JP2010123973A - ピン昇降機およびこれを用いたプレートチャック装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】最近の半導体製造では、装置の更なる薄型化によるコンパクト化とともに、配線パターンの更なる細密化、立体化が進み、プレートの昇降量についても制御可能なプレートチャック装置構造の要求が高まっていた。
【解決手段】ピン昇降機は、回転軸を中心に円周方向に回転する可動体と、該可動体と接続して可動体の回転運動を径方向の直線運動に変換する変換機構と、径方向に沿って傾斜面が形成されるとともに、変換機構に連結して径方向に往復運動するスロープ部と、傾斜面上を摺動または転動する係合部材を有し、該係合部材により鉛直方向にプレートを昇降するピン部を備えた昇降部とを有する。
【選択図】図1

Description

本発明は、例えば半導体製造に用いられる半導体ウエハや液晶製造に用いられる液晶プレートの製造工程で、それらを持ち上げるためのピン昇降機、並びにこのピン昇降機を搭載したプレートチャック装置に関する。
近年、例えば、半導体製造プロセスのドライ処理化や、半導体ウエハ(以下、ウエハという)の大口径化に伴い均一性の高い加工が要求されており、そのためにはウエハを確実にウエハ載置台に固定・保持することが必要となる。これは液晶ディスプレイ等の製造も同様であり、配線パターンのマスク等も同様に載置台への確実な固定、保持を行わなければならない。
例えば、高周波印加電極上にウエハを置いてドライエッチングする反応性イオンエッチング(以下、RIEという)装置において、ウエハはプラズマによって容易に加熱され、ウエハ温度が上昇してエッチングマスクのフォトレジストが熱損傷を受けたり、エッチング形状が悪化したりするため、エッチング中はウエハを所定の温度に冷却する必要がある。そのために、所定の温度に制御された高周波印加電極上にウエハを密着・保持させる必要がある。
このウエハのような各種プレート、マスクの保持手段としては、機械式、真空式のものの他に、例えばプレート載置部の下方に誘電体を介して直流電極を埋め込み、プレートを静電力によって高周波印加電極のプレート載置面に密着させる静電チャックが用いられている。
静電チャックは、プレートの平坦度を良くする真空室内での使用が可能でありプレート表面全面の処理ができるという利点がある。
ところが、強い吸着力によりプレートは効率よく冷却できるものの、エッチング終了後にプレートをプレート載置面より脱離する際に、誘電体膜に残留する電荷により残留吸着力が働き、プレートを簡単に脱離できないため、脱離のためにリフトピンを昇降させて離脱させる技術が実用化されていた(特許文献1〜3参照)。
しかしながら、特許文献1〜3に記載の方法では、リフトピンを駆動させるのにプレート吸着面よりも下の装置構造が複雑に構成されたものであり、装置自体が巨大化してしまう。このように巨大化してしまうような装置構造では、より製造の効率化をはかるためにプレート吸着構造を上下方向に多段化することができないばかりか、自動化を進めた場合に、非常に大きな設置面積を要するために、限られた設置空間では装置数を減らさなければならないものであった。
これに対して、特許文献4に記載の方法は、プレート吸着面よりも下に配置する装置構造を簡略化したものである。すなわち、斜面を有する可動体がプレート吸着面の両側に配置され、可動体を電磁モータで移動させることでリフトピンが接続されたスライド部材が斜面を上昇し、これにより、リフトピンが上昇してプレートの昇降を行える構造が開示され、装置の薄型化、コンパクト化を実現できるものであった。
特開平2−159744号公報 特開平4−271286号公報 特開平5−291194号公報 特開2002−231792号公報
しかしながら、最近の半導体、液晶製造工程等では、プレート吸着装置等の設置面積を少なくして効率化を図るために、装置を従来構造よりも更に薄型化、簡略化する要求が高まっていた。
