチル基を示し、ｔＢｕはｔｅｒｔ−ブチル基を示し、ｎＯｃはｎ−オクチル基を示し、Ｐｈはフェニル基を示す。

本発明では、上記のような遷移金属化合物において、鉄をコバルトに置き換えた化合物を例示することもできる。上記したような遷移金属化合物は、１種単独でまたは２種以上組み合わせて用いることができる。

＜一般式（１３）で表される遷移金属化合物＞

一般式（１３）において、Ｍ、Ｘ、ａ、ｂはそれぞれ前記一般式（２）と同様のものを表す。Ｇは酸素原子、イオウ原子、セレン原子または置換基Ｒ⁵を有する窒素原子（−Ｎ
（Ｒ⁵）−）を表す。Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵はそれぞれ前記一般式（２）のＲ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵と同様
のものを表す。

Ｑ⁵は、−ＣＲ₂−、−ＳｉＲ₂−、−Ｐ（Ｏ）Ｒ−、−ＰＲ−、−ＳＯ−または−Ｓ−
を表す。これらの中では、−ＣＲ₂−、−ＳｉＲ₂−が好ましく、−ＣＲ₂−が特に好まし
い。Ｑ⁵がヘテロ原子を含む場合は、式（１３）においてＭとＱ⁵とが配位結合していてもよい。なお、配位結合の存在は、ＩＲ、ＮＭＲ、Ｘ線結晶構造解析により確認できる。

Ｚ⁴は、Ｎの結合基として、−Ｒ⁵⁵および−Ｒ⁵⁶、＝ＣＲ₂または＝ＮＲを示す（ここで「−」および「＝」はそれぞれ単結合、二重結合を表す。以下同様。）
Ｒ、Ｒ⁵⁵およびＲ⁵⁶は、互いに同一でも異なっていてもよい水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、イオウ含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示し、これらのうち２個以上が互いに連結して環を形成していてもよい。但し、Ｒ⁵⁵またはＲ⁵⁶は水素原子以外のものであることが好ましい。

また、前記一般式（１３）で表される遷移金属化合物としては、一般式（１３ａ）で表されるものが好ましく用いられる。

一般式（１３ａ）において、Ｍ、Ｘ、ａ、ｂ、Ｇ、Ｑ⁵、Ｚ⁴はそれぞれ前記一般式（１３）と同様のものを表す。

Ｒ⁷〜Ｒ¹⁰としては、前記一般式（２）のＲ²〜Ｒ⁵で例示したものと同様のものが挙げ
られる。
Ｑ⁵、Ｚ⁴およびＧに含まれるＲ、Ｒ⁵⁵、Ｒ⁵⁶およびＲ⁵、並びに上記Ｒ⁷〜Ｒ¹⁰としては、互いに同一であっても異なっていてもよい水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、窒素含有基、アルミニウム含有基、イオウ含有基、ケイ素含有基であることが好ましい。

より具体的には、Ｒ、Ｒ⁵⁵、Ｒ⁵⁶、Ｒ⁵、Ｒ⁷〜Ｒ¹⁰としては、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、炭化水素置換シリル基、炭化水素置換シロキシ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリーロキシ基、アリールチオ基、アシル基、エステル基、チオエステル基、アミド基、イミド基、アミノ基、イミノ基、スルホンエステル基、スルホンアミド基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、スルホ基、メルカプト基、アルミニウム含有基またはヒドロキシ基であることが好ましい。但し、Ｒ⁵⁵またはＲ⁵⁶は水素原子以外のものであることが好ましい。

Ｒ⁷〜Ｒ¹⁰は、水素原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、炭化水素置換シリル基
または炭化水素置換シロキシ基であることが好ましく、水素原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基または炭化水素置換シリル基であることが特に好ましい。

Ｒ、Ｒ⁵⁵、Ｒ⁵⁶、Ｒ⁵は、水素原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、炭化水素置
換シリル基、炭化水素置換シロキシ基、アルミニウム含有基であることが好ましく、水素原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、アルミニウム含有基であることが特に好ましい。

ここで、ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。
炭化水素基として具体的には、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ネオペンチル、ｎ−ヘキシルなどの炭素原子数が１〜３０、好ましくは１〜２０の直鎖状または分岐状のアルキル基；ビニル、アリル（ａｌｌｙｌ）、イソプロペニルなどの炭素原子数が２〜３０、好ましくは２〜２０の直鎖状または分岐状のアルケニル基；エチニル、プロパルギルなど炭素原子数が２〜３０、好ましくは２〜２０の直鎖状または分岐状のアルキニル基；シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、アダマンチルなどの炭素原子数が３〜３０、好ましくは３〜２０の環状飽和炭化水素基；シクロペンタジエニル、インデニル、フルオレニルなどの炭素数５〜３０の環状不飽和炭化水素基；フェニル、ベンジル、ナフチル、ビフェニル、ターフェニル、フェナントリル、アントラセニルなどの炭素原子数が６〜３０、好ましくは６〜２０のアリール（ａｒｙｌ）基；トリル、ｉｓｏ−プロピルフェニル、ｔ−ブチルフェニル、ジメチルフェニル、ジ−ｔ−ブチルフェニルなどのアルキル置換アリール基などが挙げられる。

上記炭化水素基は、水素原子がハロゲンで置換されていてもよく、たとえば、トリフルオロメチル、ペンタフルオロフェニル、クロロフェニルなどの炭素原子数１〜３０、好ましくは１〜２０のハロゲン化炭化水素基が挙げられる。

また、上記炭化水素基は、水素原子が他の炭化水素基で置換されていてもよく、たとえば、ベンジル、クミルなどのアリール基置換アルキル基などが挙げられる。
さらにまた、上記炭化水素基は、ヘテロ環式化合物残基；アルコキシ基、アリーロキシ基、エステル基、エーテル基、アシル基、カルボキシル基、カルボナート基、ヒドロキシ基、ペルオキシ基、カルボン酸無水物基などの酸素含有基；アミノ基、イミノ基、アミド基、イミド基、ヒドラジノ基、ヒドラゾノ基、ニトロ基、ニトロソ基、シアノ基、イソシアノ基、シアン酸エステル基、アミジノ基、ジアゾ基、アミノ基がアンモニウム塩となったものなどの窒素含有基；ボランジイル基、ボラントリイル基、ジボラニル基などのホウ素含有基；メルカプト基、チオエステル基、ジチオエステル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、チオアシル基、チオエーテル基、チオシアン酸エステル基、イソチオシアン酸エステル基、スルホンエステル基、スルホンアミド基、チオカルボキシル基、ジチオカルボキシル基、スルホ基、スルホニル基、スルフィニル基、スルフェニル基などのイオウ含有基；ホスフィド基、ホスホリル基、チオホスホリル基、ホスファト基などのリン含有基
、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を有していてもよい。

これらのうち、特に、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ネオペンチル、ｎ−ヘキシルなどの炭素原子数１〜３０、好ましくは１〜２０の直鎖状または分岐状のアルキル基；フェニル、ナフチル、ビフェニル、ターフェニル、フェナントリル、アントラセニルなどの炭素原子数６〜３０、好ましくは６〜２０のアリール基；これらのアリール基にハロゲン原子、炭素原子数１〜３０、好ましくは１〜２０のアルキル基またはアルコキシ基、炭素原子数６〜３０、好ましくは６〜２０のアリール基またはアリーロキシ基などの置換基が１〜５個置換した置換アリール基等が好ましい。

ヘテロ環式化合物残基としては、ピロール、ピリジン、ピリミジン、キノリン、トリアジンなどの含窒素化合物、フラン、ピランなどの含酸素化合物、チオフェンなどの含硫黄化合物などの残基、およびこれらのヘテロ環式化合物残基に炭素原子数が１〜３０、好ましくは１〜２０のアルキル基、アルコキシ基などの置換基がさらに置換した基などが挙げられる。

Ｒ、Ｒ⁵⁵、Ｒ⁵⁶、Ｒ⁵、Ｒ⁷〜Ｒ¹⁰として示される酸素含有基、窒素含有基、イオウ含有基、リン含有基としては、上記炭化水素基に含まれていてもよい置換基として例示したものと同様のものが挙げられる。

Ｒ¹⁰は水素以外の置換基であることが好ましい。すなわち、Ｒ¹⁰はハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基またはスズ含有基が好ましい。特に、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、炭化水素置換シリル基、炭化水素置換シロキシ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリーロキシ基、アリールチオ基、アシル基、エステル基、チオエステル基、アミド基、アミノ基、イミド基、イミノ基、スルホンエステル基、スルホンアミド基、シアノ基、ニトロ基またはヒドロキシ基であることが好ましい。Ｒ¹⁰として好ましい炭化水素基としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ネオペンチル、ｎ−ヘキシルなどの炭素原子数が１〜３０、好ましくは１〜２０の直鎖状または分岐状のアルキル基；シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、アダマンチルなどの炭素原子数が３〜３０、好ましくは３〜２０の環状飽和炭化水素基；フェニル、ベンジル、ナフチル、ビフェニリル、トリフェニリルなどの炭素原子数が６〜３０、好ましくは６〜２０のアリール基；および、これらの基に炭素原子数が１〜３０、好ましくは１〜２０のアルキル基またはアルコキシ基、炭素原子数が１〜３０、好ましくは１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素原子数が６〜３０、好ましくは６〜２０のアリール基またはアリーロキシ基、ハロゲン、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基などの置換基がさらに置換した基などが好ましく挙げられる。Ｒ⁴として好ましい炭化水素置換シリル基としては、メチルシリル
、ジメチルシリル、トリメチルシリル、エチルシリル、ジエチルシリル、トリエチルシリル、ジフェニルメチルシリル、トリフェニルシリル、ジメチルフェニルシリル、ジメチル−ｔ−ブチルシリル、ジメチル（ペンタフルオロフェニル）シリルなどが挙げられる。特に好ましくは、トリメチルシリル、トリエチルフェニル、ジフェニルメチルシリル、トリフェニルシリル、ジメチルフェニルシリル、ジメチル−ｔ−ブチルシリル、ジメチル（ペンタフルオロフェニル）シリルなどが挙げられる。Ｒ⁴ としては特に、イソプロピル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ネオペンチルなどの炭素原子数が３〜３０、好ましくは３〜２０の分岐状アルキル基、およびこれらの基の水素原子を炭素原子数が６〜３０、好ましくは６〜２０のアリール基で置換した基（クミル基など）、アダマンチル、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどの炭素原子数が３〜３０、好ましくは３〜２０の環状飽和炭化水素基から選ばれる基であることが好
ましく、あるいはフェニル、ナフチル、フルオレニル、アントラニル、フェナントリルなどの炭素原子数６〜３０、好ましくは６〜２０のアリール基、または炭化水素置換シリル基であることも好ましい。

ホウ素含有基としては、上記炭化水素基に含まれていてもよい置換基として例示したものと同様のもののほか、アルキル基置換ホウ素、アリール基置換ホウ素、ハロゲン化ホウ素、アルキル基置換ハロゲン化ホウ素等の基が挙げられる。

アルキル基置換ホウ素としては、（Ｅｔ）₂Ｂ−、（ｉＰｒ）₂Ｂ−、（ｉＢｕ）₂Ｂ−
、（Ｅｔ）₃Ｂ、（ｉＰｒ）₃Ｂ、（ｉＢｕ）₃Ｂ；アリール基置換ホウ素としては、（Ｃ₆Ｈ₅）₂Ｂ−、（Ｃ₆Ｈ₅）₃Ｂ、（Ｃ₆Ｆ₅）₃Ｂ、（３，５−（ＣＦ₃）₂Ｃ₆Ｈ₃）₃Ｂ；ハロ
ゲン化ホウ素としては、ＢＣｌ₂−、ＢＣｌ₃；アルキル基置換ハロゲン化ホウ素としては、（Ｅｔ）ＢＣｌ−、（ｉＢｕ）ＢＣｌ−、（Ｃ₆Ｈ₅）₂ＢＣｌなどが挙げられる。この
うち三置換のホウ素については、配位結合した状態であることがある。ここで、Ｅｔはエチル基、ｉＰｒはイソプロピル基、ｉＢｕはイソブチル基を表す。

アルミニウム含有基としては、アルキル基置換アルミニウム、アリール基置換アルミニウム、ハロゲン化アルミニウム、アルキル基置換ハロゲン化アルミニウム等の基が挙げられる。

アルキル基置換アルミニウムとしては、（Ｅｔ）₂Ａｌ−、（ｉＰｒ）₂Ａｌ−、（ｉＢｕ）₂Ａｌ−、（Ｅｔ）₃Ａｌ、（ｉＰｒ）₃Ａｌ、（ｉＢｕ）₃Ａｌ；アリール基置換アルミニウムとしては、（Ｃ₆Ｈ₅）₂Ａｌ−；ハロゲン化アルミニウムとしては、ＡｌＣｌ₂−、ＡｌＣｌ₃；アルキル基置換ハロゲン化アルミニウムとしては、（Ｅｔ）ＡｌＣｌ−、
（ｉＢｕ）ＡｌＣｌ−などが挙げられる。このうち三置換のアルミニウムについては、配位結合した状態であることがある。ここで、Ｅｔはエチル基、ｉＰｒはイソプロピル基、ｉＢｕはイソブチル基を表す。

ケイ素含有基としては、シリル基、シロキシ基、炭化水素置換シリル基、炭化水素置換シロキシ基などが挙げられる。このうち炭化水素置換シリル基として具体的には、メチルシリル、ジメチルシリル、トリメチルシリル、エチルシリル、ジエチルシリル、トリエチルシリル、ジフェニルメチルシリル、トリフェニルシリル、ジメチルフェニルシリル、ジメチル−ｔ−ブチルシリル、ジメチル（ペンタフルオロフェニル）シリルなどが挙げられる。これらの中では、メチルシリル、ジメチルシリル、トリメチルシリル、エチルシリル、ジエチルシリル、トリエチルシリル、ジメチルフェニルシリル、トリフェニルシリルなどが好ましい。特にトリメチルシリル、トリエチルシリル、トリフェニルシリル、ジメチルフェニルシリルが好ましい。炭化水素置換シロキシ基として具体的には、トリメチルシロキシなどが挙げられる。

ゲルマニウム含有基およびスズ含有基としては、前記ケイ素含有基のケイ素をゲルマニウムおよびスズに置換したものが挙げられる。
次に上記で説明したＲ、Ｒ⁵⁵、Ｒ⁵⁶、Ｒ⁵、Ｒ⁷〜Ｒ¹⁰として示される基の例について、より具体的に説明する。

酸素含有基のうち、アルコキシ基としては、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、イソブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシなどが、アリーロキシ基としては、フェノキシ、２，６−ジメチルフェノキシ、２，４，６−トリメチルフェノキシなどが、アシル基としては、ホルミル基、アセチル基、ベンゾイル基、ｐ−クロロベンゾイル基、ｐ−メトキシベンゾイル基などが、エステル基としては、アセチルオキシ、ベンゾイルオキシ、メトキシカルボニル、フェノキシカルボニル、ｐ−クロロフェノキシ
カルボニルなどが好ましく例示される。

窒素含有基のうち、アミド基としては、アセトアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ−メチルベンズアミドなどが、アミノ基としては、ジメチルアミノ、エチルメチルアミノ、ジフェニルアミノなどが、イミド基としては、アセトイミド、ベンズイミドなどが、イミノ基としては、メチルイミノ、エチルイミノ、プロピルイミノ、ブチルイミノ、フェニルイミノなどが好ましく例示される。

イオウ含有基のうち、アルキルチオ基としては、メチルチオ、エチルチオ等が、アリールチオ基としては、フェニルチオ、メチルフェニルチオ、ナフチルチオ等が、チオエステル基としては、アセチルチオ、ベンゾイルチオ、メチルチオカルボニル、フェニルチオカルボニルなどが、スルホンエステル基としては、スルホン酸メチル、スルホン酸エチル、スルホン酸フェニルなどが、スルホンアミド基としては、フェニルスルホンアミド、Ｎ−メチルスルホンアミド、Ｎ−メチル−ｐ−トルエンスルホンアミドなどが好ましく挙げられる。

Ｒ、Ｒ⁵⁵、Ｒ⁵⁶、Ｒ⁵、Ｒ⁷〜Ｒ¹⁰として示される基は、これらのうちの２個以上の基、好ましくは隣接する基が互いに連結して脂肪環、芳香環または、窒素原子などの異原子を含む炭化水素環を形成していてもよく、これらの環はさらに置換基を有していてもよい。

Ｑ⁵は、−ＣＲ₂−、−ＳｉＲ₂−、−Ｐ（Ｏ）Ｒ−、−ＰＲ−、−ＳＯ−または−Ｓ−
を表す。これらの中では、−ＣＲ₂−、−ＳｉＲ₂−が好ましく、−ＣＲ₂−が特に好まし
い。

−ＣＲ₂−の好ましい例としては、メチレン、ジメチルメチレン、１，２−エチレン、
ジメチル−１，２−エチレン、１，３−トリメチレン、１，４−テトラメチレン、１，２−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキシレンなどのアルキレン基、ジフェニルメチレン、ジフェニル−１，２−エチレンなどのアリールアルキレン基などの炭素数１から２０の２価の炭化水素基が挙げられる。これらの中ではメチレンが特に好ましい。

