JP2010119482A - 浴槽装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】この浴槽装置では、ナノバブル含有浴槽水製造部63の第1槽5でもってマイクロバブル発生装置65が発生するマイクロバブルを浴槽水に含有させることをスタートとし、次に、第2槽11,第3槽20の各槽のマイクロナノバブル発生装置66,ナノバブル発生装置67にて、順次、マイクロナノバブル、ナノバブルを生成して浴槽水に含有させることができる。そして、これら各槽のマイクロバブル発生器としては、市販の汎用品を採用できる。すなわち、市販の汎用品である3台のマイクロバブル発生器を使用して、ナノバブル含有浴槽水を製造して、浴槽部64で利用できる。
【選択図】図1
Description
上記浴槽部からの浴槽水が導入されると共に上記浴槽水にナノバブルを含有させて上記ナノバブルを含有した浴槽水を上記浴槽部に導入するナノバブル含有浴槽水製造部とを備え、
上記ナノバブル含有浴槽水製造部は、
上記浴槽部からの浴槽水が導入されると共にマイクロバブル発生器が設置されていて上記浴槽水にマイクロバブルを含有させる第1槽と、
上記第1槽から上記マイクロバブルを含有した浴槽水が導入されると共にマイクロバブル発生器が設置されていて上記浴槽水にマイクロナノバブルを含有させる第2槽と、
上記第2槽から上記マイクロナノバブルを含有する浴槽水が導入されると共にマイクロバブル発生器が設置されていて上記浴槽水にナノバブルを含有させる第3槽と、
上記第3槽から上記ナノバブルを含有する浴槽水が導入されると共に上記浴槽水中の垢を浮上させて除去する第4槽と、
上記第4槽から上記ナノバブルを含有する浴槽水が導入されると共に上記浴槽水が含有するナノバブル量と相関関係がある上記浴槽水の酸化還元電位もしくはゼータ電位を測定する電位測定部を含む第5槽とを有し、
上記浴槽部は、上記第5槽から上記ナノバブルを含有する浴槽水が導入されることを特徴としている。
上記第1,第2,第3槽のうちの少なくとも1槽に界面活性剤を添加する界面活性剤添加部と、上記第1,第2,第3槽のうちの少なくとも1槽に無機塩類を添加する無機塩類添加部とのうちの少なくとも一方と、
上記第5槽の上記電位測定部が測定した酸化還元電位もしくはゼータ電位に基づいて、上記界面活性剤添加部による界面活性剤の添加量または上記無機塩類添加部による無機塩類の添加量の少なくとも一方の添加量を制御する制御部とを有する。
上記第1,第2,第3槽のうちの少なくとも1槽に界面活性剤を添加する界面活性剤添加部を有する。
上記第1,第2,第3槽のうちの少なくとも1槽に無機塩類を添加する無機塩類添加部を有する。
上記第1,第2,第3槽のうちの少なくとも1槽に界面活性剤を添加する界面活性剤添加部と、
上記第1,第2,第3槽のうちの少なくとも1槽に無機塩類を添加する無機塩類添加部とを有する。
上記ナノバブル含有浴槽水製造部は、上記界面活性剤添加部を有し、
上記制御部は、上記電位測定部が測定した上記浴槽水の酸化還元電位に基づいて、上記界面活性剤添加部による界面活性剤の添加量を制御する。
上記ナノバブル含有浴槽水製造部は、上記無機塩類添加部を有し、
上記制御部は、上記電位測定部が測定した上記浴槽水の酸化還元電位に基づいて、上記無機塩類添加部による無機塩類の添加量を制御する。
上記ナノバブル含有浴槽水製造部は、上記界面活性剤添加部と上記無機塩類添加部の両方を有し、
上記制御部は、上記電位測定部が測定した上記浴槽水の酸化還元電位に基づいて、上記界面活性剤添加部による界面活性剤の添加量および上記無機塩類添加部による無機塩類の添加量を制御する。
上記制御部は、上記電位測定部が測定した上記浴槽水のゼータ電位に基づいて、上記界面活性剤添加部による界面活性剤の添加量または上記無機塩類添加部による無機塩類の添加量の少なくとも一方の添加量を制御する。