また、例えば、ウエハに形成する配線パターンの更なる細密化、立体化により、プレートの昇降量や昇降速度についても精密制御可能な装置の要求が高まっており、このような要求には上記特許文献4に記載しているように、両端にスライド部材を用いた装置構造では、設置精度が要求される結果、対応することが非常に困難であった。
本発明では上記課題に鑑み、回転軸を中心に円周方向に回転する可動体と、該可動体と接続して前記可動体の回転運動を径方向の直線運動に変換する変換機構と、径方向に沿って傾斜面が形成されるとともに、上記変換機構に連結して径方向に往復運動するスロープ部と、前記傾斜面上を摺動または転動する係合部材を有し、該係合部材により鉛直方向にプレートを昇降するピン部を備えた昇降部とを有するピン昇降機とした。
好ましくは、前記変換機構がクランク部材を有する。
好ましくは、上記可動体を移動させる駆動源として超音波モータを用いたことを特徴とする。
本発明のプレートチャック装置は、上記ピン昇降機を搭載している。
本発明のピン昇降機を、回転軸を中心に円周方向に回転する可動体と、該可動体と接続して前記可動体の回転運動を径方向の直線運動に変換するクランク部材等変換機構と、径方向に沿って傾斜面が形成されるとともに、上記変換機構に連結して径方向に往復運動するスロープ部と、前記傾斜面上を摺動または転動する係合部材を有し、該係合部材により鉛直方向にプレートを昇降するピン部を備えた昇降部とから構成することによって、プレートチャック(例えば静電チャック等)機構より下側の装置構造を複雑にしないので、従来の装置より薄くしかもコンパクトにすることができる。
また、上記可動体を移動させる駆動源として超音波モータを用いたために、可動体の移動速度、移動量の制御が可能となり、これにより可動体に接続された昇降部の昇降速度、昇降量、すなわちプレートの昇降速度、昇降量の制御が可能となる。
本発明のピン昇降機を示す概略図であり、(a)が平面図、(b)がAA’断面図を示す。 本発明のリフトピンの動作を示す概略図であり、(a)が昇降部と接続されたローラの駆動概略図、(b)が昇降部の端部に設置されたリフトピンの構造概略図を示す。 本発明のピン昇降機に用いる超音波モータの構造概略図であり(a)が正面図、(b)がその裏面図を示す。 本発明のピン昇降機の昇降部の動作を示す概略図である。 本発明のプレートチャック装置の概略断面図を示す。 本発明の他の実施形態を示すピン昇降機を示す概略図であり、(a)が平面図、(b)がAA’断面図、(c)がBB’断面図を示す。 本発明のプレートチャック装置に光学センサからなる速度検出装置を取り付けた場合の概略図であり、(a)が平面図、(b)がBB’断面図を示す。
以下、本発明の実施形態について説明する。
図5に概略断面図を示すように、本発明のプレートチャック装置30は、静電チャック等からなるプレートチャック機構26とその下面側に設置されたピン昇降機1とにより構成される。
上記プレートチャック機構26については、従来から半導体、液晶製造工程等で使用されているものを用いることが可能である。すなわちプレートを持ち上げるためのリフトピンを挿通させる貫通孔を有したプレートチャック機構を用いれば良く、静電チャックや、その他に吸着面に吸着穴を設けこの穴から排気ポンプ等により排気しながらプレートを吸着させる方式等を設置可能である。
図1に本発明のピン昇降機1の一例を示す。(a)が平面図、(b)がAA’断面図を示す。
上記ピン昇降機1は主にベース盤20と、回転体である可動体2と、傾斜通路が形成され可動体2と接続されたスロープ6と、可動体2を移動させる駆動源である超音波モータ11と、可動体2のスロープ6の傾斜面上を摺動あるいは転動し、可動体2の移動から生じる運動をリフトピン3へ昇降運動として伝達するローラ7を備えた昇降部4と、昇降部4の水平方向の移動を規制する規制手段である平行ヒンジ5を備えたアーム部材8とから構成される。
