JP2010117441A - アライメントマスク及びアライメントマスクを用いた着弾ドット位置の測定方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】着弾ドットと基準マークとを高コントラスト、高分解能で視認することができ、正確な位置を高精度に測定可能なアライメントマスク及びこれを用いた着弾ドット位置の測定方法を提供する。
【解決手段】光を反射する光反射層104と該光反射層104よりも光反射率が低い基材層103とを、光反射層104が表面側となるように積層すると共に、基準マーク102を、光反射層104の一部を表面から基材層103に至るまで除去して該基材層103を露出させることによってアライメントマスク100を作成し、ワークに代えて液滴吐出ヘッドからアライメントマスク100表面の基準マーク102をターゲットとして使用して液滴を吐出して付着させた後、カメラを用いて該液滴による着弾ドットと基準マーク102とを表面側から画像認識し、その画像認識結果から着弾ドットと基準マーク102との位置関係を規定する。
【選択図】 図8
【解決手段】光を反射する光反射層104と該光反射層104よりも光反射率が低い基材層103とを、光反射層104が表面側となるように積層すると共に、基準マーク102を、光反射層104の一部を表面から基材層103に至るまで除去して該基材層103を露出させることによってアライメントマスク100を作成し、ワークに代えて液滴吐出ヘッドからアライメントマスク100表面の基準マーク102をターゲットとして使用して液滴を吐出して付着させた後、カメラを用いて該液滴による着弾ドットと基準マーク102とを表面側から画像認識し、その画像認識結果から着弾ドットと基準マーク102との位置関係を規定する。
【選択図】 図8
Description
本発明は、液滴を吐出することによってワークに描画を行う液滴吐出ヘッドの着弾ドット位置を検出するために、ワークに代えて用いられるアライメントマスク及びアライメントマスクを用いた着弾ドット位置の測定方法に関する。
近年、インクジェット技術を利用した微細加工技術に注目が集まっており、例えば液晶表示パネルに用いられるカラーフィルターや半導体の配線パターン等の製造分野においては、液滴吐出ヘッドから吐出される各種液滴を、ワーク上の誤差1μm程度の極めて微細なターゲットに対して着弾させるニーズが高まっている。このためには、液滴吐出ヘッドから吐出される液滴の着弾位置を高精度に規定する必要がある。
従来、液滴吐出ヘッドから吐出された液滴の位置精度を規定する方法として、ワークに代えて、着弾ドットの位置を指標するための複数の基準マークが表面に列設されたアライメントマスクを使用し、このアライメントマスク上の基準マークをターゲットとして液滴を吐出することで、着弾ドットと基準マークとの位置関係をカメラを用いて視認し、基準マークに対する着弾ドットのずれ量を検出して、このずれ量に基づいて液滴吐出パターンデータ等を補正する方法が知られている(特許文献1)。
特開2008−46628号公報
このようにカメラを用いてアライメントマスク上の着弾ドットと基準マークとの位置関係を誤差1μm程度のオーダーで視認する場合、光の波長の分解限界が近づいてくるため、高コントラスト、高分解能の画像を得ることが難しく、着弾ドットと基準マークとの位置関係を正確に捉えることが困難であり、高精度な着弾ドット位置を規定することが困難であるという問題があった。
そこで、本発明は、着弾ドットと基準マークとを高コントラスト、高分解能で視認することができ、正確な位置を高精度に測定可能なアライメントマスク及びこれを用いた着弾ドット位置の測定方法を提供することを課題とする。
本発明の他の課題は、以下の記載により明らかとなる。
上記課題は、以下の各発明によって解決される。
請求項1記載の発明は、着弾ドットの位置を指標するための複数の基準マークを表面に有し、液滴を吐出することによってワークに描画を行う液滴吐出ヘッドの着弾ドット位置を検出するために前記ワークに代えて用いられるアライメントマスクであって、
光を反射する光反射層と該光反射層よりも光反射率が低い基材層とを、前記光反射層が表面側となるように積層すると共に、前記基準マークを、前記光反射層の一部を表面から前記基材層に至るまで除去して該基材層を露出させることによって形成してなることを特徴とするアライメントマスクである。
光を反射する光反射層と該光反射層よりも光反射率が低い基材層とを、前記光反射層が表面側となるように積層すると共に、前記基準マークを、前記光反射層の一部を表面から前記基材層に至るまで除去して該基材層を露出させることによって形成してなることを特徴とするアライメントマスクである。