−ＳｉＲ₂−の好ましい例としては、メチルシリレン、ジメチルシリレン、ジエチルシ
リレン、ジ（ｎ−プロピル）シリレン、ジ（ｉ−プロピル）シリレン、ジ（シクロヘキシル）シリレン、メチルフェニルシリレン、ジフェニルシリレン、ジ（ｐ−トリル）シリレン、ジ（ｐ−クロロフェニル）シリレンなどのアルキルシリレン、アルキルアリールシリレン、アリールシリレン基、テトラメチル−１，２−ジシリレン、テトラフェニル−１，２−ジシリレンなどのアルキルジシリレン、アルキルアリールジシリレン、アリールジシリレン基などの２価のケイ素含有基が挙げられる。

−Ｐ（Ｏ）Ｒ−のＲとしては、酸素含有基であることも好ましく、この場合アルコキシ基、アリーロキシ基、アリールアルコキシ基が好ましく、特にメトキシ基、フェノキシ基などが好ましい。

以下に、前記一般式（１３）で表される遷移金属化合物の具体的な例を示すが、これらに限定されるものではない。

なお、上記例示中、Ｍｅはメチル基を示し、Ｅｔはエチル基を示し、ｉＰｒはｉ−プロピル基を示し、ｔＢｕはｔｅｒｔ−ブチル基を示し、Ｐｈはフェニル基を示す。

＜一般式（１４）で表される遷移金属化合物＞

一般式（１４）において、Ｍ⁵は周期表第４〜６族から選ばれる遷移金属原子を示し、
具体的にはチタン、ジルコニウム、ハフニウムの第４族金属原子、バナジウム、ニオブ、タンタルの第５族金属原子、クロム、モリブデン、タングステンの第６族金属原子である。これらのうちではチタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、クロムなどの遷移金属が好ましく、この中でも第４族金属原子、第５族金属原子が好ましく、また、遷移金属原子Ｍの原子価状態が、２価、３価または４価である周期律表第４族あるいは第５族の遷移金属原子がさらに好ましく、特にチタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウムが好ましい。

Ｘ、Ｙ、ｂ、ｃはそれぞれ前記一般式（１）と同様のものを表す。
Ｇは酸素原子、イオウ原子、セレン原子または置換基Ｒ⁵を有する窒素原子（−Ｎ（Ｒ⁵）−）を表す。Ｒ⁵は前記一般式（２）のＲ⁵と同様のものを表す。

Ｒ⁵⁷は、それぞれ同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、シリル化炭化水素基、酸素含有基および窒素含有基から選ばれる基を示し、具体的には、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素などのハロゲン原子；メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル、シクロヘキシル、オクチル、ノニル、ドデシル、アイコシル、ノルボルニル、アダマンチルなどのアルキル基、ベンジル、フェニルエチル、フェニルプロピルなどのアリールアルキル基、フェニル、トリル、ジメチルフェニル、トリメチルフェニル、エチルフェニル、プロピルフェニル、ビフェニル、ナフチル、メチルナフチル、アントラセニル、フェナントリルなどのアリール基などの炭素数１〜３０の炭化水素基；前記炭素数１〜３０の炭化水素基にハロゲン原子が置換した炭素数１〜３０のハロゲン化炭化水素基；前記炭素数１〜３０の炭化水素基にシリル原子が置換した炭素数１〜３０のシリル化炭化水素基が挙げられる。

また、Ｒ⁵⁷で示される原子または基のうち、互いに隣接する２個の基が結合して、それらの結合する炭素原子と一緒に芳香族環、脂肪族環またはヘテロ環を形成してもよく、シクロペンタジエニル環とともに、インデン環、フルオレン環が形成されていることが好ましい。

Ｒ⁵⁸およびＲ⁵⁹は、それぞれ同一でも異なっていてもよく、Ｒ⁵⁷と同様の原子または基を示し、Ｒ⁵⁸およびＲ⁵⁹で示される原子または基のうち互いに隣接する２個の基が結合して、それらの結合する炭素原子と一緒にベンゼン、ナフタレン、アセナフテン、などの芳香族環または脂肪族環を形成してもよい。

これらのうち、Ｒ⁵⁹は炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０のハロゲン化炭化水素基、炭素数１〜２０のシリル化炭化水素基であることが好ましく、具体的には、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル、シクロヘキシル、オクチル、ノニル、ドデシル、アイコシル、ノルボルニル、アダマンチルなどのアルキル基、ベンジル、フェニルエチル、フェニルプロピル、トリチルなどのアリールアルキル基、フェニル、トリル、ジメチルフェニル、トリメチルフェニル、エチルフェニル、プロピルフェニル、ビフェニル、ナフチル、メチルナフチル、アントラセニル、フェナントリルなどのアリール基など炭素数１〜２０の炭化水素基；前記炭素数１〜２０の炭化水素基にハロゲン原子が置換した炭素数１〜２０のハロゲン化炭化水素基；前記炭素数１〜２０の炭化水素基にシリル原子が置換した炭素数１〜２０のシリル化炭化水素基が挙げられる。

特に、Ｒ⁵⁹が３級炭化水素基、３級シリル化炭化水素基、芳香族置換脂肪族基、芳香族基または脂環族基であることがさらに好ましく、具体的には、ｔ−ブチル、ノルボルニル、アダマンチルなどのアルキル基、ベンジル、フェニルエチル、フェニルプロピル、トリチルなどのアリールアルキル基、フェニル、トリル、ジメチルフェニル、トリメチルフェニル、エチルフェニル、プロピルフェニル、ビフェニル、ナフチル、メチルナフチル、ア
ントラセニル、フェナントリルなどのアリール基など炭素数１〜２０の炭化水素基；前記炭素数１〜２０の炭化水素基にハロゲン原子が置換した炭素数１〜２０のハロゲン化炭化水素基；前記炭素数１〜２０の炭化水素基にシリル原子が置換した炭素数１〜２０のシリル化炭化水素基が挙げられ、さらに好ましくは、ｔｅｒｔ−ブチル、アダマンチル、トリチル、フェニル、トリル、ジメチルフェニル、トリメチルフェニル、エチルフェニル、プロピルフェニル、ビフェニル、ナフチル、メチルナフチル、アントラセニル、フェナントリルなどのアリール基など炭素数１〜２０の炭化水素基；トリメチルシリル、メチルジフェニルシリル、ジメチルフェニルシリル、トリフェニルシリルなどの前記炭素数１〜２０の炭化水素基にシリル原子が置換した炭素数１〜２０のシリル化炭化水素基が挙げられる。

以下に、上記一般式（１４）で表される遷移金属化合物の具体的構造の例を以下に示すが、これらに限定されるものではない。なお、以下の構造例では、メチル基をＭｅ、エチル基をＥｔ、ｔ−ブチル基をｔ−Ｂｕ、ｎ−ブチル基をｎ−Ｂｕ、アダマンチル基をＡｄ、クミル基をＣｕｍ、トリメチルシリル基をＴＭＳ、トリフェニルシリル基をＴＰＳ、トリチル基をＴｒ、フェニル基をＰｈ、ナフチル基をＮａｐ、フェナントリル基をＰｈｅｎ、メシチル基（２，４，６−トリメチルフェニル基）をＭｅｓとそれぞれ略記することがある。

＜一般式（１５）で表される遷移金属化合物＞

一般式（１５）において、Ｍ⁵、Ｘ、Ｙ、ｂ、ｃ、Ｇはそれぞれ前記一般式（１４）と
同様のものを表す。

Ｒ⁵⁷は、それぞれ同一でも異なっていてもよく、前記一般式（１４）と同様のものを表す。また、Ｒ⁵⁷で示される原子または基のうち、互いに隣接する２個の基が結合して、それらの結合する炭素原子と一緒に芳香族環、脂肪族環またはヘテロ環を形成してもよく、シクロペンタジエニル環とともに、インデン環、フルオレン環が形成されていることが好ましく、特にフルオレン環が形成されていることが好ましい。さらに、該フルオレン環上に、ハロゲン原子、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、シリル化炭化水素基、酸素含有基および窒素含有基から選ばれ、互いに同一でも異なっていてもよい置換基が１つ以上存在してもよく、それらのフルオレン環上の置換基のうち、互いに隣接する２個の基が結合して、それらの結合する炭素原子と一緒に芳香族環、脂肪族環またはヘテロ環を形成してもよい。このようなフルオレニル基として、具体的には１，１，４，４−テトラメチル−１，２，３，４−テトラヒドロベンゾ［ｂ］フルオレニル基、１，１，４，４，７，７，
１０，１０−オクタメチル−１，２，３，４，７，８，９，１０−オクタヒドロベンゾ［ｂ，ｈ］フルオレニル基などの基が挙げられる。

Ｒ⁵⁸およびＲ⁵⁹は、それぞれ同一でも異なっていてもよく、前記一般式（１４）と同様のものを表す。Ｒ⁵⁸およびＲ⁵⁹で示される原子または基のうち互いに隣接する２個の基が結合して、それらの結合する炭素原子と一緒にベンゼン、ナフタレン、アセナフテン、などの芳香族環または脂肪族環を形成してもよい。

Ｑ⁶は炭素原子、ケイ素原子、ホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、又はタ
リウムを示し、炭素原子、ケイ素原子、ホウ素原子である場合が好ましく、特に、炭素原子、ケイ素原子が好ましい。

Ｒ⁶⁰は、同一でも異なっていてもよく、Ｒ⁵⁸およびＲ⁵⁹と同様の原子または基を示し、Ｒ⁶⁰で示される原子または基が結合して、Ｑ⁶と一緒に芳香族環、脂肪族環またはヘテロ
環を形成していてもよく、具体的には、シクロプロピリデン、シクロブチリデン、シクロペンチリデン、シクロヘキシリデン、シクロヘプチリデン、またはシクロジメチレンシリレン、シクロトリメチレンシリレン、シクロテトラメチレンシリレン、シクロペンタメチレンシリレン、シクトヘプタメチレンシリレンなどの環状脂肪族環を形成してもよい。

以下に、上記一般式（１５）で表される遷移金属化合物の具体的構造の例を以下に示すが、これらに限定されるものではない。なお、以下の構造例では、メチル基をＭｅ、エチル基をＥｔ、ｔ−ブチル基をｔ−Ｂｕ、ｎ−ブチル基をｎ−Ｂｕ、アダマンチル基をＡｄ、クミル基をＣｕｍ、トリメチルシリル基をＴＭＳ、トリフェニルシリル基をＴＰＳ、トリチル基をＴｒ、フェニル基をＰｈ、ナフチル基をＮａｐ、フェナントリル基をＰｈｅｎ、メシチル基（２，４，６−トリメチルフェニル基）をＭｅｓとそれぞれ略記することがある。

＜一般式（１６）で表される遷移金属化合物＞

一般式（１６）において、Ｍは周期表第３〜１１族から選ばれる遷移金属原子を示し、これらのうちでは第３族〜第６族金属原子が好ましく、これらの中でもイットリウム、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、クロムなどの遷移金属が好ましく、また、遷移金属原子Ｍの原子価状態が、２価、３価または４価である周期律表第４族あるいは第５族の遷移金属原子がさらに好ましく、特にチタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウムが好ましい。遷移金属原子Ｍがチタン、バナジウムの場合は３価であることが特に好ましい。

Ｘ、Ｙ、ａ、ｂ、ｃは、それぞれ前記一般式（１）と同様のものを表す。なおＸが酸素
原子である場合には、ＭとＸとは二重結合で結合する。ｂが２以上の場合は、Ｘで示される複数の原子または基は互いに同一でも異なっていてもよく、またＸで示される複数の基は互いに結合して環を形成してもよい。

上記一般式（１６）において、Ｌ²はＲＱ⁷（Ｐｚ¹）_i（Ｐｚ²）_3-i で表される３座の
アニオン配位子、又は中性配位子である。
Ｒは水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、リン含有基、ハロゲン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、およびスズ含有基よりなる群から選ばれる基を示す。ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、リン含有基、ハロゲン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、およびスズ含有基としては、前記一般式（１）中のＸの説明で例示した基を挙げることができる。

Ｑ⁷はホウ素、炭素、ケイ素、ゲルマニウム、スズ、および鉛よりなる群から選ばれる
４価の基を示し、ホウ素、炭素、ケイ素が特に好ましい。
Ｐｚ¹は、少なくとも３位が無置換アリール（Ａｒｙｌ）基、置換アリール（Ａｒｙｌ
）基、炭素数３以上のアルキル基、シクロアルキル基、アミノ基、又はオキシ炭化水素基等で置換されたピラゾリル基である。無置換アリール（Ａｒｙｌ）基としては、フェニル基、ナフチル基、フルオレニル基などを例示することができ、置換アリール（Ａｒｙｌ）基としては前記無置換アリール（Ａｒｙｌ）基の核水素の一つまたは複数個が炭素数１〜２０のアルキル基、アリール基やアラルキル基で置換されたものが挙げられる。好ましいＰｚ¹は、３位が２，４，６−Ｔｒｉｍｅｔｈｙｌｐｈｅｎｙｌ基、２，４，６−Ｔｒｉ
ｉｓｏｐｒｏｐｙｌｐｈｅｎｙｌ基、２，３，４，５，６−Ｐｅｎｔａｍｅｔｈｙｌｐｈｅｎｙｌ基、４−Ｔｅｒｔ−Ｂｕｔｙｌ−２，６−Ｄｉｍｅｔｈｙｌｐｈｅｎｙｌ基で置換されたものであり、３位が２，４，６−Ｔｒｉｍｅｔｈｙｌｐｈｅｎｙｌ基で置換されたものが特に好ましい。

Ｐｚ²は無置換ピラゾリル基あるいは置換ピラゾリル基を示す。置換ピラゾリル基とし
ては、前記Ｐｚ¹と同一であってもよく、さらには３位以外の任意の位置に前記置換アリ
ール基の置換基として例示した基が置換されたものであってもよい。

ｉは１〜３の整数であり、好ましくは２または３である。
本発明においては、一般式（１６）で表される遷移金属化合物の中では、［ｈｙｄｒｏｂｉｓ（３−ｍｅｓｉｔｙｌｐｙｒａｚｏｌ−１−ｙｌ）（５−ｍｅｓｉｔｙｌｐｙｒａｚｏｌ−１−ｙｌ）］ｂｏｒａｔｅ ｚｉｒｃｏｎｉｕｍ ｔｒｉｃｈｌｏｒｉｄｅ、［ｈｙｄｒｏｂｉｓ（３−ｍｅｓｉｔｙｌｐｙｒａｚｏｌ−１−ｙｌ）（５−ｍｅｓｉｔｙｌｐｙｒａｚｏｌ−１−ｙｌ）］ｂｏｒａｔｅ ｔｉｔａｎｉｕｍ（ＩＩＩ） ｄｉｃｈｌｏｒｉｄｅ、［ｈｙｄｒｏｂｉｓ（３−ｍｅｓｉｔｙｌｐｙｒａｚｏｌ−１−ｙｌ）（５−ｍｅｓｉｔｙｌｐｙｒａｚｏｌ−１−ｙｌ）］ｂｏｒａｔｅ ｈａｆｎｉｕｍ ｔｒｉｃｈｌｏｒｉｄｅ、および［ｈｙｄｒｏｔｒｉｓ（３−ｍｅｓｉｔｙｌｐｙｒａｚｏｌ−１−ｙｌ）］ｂｏｒａｔｅ ｚｉｒｃｏｎｉｕｍ ｔｒｉｃｈｌｏｒｉｄｅが特に好ましく、［ｈｙｄｒｏｔｒｉｓ（３−ｍｅｓｉｔｙｌｐｙｒａｚｏｌ−１−ｙｌ）］ｂｏｒａｔｅ ｚｉｒｃｏｎｉｕｍ ｔｒｉｃｈｌｏｒｉｄｅがとりわけ好ましい。

また、一般式（１６）で表される遷移金属化合物は、これらの中性配位子を介して、ダイマー、トリマーあるいはオリゴマー等の複合体を形成していてもよく、またあるいはこれらの中性配位子を介して、例えばμ−オキソ化合物等の架橋構造を形成していてもよい
以下に、一般式（１６）で表される遷移金属化合物の具体的構造の例を示す。なお、以下の構造例では、メチル基をＭｅ、エチル基をＥｔ、ｔ−ブチル基をｔ−Ｂｕ、ｎ−ブチ
ル基をｎ−Ｂｕ、トリメチルシリル基をＴＭＳ、フェニル基をＰｈ、メシチル基（２，４，６−トリメチルフェニル基）をＭｓとそれぞれ略記することがある。

＜一般式（１７）で表される遷移金属化合物＞

一般式（１７）において、Ｍ⁶は周期律表の第３族〜第９族から選ばれる遷移金属（３
族にはランタノイドも含まれる）を示し、より好ましくは３〜５族および９族から選ばれる遷移金属原子であり、特に好ましくは４族または５族から選ばれる遷移金属原子である。具体的には、スカンジウム、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、コバルト、ロジウム、イットリウム、クロム、モリブデン、タングステン、マンガン、レニウム、鉄、ルテニウムなどであり、好ましくはスカンジウム、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、コバルト、ロジウムなどであり、より好ましくは、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、コバルト、ロジウム、バナジウム、ニオブ、タンタルなどであり、特に好ましくはチタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、タンタルである。