ここで、可動体2としてはスロープ6を設置できればどのような形状であってもよい。例えば直線運動が可能なLMガイドを用いたり、本発明の一例として示した回転軸15に接続した円板200が回転する回転体を用いたりしてもよく、その他にも様々な形態が考えられる。より装置のコンパクト化を実現する場合には回転体を用いるのが好適である。
ピン昇降機1の構成により、これを含むプレートチャック装置30を大幅に薄型化することが可能となる。このように薄型化することは従来から実施されてきたが、本発明では昇降部4、可動体2並びに平行ヒンジ5を備えたアーム部材8からなる規制手段を1つのスロープ6が形成された領域、すなわちスロープ6の傾斜を中心に左右のいずれか一方にまとめて配置することで、よりプレートチャック装置30の薄型化に寄与することができる。
なお、具体的にはプレートチャック装置30の厚みを50mm以下と非常に薄くすることが可能であり、30mm以下にすることがより好適である。
また、可動体2は、ナノオーダーの位置制御ができる超音波モータ11からなる駆動源により回転させることが可能であり、可動体2の移動量、移動速度が反映される上記リフトピン3の昇降速度、昇降量を精密に制御することが可能となる。
以下、図1のピン昇降機1各部の詳細について説明する。
まず、回転体からなる可動体2はローラ7と接続されるスロープ6を備えており、図1(b)に示すように、ベース盤20に回転軸15を中心にベアリング19、支持部材16を介して円板200が接続され、回転軸15を中心に円板200が回転させる事が可能である。また、可動体2の上面側には、回転軸15の緩み防止、ベアリング19へのパーティクルのかみ込み防止のために上蓋9が可動体2にネジ止めされている。
ここで、可動体2の円板200の材質としては金属あるいはセラミックスが適用可能であり、特にセラミックスであれば、アルミナ、窒化珪素、炭化珪素、ジルコニア、炭化チタンのうちの1種以上もしくはそれら2種以上の複合体材料を用いることが可能である。より好適にはコスト面を考慮すればアルミナを用いるのが良く、後述する駆動源である超音波モータ11との摩擦駆動性能を考慮すると、アルミナと炭化チタンの複合焼結体を用いるのが良い。
またベアリング19には転がり軸受け、滑り軸受け等が適用可能であるが、コスト面を考慮すると様々な種類の規格が設定され市販されている転がり軸受けを用いるのが良い。
さらに、上記スロープ6は可動体2の表面である2a面に設けられ、2a面に対して所定の角度、高さの傾斜を有している。このスロープ6の傾斜角度、高さについては様々に調整可能であり、リフトピン3の昇降速度や昇降距離はこのスロープ6の角度、長さ、高さの組み合わせによっても調節可能である。特に可動体2の移動速度が一定である場合、リフトピン3の昇降速度、昇降距離はこのスロープ6の形状の影響が大きい。本発明では可動体2の駆動源として超音波モータ11を用いており、この超音波モータ11により様々に可動体2の移動方向、移動速度、移動距離を調節可能である。すなわち、例えばスロープ6の傾斜を角度30°、高さ3mmとしても、超音波モータ11によって可動体2の可動速度を調整することで、様々なリフトピン3の昇降速度、昇降距離の設定を実施できる。
また、スロープ6にはローラ7が傾斜を越えて可動体2の2a面に落下しないように、スロープ6の最大高さと平行な平行面2cが設けられている。
次に上記可動体2の駆動としては、超音波モータ11を用いるのが好適である。この超音波モータは図3(a)、(b)に一例を示すように、圧電セラミック板21の一方の主面に4分割された電極膜22a、22b、22c、22dを有し、対角に位置する電極膜22aと電極膜22dを結線するとともに、対角に位置する電極膜22bと電極膜22cを結線し、かつ他方の主面には、ほぼ全面に電極膜23を形成した振動体24と、上記圧電セラミック板21の端面に設けた押圧部材12とからなり、上記一方の主面に形成した電極膜22aと電極膜22bにそれぞれ位相を異ならせた電圧を印加するとともに、他方の主面に形成した電極膜23を接地することにより、圧電セラミック板21に縦振動と横振動を発生させ、これらの振動の合成によって押圧部材12を楕円運動させるようになっている。