浴槽と、
上記浴槽からのオーバーフロー水が導入されるオーバーフロー配管と、
上記浴槽の底部からの底部水が導入される下部配管と
上記オーバーフロー配管と下部配管から上記オーバーフロー水と底部水とが導入されると共に上記オーバーフロー水と底部水とを混合して上記ナノバブル含有浴槽水製造部の第1槽に導入する循環ポンプとを有する。
図1は、本発明に関する第1実施形態を示す図である。すなわち、第1実施形態は、この発明のナノバブルを利用した健康浴槽装置68である。この健康浴槽装置68は、ナノバブル含有浴槽水製造部63と健康浴槽部64から構成されている。
また、第1槽5には、必要に応じて、無機塩類タンク37から無機塩類が第4定量ポンプ38により、薬品配管42を経由して添加される。
(1) 第1槽(マイクロバブル発生槽)5:マイクロバブル発生装置65と、界面活性剤と無機塩類の添加によるマイクロバブルの多量発生のための槽
(2) 第2槽(マイクロナノバブル発生槽)11:マイクロナノバブル発生装置66と、界面活性剤と無機塩類の添加によるマイクロナノバブルの多量発生のための槽
尚、マイクロナノバブル発生装置66は、正確に表現すると、マイクロバブル発生装置である。しかし、このマイクロナノバブル発生装置66には、第1槽65で形成されたマイクロバブル含有液体がオーバーフロー配管10から流入する。そして、そのマイクロバブル含有液体をさらにマイクロナノバブル発生装置(マイクロバブル発生装置)66でせん断する。これにより、マイクロナノバブル発生装置66では、マイクロナノバブルが発生する。
(3) 第3槽(ナノバブル発生槽)20:ナノバブル発生装置67は、正確に表現すると、マイクロバブル発生装置である。しかし、このナノバブル発生装置67には、第2槽(マイクロナノバブル発生槽)11で形成されたマイクロナノバブル含有液体がオーバーフロー配管19から流入する。そして、そのマイクロナノバブル含有液体をさらにナノバブル発生装置(マイクロバブル発生装置)67でせん断することで、ナノバブルを中心としたマイクロバブルとの混合物(ナノバブル等)が発生する。
(4) 第4槽(垢分離槽)48:第1槽5,第2槽11,第3槽20の各槽において、各種バブルが付着することによって浮上した垢の集合体は、この第4槽(垢分離槽)48に導入され、この第4槽(垢分離槽)48において、垢集合体と浴槽水とに物理的に分離される。この分離された垢集合体は、垢排水配管53から排出される。
(5) 第5槽(測定槽)29:この第5槽29は、上述の第3槽20までで発生し、上記第4槽(垢分離槽)48を経由したナノバブルの量を、ナノバブルが有する酸化還元電位で測定するための槽である。この第5槽29において、ナノバブル量が不足している場合、すなわち酸化還元電位が設定値よりも低い場合は、シーケンサー31で第1〜第3定量ポンプ33〜35,第4〜第6定量ポンプ38〜40のうちの少なくとも1つを駆動,制御する。これにより、第1,第2,第3槽5,11,20のうちの少なくとも1つの槽に界面活性剤または無機塩類の少なくとも一方を添加して、上記酸化還元電位が設定値となるようにナノバブル量を増加させることができる。
流体力学的に圧力を制御し、負圧形成部分から気体を吸入し、高速流体運動させて、負圧部を形成し、バブルを発生させる。より解り易く簡単に説明すると、水と空気を効果的に自給,混合,溶解し、圧送することにより、マイクロナノバブルやナノバブルを製造することができる。
次に、図2に、この発明の健康浴槽装置の第2実施形態を示す。この第2実施形態は、前述の第1実施形態における無機塩類タンク37,第4定量ポンプ38,第5定量ポンプ39,第6定量ポンプ40が設置されていない点だけが、前述の第1実施形態と異なっている。よって、この第2実施形態では、前述の第1実施形態と同じ部分については同じ符号を付して、前述の第1実施形態と異なる部分を主に説明する。