Ｌ³は１価のアニオン性配位座および中性の配位座からなる２座配位子であり、好まし
くは、１価のアニオン性配位座が、アリーロキシ基、ピロリル基、インドリル基、アミド基、シリルアミド基、スルホンアミド基およびアリールチオ基から選ばれる基のヘテロ原
子であり、中性の配位座が、イミン、ケトン、アルデヒド、アミン、エーテル、ホスフィンおよびスルフィドから選ばれる化合物のヘテロ原子である。より好ましくは、下記一般式（ＩＩ）〜（ＸＩ）で示される２座配位子である。

上記式中、Ａは酸素原子、イオウ原子、または置換基Ｒを有する窒素原子を示し、それ
ぞれのＲは互いに同一でも異なっていてもよい水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、イオウ含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示し、これらのうち２個以上が互いに連結して環を形成していてもよい。より具体的には、Ｒが水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、炭化水素置換シリル基、炭化水素置換シロキシ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリーロキシ基、アリールチオ基、アシル基、エステル基、チオエステル基、アミド基、イミド基、アミノ基、イミノ基、スルホンエステル基、スルホンアミド基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、スルホ基、メルカプト基、アルミニウム含有基またはヒドロキシ基であることが好ましい。

ここで、ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。炭化水素基として具体的には、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ネオペンチル、ｎ−ヘキシルなどの炭素原子数が１〜３０、好ましくは１〜２０の直鎖状または分岐状のアルキル基；ビニル、アリル（ａｌｌｙｌ）、イソプロペニルなどの炭素原子数が２〜３０、好ましくは２〜２０の直鎖状または分岐状のアルケニル基；エチニル、プロパルギルなど炭素原子数が２〜３０、好ましくは２〜２０の直鎖状または分岐状のアルキニル基；シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、アダマンチルなどの炭素原子数が３〜３０、好ましくは３〜２０の環状飽和炭化水素基；シクロペンタジエニル、インデニル、フルオレニルなどの炭素数５〜３０の環状不飽和炭化水素基；フェニル、ベンジル、ナフチル、ビフェニル、ターフェニル、フェナントリル、アントラセニルなどの炭素原子数が６〜３０、好ましくは６〜２０のアリール（ａｒｙｌ）基；トリル、ｉｓｏ−プロピルフェニル、ｔ−ブチルフェニル、ジメチルフェニル、ジ−ｔ−ブチルフェニルなどのアルキル置換アリール基などが挙げられる。

上記炭化水素基は、水素原子がハロゲンで置換されていてもよく、たとえば、トリフルオロメチル、ペンタフルオロフェニル、クロロフェニルなどの炭素原子数１〜３０、好ましくは１〜２０のハロゲン化炭化水素基が挙げられる。また、上記炭化水素基は、水素原子が他の炭化水素基で置換されていてもよく、たとえば、ベンジル、クミルなどのアリール基置換アルキル基などが挙げられる。さらにまた、上記炭化水素基は、ヘテロ環式化合物残基；アルコシキ基、アリーロキシ基、エステル基、エーテル基、アシル基、カルボキシル基、カルボナート基、ヒドロキシ基、ペルオキシ基、カルボン酸無水物基などの酸素含有基；アミノ基、イミノ基、アミド基、イミド基、ヒドラジノ基、ヒドラゾノ基、ニトロ基、ニトロソ基、シアノ基、イソシアノ基、シアン酸エステル基、アミジノ基、ジアゾ基、アミノ基がアンモニウム塩となったものなどの窒素含有基；ボランジイル基、ボラントリイル基、ジボラニル基などのホウ素含有基；メルカプト基、チオエステル基、ジチオエステル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、チオアシル基、チオエーテル基、チオシアン酸エステル基、イソチオシアン酸エステル基、スルホンエステル基、スルホンアミド基、チオカルボキシル基、ジチオカルボキシル基、スルホ基、スルホニル基、スルフィニル基、スルフェニル基などのイオウ含有基；ホスフィド基、ホスホリル基、チオホスホリル基、ホスファト基などのリン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を有していてもよい。

これらのうち、特に、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ネオペンチル、ｎ−ヘキシル、アダマンチルなどの炭素原子数１〜３０、好ましくは１〜２０の直鎖状または分岐状のアルキル基；フェニル、ナフチル、ビフェニル、ターフェニル、フェナントリル、アントラセニルなどの炭素原子数６〜３０、好ましくは６〜２０のアリール基；これらのアリール基にハロゲン原子、炭素原子数１〜３０、好ましくは１〜２０のアルキル基またはアルコキシ基、炭素原
子数６〜３０、好ましくは６〜２０のアリール基またはアリーロキシ基などの置換基が１〜５個置換した置換アリール基等が好ましい。

ヘテロ環式化合物残基としては、ピロール、ピリジン、ピリミジン、キノリン、トリアジンなどの含窒素化合物、フラン、ピランなどの含酸素化合物、チオフェンなどの含硫黄化合物などの残基、およびこれらのヘテロ環式化合物残基に炭素原子数が１〜３０、好ましくは１〜２０のアルキル基、アルコキシ基などの置換基がさらに置換した基などが挙げられる。Ｒとして示される酸素含有基、窒素含有基、イオウ含有基、リン含有基としては、上記炭化水素基に含まれていてもよい置換基として例示したものと同様のものが挙げられる。

ホウ素含有基としては、上記炭化水素基に含まれていてもよい置換基として例示したものと同様のもののほか、アルキル基置換ホウ素、アリール基置換ホウ素、ハロゲン化ホウ素、アルキル基置換ハロゲン化ホウ素等の基が挙げられる。アルキル基置換ホウ素としては、（Ｅｔ）₂Ｂ−、（ｉＰｒ）₂Ｂ−、（ｉＢｕ）₂Ｂ−、（Ｅｔ）₃Ｂ、（ｉＰｒ）₃Ｂ
、（ｉＢｕ）₃Ｂ；アリール基置換ホウ素としては、（Ｃ₆Ｈ₅）₂Ｂ−、（Ｃ₆Ｈ₅）₃Ｂ、
（Ｃ₆Ｆ₅）₃Ｂ、（３，５−（ＣＦ₃）₂Ｃ₆Ｈ₃）₃Ｂ；ハロゲン化ホウ素としては、ＢＣｌ₂−、ＢＣｌ₃；アルキル基置換ハロゲン化ホウ素としては、（Ｅｔ）ＢＣｌ−、（ｉＢｕ）ＢＣｌ−、（Ｃ₆Ｈ₅）₂ＢＣｌなどが挙げられる。このうち三置換のホウ素については
、配位結合した状態であることがある。ここで、Ｅｔはエチル基、ｉＰｒはイソプロピル基、ｉＢｕはイソブチル基を表す。

アルミニウム含有基としては、アルキル基置換アルミニウム、アリール基置換アルミニウム、ハロゲン化アルミニウム、アルキル基置換ハロゲン化アルミニウム等の基が挙げられる。アルキル基置換アルミニウムとしては、（Ｅｔ）₂Ａｌ−、（ｉＰｒ）₂Ａｌ−、（ｉＢｕ）₂Ａｌ−、（Ｅｔ）₃Ａｌ、（ｉＰｒ）₃Ａｌ、（ｉＢｕ）₃Ａｌ；アリール基置換アルミニウムとしては、（Ｃ₆Ｈ₅）₂Ａｌ−；ハロゲン化アルミニウムとしては、ＡｌＣ
ｌ₂−、ＡｌＣｌ₃；アルキル基置換ハロゲン化アルミニウムとしては、（Ｅｔ）ＡｌＣｌ−、（ｉＢｕ）ＡｌＣｌ−などが挙げられる。このうち三置換のアルミニウムについては、配位結合した状態であることがある。ここで、Ｅｔはエチル基、ｉＰｒはイソプロピル基、ｉＢｕはイソブチル基を表す。

ケイ素含有基としては、シリル基、シロキシ基、炭化水素置換シリル基、炭化水素置換シロキシ基などが挙げられる。このうち炭化水素置換シリル基として具体的には、メチルシリル、ジメチルシリル、トリメチルシリル、エチルシリル、ジエチルシリル、トリエチルシリル、ジフェニルメチルシリル、トリフェニルシリル、ジメチルフェニルシリル、ジメチル−ｔ−ブチルシリル、ジメチル（ペンタフルオロフェニル）シリルなどが挙げられる。これらの中では、メチルシリル、ジメチルシリル、トリメチルシリル、エチルシリル、ジエチルシリル、トリエチルシリル、ジメチルフェニルシリル、トリフェニルシリルなどが好ましい。特にトリメチルシリル、トリエチルシリル、トリフェニルシリル、ジメチルフェニルシリルが好ましい。炭化水素置換シロキシ基として具体的には、トリメチルシロキシなどが挙げられる。

ゲルマニウム含有基およびスズ含有基としては、前記ケイ素含有基のケイ素をゲルマニウムおよびスズに置換したものが挙げられる。
次に上記で説明したＲの例について、より具体的に説明する。酸素含有基のうち、アルコキシ基としては、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、イソブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシなどが、アリーロキシ基としては、フェノキシ、２，６−ジメチルフェノキシ、２，４，６−トリメチルフェノキシなどが、アシル基としては、ホルミル基、アセチル基、ベンゾイル基、ｐ−クロロベンゾイル基、ｐ−メトキシ
ベンゾイル基などが、エステル基としては、アセチルオキシ、ベンゾイルオキシ、メトキシカルボニル、フェノキシカルボニル、ｐ−クロロフェノキシカルボニルなどが好ましく例示される。

窒素含有基のうち、アミド基としては、アセトアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ−メチルベンズアミドなどが、アミノ基としては、ジメチルアミノ、エチルメチルアミノ、ジフェニルアミノなどが、イミド基としては、アセトイミド、ベンズイミドなどが、イミノ基としては、メチルイミノ、エチルイミノ、プロピルイミノ、ブチルイミノ、フェニルイミノなどが好ましく例示される。

イオウ含有基のうち、アルキルチオ基としては、メチルチオ、エチルチオ等が、アリールチオ基としては、フェニルチオ、メチルフェニルチオ、ナフチルチオ等が、チオエステル基としては、アセチルチオ、ベンゾイルチオ、メチルチオカルボニル、フェニルチオカルボニルなどが、スルホンエステル基としては、スルホン酸メチル、スルホン酸エチル、スルホン酸フェニルなどが、スルホンアミド基としては、フェニルスルホンアミド、Ｎ−メチルスルホンアミド、Ｎ−メチル−ｐ−トルエンスルホンアミドなどが好ましく挙げられる。

Ｒは、これらのうちの２個以上の基、好ましくは隣接する基が互いに連結して脂肪環、芳香環または、窒素原子などの異原子を含む炭化水素環を形成していてもよく、これらの環はさらに置換基を有していてもよい。

Ｌ⁴はアニオン性または中性の配位座からなる単座配位子、或いはアニオン性および／
または中性の配位座からなる多座配位子であり、Ｌ⁴が１価のアニオン性配位座および中
性の配位座からなる２座配位子であるときには、Ｌ³と同様のものが使用できるが、この
時、配位子Ｌ³と配位子Ｌ⁴は基本骨格が同一ではない。本発明でいう配位子Ｌ³と配位子
Ｌ⁴の基本骨格とは、２座配位子を構成する２つの配位座を結ぶ最短の化学結合の構造（
これを主鎖と呼ぶ）であり、また主鎖の任意の１つ以上の結合が環状構造の一部であるときは主鎖とその結合を含む環状構造のことである。従って、一般式（ＩＩ）で表わされる配位子を例にとると、Ｎ＝Ｃ−Ｃ−Ｎ−が主鎖であり、ピロール環と主鎖が基本骨格に含まれるが、単にＲのいずれか一つ以上が異なる場合は基本骨格が異なるとはいわない。

Ｌ⁴の１価のアニオン性配位座としては、アリーロキシ基、ピロリル基、インドリル基
、アミド基、シリルアミド基、スルホンアミド基およびアリールチオ基から選ばれる基のヘテロ原子が好ましい。Ｌ⁴の中性の配位座としては、イミン、ケトン、アルデヒド、ア
ミン、エーテル、ホスフィンおよびスルフィドから選ばれる化合物のヘテロ原子であることが好ましい。また、Ｌ³とＬ⁴は互いに連結していてもよい。この結合基としては、酸素、イオウ、炭素、窒素、リン、ケイ素、セレン、スズ、ホウ素などの中から選ばれる少なくとも１種の元素を含む基が挙げられ、具体的には−ＣＨ₂−Ｏ−ＣＨ₂−、−ＣＨ₂−Ｓ
−ＣＨ₂−、−ＣＨ₂−Ｓｅ−ＣＨ₂−などのカルコゲン原子含有基；−ＣＨ₂−ＮＨ−ＣＨ₂−、−ＣＨ₂−Ｎ（ＣＨ₃）−ＣＨ₂−、−ＣＨ₂−ＰＨ−ＣＨ₂−、−ＣＨ₂−Ｐ（ＣＨ₃）−ＣＨ₂−などの窒素またはリン原子含有基；−ＣＨ₂−、−ＣＨ₂−ＣＨ₂−、−Ｃ（ＣＨ₃）₂−、−ＣＨ₂−Ｃ（ＣＨ₃）₂−、−ＣＨ₂−ＣＨ₂−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−などの炭素原子数が１〜２０の飽和または不飽和鎖状炭化水素基；ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、シクロヘキサンなどの炭素原子数が６〜２０の飽和または不飽和環状不飽和炭化水素残基；ピリジン、キノリン、チオフェン、フラン、ピロールなどのヘテロ原子を含む炭素原子数が３〜２０のヘテロ環式化合物残基；−ＳｉＨ₂−、−Ｓｉ（ＣＨ₃）₂−、−
Ｓｉ（ＣＨ₃）₂−Ｓｉ（ＣＨ₃）₂−などのケイ素原子含有基、−ＳｎＨ₂−、−Ｓｎ（Ｃ
Ｈ₃）₂−などのスズ原子含有基；−ＢＨ−、−Ｂ（ＣＨ₃）−、−ＢＦ−などのホウ素原
子含有基などが挙げられる。これらのうち、飽和または不飽和鎖状炭化水素基、飽和また
は不飽和環状不飽和炭化水素残基が特に好ましい。ただし、Ｌ³とＬ⁴が互いに連結しているときはＬ³とＬ⁴からなる配位子は非対称である。

Ｘ、Ｙ、ｂ、ｃは、それぞれ前記一般式（１）と同様のものを表す。Ｘとしては、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有基、窒素含有基が好ましく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基がより好ましい。なお、ｂが２以上の場合は、Ｘで示される複数の基は互いに同一でも異なっていてもよく、またＸで示される複数の基は互いに結合して環を形成してもよい。

以下に、一般式（１６）で表される遷移金属化合物の具体的な例を示すが、これらに限定されるものではない。上記例示中、Ｍｅはメチル基を示し、Ｍｅｓはメシチル基を示す。本発明では、上記のような化合物において、ジルコニウム金属をチタン、ハフニウムなどのジルコニウム以外の金属に置き換えた遷移金属化合物を用いることもできる。なお、破線は必ずしも結合が存在することを意味しない。

化合物（Ｂ）
本発明では、前記一般式（１）で表される遷移金属化合物（Ａ）を単独でオレフィン重合触媒として用いてもよいし、
（Ａ）前記（１）で表される遷移金属化合物と、
（Ｂ）（Ｂ−１）有機アルミニウムオキシ化合物、及び
（Ｂ−２）遷移金属化合物（Ａ）と反応してイオン対を形成する化合物
から選ばれる少なくとも一種の化合物とをオレフィン重合触媒として用いてもよい。
以下、（Ｂ−１）および（Ｂ−２）の各成分について説明する。

（Ｂ−１）有機アルミニウムオキシ化合物
本発明で必要に応じて用いられる（Ｂ−１）有機アルミニウムオキシ化合物は、従来公
知のアルミノキサンであってもよく、また特開平２−７８６８７号公報に例示されているようなベンゼン不溶性の有機アルミニウムオキシ化合物であってもよい。

従来公知のアルミノキサンは、例えば下記のような方法によって製造することができ、通常、炭化水素溶媒の溶液として得られる。
（１）吸着水を含有する化合物または結晶水を含有する塩類、例えば塩化マグネシウム水和物、硫酸銅水和物、硫酸アルミニウム水和物、硫酸ニッケル水和物、塩化第１セリウム水和物などの炭化水素媒体懸濁液に、トリアルキルアルミニウムなどの有機アルミニウム化合物を添加して、吸着水または結晶水と有機アルミニウム化合物とを反応させる方法。（２）ベンゼン、トルエン、エチルエーテル、テトラヒドロフランなどの媒体中で、トリアルキルアルミニウムなどの有機アルミニウム化合物に直接水、氷または水蒸気を作用させる方法。
（３）デカン、ベンゼン、トルエンなどの媒体中でトリアルキルアルミニウムなどの有機アルミニウム化合物に、ジメチルスズオキシド、ジブチルスズオキシドなどの有機スズ酸化物を反応させる方法。

なお該アルミノキサンは、少量の有機金属成分を含有してもよい。また回収された前記のアルミノキサンの溶液から溶媒または未反応有機アルミニウム化合物を蒸留して除去した後、溶媒に再溶解またはアルミノキサンの貧溶媒に懸濁させてもよい。