請求項2記載の発明は、前記基材層は、100〜1000nmの波長域のうちの任意の波長域において鏡面反射率が30%未満の層であることを特徴とする請求項1記載のアライメントマスクである。
請求項3記載の発明は、前記基材層は、透明度が10000デシベル以下の光透過層であることを特徴とする請求項1又は2記載のアライメントマスクである。
請求項4記載の発明は、前記基材層は、透明度が1000デシベル以下の光透過層であることを特徴とする請求項1又は2記載のアライメントマスクである。
請求項5記載の発明は、前記基材層は、透明度が200デシベル以下の光透過層であることを特徴とする請求項1又は2記載のアライメントマスクである。
請求項6記載の発明は、前記基材層は、透明度が1デシベル以下の光透過層であることを特徴とする請求項1又は2記載のアライメントマスクである。
請求項7記載の発明は、前記基材層は、光を吸収する光吸収層であることを特徴とする請求項1又は2記載のアライメントマスクである。
請求項8記載の発明は、前記光反射層は、100〜1000nmの波長域のうちの任意の波長域において鏡面反射率が30%以上の層であることを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載のアライメントマスクである。
請求項9記載の発明は、前記光反射層の表面に撥水膜を形成したことを特徴とする請求項1〜8のいずれかに記載のアライメントマスクである。
請求項10記載の発明は、前記撥水膜は単分子膜であることを特徴とする請求項9記載のアライメントマスクである。
請求項11記載の発明は、請求項1〜10のいずれかに記載のアライメントマスクを前記ワークの代わりに使用し、前記液滴吐出ヘッドから前記アライメントマスク表面の前記基準マークをターゲットとして使用して液滴を吐出して付着させた後、カメラを用いて該液滴による着弾ドットと前記基準マークとを表面側から画像認識し、その画像認識結果から前記着弾ドットと前記基準マークとの位置関係を規定することを特徴とするアライメントマスクを用いた着弾ドット位置の測定方法である。
請求項12記載の発明は、前記カメラは、同軸落射によって前記アライメントマスク上に光を照射する照明手段を有し、前記アライメントマスク上の前記着弾ドット及び前記基準マークを明視野法で観察することを特徴とする請求項11記載のアライメントマスクを用いた着弾ドット位置の測定方法である。
請求項13記載の発明は、前記液滴は、前記照明手段により照射される光が有する波長域の一部に吸収域を有する染料を溶解させたインクであることを特徴とする請求項12記載のアライメントマスクを用いた着弾ドット位置の測定方法である。
請求項14記載の発明は、前記液滴は、前記照明手段により照射される光が有する波長域の一部に吸収域を有する顔料又はナノ粒子を分散させたインクであることを特徴とする請求項12記載のアライメントマスクを用いた着弾ドット位置の測定方法である。
請求項15記載の発明は、前記液滴は、前記照明手段により照射される光が有する波長域において前記光反射層よりも強い鏡面反射率を有する金属ナノ粒子を分散させたインクであることを特徴とする請求項12記載のアライメントマスクを用いた着弾ドット位置の測定方法である。
請求項16記載の発明は、前記照明手段は、500nm以下の波長域に単一のピークを持つ単色光源であることを特徴とする請求項12〜15のいずれかに記載のアライメントマスクを用いた着弾ドット位置の測定方法である。
本発明によれば、着弾ドットと基準マークとを高コントラスト、高分解能で視認することができ、正確な位置を高精度に測定可能なアライメントマスク及びこれを用いた着弾ドット位置の測定方法を提供することができる。
以下、本発明の実施の形態について図面を用いて説明する。
最初に、本発明に係るアライメントマスク及びこれを用いた着弾ドット位置の測定方法を適用可能なインクジェット描画装置について説明する。
図1はインクジェット描画装置の一例を示す概略斜視図であり、インクジェット描画装置1は、装置基台2上に、インクジェット描画を行うためのヘッドモジュール3、上面にワークWを載置して支持するためのワークステージ4、ワークステージ4をθ方向に回転移動させるためのθ回転機構5、ワークステージ4及びθ回転機構5を共にY方向(主走査方向)に沿って直線移動させるY移動機構6、ワークステージ4及びθ回転機構5を共にX方向(副走査方向)に沿って直線移動させるX移動機構7、ワークステージ4上を視認可能な画像認識手段であるカメラ8をそれぞれ備えている。
なお、X方向とY方向とは水平面上で互いに直交する方向である。