図1では1つの超音波モータに2つの振動体24、押圧部材12を用いた超音波モータを一例として示した。そして上記超音波モータ11の押圧部材12を可動体2の側面に当接させ、超音波モータ11を駆動させることで可動体2を移動させることが可能となる。なお、上記超音波モータ11は入力電圧を制御することで、可動体2の移動方向を変えることや、種々の移動速度を与えることが可能であり、可動体2の移動を様々に調節することができる。また、超音波モータ11とベース盤20との間に高さ調節のためにスペーサ13を設置することができる。
なお、図1では可動体2の駆動源として超音波モータ11を使用したが、従来から用いられている電磁モータを駆動源として、クランク機構等の駆動力伝達手段を介して可動体2を移動させることも可能である。
また、上記超音波モータ11の押圧部材25の材質としては、種々のセラミックスを用いることが可能であるが、アルミナやアルミナと炭化チタンの複合焼結体を用いるのがより好適である。特にアルミナと炭化チタンの複合焼結体を用いれば、熱伝導率が良好なため、可動体2との摩擦駆動により発する熱が系外へ放出し易く、局部的に発熱する当接面とそれ以外の部分の熱応力差が原因で生じる押圧部材当接面の微少クラックの発生を防止することが可能であり、長期間の使用においても押圧部材の劣化が少なく良好な可動体2の移動を長期間にわたって維持することができる。
次に、上記スロープ6の表面に当接するローラ7を有した昇降部4は、その両端にプレートをリフトアップするリフトピン3を備えており、さらに平行ヒンジ5を介してアーム部材8と接続される。そしてアーム部材8はベース盤20に固定された支持部材14に固定ネジ10によって固定されている。この構成により、図2(a)に示すように上記可動体2の移動とともに動作したスロープ6表面に当接されているローラ7は、スロープ6傾斜面上を移動するため、その位置が鉛直方向に図の矢印の分だけ上下動する。ローラ7は昇降部4に接続されており、ローラ7の鉛直方向への上下動により昇降部4も上下する。これに伴って昇降部4両端に取り付けられているリフトピン3も鉛直方向に上下動することとなり、この動作によりプレートはリフトアップされる。
ここで、上記ローラ7はスロープ6表面に押圧される形で接している。この押圧力は昇降部4とアーム部材8を接続する平行ヒンジ5の弾性力によって生み出されている。このようにローラ7に平行ヒンジの弾性力によって昇降部4の鉛直方向の上昇に抗した押圧力を与えることにより、ローラ7がスロープ6の傾斜面上を途中まで上り停止した場合、押圧力によりローラ7を傾斜面上から自動的にスロープ6の平面部まで下ろすことが可能で、これにより昇降部4を下降させることができる。すなわち、駆動源である超音波モータ11により、可動体2を可動させスロープ6傾斜面の途中までローラ7を上昇させて、昇降部4のピン部のリフトピン3を必要量リフトアップさせた後、例えば、超音波モータ11を可動体2より離脱させ、超音波モータを可動体より引き離すことにより可動体2を超音波モータ11により逆方向に可動させることなく自動的にリフトピン3をダウンさせることができる。
なお、ローラ7表面は滑り防止のために摩擦係数の高い樹脂を被覆したり、ゴム製のカバーを取り付けたり或いはローラ7表面およびスロープ6表面の粗さを粗くする等、滑り防止機能が付与されている。
また、昇降部4の両端部に取り付けられたリフトピン3の取り付け構造は図2(b)に示すとおりで、ベース盤20側方向に厚肉とされた昇降部4端部に、図のようにベース盤側孔径を大きく、プレートチャック機構26側孔径を小さくした形状のピン差し込み孔3bを機械加工により施し、そこに終端部をベース盤20孔径にほぼ合わせて加工されたリフトピン3を挿入した後、スプリング17を介して封止部材18によりピン差し込み孔3bを封止している。この構造により、リフトピン3の昇降速度を早くしてその先端が勢いよくウエハ裏側表面に衝突した場合にも、スプリング17が伸縮して衝撃を吸収するため、リフトピン3先端がウエハを傷つけることがない。