アルミノキサンを調製する際に用いられる有機アルミニウム化合物として具体的には、前記（１ａ）に属する有機アルミニウム化合物として例示したものと同様の有機アルミニウム化合物が挙げられる。

これらのうち、トリアルキルアルミニウム、トリシクロアルキルアルミニウムが好ましく、トリメチルアルミニウムが特に好ましい。
前記のような有機アルミニウム化合物は、１種単独でまたは２種以上組み合せて用いられる。

アルミノキサンの調製に用いられる溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クメン、シメンなどの芳香族炭化水素；ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、ドデカン、ヘキサデカン、オクタデカンなどの脂肪族炭化水素；シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロオクタン、メチルシクロペンタンなどの脂環族炭化水素；ガソリン、灯油、軽油などの石油留分または前記芳香族炭化水素、脂肪族炭化水素、脂環族炭化水素のハロゲン化物とりわけ、塩素化物、臭素化物などの炭化水素溶媒が挙げられる。さらにエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類を用いることもできる。これらの溶媒のうち特に芳香族炭化水素または脂肪族炭化水素が好ましい。

また前記ベンゼン不溶性の有機アルミニウムオキシ化合物は、６０℃のベンゼンに溶解するＡｌ成分がＡｌ原子換算で通常１０％以下、好ましくは５％以下、特に好ましくは２％以下であるもの、すなわち、ベンゼンに対して不溶性または難溶性であるものが好ましい。

有機アルミニウムオキシ化合物としては、下記一般式（１８）で表されるボロンを含んだ有機アルミニウムオキシ化合物を挙げることもできる。

式中、Ｒは炭素原子数が１〜１０の炭化水素基を示す。Ｒ’は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数が１〜１０の炭化水素基を示す。

前記一般式（１８）で表されるボロンを含んだ有機アルミニウムオキシ化合物は、下記一般式（１９）で表されるアルキルボロン酸と

（式中、Ｒは前記と同じ基を示す。）
有機アルミニウム化合物とを、不活性ガス雰囲気下に不活性溶媒中で、−８０℃〜室温の温度で１分〜２４時間反応させることにより製造できる。

前記一般式（１９）で表されるアルキルボロン酸の具体的なものとしては、メチルボロン酸、エチルボロン酸、イソプロピルボロン酸、ｎ−プロピルボロン酸、ｎ−ブチルボロン酸、イソブチルボロン酸、ｎ−ヘキシルボロン酸、シクロヘキシルボロン酸、フェニルボロン酸、３，５−ジフルオロボロン酸、ペンタフルオロフェニルボロン酸、３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニルボロン酸などが挙げられる。これらの中では、メチルボロン酸、ｎ−ブチルボロン酸、イソブチルボロン酸、３，５−ジフルオロフェニルボロン酸、ペンタフルオロフェニルボロン酸が好ましい。これらは１種単独でまたは２種以上組み合わせて用いられる。

このようなアルキルボロン酸と反応させる有機アルミニウム化合物として具体的には、前記（１ａ）に属する有機アルミニウム化合物として例示したものと同様の有機アルミニウム化合物が挙げられる。

これらのうち、トリアルキルアルミニウム、トリシクロアルキルアルミニウムが好ましく、特にトリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウムが好ましい。これらは１種単独でまたは２種以上組み合わせて用いられる。

前記のような（Ｂ−１）有機アルミニウムオキシ化合物は、１種単独でまたは２種以上組み合せて用いられる。
（Ｂ−２）遷移金属化合物（Ａ）と反応してイオン対を形成する化合物
本発明で必要に応じて用いられる遷移金属化合物（Ａ）と反応してイオン対を形成する化合物（Ｂ−２）（以下、「イオン化イオン性化合物」と呼ぶ場合がある。）としては、特開平１−５０１９５０号公報、特開平１−５０２０３６号公報、特開平３−１７９００５号公報、特開平３−１７９００６号公報、特開平３−２０７７０３号公報、特開平３−２０７７０４号公報、ＵＳＰ−５３２１１０６号などに記載されたルイス酸、イオン性化合物、ボラン化合物およびカルボラン化合物などが挙げられる。さらに、ヘテロポリ化合物およびイソポリ化合物も挙げることができる。

具体的には、ルイス酸としては、ＢＲ₃ （Ｒは、フッ素、メチル基、トリフルオロメチル基などの置換基を有していてもよいフェニル基またはフッ素である。）で示される化合物が挙げられ、例えばトリフルオロボロン、トリフェニルボロン、トリス（４−フルオロ
フェニル）ボロン、トリス（３，５−ジフルオロフェニル）ボロン、トリス（４−フルオロメチルフェニル）ボロン、トリス（ペンタフルオロフェニル）ボロン、トリス（ｐ−トリル）ボロン、トリス（ｏ−トリル）ボロン、トリス（３，５−ジメチルフェニル）ボロンなどが挙げられる。

イオン化イオン性化合物としては、例えば下記一般式（２０）で表される化合物が挙げられる。

式中、Ｒ''⁺としては、Ｈ⁺ 、カルボニウムカチオン、オキソニウムカチオン、アンモ
ニウムカチオン、ホスホニウムカチオン、シクロヘプチルトリエニルカチオン、遷移金属を有するフェロセニウムカチオンなどが挙げられる。Ｒ'''は、互いに同一でも異なって
いてもよく、有機基、好ましくはアリール基または置換アリール基である。

前記カルボニウムカチオンとして具体的には、トリフェニルカルボニウムカチオン、トリ（メチルフェニル）カルボニウムカチオン、トリ（ジメチルフェニル）カルボニウムカチオンなどの三置換カルボニウムカチオンなどが挙げられる。

前記アンモニウムカチオンとして具体的には、トリメチルアンモニウムカチオン、トリエチルアンモニウムカチオン、トリプロピルアンモニウムカチオン、トリブチルアンモニウムカチオン、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムカチオンなどのトリアルキルアンモニウムカチオン；Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−２，４，６−ペンタメチルアニリニウムカチオンなどのＮ，Ｎ−ジアルキルアニリニウムカチオン；ジ（イソプロピル）アンモニウムカチオン、ジシクロヘキシルアンモニウムカチオンなどのジアルキルアンモニウムカチオンなどが挙げられる。

前記ホスホニウムカチオンとして具体的には、トリフェニルホスホニウムカチオン、トリ（メチルフェニル）ホスホニウムカチオン、トリ（ジメチルフェニル）ホスホニウムカチオンなどのトリアリールホスホニウムカチオンなどが挙げられる。

Ｒ''⁺ としては、カルボニウムカチオン、アンモニウムカチオンなどが好ましく、特にトリフェニルカルボニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリニウムカチオンが好ましい。

またイオン化イオン性化合物として、トリアルキル置換アンモニウム塩、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアニリニウム塩、ジアルキルアンモニウム塩、トリアリールホスフォニウム塩などを挙げることもできる。

トリアルキル置換アンモニウム塩として具体的には、例えばトリエチルアンモニウムテトラ（フェニル）ホウ素、トリプロピルアンモニウムテトラ（フェニル）ホウ素、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムテトラ（フェニル）ホウ素、トリメチルアンモニウムテトラ（ｐ−トリル）ホウ素、トリメチルアンモニウムテトラ（ｏ−トリル）ホウ素、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムテトラ（ペンタフルオロフェニル）ホウ素、トリプロピルアンモニウムテトラ（ｏ，ｐ−ジメチルフェニル）ホウ素、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムテト
ラ（ｍ，ｍ’−ジメチルフェニル）ホウ素、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムテトラ（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）ホウ素、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムテトラ（３，５−ジトリフルオロメチルフェニル）ホウ素、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムテトラ（ｏ−トリル）ホウ素などが挙げられる。

Ｎ，Ｎ−ジアルキルアニリニウム塩として具体的には、例えばＮ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラ（フェニル）ホウ素、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリニウムテトラ（フェニル）ホウ素、Ｎ，Ｎ，２，４，６−ペンタメチルアニリニウムテトラ（フェニル）ホウ素などが挙げられる。

ジアルキルアンモニウム塩として具体的には、例えばジ（１−プロピル）アンモニウムテトラ（ペンタフルオロフェニル）ホウ素、ジシクロヘキシルアンモニウムテトラ（フェニル）ホウ素などが挙げられる。

さらにイオン化イオン性化合物として、トリフェニルカルベニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、フェロセニウムテトラ（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルカルベニウムペンタフェニルシクロペンタジエニル錯体、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリニウムペンタフェニルシクロペンタジエニル錯体、下記式（２１）または（２２）で表されるホウ素化合物などを挙げることもできる。

ボラン化合物として具体的には、例えば、
デカボラン（１４）；ビス〔トリ（ｎ−ブチル）アンモニウム〕ノナボレート、ビス〔トリ（ｎ−ブチル）アンモニウム〕デカボレート、ビス〔トリ（ｎ−ブチル）アンモニウム〕ウンデカボレート、ビス〔トリ（ｎ−ブチル）アンモニウム〕ドデカボレート、ビス〔トリ（ｎ−ブチル）アンモニウム〕デカクロロデカボレート、ビス〔トリ（ｎ−ブチル）アンモニウム〕ドデカクロロドデカボレートなどのアニオンの塩；トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムビス（ドデカハイドライドドデカボレート）コバルト酸塩（ＩＩＩ）、ビス〔トリ（ｎ−ブチル）アンモニウム〕ビス（ドデカハイドライドドデカボレート）ニッケル酸塩（ＩＩＩ）などの金属ボランアニオンの塩などが挙げられる。

カルボラン化合物として具体的には、例えば、
４−カルバノナボラン（１４）、１，３−ジカルバノナボラン（１３）、６，９−ジカルバデカボラン（１４）、ドデカハイドライド−１−フェニル−１，３−ジカルバノナボラン、ドデカハイドライド−１−メチル−１，３−ジカルバノナボラン、ウンデカハイドライド−１，３−ジメチル−１，３−ジカルバノナボラン、７，８−ジカルバウンデカボラン（１３）、２，７−ジカルバウンデカボラン（１３）、ウンデカハイドライド−７，
８−ジメチル−７，８−ジカルバウンデカボラン、ドデカハイドライド−１１−メチル−２，７−ジカルバウンデカボラン、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウム１−カルバデカボレート、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウム１−カルバウンデカボレート、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウム１−カルバドデカボレート、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウム１−トリメチルシリル−１−カルバデカボレート、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムブロモ−１−カルバドデカボレート、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウム６−カルバデカボレート（１４）、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウム６−カルバデカボレート（１２）、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウム７−カルバウンデカボレート（１３）、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウム７，８−ジカルバウンデカボレート（１２）、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウム２，９−ジカルバウンデカボレート（１２）、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムドデカハイドライド−８−メチル−７，９−ジカルバウンデカボレート、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムウンデカハイドライド−８−エチル−７，９−ジカルバウンデカボレート、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムウンデカハイドライド−８−ブチル−７，９−ジカルバウンデカボレート、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムウンデカハイドライド−８−アリル−７，９−ジカルバウンデカボレート、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムウンデカハイドライド−９−トリメチルシリル−７，８−ジカルバウンデカボレート、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムウンデカハイドライド−４，６−ジブロモ−７−カルバウンデカボレートなどのアニオンの塩；トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムビス（ノナハイドライド−１，３−ジカルバノナボレート）コバルト酸塩（ＩＩＩ）、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムビス（ウンデカハイドライド−７，８−ジカルバウンデカボレート）鉄酸塩（ＩＩＩ）、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムビス（ウンデカハイドライド−７，８−ジカルバウンデカボレート）コバルト酸塩（ＩＩＩ）、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムビス（ウンデカハイドライド−７，８−ジカルバウンデカボレート）ニッケル酸塩（ＩＩＩ）、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムビス（ウンデカハイドライド−７，８−ジカルバウンデカボレート）銅酸塩（ＩＩＩ）、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムビス（ウンデカハイドライド−７，８−ジカルバウンデカボレート）金酸塩（ＩＩＩ）、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムビス（ノナハイドライド−７，８−ジメチル−７，８−ジカルバウンデカボレート）鉄酸塩（ＩＩＩ）、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムビス（ノナハイドライド−７，８−ジメチル−７，８−ジカルバウンデカボレート）クロム酸塩（ＩＩＩ）、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムビス（トリブロモオクタハイドライド−７，８−ジカルバウンデカボレート）コバルト酸塩（ＩＩＩ）、トリス〔トリ（ｎ−ブチル）アンモニウム〕ビス（ウンデカハイドライド−７−カルバウンデカボレート）クロム酸塩（ＩＩＩ）、ビス〔トリ（ｎ−ブチル）アンモニウム〕ビス（ウンデカハイドライド−７−カルバウンデカボレート）マンガン酸塩（ＩＶ）、ビス〔トリ（ｎ−ブチル）アンモニウム〕ビス（ウンデカハイドライド−７−カルバウンデカボレート）コバルト酸塩（ＩＩＩ）、ビス〔トリ（ｎ−ブチル）アンモニウム〕ビス（ウンデカハイドライド−７−カルバウンデカボレート）ニッケル酸塩（ＩＶ）などの金属カルボランアニオンの塩などが挙げられる。

ヘテロポリ化合物は、ケイ素、リン、チタン、ゲルマニウム、ヒ素およびスズから選ばれる原子と、バナジウム、ニオブ、モリブデンおよびタングステンから選ばれる１種または２種以上の原子からなっている。具体的には、リンバナジン酸、ゲルマノバナジン酸、ヒ素バナジン酸、リンニオブ酸、ゲルマノニオブ酸、シリコノモリブデン酸、リンモリブデン酸、チタンモリブデン酸、ゲルマノモリブデン酸、ヒ素モリブデン酸、スズモリブデン酸、リンタングステン酸、ゲルマノタングステン酸、スズタングステン酸、リンモリブドバナジン酸、リンタングストバナジンン酸、ゲルマノタングストバナジンン酸、リンモリブドタングストバナジン酸、ゲルマノモリブドタングストバナジン酸、リンモリブドタングステン酸、リンモリブドニオブ酸、およびこれらの酸の塩、例えば周期表第１族または２族の金属、具体的には、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム等との塩、トリフェニルエチル塩等との有機塩が使用できるが、この限りではない。

前記のような（Ｂ−２）イオン化イオン性化合物は、１種単独でまたは２種以上組み合せて用いられる。
上述した遷移金属化合物（Ａ）をオレフィン重合触媒とする場合、助触媒成分としてのメチルアルミノキサンなどの有機アルミニウムオキシ化合物（Ｂ−１）とを併用すると、オレフィンに対して非常に高い重合活性を示す。

遷移金属化合物（Ａ）と、成分（Ｂ）とを併用した場合、遷移金属化合物（Ａ）は、重合系内において下記一般式（１−ａ）で表される化合物を形成する。

式中、Ｌ、Ｍ、Ｘ、ａ、ｂは、それぞれ前記一般式（１）と同様のものを表し、Ｙはいわゆる弱配位性のアニオンを表す。

前記一般式（１−ａ）において金属ＭとＹの結合は共有結合していてもよいし、イオン結合していてもよい。
Ｙの例としては、
Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｒｅｖｉｅｗ誌８８巻１４０５ページ（１９８８年）、
Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｒｅｖｉｅｗ誌９３巻９２７ページ（１９９３年）、
ＷＯ ９８／３０６１２ ６ページ
に記載の弱配位性アニオンが挙げられ、具体的には
ＡｌＲ₄ ^-
（Ｒは、互いに同一でも異なっていてもよく、酸素原子、窒素原子、リン原子、水素原子、ハロゲン原子もしくはこれらを含有する置換基、または脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基もしくは脂環族炭化水素基、または脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基もしくは脂環族炭化水素基に、酸素原子、窒素原子、リン原子もしくはハロゲン原子が置換した基、または脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基もしくは脂環族炭化水素基に、酸素原子、窒素原子、リン原子もしくはハロゲン原子を有する置換基が置換した基を示す。）
ＢＲ₄ ^-
（Ｒは、互いに同一でも異なっていてもよく、酸素原子、窒素原子、リン原子、水素原子、ハロゲン原子もしくはこれらを含有する置換基、または脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基もしくは脂環族炭化水素基、または脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基もしくは脂環族炭化水素基に、酸素原子、窒素原子、リン原子もしくはハロゲン原子が置換した基、または脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基もしくは脂環族炭化水素基に、酸素原子、窒素原子、リン原子もしくはハロゲン原子を有する置換基が置換した基を示す。）
またはＰＦ₆ ^-、ＳｂＦ₅ ^-、トリフルオロメタンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート等が挙げられる。

（Ｃ）可逆的連鎖移動剤
本発明は、前記の一般式（１）で表される第一の遷移金属化合物（Ａ１）を含む第一のオレフィン重合触媒（ＰＣ１）および可逆的連鎖移動剤（Ｃ）の存在下に、炭素原子数２〜２０のオレフィンから選ばれる少なくとも１種のオレフィン（Ｍ１）を重合するステップ（Ｉ）、および、前記の一般式（１）で表される第二の遷移金属化合物（Ａ２）を含み、同等の重合条件下で触媒（ＰＣ１）によって調製される重合体とは化学的性質又は物理的性質が異なる重合体を調製可能な第二のオレフィン重合触媒（ＰＣ２）および可逆的連鎖移動剤（Ｃ）の存在下に、炭素原子数２〜２０のオレフィンから選ばれる少なくとも１
種のオレフィン（Ｍ２）を重合するステップ（ＩＩ）を含む複数のステップで重合することを特徴としている。