ヘッドモジュール3は、装置基台2上の端部近傍において副走査方向に沿って平行に架設されたガントリ9に、スライダ10及びθ回転機構11を介して取り付けられており、スライダ10がガントリ9に沿ってスライド移動することによりX方向に沿って往復移動し、また、θ回転機構11によって、X、Y方向と直交する法線方向であるZ方向に沿う方向を軸としてθ方向に回転移動し、更に、Z移動機構12によってθ回転機構11と共にZ方向に昇降移動することができるようになっている。
図2はヘッドモジュール3をノズル面側から見た底面図であり、このヘッドモジュール3は、各々がインクジェット方式によるインク滴下処理を行うことができる複数の液滴吐出ヘッド(以下、単にヘッドという。)31を有して構成されており、そのヘッド31のノズル面が下向きとなり、その下方に配置されるワークステージ4上のワークWの表面と対向可能となるように配置されている。
各ヘッド31は、副走査方向に沿って配列された多数のノズル32を有しており、ヘッド固定具33に開口形成された取付け枠部34にそれぞれ取り付けられ、隣接するヘッド31,31間のノズル32のピッチが同一ピッチとなるように千鳥状に配列されることで一つの長尺状のヘッドモジュール3を構成している。各取付け枠部34にはヘッド31との間にヘッド位置微調整機構35が設けられており、駆動することによってヘッド固定具33に対する各ヘッド31の副走査方向に沿った位置を微調整し、各ヘッド31間の相対的な位置を調整することができるようになっている。ヘッド位置微調整機構35は、例えば電圧を印加することによって機械的な伸縮運動を行う圧電素子や、モータ駆動によって回転して伸縮動作するネジ機構等によって構成することができる。
ワークステージ4は、副走査方向に沿って延びるX移動機構7上に、θ回転機構5を介して設けられた平面視矩形状の定盤であり、その上面はヘッドモジュール3からのインク滴下処理によって描画を行う対象であるワークW又は後述するアライメントマスクを載置するための水平な載置面とされ、該載置面がヘッドモジュール3のノズル面に対して所定の高さ位置となるように配設されている。このワークステージ4は、θ回転機構5と共にX移動機構7に沿ってスライド移動することによって副走査方向に沿って直線移動し、このX移動機構7が、それぞれY方向に沿って延びるY移動機構6,6に沿ってスライド移動することによって、θ回転機構5と共に主走査方向に沿って直線移動し、更に、θ回転機構5によって、Z方向に沿う方向を軸としてθ方向に回転移動することができるようなっている。
なお、ワークステージ4のX方向、Y方向及びθ方向の各位置並びにヘッドモジュール3のX方向、Z方向及びθ方向の各位置は、X移動機構7、Y移動機構6,6、θ移動機構5、スライダ10、θ回転機構11、Z移動機構12にそれぞれ設けられた不図示のエンコーダによってμmオーダーで高精度に検出可能となるように構成されている。
かかるインクジェット描画装置1は、ヘッドモジュール3とワークステージ4とを相対的に移動させ、そのときの各位置情報に応じて、所定の吐出パターンデータに基づいてヘッドモジュール3の各ヘッド31からの液滴の吐出を制御し、ワークステージ4上のワークW表面に着弾させることで、所望の描画を行うように構成される。
本発明に係るアライメントマスクは、このようなインクジェット描画装置1によるワークWに対する描画を行うに先立って、ワークWに代えてワークステージ4上に載置され、このアライメントマスク上に向けて液滴を吐出して位置測定用のパターンを描画し、その描画されたパターンの着弾ドットをカメラ8を用いて視認することで着弾ドット位置を検出し、正規の着弾ドット位置からのずれ量を測定するために使用される。これによって測定された着弾ドット位置のずれ量は、例えば吐出パターンデータの補正やヘッド位置微調整機構35による各ヘッド31の位置調整のために利用される。
次に、本発明に係るアライメントマスクについて説明する。
図3はアライメントマスクの一例を示す平面図であり、このアライメントマスク100の表面には、ヘッドモジュール3の各ヘッド31から吐出された液滴の着弾ドット位置を検査するための検査領域となるチャート101が形成されている。本実施形態では、アライメントマスク100は平面視30mm×30mmの正方形状とされ、チャート101はその表面に4箇所に分かれて形成されている。各チャート101は平面視600μm×600μmの正方形領域とされており、その中心がアライメントマスク100の隣接する2辺からそれぞれ7.5mmの位置となるように四隅近傍の所定位置に分かれて配置されているが、特にこのような態様に限定されるわけではない。
図4は1つのチャート101の拡大図、図5は図4中に示す領域Aの拡大図をそれぞれ示している。
