JP2010117714A - 光学素子、指向性拡散フィルムおよび光学素子の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 フィルム状透明マトリックス中に複数の貫通孔を有し、前記複数の貫通孔が、互いに軸方向が略平行となる状態で配置されており、前記貫通孔の軸方向が、前記フィルム状透明マトリックスの厚さ方向に対して、傾斜している、または略平行であることを特徴とする。
【選択図】 図3
Description
デジタルマイクロメーター(アンリツ製(株)、商品名「K−351C型」)を用い、基材に挟まれた状態の光学素子の全体厚さを測定し、前記全体厚さから、基材の厚さを差し引くことにより、光学素子の厚さを算出した。
散乱光学特性は、光学フィルム特性評価装置(シグマ光機(株)製、商品名「ゴニオフォトメーター」)を用いて測定した。
光学素子の表面、および断面の形状は、300mm対応半導体FPD検査顕微鏡(オリンパス(株)製、商品名「MX61L」)を用いて観察した。光学素子表面は倍率100倍で、光学素子断面は倍率50倍で観察を行った。
光学素子の貫通孔の直径は、光学素子表面の顕微鏡写真を倍率100倍で撮影し、1サンプルあたり40点について算出し、その操作を4回行った。直径の平均値については、前記40点の観察結果の平均値を算出し、この操作を4回行い、それぞれの算出結果の平均値を求めた。
モノマーとして、商品名「Paliocolor(登録商標)LC242」(BASF社製、SP値:12.3)を0.4g、低分子物質として、シクロペンタノン(CPN、SP値:10.4)を0.38g、および光重合開始剤としてイルガキュアー184(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)を0.02g混合して、光学素子形成材料とした。LC242は2つのアクリレート基を有する、下記化学式(2)で表わされる液晶モノマーである。
モノマーとして、前記LC242(SP値:12.3)を0.2g、低分子物質として、CPN(SP値:10.4)を0.79g、および光重合開始剤としてイルガキュアー184を0.01g混合して光学素子形成材料とした以外は、実施例1と同様な条件にて、本実施例に係る光学素子を作製した。
モノマーとして、前記LC242(SP値:12.3)を0.4g、低分子物質として、塩化メチレン(SP値:9.7)を0.38g、および光重合開始剤としてイルガキュアー184を0.02g混合して光学素子形成材料とした以外は、実施例1と同様な条件にて、本実施例に係る光学素子を作製した。
モノマーとして、前記LC242(SP値:12.3)を0.2g、低分子物質として、塩化メチレン(SP値:9.7)を0.79g、および光重合開始剤としてイルガキュアー184を0.01g混合して光学素子形成材料とした以外は、実施例1と同様な条件にて、本実施例に係る光学素子を作製した。
図4に示すように、紫外線照射側のPETフィルム2の上に半値幅20°の拡散板3(Luminit社製、商品名「LSD20」、厚み135μm)を設置した以外は、実施例1と同様な条件にて、本実施例に係る光学素子を作製した。前記光学素子を有するPETフィルムの散乱特性を測定したところ、図2に示す特性を示し、実施例1よりは弱いものの指向性散乱が確認できた。
モノマーとして、前記LC242(SP値:12.3)を0.4g、低分子物質として、CPN(SP値:10.4)を0.38g、および光重合開始剤としてイルガキュアー184を0.02g混合して光学素子形成材料とした。以外は、実施例1と同様な条件にて、本実施例に係る光学素子を作製した。
モノマーとして、前記LC242(SP値:12.3)を0.4g、低分子物質として、CPN(SP値:10.4)を0.38g、および光重合開始剤としてイルガキュアー184を0.02g混合して光学素子形成材料とした。前記光学素子形成材料を、実施例1と同様に、2枚のPETフィルム間に挟み込み、光学素子形成材料層とした。これを紫外線照射装置(山下電装(株)製、紫外線照射光源「HC−300FM」)に置き、波長365nmの偏光コリメート光(140(mJ/cm2)・min、2mW/cm2)を、前記フィルムの法線方向から30°の入射角で照射した。
モノマーとして、モノアクリレートであるベンジルメタクリレート(SP値:10.8)を用いた以外は、実施例1と同様な条件とした。しかし、紫外線照射後も、光学素子形成材料層はフィルム化しなかった。
モノマーとして、モノアクリレートであるベンジルメタクリレート(SP値:10.8)を用いた以外は、実施例2と同様な条件とした。しかし、紫外線照射後も、光学素子形成材料層はフィルム化しなかった。
モノマーとして、モノアクリレートであるベンジルメタクリレート(SP値:10.8)を用いた以外は、実施例3と同様な条件とした。しかし、紫外線照射後も、光学素子形成材料層はフィルム化しなかった。