以下に、本発明に用いる可逆的連鎖移動剤（Ｃ）について詳細に説明する。
本発明に用いる可逆的連鎖移動剤（Ｃ）は、有機亜鉛化合物、有機アルミニウム化合物、有機ホウ素化合物、から選ばれる１種以上の化合物である。以下、有機亜鉛化合物、有機アルミニウム化合物および有機ホウ素化合物について具体的に説明する。

〔有機亜鉛化合物〕
本発明で可逆的連鎖移動剤（Ｃ）として用いられる有機亜鉛化合物としては、具体的に下記のような化合物を挙げることができる。

一般式 Ｒ^a _mＺｎＸ_2-m
（式中、Ｒ^aは炭素原子数が１〜１５、好ましくは１〜４の炭化水素基を示し、Ｘはハロ
ゲン原子を示し、ｍは好ましくは０＜ｍ＜２である。）
で表される有機亜鉛化合物、
前記一般式に属する有機亜鉛化合物としてより具体的には
ジメチル亜鉛、ジエチル亜鉛、ジｎ−プロピル亜鉛、ジｎ−ブチル亜鉛、ジｎ−ペンチル亜鉛、ジｎ−ヘキシル亜鉛、ジｎ−オクチル亜鉛、ジｎ−デシル亜鉛などのジｎ−アルキル亜鉛；ジイソプロピル亜鉛、ジイソブチル亜鉛、ジｓｅｃ−ブチル亜鉛、ジｔｅｒｔ−ブチル亜鉛、ジ２−メチルブチル亜鉛、ジ３−メチルブチル亜鉛、ジ２−メチルペンチル亜鉛、ジ３−メチルペンチル亜鉛、ジ４−メチルペンチル亜鉛、ジ２−メチルヘキシル亜鉛、ジ３−メチルヘキシル亜鉛、ジ２−エチルヘキシル亜鉛などのジ分岐鎖アルキル亜鉛；ジシクロヘキシル亜鉛、ジシクロオクチル亜鉛などのジシクロアルキル亜鉛；ジフェニル亜鉛などのジアリール亜鉛；エチル亜鉛ブロミド、ｎ−プロピル亜鉛ブロミド、ｎ−ブチル亜鉛ブロミド、ｎ−ペンチル亜鉛ブロミド、ｎ−ヘキシル亜鉛ブロミド、エチル亜鉛クロリド、ｎ−プロピル亜鉛クロリド、ｎ−ブチル亜鉛クロリド、ｎ−ペンチル亜鉛クロリド、ｎ−ヘキシル亜鉛クロリドなどのｎ−アルキル亜鉛ハライド；イソプロピル亜鉛ブロミド、イソブチル亜鉛ブロミド、ｓｅｃ−ブチル亜鉛ブロミド、ｔｅｒｔ−ブチル亜鉛ブロミド、２−メチルブチル亜鉛ブロミド、３−メチルブチル亜鉛ブロミド、２−メチルペンチル亜鉛ブロミド、３−メチルペンチル亜鉛ブロミド、４−メチルペンチル亜鉛ブロミド、２−メチルヘキシル亜鉛ブロミド、３−メチルヘキシル亜鉛ブロミド、２−エチルヘキシル亜鉛ブロミド、イソプロピル亜鉛クロリド、イソブチル亜鉛クロリド、ｓｅｃ−ブチル亜鉛クロリド、ｔｅｒｔ−ブチル亜鉛クロリド、２−メチルブチル亜鉛クロリド、３−メチルブチル亜鉛クロリド、２−メチルペンチル亜鉛クロリド、３−メチルペンチル亜鉛クロリド、４−メチルペンチル亜鉛クロリド、２−メチルヘキシル亜鉛クロリド、３−メチルヘキシル亜鉛クロリド、２−エチルヘキシル亜鉛クロリドなどの分岐鎖アルキル亜鉛ハライド；フェニル亜鉛ブロミド、メチルフェニル亜鉛ブロミド、エチルフェニル亜鉛ブロミド、ブロモフェニル亜鉛ブロミド、クロロフェニル亜鉛ブロミド、フルオロフェニル亜鉛ブロミド、シアノフェニル亜鉛ブロミド、フェニル亜鉛クロリド、メチルフェニル亜鉛クロリド、エチルフェニル亜鉛クロリド、ブロモフェニル亜鉛クロリド、クロロフェニル亜鉛クロリド、フルオロフェニル亜鉛クロリド、シアノフェニル亜鉛クロリドなどのアリール（ａｒｙｌ）亜鉛ハライドなどが挙げられる。これらの有機亜鉛素化合物の中では、ジエチル亜鉛が好ましい。

〔有機アルミニウム化合物〕
本発明で可逆的連鎖移動剤（Ｃ）として用いられる有機アルミニウム化合物として、具体的には下記のような化合物が用いられる。

一般式 Ｒ^a _mＡｌ（ＯＲ^b）_nＨ_pＸ_q
（式中、Ｒ^aおよびＲ^bは、互いに同一でも異なっていてもよく、炭素原子数が１〜１５、好ましくは１〜４の炭化水素基を示し、Ｘはハロゲン原子を示し、ｍは０＜ｍ≦３、ｎは０≦ｎ＜３、ｐは０≦ｐ＜３、ｑは０≦ｑ＜３の数であり、かつｍ＋ｎ＋ｐ＋ｑ＝３である。）で表される有機アルミニウム化合物。

前記一般式に属する有機アルミニウム化合物としては、次のような化合物などを例示できる。
一般式 Ｒ^a _mＡｌ（ＯＲ^b）_3-m
（式中、Ｒ^a およびＲ^b は、互いに同一でも異なっていてもよく、炭素原子数が１〜１５、好ましくは１〜４の炭化水素基を示し、ｍは好ましくは１．５≦ｍ≦３の数である。）で表される有機アルミニウム化合物、
一般式 Ｒ^a _mＡｌＸ_3-m
（式中、Ｒ^aは炭素原子数が１〜１５、好ましくは１〜４の炭化水素基を示し、Ｘはハロ
ゲン原子を示し、ｍは好ましくは０＜ｍ＜３である。）
で表される有機アルミニウム化合物、
一般式 Ｒ^a _mＡｌＨ_3-m
（式中、Ｒ^aは炭素原子数が１〜１５、好ましくは１〜４の炭化水素基を示し、ｍは好ま
しくは２≦ｍ＜３である。）
で表される有機アルミニウム化合物、
一般式 Ｒ^a _mＡｌ（ＯＲ^b）_nＸ_q
（式中、Ｒ^aおよびＲ^bは、互いに同一でも異なっていてもよく、炭素原子数が１〜１５、好ましくは１〜４の炭化水素基を示し、Ｘはハロゲン原子を示し、ｍは０＜ｍ≦３、ｎは０≦ｎ＜３、ｑは０≦ｑ＜３の数であり、かつｍ＋ｎ＋ｑ＝３である。）
で表される有機アルミニウム化合物。

前記の有機アルミニウム化合物としてより具体的には、
トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリ−ｎ−ブチルアルミニウム、トリプロピルアルミニウム、トリペンチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウム、トリオクチルアルミニウム、トリデシルアルミニウムなどのトリ−ｎ−アルキルアルミニウム；トリイソプロピルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリ−ｓｅｃ−ブチルアルミニウム、トリ−ｔｅｒｔ−ブチルアルミニウム、トリス（２−メチルブチル）アルミニウム、トリス（３−メチルブチル）アルミニウム、トリス（２−メチルペンチル）アルミニウム、トリス（３−メチルペンチル）アルミニウム、トリス（４−メチルペンチル）アルミニウム、トリス（２−メチルヘキシル）アルミニウム、トリス（３−メチルヘキシル）アルミニウム、トリス（２−エチルヘキシル）アルミニウムなどのトリ分岐鎖アルキルアルミニウム；トリス（シクロヘキシル）アルミニウム、トリス（シクロオクチル）アルミニウムなどのトリス（シクロアルキル）アルミニウム；トリフェニルアルミニウム、トリトリルアルミニウムなどのトリアリールアルミニウム；（ｉ−Ｃ₄Ｈ₉）_xＡｌ_y（Ｃ₅Ｈ₁₀）_z （式中、ｘ、ｙ、ｚは正の数であり、ｚ≧２ｘである。）などで表されるト
リイソプレニルアルミニウムなどのトリアルケニルアルミニウム；イソブチルアルミニウムメトキシド、イソブチルアルミニウムエトキシド、イソブチルアルミニウムイソプロポキシドなどのアルキルアルミニウムアルコキシド；ジメチルアルミニウムメトキシド、ジエチルアルミニウムエトキシド、ジブチルアルミニウムブトキシドなどのジアルキルアルミニウムアルコキシド；エチルアルミニウムセスキエトキシド、ブチルアルミニウムセスキブトキシドなどのアルキルアルミニウムセスキアルコキシド；Ｒ^a _2.5 Ａｌ（ＯＲ^b）_0.5などで表される平均組成を有する部分的にアルコキシ化されたアルキルアルミニウム；
ジエチルアルミニウムフェノキシド、ジエチルアルミニウム（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノキシド）、エチルアルミニウムビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノキシド）、ジイソブチルアルミニウム（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノキシド）、イソブチルアルミニウムビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフ
ェノキシド）などのジアルキルアルミニウムアリーロキシド；ジメチルアルミニウムクロリド、ジエチルアルミニウムクロリド、ジブチルアルミニウムクロリド、ジエチルアルミニウムブロミド、ジイソブチルアルミニウムクロリドなどのジアルキルアルミニウムハライド；エチルアルミニウムセスキクロリド、ブチルアルミニウムセスキクロリド、エチルアルミニウムセスキブロミドなどのアルキルアルミニウムセスキハライド；エチルアルミニウムジクロリド、プロピルアルミニウムジクロリド、ブチルアルミニウムジブロミドなどのアルキルアルミニウムジハライドなどの部分的にハロゲン化されたアルキルアルミニウム； ジエチルアルミニウムヒドリド、ジブチルアルミニウムヒドリド、ジイソブチルアルミニウムヒドリドなどのジアルキルアルミニウムヒドリド；エチルアルミニウムジヒドリド、プロピルアルミニウムジヒドリドなどのアルキルアルミニウムジヒドリドなどその他の部分的に水素化されたアルキルアルミニウム；エチルアルミニウムエトキシクロリド、ブチルアルミニウムブトキシクロリド、エチルアルミニウムエトキシブロミドなどの部分的にアルコキシ化およびハロゲン化されたアルキルアルミニウムなどが挙げられる。

また前記の有機アルミニウムに類似する化合物も使用することができ、例えば窒素原子を介して２以上のアルミニウム化合物が結合した有機アルミニウム化合物が挙げられる。このような化合物として具体的には、（Ｃ₂Ｈ₅）₂ＡｌＮ（Ｃ₂Ｈ₅）Ａｌ（Ｃ₂Ｈ₅）₂などが挙げられる。これらの有機アルミニウム素化合物の中では、トリエチルアルミニウムが好ましい。

〔有機ホウ素化合物〕
本発明で可逆的連鎖移動剤（Ｃ）として用いられる有機ホウ素化合物として、具体的には下記のような化合物が用いられる。

一般式 ＢＲ^aＲ^bＲ^c
（式中、Ｒ^a、Ｒ^bおよびＲ^cは、水素原子、ハロゲン原子、または炭素原子数が１〜１５
、好ましくは１〜１０の炭化水素基を示す。Ｒ^a、Ｒ^bおよびＲ^cは、互いに同一でも異な
っていてもよく、互いが結合して環を形成してもよい。またＲ^a、Ｒ^bおよびＲ^cにおいて
水素原子はハロゲン原子あるいはヘテロ原子で置換されていてもよく、ハロゲン原子、ヘテロ原子あるいはケイ素原子を含有する炭素数１〜４の炭化水素基で置換されていてもよい。）で表される有機ホウ素化合物。

一般式 Ｍ⁺Ｂ^-Ｒ^aＲ^bＲ^cＨ
（式中、Ｒ^a、Ｒ^bおよびＲ^cは、前記と同じである。Ｍはアルカリ金属原子を示す。）
このような有機ホウ素化合物として具体的には、次のような化合物などを例示できる。ボラン；トリメチルボラン、トリエチルボラン、トリ−ｎ−ブチルボラン、トリプロピルボラン、トリペンチルボラン、トリヘキシルボラン、トリオクチルボラン、トリデシルボランなどのトリ−ｎ−アルキルボラン；トリイソプロピルボラン、トリイソブチルボラン、トリ−ｓｅｃ−ブチルボラン、トリ−ｔｅｒｔ−ブチルボラン、トリス（２−メチルブチル）ボラン、トリス（３−メチルブチル）ボラン、トリス（２−メチルペンチル）ボラン、トリス（３−メチルペンチル）ボラン、トリス（４−メチルペンチル）ボラン、トリス（２−メチルヘキシル）ボラン、トリス（３−メチルヘキシル）ボラン、トリス（２−エチルヘキシル）ボランなどのトリ分岐鎖アルキルボラン；トリエチル水素化ホウ素リチウム、トリプロピル水素化ホウ素リチウム、トリブチル水素化ホウ素リチウム、トリエチル水素化ホウ素ナトリウム、トリプロピル水素化ホウ素ナトリウム、トリブチル水素化ホウ素ナトリウム、トリエチル水素化ホウ素カリウム、トリプロピル水素化ホウ素カリウム、トリブチル水素化ホウ素カリウムなどのトリアルキル化されたホウ素とアルキル金属との塩化合物、トリシクロヘキシルボラン、トリシクロオクチルボランなどのトリシクロアルキルボラン；トリフェニルボラン、トリトリルボランなどのトリアリールボラン；ジメチルボランクロリド、ジエチルボランクロリド、ジブチルボランクロリド、ジエチルボラ
ンブロミド、ジイソブチルボランクロリドなどのジアルキルボランハライド；ジフェニルボランクロリド、ジフェニルボランブロミドなどのジアリールボランブロミド；ジシクロヘキシルボランクロリド、ジシクロヘキシルボランブロミドなどのジシクロアルキルボランハライド；メチルボランクロリド、エチルボランジクロリド、ブチルボランジクロリド、エチルボランジブロミド、イソブチルボランジクロリドなどのアルキルボランジハライド；フェニルボランジクロリド、フェニルボランジブロミドなどのフェニルボランジハライド；シクロヘキシルボランジクロリド、シクロヘキシルボランジブロミドなどのシクロアルキルボランジハライド；９−ボランビシクロ［３．３．１］ノナンなどの二環式ホウ素化合物などが挙げられる。

前記具体例において、例えばアンモニアやジメチルアミン、メチルスルフィドなどの、ヘテロ原子を含む化合物と錯体を形成できるホウ素化合物を可逆的連鎖移動剤（Ｃ）として用いる場合、錯体化合物を用いることもできる。

また前記具体例において、ボランや９−ボランビシクロ［３．３．１］ノナンなどの二量体を形成することができる有機ホウ素化合物を可逆的連鎖移動剤（Ｃ）として用いる場合、二量体を用いることもできる。

有機ホウ素化合物としては、９−ボランビシクロ［３．３．１］ノナンが好ましい。
（Ｄ）担体
本発明で用いられるオレフィン重合触媒は、前記遷移金属化合物（Ａ）と、必要に応じて用いる、有機アルミニウムオキシ化合物（Ｂ−１）およびイオン化イオン性化合物（Ｂ−２）から選ばれる少なくとも１種の化合物（Ｂ）（以下「成分（Ｂ）」ということがある。）とともに、さらに必要に応じて担体（Ｄ）および／または有機化合物成分（Ｅ）を含むことができる。

本発明で必要に応じて用いられる（Ｄ）担体は、無機または有機の化合物であって、顆粒状ないしは微粒子状の固体である。
このうち無機化合物としては、多孔質酸化物、無機ハロゲン化物、粘土、粘土鉱物また
多孔質酸化物として、具体的にはＳｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、ＭｇＯ、ＺｒＯ、ＴｉＯ₂、Ｂ₂
Ｏ₃、ＣａＯ、ＺｎＯ、ＢａＯ、ＴｈＯ₂など、またはこれらを含む複合物または混合物を使用、例えば天然または合成ゼオライト、ＳｉＯ₂−ＭｇＯ、ＳｉＯ₂−Ａｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂−ＴｉＯ₂、ＳｉＯ₂−Ｖ₂Ｏ₅、ＳｉＯ₂−Ｃｒ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂−ＴｉＯ₂−ＭｇＯなどを使用することができる。これらのうち、ＳｉＯ₂および／またはＡｌ₂Ｏ₃を主成分とするも
のが好ましい。

なお、前記無機酸化物は、少量のＮａ₂ＣＯ₃、Ｋ₂ＣＯ₃、ＣａＣＯ₃、ＭｇＣＯ₃、Ｎａ₂ＳＯ₄、Ａｌ₂（ＳＯ₄）₃、ＢａＳＯ₄、ＫＮＯ₃、Ｍｇ（ＮＯ₃）₂、Ａｌ（ＮＯ₃）₃、Ｎ
ａ₂Ｏ、Ｋ₂Ｏ、Ｌｉ₂Ｏなどの炭酸塩、硫酸塩、硝酸塩、酸化物成分を含有していても差
し支えない。