チャート101は、アライメントマスク100の表面に多数列設された基準マーク102の集合体である。本実施形態では、各基準マーク102は、幅0.5μm、長さ5μmの直線を中心で直角に交差させた十字形状を呈しており、縦横方向(XY方向)にそれぞれ均等な30μmピッチで20個ずつ、計400個が格子状に配列されている。各基準マーク102は、もちろんこのような形状、寸法、個数及び配列態様に何ら限定されるわけではなく、後述するようにカメラ8によって着弾ドットと共に同一視野内に視認可能な適宜の形状、寸法、個数及び配列態様とすることができる。
基準マーク102は着弾ドットの位置を指標するためのもので、アライメントマスク100の表面に予め高精度に位置決めされて列設されており、これら列設された多数の基準マーク102のうち、XY方向で正方形の頂点を構成する4個の基準マーク102を1組としており、図6に示すように、その1組を構成する4個の基準マーク102の中心位置(正方形の重心)Oによって、ヘッド31から吐出される液滴を着弾させるべきターゲット位置(正規の着弾予定位置)を規定している。各基準マーク102の位置は予め決まっているので、4個の各基準マーク102の位置とそれらの中心位置Oとの間の位置関係は既知である。従って、詳細には後述するが、ヘッド31からこのターゲット位置である中心位置Oに向けて吐出された1滴の液滴による着弾ドットDの位置が、これら4個の基準マーク102の位置に対してどのような位置関係にあるかを観察することによって、正規の着弾予定位置である中心位置Oからのずれ量を検出することができる。
なお、チャート101は、図7に示すように、この4個の基準マーク102の中心位置Oにも同様の基準マーク102が形成されていてもよく、液滴を吐出する際に、この中心位置Oに位置する基準マーク102を直接のターゲット位置として吐出するようにしてもよい。この場合、1つのチャート101における基準マーク102の配列態様は、本実施形態を例にとれば、X方向に30μmピッチ、Y方向に15μmピッチで、1列おきに半ピッチ(15μmピッチ)ずれた千鳥状配置の形態となり、これら列設された多数の基準マーク102のうち、XY方向で正方形の頂点を構成する4個の基準マーク102と、その中心に位置する1個の基準マーク102の合計5個の基準マーク102で1組となる。
次に、アライメントマスク100の具体的構造について説明する。
図8はアライメントマスク100の構造の一例を示す部分断面図であり、アライメントマスク100は、基材層103の上面に光反射層104を積層することによって形成され、該光反射層104を表面層としており、この光反射層104の一部を表面から基材層103に至るまで除去し、その底部に基材層103を露出させることによって各基準マーク102を凹設している。
基材層103は、その表面側の光反射層104よりも光反射率が低い層である。このため、アライメントマスク100を光反射層104側からカメラ8によって視認すると、底部に基材層103が露出する基準マーク102を、その周囲の光反射層104に比べて暗部として視認することができる。このため、微細な基準マーク102でも高コントラストで確認でき、高分解能で視認できるようになり、着弾ドットとの正確な位置関係を高精度に確認することができるようになる。
このように暗部として容易に視認できるようにする観点から、基材層103は、100〜1000nmの波長域のうちの任意の波長域において鏡面反射率が30%未満の層であることが好ましく、より好ましくは10%以下の層であることである。ここで任意の波長域とは、好ましくはアライメントマスク100をカメラ8を用いて画像認識する際に用いられる観察光源の波長域のことである。
このような基材層103は、基準マーク102の底部に入射した光をほとんど反射させることなく透過する光透過層、又は、基準マーク102の底部に入射した光をほとんど反射させることなく吸収する光吸収層により形成することができる。
光透過層としての基材層103は光を透過可能な材質により形成される層である。このような層は、透明度が10000デシベル(dB/km)以下の材質によって形成された層であることが好ましい。より好ましくは1000デシベル以下、さらに好ましくは200デシベル以下、もっとも好ましくは1デシベル以下である。
このような材質としては、光透過性を有する鉱物や合成樹脂を用いることができる。中でも線膨張率が低くて温度変化による精度の狂いが生じ難い鉱物の方が高精度の測定が可能であるために好適である。鉱物としては、例えば石英ガラス、蛍石、水晶等が挙げられる。また、合成樹脂としては、例えばPET(ポリエチレンテレフタレート)樹脂、アクリル樹脂等が挙げられる。
光吸収層としての基材層103は特定の光を吸収可能な材質により形成される。特定の光とは、カメラ8による視認時にアライメントマスク100に対して照射される光のことである。このような材質としては、一般に光吸収性を有する色を呈する材質又は光吸収性を有する色に着色された材質が使用できる。特に線膨張率が低くて温度変化による精度の狂いが生じ難い材質が好ましく、例えば黒色セラミックス、黒御影石、黒色ガラスエポキシ等が好適である。