また、上記昇降部4は傾斜したスロープ6上を移動するローラ7に接続されているため上下動するが、水平方向の規制手段である平行ヒンジ5なしではローラ7側のみ上下動するため、昇降部4は傾いた状態となる。よってこれに取り付けられたリフトピン3は昇降部4と同じ方向に傾くのみで上下動しない。本発明では平行ヒンジ5を介してアーム部材8と昇降部4を接続することによって、図4に示すように、昇降部4は点線のように平行移動する動作が可能となり、これに伴いリフトピン3は鉛直方向に上下動することができる。
ここで、昇降部4は図の点線で示すようにローラ7軸方向のアーム部材8側に平行移動するため、リフトピン3も同様のずれを生じるが、実際には非常に少ない距離であるため、リフトピン孔3aに一定のクリアランスを設定すればプレートのリフトアップやダウンには影響しない。
さらに、図4では昇降部4とアーム部材8間に1箇所の規制手段しか設置していないが、2箇所以上設置することも可能である。
このように規制手段である平行ヒンジ5の数を増すことで、上記の昇降部4の平行移動に伴うローラ7の軸方向へのずれをより少なくできるために好適である。また、平行ヒンジ5の数を増すことで、昇降部4の平行移動に伴う各平行ヒンジの変位量が少なくなり、昇降部4の平行移動の指向性が高められる為、好適である。
なお、昇降部4、アーム部材8、支持部材14は金属製のものを用いるのが良く、特に軽材質の金属を用いたり、中空のものを用いたりするのが装置の軽量化のためには好適である。また、平行ヒンジ5はローラ7に押圧力を与えるためにも充分な弾性力を有した金属を用いるのが良く、例えば平行ヒンジ5を1mm変形させるのに100gf程度の力を要する弾性力を有した金属を用いるのが好適である。
さらに、リフトピン3は導電性を有している。これにより、リフトアップされてプレートに接触した際に、静電チャック等からなるプレートチャック機構26とした場合のプレート吸着面に残留する電荷を、プレートを介してリフトピン3により除去することが可能となり、残留吸着力をなくし良好なプレート脱離を実施することができる。リフトピン3に導電性を付与する方法としては、リフトピン3自体を導電性を有する金属やセラミックスで製造すれば良い。
また、リフトピン3の先端は、プレートが酸化膜に覆われた状態のものでもその酸化膜を破り、プレート内に残留する電荷をリフトピン3を通じて逃がすために、直角形状または鋭角形状としても良い 以上のような構造のピン昇降機1として、図5に全体概略断面図を示すように、ピン昇降機1上に、静電チャック等からなるプレートチャック機構26をベース盤20に接続される支柱27等を介して設置することにより、本発明のプレートチャック装置30となる。このようなプレートチャック装置30は、従来の装置よりもより薄型化することが可能であり、装置のコンパクト化が可能で設置スペースの確保が容易である。また、超音波モータ11の駆動制御によりリフトピン3の昇降速度、昇降量の微細制御が可能となり、より高精度な配線パターンを有した半導体の製造が可能となる。
本実施の形態によれば、プレートチャック(例えば静電チャック等)機構より下側の装置構造が複雑化することがないので、従来の装置よりもさらに薄型化が可能となる。
すなわち、上記規制手段により、プレートを持ち上げるためのピン部を水平方向の動きを規制しながら鉛直方向に上昇させるという機構を、上記可動体のスロープ部が形成される領域内に設置した構造とできるために、特許文献4に示されるような、傾斜面の両側に規制手段を配置していた構造と比較して省スペース化ができるものである。