このような多孔質酸化物は、種類および製法によりその性状は異なるが、好ましく用いられる担体は、粒径が１０〜３００μｍ、好ましくは２０〜２００μｍであって、比表面積が５０〜１０００ｍ²／ｇ、好ましくは１００〜７００ｍ²／ｇの範囲にあり、細孔容積が０．３〜３．０ｃｍ³／ｇの範囲にあることが望ましい。このような担体は、必要に応
じて１００〜１０００℃、好ましくは１５０〜７００℃で焼成して使用される。

無機ハロゲン化物としては、ＭｇＣｌ₂、ＭｇＢｒ₂、ＭｎＣｌ₂、ＭｎＢｒ₂等が用いられる。無機ハロゲン化物は、そのまま用いてもよいし、ボールミル、振動ミルにより粉砕した後に用いてもよい。また、アルコールなどの溶媒に無機塩化物を溶解させた後、析出
剤によってこれらを微粒子状に析出させたものを用いることもできる。

粘土は、通常粘土鉱物を主成分として構成される。また、イオン交換性層状化合物は、イオン結合などによって構成される面が互いに弱い結合力で平行に積み重なった結晶構造を有する化合物であり、含有するイオンが交換可能なものである。大部分の粘土鉱物はイオン交換性層状化合物である。また、これらの粘土、粘土鉱物、イオン交換性層状化合物としては、天然産のものに限らず、人工合成物を使用することもできる。

また、粘土、粘土鉱物またはイオン交換性層状化合物として、粘土、粘土鉱物、また、六方細密パッキング型、アンチモン型、ＣｄＣｌ₂型、ＣｄＩ₂型などの層状の結晶構造を有するイオン結晶性化合物などを例示することができる。

このような粘土、粘土鉱物としては、カオリン、ベントナイト、木節粘土、ガイロメ粘土、アロフェン、ヒシンゲル石、パイロフィライト、ウンモ群、モンモリロナイト群、バーミキュライト、リョクデイ石群、パリゴルスカイト、カオリナイト、ナクライト、ディッカイト、ハロイサイトなどが挙げられ、イオン交換性層状化合物としては、α−Ｚｒ（ＨＡｓＯ₄）₂・Ｈ₂Ｏ、α−Ｚｒ（ＨＰＯ₄）₂、α−Ｚｒ（ＫＰＯ₄）₂・３Ｈ₂Ｏ、α−Ｔｉ（ＨＰＯ₄）₂、α−Ｔｉ（ＨＡｓＯ₄）₂・Ｈ₂Ｏ、α−Ｓｎ（ＨＰＯ₄）₂・Ｈ₂Ｏ、γ−Ｚｒ（ＨＰＯ₄）₂、γ−Ｔｉ（ＨＰＯ₄）₂、γ−Ｔｉ（ＮＨ₄ＰＯ₄）₂・Ｈ₂Ｏなどの多価金属の結晶性酸性塩などが挙げられる。

このような粘土、粘土鉱物またはイオン交換性層状化合物は、水銀圧入法で測定した半径２０Å以上の細孔容積が０．１ｃｃ／ｇ以上のものが好ましく、０．３〜５ｃｃ／ｇのものが特に好ましい。ここで、細孔容積は、水銀ポロシメーターを用いた水銀圧入法により、細孔半径２０〜３×１０⁴Åの範囲について測定される。

半径２０Å以上の細孔容積が０．１ｃｃ／ｇより小さいものを担体として用いた場合には、高い重合活性が得られにくい傾向がある。
粘土、粘土鉱物には、化学処理を施すことも好ましい。化学処理としては、表面に付着している不純物を除去する表面処理、粘土の結晶構造に影響を与える処理など、何れも使用できる。化学処理として具体的には、酸処理、アルカリ処理、塩類処理、有機物処理などが挙げられる。酸処理は、表面の不純物を取り除くほか、結晶構造中のＡｌ、Ｆｅ、Ｍｇなどの陽イオンを溶出させることによって表面積を増大させる。アルカリ処理では粘土の結晶構造が破壊され、粘土の構造の変化をもたらす。また、塩類処理、有機物処理では、イオン複合体、分子複合体、有機誘導体などを形成し、表面積や層間距離を変えることができる。

イオン交換性層状化合物は、イオン交換性を利用し、層間の交換性イオンを別の大きな嵩高いイオンと交換することにより、層間が拡大した状態の層状化合物であってもよい。このような嵩高いイオンは、層状構造を支える支柱的な役割を担っており、通常、ピラーと呼ばれる。また、このように層状化合物の層間に別の物質を導入することをインターカレーションという。インターカレーションするゲスト化合物としては、ＴｉＣｌ₄、Ｚｒ
Ｃｌ₄などの陽イオン性無機化合物、Ｔｉ（ＯＲ）₄、Ｚｒ（ＯＲ）₄、ＰＯ（ＯＲ）₃、Ｂ（ＯＲ）₃などの金属アルコキシド（Ｒは炭化水素基など）、［Ａｌ₁₃Ｏ₄（ＯＨ）₂₄］⁷⁺、［Ｚｒ₄（ＯＨ）₁₄］²⁺、［Ｆｅ₃Ｏ（ＯＣＯＣＨ₃）₆］⁺ などの金属水酸化物イオンなどが挙げられる。これらの化合物は単独でまたは２種以上組み合わせて用いられる。また、これらの化合物をインターカレーションする際に、Ｓｉ（ＯＲ）₄、Ａｌ（ＯＲ）₃、Ｇｅ（ＯＲ）₄などの金属アルコキシド（Ｒは炭化水素基など）などを加水分解して得た重
合物、ＳｉＯ₂などのコロイド状無機化合物などを共存させることもできる。また、ピラ
ーとしては、前記金属水酸化物イオンを層間にインターカレーションした後に加熱脱水す
ることにより生成する酸化物などが挙げられる。

粘土、粘土鉱物、イオン交換性層状化合物は、そのまま用いてもよく、またボールミル、ふるい分けなどの処理を行った後に用いてもよい。また、新たに水を添加吸着させ、あるいは加熱脱水処理した後に用いてもよい。さらに、単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

これらのうち、好ましいものは粘土または粘土鉱物であり、特に好ましいものはモンモリロナイト、バーミキュライト、ヘクトライト、テニオライトおよび合成雲母である。
有機化合物としては、粒径が１０〜３００μｍの範囲にある顆粒状ないしは微粒子状固体が挙げられる。具体的には、エチレン、プロピレン、１−ブテン、４−メチル−１−ペンテンなどの炭素原子数が２〜１４のα−オレフィンを主成分として生成される（共）重合体またはビニルシクロヘキサン、スチレンを主成分として生成される（共）重合体、およびそれらの変成体を例示することができる。

（Ｅ）有機化合物成分
本発明において有機化合物成分（Ｅ）は、必要に応じて、重合性能および生成ポリマーの物性を向上させる目的で使用される。このような有機化合物としては、例えばアルコール類、フェノール性化合物、カルボン酸、リン化合物およびスルホン酸塩などが挙げられる。

アルコール類およびフェノール性化合物としては、通常、Ｒ−ＯＨで表されるものが使用され、ここで、Ｒは炭素原子数１〜５０の炭化水素基または炭素原子数１〜５０のハロゲン化炭化水素基を示す。

アルコール類としては、Ｒがハロゲン化炭化水素のものが好ましい。また、フェノール性化合物としては、水酸基のα，α'−位が炭素数１〜２０の炭化水素で置換されたもの
が好ましい。

カルボン酸としては、通常、Ｒ’−ＣＯＯＨで表されるものが使用される。Ｒ’は炭素原子数１〜５０の炭化水素基または炭素原子数１〜５０のハロゲン化炭化水素基を示し、特に、炭素原子数１〜５０のハロゲン化炭化水素基が好ましい。

リン化合物としては、Ｐ−Ｏ−Ｈ結合を有する燐酸類、Ｐ−ＯＲ、Ｐ＝Ｏ結合を有するホスフェート、ホスフィンオキシド化合物が好ましく使用される。
スルホン酸塩としては、下記一般式（２３）で表されるものが使用される。

式中、Ｍは周期表第１〜１４族の元素である。
Ｒ''は水素原子、炭素原子数１〜２０の炭化水素基または炭素原子数１〜２０のハロゲン化炭化水素基である。

Ｘは水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数が１〜２０の炭化水素基、炭素原子数が１〜２０のハロゲン化炭化水素基である。
ｍは１〜７の整数であり、ｎは１≦ｎ≦７である。

次に、触媒の調製方法、重合方法、本発明で製造する重合体、およびその製造方法について、順次詳しく説明する。
オレフィン重合触媒の調製
図１に、本発明で用いられるオレフィン重合触媒の調製工程の一例を示す。

重合の際には、各成分の使用法、添加順序は任意に選ばれるが、以下のような方法が例示される。
（１）遷移金属化合物（Ａ）を単独で重合器に添加する方法。
（２）遷移金属化合物（Ａ）および成分（Ｂ）を任意の順序で重合器に添加する方法。
（３）遷移金属化合物（Ａ）を担体（Ｄ）に担持した触媒成分、成分（Ｂ）を任意の順序で重合器に添加する方法。
（４）成分（Ｂ）を担体（Ｄ）に担持した触媒成分、遷移金属化合物（Ａ）を任意の順序で重合器に添加する方法。
（５）遷移金属化合物（Ａ）と成分（Ｂ）とを担体（Ｄ）に担持した触媒成分を重合器に添加する方法。

前記（２）〜（５）の各方法においては、各触媒成分の少なくとも２つ以上は予め接触されていてもよい。なお、触媒調製時に必要に応じて、前記（１ａ）に属する有機アルミニウム化合物として例示したものと同様の有機アルミニウム化合物をアルキル化剤として用いることができる。

成分（Ｂ）が担持されている前記（４）、（５）の各方法においては、必要に応じて担持されていない成分（Ｂ）を、任意の順序で添加してもよい。この場合成分（Ｂ）は、同一でも異なっていてもよい。

また、前記の成分（Ｄ）に遷移金属化合物（Ａ）が担持された固体触媒成分、成分（Ｄ）に遷移金属化合物（Ａ）および成分（Ｂ）が担持された固体触媒成分は、オレフィンが予備重合されていてもよく、予備重合された固体触媒成分上に、さらに、触媒成分が担持されていてもよい。

オレフィンの重合条件
本発明では、重合は溶解重合、懸濁重合などの液相重合法または気相重合法のいずれにおいても実施できる。

液相重合法において用いられる不活性炭化水素媒体として具体的には、プロパン、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、ドデカン、灯油などの脂肪族炭化水素；シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロペンタンなどの脂環族炭化水素；ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素；エチレンクロリド、クロルベンゼン、ジクロロメタンなどのハロゲン化炭化水素またはこれらの混合物などを挙げることができ、オレフィン自身を溶媒として用いることもできる。

前記のようなオレフィン重合触媒を用いて、オレフィンブロック重合体を製造する場合、遷移金属化合物（Ａ）は、反応容積１リットル当り、通常１０^-12〜１０^-2モル、好ま
しくは１０^-10〜１０^-3モルになるような量で用いられる。

成分（Ｂ−１）が用いられる場合は、成分（Ｂ−１）中のアルミニウム原子と、遷移金属化合物（Ａ）中の遷移金属原子（Ｍ）とのモル比〔（Ｂ−１）／Ｍ〕が、通常１０〜５０００００、好ましくは２０〜１０００００となるような量で用いられる。成分（Ｂ−２）が用いられる場合は、成分（Ｂ−２）と、遷移金属化合物（Ａ）中の遷移金属原子（Ｍ）とのモル比〔（Ｂ−２）／Ｍ〕が、通常１〜１０、好ましくは１〜５となるような量で
用いられる。

成分（Ｅ）が用いられる場合は、成分（Ｂ）が成分（Ｂ−１）の場合には、モル比〔（Ｅ）／（Ｂ−１）〕が通常０．００１〜２、好ましくは０．００５〜１となるような量で、成分（Ｂ）が成分（Ｂ−２）の場合には、モル比〔（Ｅ）／（Ｂ−２）〕が通常０．０１〜１０、好ましくは０．１〜５となるような量で用いられる。

得られるオレフィン系共重合体の分子量は、モノマー／触媒比や重合時間を制御することによって調節することができる。
オレフィンブロック重合体
本発明の方法で製造するオレフィンブロック重合体は、
（ａ）炭素原子数２〜２０のオレフィンから選ばれる少なくとも１種のオレフィンから得られるセグメントと、
（ｂ）炭素原子数２〜２０のオレフィンから選ばれる少なくとも１種のオレフィンから得られる前記セグメント（ａ）とは異なるセグメントとを含むオレフィンブロック重合体である。

前記セグメント（ａ）および（ｂ）は、炭素原子数２〜２０のオレフィンから選ばれる１種のオレフィンの重合体であってもよく、炭素原子数２〜２０のオレフィンから選ばれる２種以上のオレフィンのランダム共重合体であってもよい。

セグメントが２種以上のオレフィンから得られる共重合体である場合には、ブロックセグメントの中でオレフィン組成が一定の比率である共重合体およびオレフィン組成が連続的に変化していく、いわゆるテーパードポリマー（傾斜共重合体）が含まれる。

セグメント（ａ）とセグメント（ｂ）とは、化学的性質又は物理的性質が異なっている。
炭素原子数が２〜２０のオレフィンとしては、例えばエチレン、プロピレン、１−ブテン、２−ブテン、１−ペンテン、３−メチル−１−ブテン、１−ヘキセン、４−メチル−１−ペンテン、３−メチル−１−ペンテン、１−オクテン、１−デセン、１−ドデセン、１−テトラデセン、１−ヘキサデセン、１−オクタデセン、１−エイコセンなどの炭素原子数２〜２０の直鎖状または分岐状のα−オレフィン；シクロペンテン、シクロヘプテン、ノルボルネン、５−メチル−２−ノルボルネン、テトラシクロドデセン、２−メチル１，４，５，８−ジメタノ−１，２，３，４，４ａ，５，８，８ａ−オクタヒドロナフタレンなどの炭素原子数３〜２０の環状オレフィン；また、炭素原子数２〜２０のオレフィンとして、ビニルシクロヘキサン、ジエンまたはポリエンなども挙げられる。ジエンまたはポリエンとしては、炭素原子数４〜３０、好ましくは４〜２０であり二個以上の二重結合を有する環状または鎖状の化合物が挙げられる。具体的には、ブタジエン、イソプレン、４−メチル−１，３−ペンタジエン、１，３−ペンタジエン、１，４−ペンタジエン、１，５−ヘキサジエン、１，４−ヘキサジエン、１，３−ヘキサジエン、１，３−オクタジエン、１，４−オクタジエン、１，５−オクタジエン、１，６−オクタジエン、１，７−オクタジエン、エチリデンノルボルネン、ビニルノルボルネン、ジシクロペンタジエン；
７−メチル−１，６−オクタジエン、４−エチリデン−８−メチル−１，７−ノナジエン、５，９−ジメチル−１，４，８−デカトリエンなどが挙げられる。

さらにオレフィンとして、芳香族ビニル化合物、例えばスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｏ，ｐ−ジメチルスチレン、ｏ−エチルスチレン、ｍ−エチルスチレン、ｐ−エチルスチレンなどのモノもしくはポリアルキルスチレン；および３−フェニルプロピレン、４−フェニルプロピレン、α−メチルスチレンなどが挙げられる。これらのオレフィンは、単独でまたは２種以上組み合わせて用いること
ができる。

なお、オレフィンブロック重合体は、前記セグメント（ａ）およびセグメント（ｂ）に加えてさらに、セグメント（ｃ）を単数または複数有していてもよい。この場合該ブロック重合体は、（ａ）−（ｂ）−（ｃ）ｎの形態をとる。ここで、ｎは１以上、好ましくは１ないし３の整数であり、隣り合うセグメント同士は、それぞれ異なるセグメントである。

セグメント（ｃ）は、炭素原子数２〜２０のオレフィンから選ばれる１種のオレフィンの重合体であってもよく、炭素原子数２〜２０のオレフィンから選ばれる２種以上のオレフィンのランダム共重合体であってもよい。

前記セグメント（ａ）、（ｂ）および（ｃ）としては、以下のようなセグメントが好ましい。
ポリエチレン、ＨＤＰＥ、ＬＬＤＰＥ（この場合、ＨＤＰＥとはコモノマー成分として炭素数３〜８のオレフィン、好ましくはプロピレン、１−ブテンまたは１−ヘキセンを０．０１〜３ｍｏｌ％未満含有するエチレン系共重合体、ＬＬＤＰＥとは前記コモノマー成分を３〜１０ｍｏｌ％未満含有するエチレン系共重合体をさす）、ポリプロピレン、ポリブテン及び１−ペンテン、１−ヘキセン、１−オクテン、１−デセンなどの単独重合体、またはエチレンとプロピレンの共重合体または炭素数４〜２０のオレフィン化合物との共重合体、具体的にはエチレンと１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、１−オクテン、１−デセンなどとの共重合体；エチレンとブタジエン、イソプレン、１，４−ペンタジエン、１，５−ヘキサジエン、１，７−オクタジエン等のジエン化合物、スチレンなどの芳香族ビニル化合物との共重合体；エチレンとテトラシクロドデセン、ノルボルネン、メチルノルボルネンなどの環状オレフィン化合物との共重合体などが好ましく挙げられる（コモノマーが炭素数３〜８のオレフィン化合物の場合には含有量１０ｍｏｌ％以上、それ以外の場合には０．０１ｍｏｌ％以上である）。またプロピレンと前述の炭素数４〜２０のオレフィン化合物との共重合体も好ましく挙げられる。これらの場合、用いるコモノマーは一種でも二種以上でも良い。