次に、図3に、この発明の健康浴槽装置の第3実施形態を示す。この第3実施形態は、前述の第1実施形態における界面活性剤タンク32,第1定量ポンプ33,第2定量ポンプ34,第3定量ポンプ35が設置されていない点だけが、前述の第1実施形態と異なっている。よって、この第3実施形態では、前述の第1実施形態と同じ部分については、同じ符号を付して、前述の第1実施形態と異なる部分を主に説明する。
次に、図4に、この発明の健康浴槽装置の第4実施形態を示す。この第4実施形態は、前述の第1実施形態における酸化還元電位検出部30と酸化還元電位調節計68に替えて、ゼータ電位検出部69とゼータ電位調節計70を備えた点だけが、前述の第1実施形態と異なる。よって、この第4実施形態では、前述の第1実施形態と同じ部分については、同じ符号を付して、前述の第1実施形態と異なる部分を説明する。
次に、図5にこの発明の健康浴槽装置の第5実施形態を示す。この第5実施形態は、前述の第1実施形態における水中ポンプ型マイクロバブル発生機6等から構成されるマイクロバブル発生装置65に替えて、マイクロバブル発生器72、循環ポンプ74等から構成されるマイクロバブル発生装置95が第1水槽5に設置されている点だけが、前述の第1実施形態と異なる。よって、この第5実施形態では、前述の第1実施形態と同じ部分については、同じ符号を付けて、前述の第1実施形態と異なる部分を主に説明する。
次に、図6に、この発明の健康浴槽装置の第6実施形態を示す。この第6実施形態では、前述の第1実施形態における第4槽48に充填されていた活性炭51,活性炭収容袋50に替えて、ラジウム鉱石収容袋79に収容されたラジウム鉱石80が第4槽48に充填されている点のみが、前述の第1実施形態と異なっている。よって、この第6実施形態では、前述の第1実施形態と同じ部分については、同じ符号を付けて、詳細説明を省略し、前述の第1実施形態と異なる部分を説明する。
次に、図7に、この発明の健康浴槽装置の第7実施形態を示す。この第7実施形態では、前述の第1実施形態における第4槽48に充填されていた活性炭51,活性炭収容袋50に替えて、固定金具81に取り付けたポリ塩化ビニリデン充填物82が第4槽48に充填されている点のみが、前述の第1実施形態と異なっている。よって、この第7実施形態では、前述の第1実施形態と同じ部分については、同じ符号を付けて、詳細説明を省略し、前述の第1実施形態と異なる部分を説明する。
次に、図8に、この発明の健康浴槽装置の第8実施形態を示す。この第8実施形態は、前述の第1実施形態における第4槽48に充填されていた活性炭51,活性炭収容袋50に替えて、炭酸カルシウム鉱物収容袋83に収容された炭酸カルシウム鉱物84が第4槽48に充填されている点のみが、前述の第1実施形態と異なっている。よって、この第8実施形態では、前述の第1実施形態と同じ部分については、同じ符号を付けて、詳細説明を省略し、前述の第1実施形態と異なる部分を説明する。
図1に示した第1実施形態に基いて、健康浴槽装置68をナノバブル含有浴槽水製造部63と健康浴槽部64とで構成した実験装置を製作した。この実験装置では、ナノバブル含有浴槽水製造部63の第1槽5の容量を0.04m3、第2槽11の容量を0.04m3、第3槽20の容量を0.04m3、第4槽48の容量を0.06m3、第5槽29の容量を0.02m3とした。また、健康浴槽部64の健康浴槽1の容量を0.20m3とし、界面活性剤タンク32の容量を0.02m3とし、無機塩類タンク37の容量を0.02m3とした。
2 健康浴槽水面
3 水配管
4 オーバーフロー配管
5 第1槽
6 水中ポンプ型マイクロバブル発生機
7 小型ブロワー
8 気体配管
9 バブル水流
10 オーバーフロー配管
11 第2槽
12 バブル水流
13 マイクロナノバブル発生器
14 吸い込み配管