モノマーとして、モノアクリレートであるベンジルメタクリレート(SP値:10.8)を用いた以外は、実施例4と同様な条件とした。しかし、紫外線照射後も、光学素子形成材料層はフィルム化しなかった。
モノマーとして、モノアクリレートであるベンジルメタクリレート(SP値:10.8)を、低分子物質としてキシレン(SP値:8.8)を用いた以外は、実施例3と同様な条件とした。しかし、紫外線照射後も、光学素子形成材料層はフィルム化しなかった。
モノマーとして、モノアクリレートであるベンジルメタクリレート(SP値:10.8)を、低分子物質としてキシレン(SP値:8.8)を用いた以外は、実施例4と同様な条件とした。しかし、紫外線照射後も、光学素子形成材料層はフィルム化しなかった。
図4に示すように、紫外線照射側のPETフィルム2の上に半値幅40°の拡散板3(Luminit社製、商品名「LSD40」、厚み135μm)を設置した以外は、実施例1と同様な条件にて、本比較例に係る光学素子を作製した。光学素子形成材料層はフィルム化したが、前記光学素子を有するPETフィルムの散乱特性を測定したところ、図2に示す特性を示し、指向性散乱は確認できなかった。
低分子物質として酢酸エチル(SP値:9.1)を用いた以外は、実施例2と同様な条件にて、本比較例に係る光学素子を作製した。光学素子形成材料層はフィルム化(白濁硬化)したが、前記光学素子を有するPETフィルムの散乱特性を測定したところ、図6に示す特性を示し、指向性散乱は確認できなかった。また、作製した光学素子の表面と断面の観察を行ったところ、図7の写真に示すように、得られた光学素子の表面には、実施例1に係る光学素子で見られた略円形の構造は見られなかった。また、得られた光学素子の厚み方向には、貫通孔も見られなかった。
低分子物質としてトルエン(SP値:8.9)を用いた以外は、実施例2と同様な条件にて、本比較例に係る光学素子を作製した。光学素子形成材料層はフィルム化(白濁硬化)したが、前記光学素子を有するPETフィルムの散乱特性を測定したところ、比較例8と同様に指向性散乱は確認できなかった。
2 基材
3 拡散板
Claims (14)
- フィルム状透明マトリックス中に複数の貫通孔を有し、前記複数の貫通孔が、互いに軸方向が略平行となる状態で配置されており、前記貫通孔の軸方向が、前記フィルム状透明マトリックスの厚さ方向に対して、傾斜している、または略平行であることを特徴とする光学素子。
- 前記貫通孔の直径が、0.5〜10μmの範囲である請求項1記載の光学素子。
- 厚さが10〜470μmの範囲である請求項1または2記載の光学素子。
- 光学素子を有する指向性拡散フィルムであって、前記光学素子が、請求項1から3のいずれか一項に記載の光学素子であることを特徴とする指向性拡散フィルム。
- フィルム状透明マトリックス中に複数の貫通孔を有し、前記複数の貫通孔が、互いに軸方向が略平行となる状態で配置されており、前記貫通孔の軸方向が、前記フィルム状透明マトリックスの厚さ方向に対して、傾斜している、または略平行であって、前記貫通孔には低分子物質が充填された状態である光学素子を製造する方法であって、
互いのSP値の差が、1.5〜3の範囲である光重合性官能基を含むモノマーと低分子物質とを含む光学素子形成材料を準備する工程と、
前記光学素子形成材料を基材上に展開して光学素子形成材料層を形成する工程と、
前記光学素子形成材料層に平行光線を照射する工程とを含むことを特徴とする光学素子の製造方法。 - 前記モノマーとして、SP値が11.7〜13.4の範囲であるものを用いる請求項5記載の光学素子の製造方法。
- 前記低分子物質として、SP値が、9.7〜10.4の範囲であるものを用いる請求項5または6に記載の光学素子の製造方法。
- 前記モノマーとして、少なくとも液晶モノマーを用いる、請求項5から7のいずれか一項に記載の光学素子の製造方法。
- 前記モノマーとして、少なくとも2つの重合性官能基を有し、前記重合性官能基が、アクリレート基であるものを用いる請求項5から7のいずれか一項に記載の光学素子の製造方法。
- 前記低分子物質として溶媒を用いる請求項5から9のいずれか一項に記載の光学素子の製造方法。
- 前記光学素子形成材料層の形成工程において前記基材上に展開された光学素子形成材料層上に、さらに別の基材を配置して、両基材で光学素子形成材料層を挟持し、この状態で前記平行光線照射を実施する請求項5から10のいずれか一項に記載の光学素子の製造方法。
- 前記平行光線を照射する工程の後、前記低分子物質を除去する工程を有する、請求項5から11のいずれか一項に記載の光学素子の製造方法。
- 前記低分子物質を除去する工程の後、前記平行光線を照射する工程で重合されてなるポリマーの屈折率とは異なる屈折率を有する物質を、低分子物質除去部に充填する請求項12記載の光学素子の製造方法。
- 光学素子であって、請求項5から13のいずれか一項に記載の光学素子の製造方法によって製造されることを特徴とする光学素子。
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