これらのなかでは、ポリエチレン、ＨＤＰＥ、ＬＬＤＰＥ、ポリプロピレン、ポリブテン、エチレン／プロピレン共重合体、エチレン／ブテン共重合体、エチレン／ヘキセン共重合体が好ましく、ＨＤＰＥ、ＬＬＤＰＥ、ポリプロピレン、ポリブテン、エチレン／プロピレン共重合体、エチレン／ブテン共重合体、エチレン／ヘキセン共重合体などからなるセミブロックが挙げられる。

この場合、少なくとも一種のエチレンから得られるセグメントを含有し、その数平均分子量は５００以上、好ましくは５００〜１０，０００，０００の範囲にあることがより好ましい。

本発明の方法で製造されるオレフィンブロック重合体は、主鎖および／または側鎖に少なくとも一つ以上の極性基を含有する重合体であってもよい。この場合、用いられる極性基含有モノマーは一種でも二種以上でもよい。

この場合、本発明に用いられる極性基含有モノマーとしては、炭素、水素以外の原子を有する、アニオン重合、カチオン重合、ラジカル重合、開環重合可能なモノマーが挙げられ、具体的にはアクリル酸、メタクリル酸、フマル酸、無水マレイン酸、イタコン酸、無水イタコン酸などのα，β−不飽和カルボン酸；ビシクロ（２，２，１）−５−ヘプテン−２，３−ジカルボン酸などの環状オレフィンカルボン酸およびその無水物；さらにこれらのナトリウム塩、カリウム塩、リチウム塩、亜鉛塩、マグネシウム塩、カルシウム塩な
どの金属塩；アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ｎ−プロピル、アクリル酸イソプロピル、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸ｔｅｒｔ−ブチル、アクリル酸２−エチルヘキシル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ｎ−プロピル、メタクリル酸イソプロピル、メタクリル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸イソブチルなどのα，β−不飽和カルボン酸エステル；酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、カプロン酸ビニル、カプリン酸ビニル、ラウリン酸ビニル、ステアリン酸ビニル、トリフルオロ酢酸ビニルなどのビニルエステル類；アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、イタコン酸モノグリシジルエステルなどの不飽和グリシジル類；フッ化ビニル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、臭化ビニル、ヨウ化ビニルなどのハロゲン化オレフィン類；アクリロニトリル、メタクリロニトリルなどの不飽和シアノ化合物；アクリルアミド、メタクリロアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミドなどの不飽和アミド類；ビニルメチルケトン、ビニルエチルケトンなどの不飽和ケトン類；カプロラクトン、カプロラクタムなどの環状エステル、環状アミド類；テトラヒドロフラン、ジヒドロフラン、クマロン、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイドなどの環状エーテル類；メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテルなどの不飽和エーテル類；メトキシスチレン、エトキシスチレン、ビニル安息香酸、ビニル安息香酸メチル、ビニルベンジルアセテート、ヒドロキシスチレン、ｏ−クロロスチレン、ｐ−クロロスチレン、ジビニルベンゼンなどの官能基含有スチレン誘導体；Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカルバゾール、ビニルピリジンなどのビニル基含有ヘテロ環化合物などを挙げることができる。

以下、本発明の製造方法において、オレフィン重合触媒（ＰＣ１、ＰＣ２）および可逆的連鎖移動剤（Ｃ）を用いてオレフィンブロック重合体を製造する具体的方法について詳述する。

オレフィン重合の具体的方法
本発明に係るオレフィンブロック重合体の製造方法は、
（Ｉ）第一のオレフィン重合触媒（ＰＣ１）および可逆的連鎖移動剤（Ｃ）の存在下にオレフィン（Ｍ１）を重合するステップ、および、
（ＩＩ）同等の重合条件下で触媒（ＰＣ１）によって調製される重合体とは化学的性質又は物理的性質が異なる重合体を調製可能な第二のオレフィン重合触媒（ＰＣ２）および可逆的連鎖移動剤（Ｃ）の存在下にオレフィン（Ｍ２）を重合するステップ、を含む複数のステップで重合することを特徴としている。

［ステップ（Ｉ）］
ステップ（Ｉ）では、第一のオレフィン重合触媒（ＰＣ１）および可逆的連鎖移動剤（Ｃ）の存在下にオレフィン（Ｍ１）を重合する。

第一のオレフィン重合触媒（ＰＣ１）は、前記の一般式（１）で表される第一の遷移金属化合物（Ａ１）を含み、必要に応じて前記成分（Ｂ）、担体（Ｄ）、有機化合物成分（Ｅ）を含む。第一の遷移金属化合物（Ａ１）としては、具体的には前記一般式（２）〜（１７）で表される遷移金属化合物の中から、１種以上を選択して用いる。これらのうち、前記一般式（２）および（３）からなる群から選ばれる１種以上の遷移金属化合物を用いることが好ましい。第一の遷移金属化合物（Ａ１）、成分（Ｂ）、担体（Ｄ）、有機化合物成分（Ｅ）の使用量や混合・調製方法は、前記した通りである。

可逆的連鎖移動剤（Ｃ）は、前記した有機亜鉛化合物、有機アルミニウム化合物、および有機ホウ素化合物の中から、１種または２種以上を選択して用いる。これらのうち、有機アルミニウム化合物または有機亜鉛化合物が好ましく、トリエチルアルミニウムまたはジエチル亜鉛であることがより好ましい。

このとき、可逆的連鎖移動剤（Ｃ）は、第一のオレフィン重合触媒（ＰＣ１）中の遷移金属原子（Ｍ）とのモル比〔Ｃ／Ｍ〕が、通常１〜１００００、好ましくは１〜１０００となるような量で用いられる。

本発明にて用いる可逆的連鎖移動剤（Ｃ）は、反応操作における任意の時点で系に添加することができるが、重合開始前すなわち、第一のオレフィン重合触媒（ＰＣ１）よりも先に重合反応器内に添加することが好ましい。可逆的連鎖異動剤（Ｃ）の添加方法としては、例えば攪拌下に該可逆的連鎖移動剤を特定の方法で系に添加する方法が好ましい。この場合、該可逆的連鎖移動剤を直接添加してもよいし、例えばｎ−ヘキサンなどの有機溶媒に溶解した溶液を添加してもよい。また、必要に応じ任意の回数に分割して添加してもよい。

ステップ（Ｉ）で重合するオレフィン（Ｍ１）は、前記のオレフィンブロック重合体の項で説明した炭素原子数が２〜２０のオレフィンから、１種以上を選択して用いる。用いるオレフィンの種類や、２種以上用いる場合の量比については特に制限は無いが、オレフィン（Ｍ１）と後述するステップ（ＩＩ）で用いるオレフィン（Ｍ２）のうちのどちらかまたは両方のオレフィンの少なくとも一部に、エチレンを用いることも好ましい態様の一つである。

ステップ（Ｉ）におけるオレフィンの重合反応温度は、通常−４０〜＋２００℃、好ましくは０〜＋１５０℃の範囲である。また、反応圧力は、通常常圧〜１００ｋｇ／ｃｍ²
、好ましくは常圧〜５０ｋｇ／ｃｍ²の条件下である。また、反応時間は、通常５分〜４
８時間、好ましくは５分〜１２時間の範囲である。

［ステップ（ＩＩ）］
ステップ（ＩＩ）では、第二のオレフィン重合触媒（ＰＣ２）および可逆的連鎖移動剤（Ｃ）の存在下にオレフィン（Ｍ２）を重合する。

第二のオレフィン重合触媒（ＰＣ２）は、前記の一般式（１）で表される第二の遷移金属化合物（Ａ２）を含み、必要に応じて前記成分（Ｂ）、担体（Ｄ）、有機化合物成分（Ｅ）を含む。第二の遷移金属化合物（Ａ２）としては、具体的には前記一般式（２）〜（１７）で表される遷移金属化合物の中から、１種以上を選択して用いる。これらのうち、前記一般式（２）および（３）からなる群から選ばれる１種以上の遷移金属化合物を用いることが好ましい。第二の遷移金属化合物（Ａ２）、成分（Ｂ）、担体（Ｄ）、有機化合物成分（Ｅ）の使用量や混合・調製方法は、前記した通りである。

ここで、本発明の方法においては、第二のオレフィン重合触媒（ＰＣ２）は、前記ステップ（Ｉ）における重合条件と同等の条件の下に、第一のオレフィン重合触媒（ＰＣ１）によって調製される重合体と化学的性質又は物理的性質が異なる重合体を調製可能となるように、第二のオレフィン重合触媒（ＰＣ２）を選択することを特徴としている。従って、前記の第一のオレフィン重合触媒（ＰＣ１）および可逆的連鎖移動剤（Ｃ）存在下において生長する重合体と、第二のオレフィン重合触媒（ＰＣ２）および可逆的連鎖移動剤（Ｃ）存在下に生長する重合体は、化学的性質又は物理的性質が異なる。

第一のオレフィン重合触媒（ＰＣ１）と第二のオレフィン重合触媒（ＰＣ２）が異なる重合体を調製可能となるように選択する具体的方法としては、（イ）それぞれに含まれる遷移金属化合物（Ａ１およびＡ２）を異なる種類のものとする方法、（ロ）成分（Ｂ）、担体（Ｄ）、成分（Ｅ）の種類および／または量を変化させる方法、および（ハ）これらを組み合わせた方法、などが挙げられ、調製しようとするオレフィンブロック重合体の所望の化学的性質又は物理的性質に応じて適宜選択することができる。これらのうち、化学
的性質又は物理的性質の変化を付けやすい点で、前記（イ）の方法が好ましく用いられる。

可逆的連鎖移動剤（Ｃ）の種類、使用量および添加方法は、前記ステップ（Ｉ）に準じて行うことができる。また、ステップ（Ｉ）に引き続いてステップ（ＩＩ）を実施する場合（後述する方法（ｉ）の場合）には、ステップ（ＩＩ）で可逆的連鎖移動剤（Ｃ）を追加しなくとも良い。

ステップ（ＩＩ）で重合するオレフィン（Ｍ２）は、ステップ（Ｉ）で重合するオレフィン（Ｍ１）と同様に選択され、用いるオレフィンの種類や、２種以上用いる場合の量比については特に制限は無い。オレフィン（Ｍ１）とオレフィン（Ｍ２）は種類または組成が同じであってもよいし、異なっていてもよく、またオレフィン（Ｍ１）とオレフィン（Ｍ２）のうちのどちらかまたは両方のオレフィンの少なくとも一部に、エチレンを用いることも好ましい態様の一つである。

ステップ（ＩＩ）におけるオレフィンの重合反応温度は、通常−４０〜＋２００℃、好ましくは０〜＋１５０℃の範囲である。また、反応圧力は、通常常圧〜１００ｋｇ／ｃｍ²、好ましくは常圧〜５０ｋｇ／ｃｍ²の条件下である。また、反応時間は、通常５分〜４８時間、好ましくは５分〜１２時間の範囲である。ステップ（ＩＩ）における重合温度、重合圧力および重合時間は、前記ステップ（Ｉ）と同じであってもよいし、異なっていてもよい。

本発明のオレフィンブロック重合体の製造方法では、セグメントの数や分子量をより精密に制御するため、ステップ（ＩＩ）を開始する時点で、ステップ（Ｉ）で用いた第一のオレフィン重合触媒（ＰＣ１）が実質的に失活していることが望ましい。ただし、目的とするオレフィンブロック重合体の性質に影響が無い範囲で、オレフィン重合触媒（ＰＣ１）の重合活性が多少残存していても構わない。ステップ（ＩＩ）を開始する時点での、ステップ（Ｉ）で用いた第一のオレフィン重合触媒（ＰＣ１）の残存活性は、使用する触媒の種類や重合条件にもよるが、好ましくは初期活性に対して５％以下、より好ましくは初期活性に対して３％以下である。触媒の残存活性は、例えば、モノマーの吸収速度から求められる単位時間あたりの重合速度を、重合開始時点と一定時間経過後とで比較することで確認することができる。

本発明に係るオレフィンブロック重合体の製造方法においては、
（ｉ）前記ステップ（Ｉ）を実施した後、続けて第二のオレフィン重合触媒（ＰＣ２）を添加してもよいし、
（ｉｉ）前記ステップ（Ｉ）を実施した後に、第一のオレフィン重合触媒（ＰＣ１）の活性を低下させる手段を含むステップ（Ｘ）を実施し、その後前記ステップ（ＩＩ）を実施してもよい。

前記方法（ｉ）においては、ステップ（Ｉ）の重合条件によっては、ステップ（Ｉ）の終了後にも第一のオレフィン重合触媒（ＰＣ１）の触媒活性が十分残存している場合があり、ステップ（ＩＩ）で進行する重合反応は、可逆的連鎖移動剤（Ｃ）の存在下に２種の重合触媒（ＰＣ１、ＰＣ２）が同時に重合する反応となるため、多数のセグメントを有する重合体が得られる。したがって本発明に係るオレフィンの重合方法においては、前記（ｉｉ）の方法が好んで採用される。

しかし、前記ステップ（Ｉ）の重合条件において、第一のオレフィン重合触媒（ＰＣ１）の活性が経時的に大きく低下する場合は、ステップ（Ｉ）を実施後に特段の操作を行わず、第一のオレフィン重合触媒の重合活性が十分に低下した後に第二のオレフィン重合触
媒（ＰＣ２）を添加することで、ステップ（ＩＩ）を開始させてもよい。

［ステップ（Ｘ）］
ステップ（Ｘ）を実施する場合における、第一のオレフィン重合触媒（ＰＣ１）の活性を低下させる手段は、加熱処理であってもよいし、ある特定の物質を添加する処理であってもよいが、選択的に第一のオレフィン触媒の活性を低下させる手段としては加熱処理が好ましい。

本発明における前記の加熱処理は、ステップ（Ｉ）の反応温度よりも１０℃以上高い温度、好ましくは２０℃以上高い温度、より好ましくは３０℃以上高い温度で実施する。また、反応圧力は、通常常圧〜１００ｋｇ／ｃｍ²、好ましくは常圧〜５０ｋｇ／ｃｍ²の条件下である。また、反応時間は、通常５分〜４８時間、好ましくは５分〜１２時間の範囲である。

［重合の停止および重合体の取出し］
前記ステップ（ＩＩ）が進行した後に重合反応を停止することで、オレフィンブロック重合体が得られる。

重合反応を停止する方法としては、第二のオレフィン重合触媒の活性を低下させる特定の物質を添加する方法でもよいし、加熱処理であってもよいが、前者の方法が好んで採用される。

第二のオレフィン重合触媒（ＰＣ２）の活性を低下させる前記の物質としては、少量の一級アルコールが望ましい。
得られた重合体の解析
ステップ（Ｉ）により得られた重合体（重合体１）とステップ（ＩＩ）実施後に得られる重合体（重合体２）の化学的あるいは物理的性質を比較することにより、重合体２がブロック重合体であることを証明することができる。

重合体２が、各々のオレフィン重合触媒（ＰＣ１およびＰＣ２）により調製されたセグメントを含むブロック重合体であるとき、重合体２は次に挙げられる特徴を同時に有する。
（ア）重合体１に比べて重合体２の収量が多いこと、
（イ）分子量分布が狭いまま重合体１に比べて重合体２の分子量が増加していること、
（ウ）重合体２が、ステップ（Ｉ）の重合条件下において第一のオレフィン重合触媒（ＰＣ１）が調製するセグメント、あるいは、ステップ（ＩＩ）において第二のオレフィン重合触媒ＰＣ２）が調製するセグメントに特徴的な化学的あるいは物理的性質を有すること、
（エ）重合体２が重合体１のセグメント単体を含まないこと。

前記（ア）〜（エ）を証明する手段については、ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー）法、ＤＳＣ（示差熱分析）法、ＴＲＥＦ（昇温溶離分別）法などが挙げられるが、この限りではない。

以上の方法により、可逆連鎖移動重合の高い生産性を維持したままで、セグメントの数や分子量がより精密に制御されたオレフィンブロック重合体を製造することができる。

以下、実施例に基づいて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
本実施例および比較例においてオレフィン重合触媒として用いた、下記式（２４）で示されるジルコニウム化合物（以下、「触媒Ａ１」とする）は、国際公開特許２００５／０９０４２７号公報記載の方法により合成した。

本実施例および比較例においてオレフィン重合触媒として用いた、下記（２５）で示されるハフニウム化合物（以下、触媒Ａ２とする）は、米国特許出願公開第２００４／０２２００５０号明細書に記載の方法により合成した。

本実施例および比較例においては、共触媒（Ｂ）としては、下記（２６）で示されるホウ素化合物を用いた。

なお、重合系内の水分など重合阻害物質の影響を無くす目的で、東ソーファインケム社製ＭＭＡＯ−３Ａヘプタン溶液を所定の濃度に調製し、修飾メチルアルミノキサン溶液として用いた。