15 循環ポンプ
16 気体配管
17 気体ニードルバルブ
18 水配管
19 オーバーフロー配管
20 第3槽
21 バブル水流
22 ナノバブル発生器
23 吸い込み配管
24 循環ポンプ
25 気体配管
26 気体ニードルバルブ
27 水配管
28 オーバーフロー配管
29 第5槽
30 酸化還元電位検出部
31 シーケンサー
32 界面活性剤タンク
33 第1定量ポンプ
34 第2定量ポンプ
35 第3定量ポンプ
36 第1撹拌機
37 無機塩類タンク
38 第4定量ポンプ
39 第5定量ポンプ
40 第6定量ポンプ
41 第2撹拌機
42〜47 薬品配管
48 第4槽
49 第4槽水面
50 活性炭収容袋
51 活性炭
52 穴あき支持台
53 垢排水配管
54 下部連通配管
55 信号線
56、57 バルブ
58 下部水配管
59 吸い込み配管
60 健康浴槽循環ポンプ
61 健康浴槽循環配管
62 酸化還元電位調節計
63 ナノバブル含有浴槽水製造部
64 健康浴槽部
65、95 マイクロバブル発生装置
66 マイクロナノバブル発生装置
67 ナノバブル発生装置
68 健康浴槽装置
69 ゼータ電位検出部
70 ゼータ電位調節計
71 バブル水流
72 マイクロバブル発生器
73 吸い込み配管
74 循環ポンプ
75 気体配管
76 気体ニードルバルブ
77 水配管
78 給湯配管
79 ラジウム鉱石収容袋
80 ラジウム鉱石
81 固定金具
82 ポリ塩化ビニリデン充填物
83 炭酸カルシウム収容袋
84 炭酸カルシウム鉱物
Claims (18)
- 浴槽部と、
上記浴槽部からの浴槽水が導入されると共に上記浴槽水にナノバブルを含有させて上記ナノバブルを含有した浴槽水を上記浴槽部に導入するナノバブル含有浴槽水製造部とを備え、
上記ナノバブル含有浴槽水製造部は、
上記浴槽部からの浴槽水が導入されると共にマイクロバブル発生器が設置されていて上記浴槽水にマイクロバブルを含有させる第1槽と、
上記第1槽から上記マイクロバブルを含有した浴槽水が導入されると共にマイクロバブル発生器が設置されていて上記浴槽水にマイクロナノバブルを含有させる第2槽と、
上記第2槽から上記マイクロナノバブルを含有する浴槽水が導入されると共にマイクロバブル発生器が設置されていて上記浴槽水にナノバブルを含有させる第3槽と、
上記第3槽から上記ナノバブルを含有する浴槽水が導入されると共に上記浴槽水中の垢を浮上させて除去する第4槽と、
上記第4槽から上記ナノバブルを含有する浴槽水が導入されると共に上記浴槽水が含有するナノバブル量と相関関係がある上記浴槽水の酸化還元電位もしくはゼータ電位を測定する電位測定部を含む第5槽とを有し、
上記浴槽部は、上記第5槽から上記ナノバブルを含有する浴槽水が導入されることを特徴とする浴槽装置。 - 請求項1に記載の浴槽装置において、
上記ナノバブル含有浴槽水製造部は、
上記第1,第2,第3槽のうちの少なくとも1槽に界面活性剤を添加する界面活性剤添加部と、上記第1,第2,第3槽のうちの少なくとも1槽に無機塩類を添加する無機塩類添加部とのうちの少なくとも一方と、
上記第5槽の上記電位測定部が測定した酸化還元電位もしくはゼータ電位に基づいて、上記界面活性剤添加部による界面活性剤の添加量または上記無機塩類添加部による無機塩類の添加量の少なくとも一方の添加量を制御する制御部とを有することを特徴とする浴槽装置。 - 請求項1または2に記載の浴槽装置において、
上記ナノバブル含有浴槽水製造部は、
上記第1,第2,第3槽のうちの少なくとも1槽に界面活性剤を添加する界面活性剤添加部を有することを特徴とする浴槽装置。 - 請求項1または2に記載の浴槽装置において、
上記ナノバブル含有浴槽水製造部は、
上記第1,第2,第3槽のうちの少なくとも1槽に無機塩類を添加する無機塩類添加部を有することを特徴とする浴槽装置。 - 請求項1または2に記載の浴槽装置において、