また、上記可動体を回転体とし、この回転体の円板の円周方向に沿ってスロープ部を配置したことにより、従来の特許文献4に記載されたプレート吸着面の両側の2箇所以上に可動体を設置する装置構造としたものと比較して、1つの昇降部でリフトピンを昇降させることが可能であるため、装置全体をよりコンパクト化することが可能である。
さらに、上記規制手段を昇降部と接続可能な平行ヒンジを有するアーム部材として、これを上記回転体の回転中心に向けて配置した構造とすることにより、特許文献4に記載されているような可動体の横に規制手段を配置した構造と比較して、装置内の省スペース化が図れ、よりいっそう装置のコンパクト化が実現できる。
次に、図6を用いて本発明に係るピン昇降機の他の実施形態を示す。(a)が平面図、(b)がAA’断面図、(c)がBB’断面図である。
このピン昇降機1は、主に回転軸を中心に円周方向に回転する可動体2と、可動体2と接続して可動体2の回転運動を径方向の直線運動に変換する変換機構であるクランプ部材36と、径方向に沿って傾斜面が形成されるとともに、上記変換機構に連結して径方向に往復運動するスロープ部62と、前記傾斜面上を摺動または転動する係合部材37を有し、係合部材37により鉛直方向にプレート(不図示)を昇降するピン部64を備えた昇降部42とから構成される。ピン部39は、プレートに接して、プレートを直接昇降するリフトピン3と、一端を昇降部42に固定され、回転軸中心から円周に向かって放射状に伸び、先端でリフトピン3を支持するピン支持板38とからなる。また、昇降部42は、係合部材37に接触するとともにピン部39を備える昇降板43と、昇降板43に下向きに固定されるとともに、ベース盤20の鉛直方向に穿設されたガイド45に挿入することで、昇降板43の水平方向の移動を規制するガイドピン44とから構成される。
可動体2は、可動体2を回転させる駆動源である超音波モータ11によって円周方向に回転し、クランプ部材36はこの回転運動を径方向の直線運動に変換する。図5に示すピン昇降機では、可動体2が時計方向に回転すると、クランプ部材36はこの回転運動を径方向の直線運動に変換し、変換機構に連結されたスロープ部62は、回転軸から円周に向かって移動する。スロープ部62の傾斜面は変換機構と接続した部分から反対方向に向かって高くなるように形成されているため、係合部材37はこの傾斜面上を斜め上向きに摺動または転動する。係合部材37と接触する昇降部42は、図6(c)に示されるように水平方向の移動をガイド45及びこのガイド45に挿入されるガイドピン45によって規制されるとともに、ピン部39を鉛直方向に押し上げることで、プレートを持ち上げることができる。
一方、可動体2が反時計方向に回転すると、クランプ部材36はこの回転運動を径方向の直線運動に変換し、変換機構に連結されたスロープ部62は、円周から回転軸に向かって移動する。スロープ部62の傾斜面はクランプ部材36と接続した部分から反対に向かって高くなるように形成されているため、係合部材37はこの傾斜面上を斜め下向きに摺動または転動する。係合部材37と接触する昇降部42は、図6(c)に示されるように水平方向の移動をガイド45及びこのガイド45に挿入されるガイドピン45によって規制されるとともに、ピン部39を鉛直方向に押し下げるので、プレートチャック機構の所定位置にプレートを配置することができる。
なお、図6ではスロープ部62の傾斜面を変換機構と接続した部分から反対に向かって高くなるように形成した場合で示したが、前記傾斜面は変換機構と接続した部分から反対に向かって低くなるように形成してもよい。この場合、可動体2が時計方向に回転するとプレートチャック機構の所定位置にプレートを配置することが可能となり、可動体2が反時計方向に回転するとプレートを持ち上げることができる。
さらに、スロープ部62の傾斜面は平面であっても曲面であってもよい。
なお、変換機構は、省スペース化の観点から上述の通りクランク部材が選択されることが好ましいが、可動体2の回転運動を径方向の直線運動に変換できるものであれば、この限りではない。