なお重量平均分子量、数平均分子量およびＭｗ／Ｍｎ（Ｍｗ：重量平均分子量、Ｍｎ：数平均分子量）は、ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー）を用い、オルトジクロロベンゼン溶媒で、１４０℃で測定した。また、得られた共重合体の融点は示差熱分析装置（ＤＳＣ）を用いて窒素気流下、１０℃／ｍｉｎの昇温条件で測定した。

ＴＲＥＦ(昇温溶離分別法)は、オルトジクロロベンゼン溶媒で、０℃から１４０℃の範囲で測定した。
［実施例１］
充分に窒素置換した内容積１５ｍｌのＳＵＳ製オートクレーブに、１−オクテン １ｍ
ｌおよびｎ−ヘプタン２．６ｍｌを入れ、６００回転／分にて攪拌した。溶液を１２０℃に昇温し、次いでエチレンで全圧が７ｂａｒになるまで加圧した。修飾メチルアルミノキサン溶液を０．２５ｍｌ（ｎ−ヘキサン溶液、アルミニウム原子換算で０．０７９Ｍ、２
０μｍｏｌ）、ジエチル亜鉛溶液 ０．２０ｍｌ（ｎ−ヘキサン溶液、０．０５Ｍ、１０
μｍｏｌ）、共触媒溶液 ０．４０ｍｌ（トルエン溶液、０．００２Ｍ、０．８μｍｏｌ
）、引き続き、触媒Ａ１溶液 ０．３０ｍｌ（トルエン溶液、０．０００３３Ｍ、０．１
０μｍｏｌ）を加え重合を開始した。重合開始時の重合速度をエチレンの吸収速度として求めたところ、０．９２ｍｍｏｌ／ｍｉｎであった（オートクレーブの圧力変化から換算した、重合開始０秒〜３０秒の平均値）。そのまま１２０℃で１０分間反応させたところ、１０分後の重合速度は０．１３ｍｍｏｌ／ｍｉｎであった（同上、重合開始９分３０秒〜１０分の平均値）。その後、触媒Ａ２懸濁液 ０．２０ｍｌ（ｎ−ヘキサン懸濁液、０
．０００５０Ｍ、０．１０μｍｏｌ）を添加し、さらに１０分間重合を行った。少量のイソブチルアルコールを加えて反応を停止した。溶液を濃縮乾固し、減圧乾燥してエチレン−オクテン共重合体０．５６２ｇを得た。

得られた共重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は５．３１×１０⁴、分子量分布（Ｍｗ／
Ｍｎ）は１．８７であった。ＩＲを用いて測定したオクテン含量は１７．８ｍｏｌ％であった。ＤＳＣによる融点（Ｔｍ）は１１７℃であった。昇温溶離分別（ＴＲＥＦ）曲線は図２に示した通りであり、溶出温度のピークは６９℃であった。オルトジクロロベンゼンに０℃で溶解した共重合体は全体の１４ｗｔ％であった。

［比較例１］
実施例１と同様の方法で触媒Ａ１の添加により重合を開始し、１２０℃で２０分間反応させた後、少量のイソブチルアルコールを加えて反応を停止した。溶液を濃縮乾固し、減圧乾燥してエチレン−オクテン共重合体０．２９１ｇを得た。

得られた共重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は２．９１×１０⁴、分子量分布（Ｍｗ／
Ｍｎ）は１．６２であった。ＩＲを用いて測定したオクテン含量は１．３ｍｏｌ％であった。ＤＳＣによる融点（Ｔｍ）は１１７℃であった。昇温溶離分別（ＴＲＥＦ）曲線は図３に示した通りであり、溶出温度のピークは８６℃であった。オルトジクロロベンゼンに０℃で溶解した共重合体は０ｗｔ％であった。

［比較例２］
ジエチル亜鉛を添加しないことを除いては実施例１と同様の条件で重合を行った。溶液を濃縮乾固し、減圧乾燥してエチレン−オクテン共重合体０．３０４ｇを得た。

得られた共重合体の分子量分布は二峰性を示し、重量平均分子量（Ｍｗ）は２５８×１０⁴および１４．３×１０⁴、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は２．４３および１．８４であった。ＩＲを用いて測定したオクテン含量は１２．１ｍｏｌ％であった。昇温溶離分別（ＴＲＥＦ）曲線は図４に示した通りであり、溶出温度のピークは７８℃および８５℃であった。オルトジクロロベンゼンに０℃で溶解した共重合体は全体の２１ｗｔ％であった。

実施例１で得られた共重合体は、比較例１で得られた共重合体に対して、分子量（Ｍｗ）およびオクテン含量が増加していることから、触媒Ａ２の添加後、該触媒によって重合が進行していることが明らかである。さらに、融点を１１７℃にもつことから、触媒Ａ１により重合したセグメントを有することがわかる。さらに、昇温溶離分別曲線におけるピーク温度は、比較例１における８６℃から実施例１では６９℃に低下しており、溶出温度の低下を示している。さらに、系内にジエチル亜鉛が存在しない比較例２において分子量分布は二峰性であったのに対し、ジエチル亜鉛が存在する実施例１において分子量分布は単峰性を示した。以上の事実から、実施例１において、触媒Ａ２の添加によるさらなる重合反応で生長したセグメントは、最初に触媒Ａによる重合反応で生長したセグメントと直接化学結合していること、すなわち実施例１においてジブロック共重合体が得られたことが明らかである。

［実施例２］
充分に窒素置換した内容積１５ｍｌのＳＵＳ製オートクレーブに、１−オクテン １ｍ
ｌおよびｎ−ヘプタン ２．６ｍｌを入れ、６００回転／分にて攪拌した。溶液を１２０
℃に昇温し、次いでエチレンで全圧が７ｂａｒになるまで加圧した。修飾メチルアルミノキサン溶液を０．２５ｍｌ（ｎ−ヘキサン溶液、アルミニウム原子換算で０．０７９Ｍ、２０μｍｏｌ）、ジエチル亜鉛溶液 ０．２０ｍｌ（ｎ−ヘキサン溶液、０．０５Ｍ、１
０μｍｏｌ）、共触媒溶液 ０．４０ｍｌ（ｎ−ヘキサン溶液、０．００２Ｍ、０．８μ
ｍｏｌ）、引き続き、触媒Ａ２懸濁液 ０．２６ｍｌ（ｎ−ヘキサン懸濁液、０．０００
３９Ｍ、０．１０μｍｏｌ）を加え重合を開始した。重合開始時の重合速度をエチレンの吸収速度として求めたところ、０．９３ｍｍｏｌ／ｍｉｎであった（オートクレーブの圧力変化から換算した、重合開始０秒〜３０秒の平均値）。そのまま１２０℃で１０分間反応させたところ、１０分後の重合速度は０．０２ｍｍｏｌ／ｍｉｎであった（同上、重合開始９分３０秒〜１０分の平均値）。その後、触媒Ａ１溶液 ０．２６ｍｌ（ｎ−ヘキサ
ン溶液、０．０００３９Ｍ、０．１０μｍｏｌ）を加え、さらに１０分間重合を行った。少量のイソブチルアルコールを加えて反応を停止した。溶液を濃縮乾固し、減圧乾燥してエチレン−オクテン共重合体０．５７０ｇを得た。

得られた共重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は１６．１×１０⁴、分子量分布（Ｍｗ／
Ｍｎ）は２．１１であった。ＩＲを用いて測定したオクテン含量は１８．６ｍｏｌ％であった。ＤＳＣによる融点（Ｔｍ）は１１８℃であった。昇温溶離分別（ＴＲＥＦ）曲線は図５に示した通りであり、溶出温度のピークは８５℃であった。オルトジクロロベンゼンに０℃で溶解した共重合体は全体の４４ｗｔ％であった。

［比較例３］
実施例２と同様の方法で触媒Ａ２の添加により重合を開始し、１２０℃で２０分間反応させた後、少量のイソブチルアルコールを加えて反応を停止した。溶液を濃縮乾固し、減圧乾燥してエチレン−オクテン共重合体０．２９１ｇを得た。

得られた共重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は１１．１×１０⁴、分子量分布（Ｍｗ／
Ｍｎ）は２．４６であった。ＩＲを用いて測定したオクテン含量は３０．２ｍｏｌ％であった。ＤＳＣによる融点（Ｔｍ）ピークは観測されなかった。得られた共重合体は、オルトジクロロベンゼンに０℃で全て溶解した。

［比較例４］
ジエチル亜鉛を添加しないことを除いては実施例２と同様の条件で重合を行った。溶液を濃縮乾固し、減圧乾燥してエチレン−オクテン共重合体０．７３１ｇを得た。

得られた共重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は５１．４×１０⁴、分子量分布（Ｍｗ／
Ｍｎ）は５．１４であった。であった。ＩＲを用いて測定したオクテン含量は１８．８ｍｏｌ％であった。昇温溶離分別（ＴＲＥＦ）曲線は図６に示した通りであり、溶出温度のピークは９０℃であった。オルトジクロロベンゼンに０℃で溶解した共重合体は、全体の５６ｗｔ％であった。

実施例２で得られた共重合体は、比較例３で得られた共重合体に対して、分子量（Ｍｗ）は増加し、一方オクテン含量は増加していることから、触媒Ａ１の添加後、該触媒によって重合が進行していることが明らかである。さらに、融点を１１８℃にもつことから、触媒Ａ１の存在下により生長した、結晶性のセグメントを有することがわかる。さらに、比較例３により得られた共重合体は０℃にてすべてが溶媒に溶解したのに対し、実施例２により得られた共重合体においては０℃で溶解した共重合体は全体の４４ｗｔ％にとどま
り、さらに、系内にジエチル亜鉛が存在しない比較例４においては、昇温溶離分別法によるピーク温度は９０℃であるのに対して、ジエチル亜鉛が存在する実施例２においては８５℃であり、ピーク温度の低下が認められた。以上の事実から、実施例１において、触媒Ａ１の添加によるさらなる重合反応で生長したセグメントは、最初に触媒Ａ２存在下に重合反応にて生長したセグメントと直接化学結合していること、すなわち実施例２においてジブロック共重合体が得られたことが明らかである。

本発明に係るオレフィンブロック重合体の製造方法によれば、高い生産性で精密に構造制御された各種のオレフィンブロック重合体を製造することができ、工業的に極めて価値がある。

本発明で用いられるオレフィン重合触媒の調製工程を示す説明図である。 実施例１により得られた共重合体の昇温溶離分別曲線である。 比較例１により得られた共重合体の昇温溶離分別曲線である。 比較例２により得られた共重合体の昇温溶離分別曲線である。 実施例２により得られた共重合体の昇温溶離分別曲線である。 比較例４により得られた共重合体の昇温溶離分別曲線である。

Claims (12)

1. 炭素原子数２〜２０のオレフィンから選ばれる少なくとも１種のオレフィンを、少なくとも下記（Ｉ）および（II）を含む複数のステップで重合することを特徴とするオレフィンブロック重合体の製造方法；
   （Ｉ）第一のオレフィン重合触媒（ＰＣ１）および可逆的連鎖移動剤（Ｃ）の存在下に前記オレフィン（Ｍ１）を重合するステップ、
   （II）同等の重合条件下で触媒（ＰＣ１）によって調製される重合体とは化学的性質又は物理的性質が異なる重合体を調製可能な第二のオレフィン重合触媒（ＰＣ２）および可逆的連鎖移動剤（Ｃ）の存在下に前記オレフィン（Ｍ２）を重合するステップ。
2. 前記第一のオレフィン重合触媒（ＰＣ１）および第二のオレフィン重合触媒（ＰＣ２）が、それぞれ独立に、元素周期律表第３〜１１族（３族にはランタノイドおよびアクチノイドも含まれる）から選ばれる遷移金属化合物（Ａ）を含むことを特徴とする請求項１に記載のオレフィンブロック重合体の製造方法。
3. 前記遷移金属化合物（Ａ）が、下記一般式（１）から選ばれる遷移金属化合物であることを特徴とする請求項２に記載のオレフィンブロック重合体の製造方法。
   

   

   （式（１）中、Ｍは元素周期律表３〜１１族（３族にはランタノイドおよびアクチノイドも含まれる）から選ばれる遷移金属原子を表し、Ｌは窒素含有基、リン含有基、酸素含有基、イオウ含有基、セレン含有基およびシクロペンタジエニル環構造を有する基からなる群から選ばれる結合基を１つ以上含有し、該結合基を介して遷移金属原子Ｍと共有結合、イオン結合または配位結合で結合する単座または多座配位子を表し、ａは配位子Ｌの数を表す１〜３の整数であり、ａが２または３のときはそれぞれのＬは同一でも異なっていても良く、また複数のＬが炭化水素基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、スズ含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、リン含有基、酸素含有基、イオウ含有基および窒素含有基からなる群から選ばれる１つ以上の架橋基を介して相互に結合していても良く、Ｘは水素原子、ハロゲン原子、酸素原子、炭化水素基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、スズ含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、リン含有基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基、ハロゲン含有基およびヘテロ環式化合物残基からなる群から選ばれる原子または基を表し、ｂはＸの数を表す０〜３の整数であり、ｂが２または３のときはそれぞれのＸは同一でも異なっていても良く、また複数のＸが互いに結合して環を形成していても良く、Ｙは電子供与性基を有する中性配位子を表し、ｃはＹの数を表す０〜３の整数であり、ｃが２または３のときはそれぞれのＹは同一でも異なっていても良く、また複数のＹが互いに結合して環を形成していても良い。）
4. 前記第一のオレフィン重合触媒（ＰＣ１）および第二のオレフィン重合触媒（ＰＣ２）が、それぞれ独立に、下記一般式（２）および（３）からなる群から選ばれる１つ以上の遷移金属化合物（Ａ）を含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のオレフィンブロック重合体の製造方法。
   

   

   （式（２）中、Ｍ、Ｘ、ａ、ｂはそれぞれ請求項３に記載の式（１）と同様のものを表し、Ｑは窒素原子または置換基Ｒ²を有する炭素原子を表し、Ｇは酸素原子、イオウ原子、
   セレン原子または置換基Ｒ⁵を有する窒素原子を表し、Ｒ¹は１個以上のヘテロ原子を有する炭化水素基またはヘテロ原子含有基を１個以上有する炭化水素基を表し、Ｒ²〜Ｒ⁵は互いに同一でも異なっていても良く、炭化水素基、ハロゲン原子、水素原子、炭化水素置換シリル基、酸素含有基、窒素含有基、イオウ含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、リン含有基、ハロゲン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基およびスズ含有基からなる群から選ばれる原子または基を表し、これらのうち２個以上が互いに連結して環を形成していても良く、ａが２または３のときはＲ¹同士、Ｒ²同士、Ｒ³同士、Ｒ⁴同士、Ｒ⁵同士は互いに同一でも異なっていても良く、いずれか１つの配
   位子に含まれるＲ²〜Ｒ⁵のうちの１個の基と、他の配位子に含まれるＲ²〜Ｒ⁵のうちの１個の基とが連結されていても良い。）
   

   

   （式（３）中、Ｍ、Ｘ、ｂはそれぞれ請求項３に記載の式（１）と同様のものを表し、Ｒ⁶は水素以外に１〜３０個の原子を含有する炭化水素基を表し、Ｔは水素以外に１〜４０
   個の原子を含有する二価の架橋基を表し、Ｚはルイス塩基官能性を有する炭素原子数５〜４０のヘテロアリール基、またはその二価の誘導体を表す。）
5. 前記ステップ（Ｉ）を実施した後、重合系に第二のオレフィン重合触媒（ＰＣ２）を添加することにより前記ステップ（II）を実施することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のオレフィンブロック重合体の製造方法。
6. 前記ステップ（Ｉ）を実施した後、第一のオレフィン重合触媒（ＰＣ１）の活性を低下させる手段を含むステップ（Ｘ）を実施し、その後前記ステップ（II）を実施することを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載のオレフィンブロック重合体の製造方法。
7. 前記ステップ（Ｘ）における活性を低下させる手段が、加熱処理であることを特徴とする請求項６に記載のオレフィンブロック重合体の製造方法。
8. オレフィンの１種として少なくともエチレンを用いることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載のオレフィンブロック重合体の製造方法。
9. 前記ステップ（Ｉ）におけるオレフィン（Ｍ１）と前記ステップ（II）におけるオレフィン（Ｍ２）とが、異なる種類のオレフィンまたは異なる組成の２種以上のオレフィンであることを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載のオレフィンブロック重合体の製造
   方法。
10. 前記可逆的連鎖移動剤（Ｃ）が、有機アルミニウム化合物または有機亜鉛化合物であることを特徴とする請求項１〜９のいずれかに記載のオレフィンブロック重合体の製造方法。
11. 前記可逆的連鎖移動剤（Ｃ）が、トリエチルアルミニウムまたはジエチル亜鉛であることを特徴とする請求項１０に記載のオレフィンブロック重合体の製造方法。
12. 前記オレフィン重合触媒（ＰＣ１）および／または（ＰＣ２）が、遷移金属化合物（Ａ）と共に、
    （Ｂ−１）有機アルミニウムオキシ化合物、および
    （Ｂ−２）遷移金属化合物（Ａ）と反応してイオン対を形成する化合物、
    から選ばれる少なくとも１種の化合物（Ｂ）を含むことを特徴とする請求項１〜１１に記載のオレフィンブロック重合体の製造方法。

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