かかる基材層103の厚みは、0.01〜5.00mmとすることが好ましい。0.01mmよりも薄いとハンドリング時に破損するおそれがあり、5.00mmよりも厚くなるとハンドリングしづらくなる。より好ましくは0.1〜2.0mmとすることである。
基材層103の表面側に積層される光反射層104は、カメラ8による着弾ドットの視認時に光を反射することにより、基準マーク102の他にも着弾ドットそのものを視認し易くするものであり、光を鏡面反射する鏡面反射層であることが、基準マーク102及び着弾ドットの視認性が良好となるために好ましい。
このように基準マーク102と着弾ドットを容易に視認できるようにする観点から、光反射層104は、100〜1000nmの波長域のうちの任意の波長域において鏡面反射率が30%以上の材質からなる層であることが好ましい。ここで任意の波長域とは、好ましくはアライメントマスク100をカメラ8を用いて画像認識する際に用いられる観察光源の波長域のことである。
このような光反射層104を形成する材質としては、層を形成した際に白色面や鏡面のように高い光反射機能を有する面を形成し得る材質が好ましく用いられ、Si、Au、Ag、Ni等の金属や、Ag合金、Al合金(Cr、Ti、Mg、Si等との合金)等の金属合金、TiNやCrN等の金属化合物を用いることができる。
光反射層104は、基材層103の表面に上記に例示されるような材料を蒸着、スパッタリング等の適宜公知の方法によって積層形成することができる。
かかる光反射層104の厚みは、0.05〜1.00μmとすることが好ましい。0.05mmよりも薄いと耐摩耗性に乏しくなり、また、1.00μmよりも厚くなると蒸着ムラができ易くなる。より好ましくは0.40〜0.60μmとすることである。
基準マーク102は、このような光反射層104に対して電子描画法によるエッチングによって形成することが、nmオーダーの高精度な加工が可能であるために好ましい。すなわち、基材層103の表面全面に光反射層104となるSi等の被膜を所定厚みで形成した後、全面にレジストを塗布し、電子描画法によって基準マーク102となる所定形状、所定数の潜像を所定位置に露光した後、現像することによって露光部分のレジストを除去し、露出した被膜部分を基材層103に至るまでエッチングすることによりその底部に基材層103を露出させる。その後、残ったレジストを除去することによって、表面に多数の基準マーク102が列設されたアライメントマスク100が作成される。
このようにして作成されたアライメントマスク100の表面、すなわち光反射層104の表面側には、更に撥水膜を形成することが好ましい。撥水膜を形成することによって、その表面の着弾ドットが横方向に広がることが抑制され、着弾ドット位置をカメラ8によって適切に視認できるようになる。
撥水膜としては適宜公知のものを用いることができるが、中でも単分子膜であることが好ましい。単分子膜による撥水膜とすると、膜厚ムラが発生せず、また、カメラ8による視認時に光による干渉縞が発生せず、より正確な着弾ドット位置の確認が可能である。
このような単分子膜の一例としては、味の素ファインテクノ社製KR−44(イソプロピル−トリ(N−アミノエチル−アミノエチル)チタネート)が好適例として挙げられる。
次に、このようなアライメントマスク100を使用した着弾ドット位置の測定方法について、図9に示すフローに基づいて説明する。
着弾ドット位置の測定時、インクジェット描画装置1のワークステージ4上に、ワークWに代えて上述のアライメントマスク100を設置し(S1)、そのアライメントマスク100を適正位置となるように位置決めする(S2)。この位置決め作業は適宜公知の方法を用いることができ、例えばアライメントマスク100の表面の2箇所に、図3に示すような位置決め用のマーカ105を予め形成しておき、各マーカ105の位置座標をカメラ8又はその他の不図示の画像認識手段を用いて検出し、ワークステージ4のX、Y及びθ方向の位置を制御することによって適正位置となるように位置決めすることができる。
次に、ヘッドモジュール3のヘッド31から、装置内部の演算部等の所定記憶領域に予め記憶されている測定用吐出パターンデータに基づいて液滴を吐出し、アライメントマスク100の表面に形成されているチャート101に付着させて測定用のドットの描画を行う(S3)。この液滴の吐出は、各ノズル32から、図6に示したように、チャート101における4個1組となる各組の基準マーク102の中心位置Oをターゲット位置として行う。従って、1つのノズル32からの液滴の吐出が適正に行われれば、吐出された液滴によって形成される着弾ドットDの重心は、この中心位置O(着弾予定位置)上に位置する。