上記ナノバブル含有浴槽水製造部は、
上記第1,第2,第3槽のうちの少なくとも1槽に界面活性剤を添加する界面活性剤添加部と、
上記第1,第2,第3槽のうちの少なくとも1槽に無機塩類を添加する無機塩類添加部とを有することを特徴とする浴槽装置。 - 請求項2に記載の浴槽装置において、
上記電位測定部は、上記浴槽水の酸化還元電位を測定し、
上記ナノバブル含有浴槽水製造部は、上記界面活性剤添加部を有し、
上記制御部は、上記電位測定部が測定した上記浴槽水の酸化還元電位に基づいて、上記界面活性剤添加部による界面活性剤の添加量を制御することを特徴とする浴槽装置。 - 請求項2に記載の浴槽装置において、
上記電位測定部は、上記浴槽水の酸化還元電位を測定し、
上記ナノバブル含有浴槽水製造部は、上記無機塩類添加部を有し、
上記制御部は、上記電位測定部が測定した上記浴槽水の酸化還元電位に基づいて、上記無機塩類添加部による無機塩類の添加量を制御することを特徴とする浴槽装置。 - 請求項2に記載の浴槽装置において、
上記電位測定部は、上記浴槽水の酸化還元電位を測定し、
上記ナノバブル含有浴槽水製造部は、上記界面活性剤添加部と上記無機塩類添加部の両方を有し、
上記制御部は、上記電位測定部が測定した上記浴槽水の酸化還元電位に基づいて、上記界面活性剤添加部による界面活性剤の添加量および上記無機塩類添加部による無機塩類の添加量を制御することを特徴とする浴槽装置。 - 請求項8に記載の浴槽装置において、
上記界面活性剤添加部は、上記第1,第2,第3槽の各槽に界面活性剤を添加し、上記無機塩類添加部は、上記第1,第2,第3槽の各槽に無機塩類を添加することを特徴とする浴槽装置。 - 請求項2に記載の浴槽装置において、
上記電位測定部は、上記浴槽水のゼータ電位を測定し、
上記制御部は、上記電位測定部が測定した上記浴槽水のゼータ電位に基づいて、上記界面活性剤添加部による界面活性剤の添加量または上記無機塩類添加部による無機塩類の添加量の少なくとも一方の添加量を制御することを特徴とする浴槽装置。 - 請求項1から10のいずれか1つに記載の浴槽装置において、
上記第4槽に活性炭が充填されていることを特徴とする浴槽装置。 - 請求項1から10のいずれか1つに記載の浴槽装置において、
上記第4槽に木炭が充填されていることを特徴とする浴槽装置。 - 請求項1から10のいずれか1つに記載の浴槽装置において、
上記第4槽にラジウム鉱石が充填されていることを特徴とする浴槽装置。 - 請求項1から10のいずれか1つに記載の浴槽装置において、
上記第4槽にポリ塩化ビニリデン充填物が充填されていることを特徴とする浴槽装置。 - 請求項1から10のいずれか1つに記載の浴槽装置において、
上記第4槽に炭酸カルシウム鉱物が充填されていることを特徴とする浴槽装置。 - 請求項1から15のいずれか1つに記載の浴槽装置において、
上記浴槽部は、
浴槽と、
上記浴槽からのオーバーフロー水が導入されるオーバーフロー配管と、
上記浴槽の底部からの底部水が導入される下部配管と
上記オーバーフロー配管と下部配管から上記オーバーフロー水と底部水とが導入されると共に上記オーバーフロー水と底部水とを混合して上記ナノバブル含有浴槽水製造部の第1槽に導入する循環ポンプとを有することを特徴とする浴槽装置。 - 請求項1から16のいずれか1つに記載の浴槽装置において、
上記ナノバブル含有浴槽水製造部の第1槽,第2槽,第3槽の各槽が有するマイクロバブル発生器は、空気を自吸する加圧溶解ポンプを含んでいることを特徴とする浴槽装置。 - 請求項16または17に記載の浴槽装置において、
上記浴槽部が有する循環ポンプを、空気を自吸する加圧溶解ポンプとしたことを特徴とする浴槽装置。
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