図6に示すピン昇降機も図5に示すプレートチャック装置に搭載することで、本発明のプレートチャック装置30とすることができる。このようなプレートチャック装置30は、従来の装置よりも薄型化及びコンパクト化が可能で設置スペースの確保が容易である。また、超音波モータ11の駆動制御によりリフトピン3の昇降速度、昇降量の微細制御が可能となり、より高精度な配線パターンを有した半導体の製造が可能となる。
更には、超音波モータ11の駆動制御(例えば、昇降部4又はリフトピン3の昇降動作)を自動化することも可能である。自動化には、事前に超音波モータ11への入力電圧の設定と、電圧印加時間の設定、又は、昇降部4の上限及び下限位置に対応した可動体2の回転角度へのリミットスイッチ等による信号出力の設定し、上昇及び下降命令信号に伴い、上述の条件の入力電圧を上記設定時間又は上限や下限への到達信号検出まで超音波モータ11に印加する回路に接続することで実現可能である。
また、上記ピン昇降機1に、可動体2の速度を計測するための光学センサを取り付け、その速度情報を基に次の超音波モータへの入力電圧を決定するようなフィードバック制御を実施することもできる。
例えば図6(a)に本発明のピン昇降機1に、光学センサからなる速度検出装置を取り付けた概略図を示す。図では速度検出装置の取り付け位置をわかりやすくするために、昇降部4やアーム部材8等の記載は省略してある。
図6(a)に示すように可動体2の円周方向に規則正しく配列された複数の窓部33を有する扇形の金属板からなるシャッタ31を取り付け、該シャッタ31を間に挟んで発光素子34からの光を受光可能な受光素子35からなる光学センサ32をベース盤20に固定する。このとき、光学センサ32は図6(b)にBB’断面図を示すように、可動体2が定位置に停止した状態で窓部33から発光素子34の光を受光素子35により受光可能な位置に取り付ける。上記光学センサは発光素子34からの光を受光素子35で受光すると受光素子35に入射する光量によって、受光素子35から出力される信号(電圧、電流値)が変化する。従って、シャッタ31が可動体2の移動とともに動くと、発光素子34からの光はシャッタ31の窓部33間の遮蔽部によって遮られたり、次の窓部33から再び受光素子によって受光される。このとき、発光素子34より発せられた光は、シャッタ31に遮られた分を除き、開口部より受光素子35に入る。
この場合、受光素子35への入射光量=K×受光部面積(Kは比例定数)という関係が成り立ち、入射光量は受光部面積に比例する。そして移動体2の移動に伴いシャッタ31が動き、遮蔽、受光を行うため、受光素子35の受光面積が変化し、同時に受光素子35への入射光量が変化する。今、受光素子35のシャッタ31移動方向に対し、垂直方向の幅が一定であるならば、受光素子35への入射光量よりシャッタ31遮光部の受光素子35に対する位置が判明するため、この位置信号を微分することによりシャッタ31の速度が算出できることになる。当然、更にこれを微分すれば、可動体2の加速度をも求めることが可能となる。
上記のように可動体2の速度を求めこれを基に超音波モータ11の速度制御を実施することによって、より高精度にリフトピン3の昇降速度を制御することが可能である。
なお、上記発光素子34としては発光ダイオードまたは、レーザダイオード等が、受光素子35としてはフォトダイオードやフォトトランジスタ等が用いられる。
なお、本発明のプレートチャック装置においては、その要旨を逸脱しない範囲であれば、種々改良や変更したものにも適用できることはいう迄もない。
以下本発明の実施例を示す。
図1に記載の本発明のプレートチャック装置のピン昇降機1を製作し、その後静電チャックからなるプレートチャック機構と組み合わせて半導体製造工程で使用されるダミーウエハの昇降試験を実施した。