その後、アライメントマスク100上に描画された着弾ドットDを、アライメントマスク100の表面側からカメラ8を用いて画像認識して、その着弾ドットDと基準マーク102との位置関係、すなわち着弾ドットDの重心位置と基準マーク102の中心位置Oとの位置関係を規定し、ずれ量を求め(S4)、そのずれ量に基づいて描画用の吐出パターンデータの補正やヘッド301の位置調整を行う(S5)。
上記ステップS4におけるカメラ8による画像認識動作の一例を図10に示す。
まず、ヘッドモジュール3とワークステージ4を相対的に移動させて、アライメントマスク100上のチャート101内の着弾ドットDとその周囲に配置される4個の基準マーク102とを、ヘッドモジュール3に一体に設けられたカメラ8の同一視野内に送り込む(S40)。
そして、カメラ8によって捉えられた着弾ドットDと4個の基準マーク102との画像データから、パターンマッチングによってそれぞれ十字形状である4個の基準マーク102の位置座標を取得し、これを装置内部の演算部の所定記憶領域に記憶する(S41)。
次いで、画像データを輝度変換することによって、以降の画像処理時に着弾ドットDの輪郭を認識し易くした後(S42)、2値化によって画像データ上の輝度値からオブジェクト(ブロブ)を生成する(S43)。
ここで、画像データ上の小さいオブジェクトをゴミ(ダスト)と認識して除去しておく(S44)。
次いで、画像データ上の着弾ドットDが一番大きいオブジェクトとなるので、基準マーク102等の不要なオブジェクトも削除する(S45)。このとき、着弾ドットDの輪郭にゴミ(バリ)が存在するので、これを縮退処理で除去する(S46)。
このようにして得られた画像データに基づいて、図11に示すように、オブジェクトである着弾ドットDの重心Doを測定してその位置座標を測定し、上記ステップS41で得られた4点の基準マーク102の各位置座標とから両者の位置関係(ΔX、ΔY)を求め、この位置関係(ΔX、ΔY)に基づいて正規の着弾予定位置(中心位置O)からの着弾ドットDの重心Doのずれ量を測定する(S47)。
この画像認識動作時に使用されるカメラ8は、いずれもμmオーダーの微細な着弾ドットDと基準マーク102とを同時に視認可能とする高倍率カメラである。このようなカメラ8は、同軸落射によってアライメントマスク100上に光(観察光)を照射する照明手段を有し、アライメントマスク100上の着弾ドットD及び基準マーク102を明視野法で観察するものであることが好ましい。
図12はこのような同軸落射による照明手段を有するカメラ8の一例を模式的に示している。
カメラ8は、鏡胴81の先端に対物レンズ82を有し、この対物レンズ82によって捉えられた像を、鏡胴81内を通して、他端に設けられたCCD等の撮像素子に結像させる構成である。鏡胴81の中途部側方には、照明手段であるLED等からなる光源84が設けられており、鏡胴81内に向けて光を照射するようになっている。鏡胴81の内部には、光軸上に斜めに配置されたハーフミラー85が配置されており、光源84から照射された光は、このハーフミラー85によって反射して対物レンズ82側に向けて照射されるようになっている。従って、アライメントマスク100上の着弾ドットD及び基準マーク102には、対物レンズ82を通して光源84からの光が同軸で照射され、撮像素子83には、光源84からの光が照射された着弾ドットD及び基準マーク102の像が結像される。
光源84から同軸落射によってアライメントマスク100上に照射された光は、アライメントマスク100の表面側に積層されている光反射層104によって反射して、その反射光がそのままカメラ8によって捉えられるため、撮像される画像は、光反射層104の表面が明るくなり、この光反射層104よりも光の反射率が小さい基材層103が底部に露出している基準マーク102は暗く認識される。従って、両者間に明確なコントラストの違いが生まれるため、着弾ドットDと基準マーク102との間のずれ量を求めるための後段の画像処理による位置測定が容易となる。
ここで、このような着弾ドット位置を測定するためにヘッド31から吐出させる液滴は、通常の描画時に用いられる液体をそのまま使用することもできるが、上記カメラ8の光源84により照射される光が有する波長域の一部に吸収域を有する染料を溶解させたインクであることが好ましい。このインクからなる液滴によってアライメントマスク100上に形成される着弾ドットDに照射された反射光が、その周囲の光反射層104による反射光よりも弱くなり、着弾ドットDと光反射層104との間にコントラストの違いが生まれるため、画像処理による位置測定がより容易となる。
また、同様の観点から、液滴は、上記カメラ8の光源84により照射される光が有する波長域の一部に吸収域を有する顔料又はナノ粒子を分散させたインクであることも好ましい。
顔料を分散させたインクとしては、エプソン社製ICMB53マットブラック等が挙げられる。また、ナノ粒子を分散させたインクとしては、住友電工社製AGNI−W4A等が挙げられる。
更に、液滴は、上記カメラ8の光源84により照射される光が有する波長域において光反射層104よりも強い鏡面反射率を有する金属ナノ粒子を分散させたインクとすることもでき、また好ましい。光源84の波長域において鏡面反射率の高いインクを使用することで、このインクからなる液滴によってアライメントマスク100上に形成される着弾ドットDに照射された反射光が、その周囲の光反射層104による反射光よりも強くなり、この場合もコントラストの違いが生まれるので、画像処理による位置測定をより容易とすることができる。
このような金属ナノ粒子としては、Ag粒子等が挙げられる。
なお、このように着弾ドットDを光反射層104よりも強く光を反射する像として捉える場合、着弾ドットDの視認性を高めるため、図10に示した画像認識処理動作において、上記ステップS44とS45の間に、着弾ドットDの輪郭の内部も着弾ドットDのオブジェクトとして埋める内挿処理を行うようにするとよい。
カメラ8の照明手段として用いられる光源84は、500nm以下の波長域に単一のピークを持つ単色光源であることが好ましい。これにより、レンズ及び着弾ドットDを透過する際等の光の屈折による像のボケを抑えることができると共に、例えばN.A.=0.9のレンズで約0.3μm以下の理論分解能で像を分解可能であり、着弾ドットDと基準マーク102との間の微細な位置関係の確認が可能である。このような光源84としては青色LEDが好ましく用いられる。
以上説明した態様では、アライメントマスク100上の着弾ドットDの確認を行うためのカメラ8を、ヘッドモジュール3と一体に設けるようにしたが、ヘッドモジュール3及びワークステージ4の移動に支障がない範囲で装置基台2上に設置されていてもよい。
1:インクジェット描画装置
2:装置基台
3:ヘッドモジュール
31:液滴吐出ヘッド
32:ノズル
33:ヘッド固定具
34:取付け枠部
35:ヘッド位置微調整機構
4:ワークステージ
5:θ回転機構
6:Y移動機構
7:X移動機構
8:カメラ
81:鏡胴
82:対物レンズ
83:撮像素子
84:光源
85:ハーフミラー
9:ガントリ
10:スライダ
11:θ回転機構
12:Z移動機構
100:アライメントマスク
101:チャート
102:基準マーク
103:基材層
104:光反射層
105:マーカ
D:着弾ドット
Do:着弾ドットの重心
O:基準マークの中心位置
2:装置基台
3:ヘッドモジュール
31:液滴吐出ヘッド
32:ノズル
33:ヘッド固定具
34:取付け枠部
35:ヘッド位置微調整機構
4:ワークステージ
5:θ回転機構
6:Y移動機構
7:X移動機構
8:カメラ
81:鏡胴
82:対物レンズ
83:撮像素子
84:光源
85:ハーフミラー
9:ガントリ
10:スライダ
11:θ回転機構
12:Z移動機構
100:アライメントマスク
101:チャート
102:基準マーク
103:基材層
104:光反射層
105:マーカ
D:着弾ドット
Do:着弾ドットの重心
O:基準マークの中心位置
Claims (16)
- 着弾ドットの位置を指標するための複数の基準マークを表面に有し、液滴を吐出することによってワークに描画を行う液滴吐出ヘッドの着弾ドット位置を検出するために前記ワークに代えて用いられるアライメントマスクであって、
光を反射する光反射層と該光反射層よりも光反射率が低い基材層とを、前記光反射層が表面側となるように積層すると共に、前記基準マークを、前記光反射層の一部を表面から前記基材層に至るまで除去して該基材層を露出させることによって形成してなることを特徴とするアライメントマスク。 - 前記基材層は、100〜1000nmの波長域のうちの任意の波長域において鏡面反射率が30%未満の層であることを特徴とする請求項1記載のアライメントマスク。
- 前記基材層は、透明度が10000デシベル以下の光透過層であることを特徴とする請求項1又は2記載のアライメントマスク。
- 前記基材層は、透明度が1000デシベル以下の光透過層であることを特徴とする請求項1又は2記載のアライメントマスク。
- 前記基材層は、透明度が200デシベル以下の光透過層であることを特徴とする請求項1又は2記載のアライメントマスク。
- 前記基材層は、透明度が1デシベル以下の光透過層であることを特徴とする請求項1又は2記載のアライメントマスク。