まず外径50mmの可動体2を金属材料により作製し、これをφ150mmのベース盤20にベアリング19、金属製の支持部材16を介して先端がネジ構造の回転軸15を用いて固定する。なお、可動体2の2a面には傾斜角30°、高さ5mmのスロープ6を可動体2の円周方向に左右対称に設置している。
次にベース盤20の一端に金属からなる支持部材14をベース盤20の裏側からネジ止めして固定し、この支持部材14に更に図1(a)のように回転体の中心線とアーム部材8の幅方向中心を一致させるように固定する。そして、アーム部材8と同材質の平行ヒンジ5を介してリフトピン3を両端に、先端にローラ7を備えた昇降部4を一体となるようにネジ止めにより接続した。
なお、ローラ7は表面にゴム製のカバーを装着させ、その表面が可動体2に設置されたスロープ6表面上を転動するよう予め設計しておく。そして可動体2が可動すればスロープ6の傾斜面上を昇降部4が水平を保ちながら上下動するように動作確認する。
その後、上記昇降部4の対向に、可動体2の外周表面に押圧部材12が当接するように、図3に示す構造の超音波モータ11をスペーサ13を介して高さ調節した後固定する。そして、超音波モータ11を駆動させ、昇降部4並びにリフトピン3が鉛直方向へ問題なく動作することを確認し、ピン昇降機1を組み立てた。
そして上記ピン昇降機1の上部に静電チャックからなるプレートチャック機構26をベース盤20にネジ止め固定した支柱27を介して設置して本発明のプレートチャック装置30を作製した。
上記のように作製したプレートチャック装置30は、ベース盤20裏面から静電チャックからなるプレートチャック機構26の上面までの厚さが30mmと非常に薄型であった。
次に、このプレートチャック装置を用いて実際にダミーウエハを使って昇降試験を行ったところ問題無くウエハのリフトアップ、ダウンが実施できることが確認された。
更に、超音波モータ11への入力電圧を変化させたところ、ウエハの昇降速度も様々に設定できることが確認された。また、可動体2に設置したスロープ6の傾斜面の任意の位置で超音波モータ11により可動体2を逆回転させることによりウエハの昇降距離を任意の位置に設定することも可能であり、この応用によりウエハの昇降距離の調整も自由に実施できることが確認された。
1:ピン昇降機
2:可動体
2a:可動体表面
2c:平行面
3:リフトピン
3a:リフトピン穴
3b:ピン差し込み穴
41,42:昇降部
5:平行ヒンジ
61,62:スロープ部
7:ローラ
8:アーム部材
9:上蓋
10:固定ネジ
11:超音波モータ
12:押圧部材
13:スペーサ
14,16:支持部材
15:回転軸
17:スプリング
18:封止部材
19:ベアリング
20:ベース盤
21:圧電セラミック板
22a、22b、22c、22d、23:電極膜
24:振動体
25:押圧部材
26:プレートチャック機構
27:支柱
30:プレートチャック装置
31:シャッタ
32:光学センサ
33:窓部
34:発光素子
35:受光素子
36:クランプ部材
37:係合部材
38:ピン支持板
39:ピン部
43:昇降板
44:ガイドピン
45:ガイド

Claims (4)

  1. 回転軸を中心に円周方向に回転する可動体と、該可動体と接続して前記可動体の回転運動を径方向の直線運動に変換する変換機構と、径方向に沿って傾斜面が形成されるとともに、上記変換機構に連結して径方向に往復運動するスロープ部と、前記傾斜面上を摺動または転動する係合部材を有し、該係合部材により鉛直方向にプレートを昇降するピン部を備えた昇降部とを有することを特徴とするピン昇降機。
  2. 前記変換機構がクランク部材を有することを特徴とする請求項1に記載のピン昇降機。
  3. 上記可動体を移動させる駆動源として超音波モータを用いたことを特徴とする請求項1又は2のいずれかに記載のピン昇降機。
  4. 請求項1乃至3のいずれかに記載のピン昇降機を搭載したことを特徴とするプレートチャック装置。
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