- 前記基材層は、光を吸収する光吸収層であることを特徴とする請求項1又は2記載のアライメントマスク。
- 前記光反射層は、100〜1000nmの波長域のうちの任意の波長域において鏡面反射率が30%以上の層であることを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載のアライメントマスク。
- 前記光反射層の表面に撥水膜を形成したことを特徴とする請求項1〜8のいずれかに記載のアライメントマスク。
- 前記撥水膜は単分子膜であることを特徴とする請求項9記載のアライメントマスク。
- 請求項1〜10のいずれかに記載のアライメントマスクを前記ワークの代わりに使用し、前記液滴吐出ヘッドから前記アライメントマスク表面の前記基準マークをターゲットとして使用して液滴を吐出して付着させた後、カメラを用いて該液滴による着弾ドットと前記基準マークとを表面側から画像認識し、その画像認識結果から前記着弾ドットと前記基準マークとの位置関係を規定することを特徴とするアライメントマスクを用いた着弾ドット位置の測定方法。
- 前記カメラは、同軸落射によって前記アライメントマスク上に光を照射する照明手段を有し、前記アライメントマスク上の前記着弾ドット及び前記基準マークを明視野法で観察することを特徴とする請求項11記載のアライメントマスクを用いた着弾ドット位置の測定方法。
- 前記液滴は、前記照明手段により照射される光が有する波長域の一部に吸収域を有する染料を溶解させたインクであることを特徴とする請求項12記載のアライメントマスクを用いた着弾ドット位置の測定方法。
- 前記液滴は、前記照明手段により照射される光が有する波長域の一部に吸収域を有する顔料又はナノ粒子を分散させたインクであることを特徴とする請求項12記載のアライメントマスクを用いた着弾ドット位置の測定方法。
- 前記液滴は、前記照明手段により照射される光が有する波長域において前記光反射層よりも強い鏡面反射率を有する金属ナノ粒子を分散させたインクであることを特徴とする請求項12記載のアライメントマスクを用いた着弾ドット位置の測定方法。
- 前記照明手段は、500nm以下の波長域に単一のピークを持つ単色光源であることを特徴とする請求項12〜15のいずれかに記載のアライメントマスクを用いた着弾ドット位置の測定方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008289206A JP2010117441A (ja) | 2008-11-11 | 2008-11-11 | アライメントマスク及びアライメントマスクを用いた着弾ドット位置の測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008289206A JP2010117441A (ja) | 2008-11-11 | 2008-11-11 | アライメントマスク及びアライメントマスクを用いた着弾ドット位置の測定方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010117441A true JP2010117441A (ja) | 2010-05-27 |
Family
ID=42305159
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008289206A Pending JP2010117441A (ja) | 2008-11-11 | 2008-11-11 | アライメントマスク及びアライメントマスクを用いた着弾ドット位置の測定方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2010117441A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017512120A (ja) * | 2013-12-30 | 2017-05-18 | ノードソン コーポレーションNordson Corporation | 粘性のある流体のディスペンシングシステムのための較正方法 |
-
2008
- 2008-11-11 JP JP2008289206A patent/JP2010117441A/ja active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2017512120A (ja) * | 2013-12-30 | 2017-05-18 | ノードソン コーポレーションNordson Corporation | 粘性のある流体のディスペンシングシステムのための較正方法 |
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